JP2000193983A - Resin composition for spacer, substrate for liquid crystal display device and liquid crystal display device - Google Patents

Resin composition for spacer, substrate for liquid crystal display device and liquid crystal display device

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JP2000193983A
JP2000193983A JP37013198A JP37013198A JP2000193983A JP 2000193983 A JP2000193983 A JP 2000193983A JP 37013198 A JP37013198 A JP 37013198A JP 37013198 A JP37013198 A JP 37013198A JP 2000193983 A JP2000193983 A JP 2000193983A
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JP
Japan
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spacer
liquid crystal
crystal display
display device
substrate
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Application number
JP37013198A
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Japanese (ja)
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Junji Kajita
純司 梶田
Masahiro Yoshioka
正裕 吉岡
Kunihiko Nakada
邦彦 中田
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a substrate for a liquid crystal display device in which a spacer formed is hardly collapsed by incorporating metal oxide ultrafine particles and/or metal alkoxides. SOLUTION: The spacer formed on a substrate for a liquid crystal display device contains metal oxide ultrafine particles and/or metal alkoxides. As for the metal oxide ultrafine particles, particles of SiO2, TiO2, Sb2O5, ZrO2, Al2O3, Nb2O5, MnO2, PbO, Bi2O3, SnO2, HfO2, Nd2O3 or the like can be used and one kind of these or combination of two or more kinds can be used. As for the metal alkoxides, Si(OCH2CH3)4, Ti(OCH(CH3)2)4, Hf(OCH2CH2CH2CH3)4, Ta(OC2 H5)5, Zr(OCH2CH2CH2CH3)4, Ba(OC2H5)2 or the like can be used, and one kind of these or combination of two or more kinds can be used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用基
板上に形成されるスペーサー用樹脂組成物、スペーサー
を有する液晶表示装置用基板及び該基板からなる液晶表
示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin composition for a spacer formed on a substrate for a liquid crystal display, a substrate for a liquid crystal display having a spacer, and a liquid crystal display comprising the substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来使用されている液晶表示装置は、液
晶層の厚み(セルギャップ)を保持するために、一般
に、2枚の液晶表示装置用基板間にスペーサーとしてプ
ラスチックビーズ、ガラスビーズ又はガラス繊維を挟ん
で使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display device generally uses plastic beads, glass beads or glass as a spacer between two liquid crystal display substrates in order to maintain the thickness (cell gap) of a liquid crystal layer. It is used with fiber in between.

【0003】図3は、従来のビーズ状スペーサーを用い
た液晶表示装置の概略図であり、ブラックマトリックス
4’と青画素1’、赤画素2’、緑画素3’が形成され
た上に、さらに電極層6’aおよび配向膜7が形成され
たガラス基板5’aと、電極層6’bおよび薄膜トラン
ジスター9を形成したガラス基板5に配向膜7それぞれ
形成し、対向して張り合わせ、液晶を注入したもので、
注入口はシール剤8によりシールされ、ガラス基板間の
距離はビーズ状スペーサー11により維持されている。
このようなプラスチックビーズ等のビーズ状スペーサー
を用いた液晶表示装置においては、散布によって配置さ
れるためスペーサーの位置を任意に定めることができ
ず、液晶表示装置用基板上の表示領域(遮光部を除く画
面内の光透過部)にもスペーサーが存在してしまう。そ
の場合にはスペーサーによる光の散乱や透過によって、
液晶表示装置の表示品位が低下するという問題がある。
さらにスペーサーが液晶表示装置内に、均一に散布され
ず、一部に偏るという現象が生じることがある。このよ
うな現象が生じると、スペーサーが集まった部分の表示
品質が悪化し、またセルギャップの正確な保持の面でも
問題があった。そこで、スペーサーを均一に散布する工
程が必要となり、かつスペーサーの粒度分布を高精度に
管理することが必要となることから、簡便で安定したス
ペーサーの作製方法が望まれている。
FIG. 3 is a schematic view of a conventional liquid crystal display device using a bead-shaped spacer, in which a black matrix 4 ', a blue pixel 1', a red pixel 2 ', and a green pixel 3' are formed. Further, an alignment film 7 is formed on the glass substrate 5'a on which the electrode layer 6'a and the alignment film 7 are formed, and an alignment film 7 is formed on the glass substrate 5 on which the electrode layer 6'b and the thin film transistor 9 are formed. Injected,
The inlet is sealed with a sealant 8, and the distance between the glass substrates is maintained by a bead-shaped spacer 11.
In a liquid crystal display device using such a bead-shaped spacer such as a plastic bead, the position of the spacer cannot be arbitrarily determined because the spacer is disposed by spraying. The spacer also exists in the light-transmitting portion (excluding the screen). In that case, by scattering and transmission of light by the spacer,
There is a problem that the display quality of the liquid crystal display device is reduced.
Further, a phenomenon may occur in which the spacers are not uniformly dispersed in the liquid crystal display device and are partially biased. When such a phenomenon occurs, the display quality of the portion where the spacers are gathered is degraded, and there is also a problem in maintaining the cell gap accurately. Therefore, a step of uniformly dispersing the spacers is required, and it is necessary to control the particle size distribution of the spacers with high precision. Therefore, a simple and stable method for producing a spacer is desired.

【0004】これらの問題点に対して、特開昭56−1
40324号公報、特開昭63−82405号公報、特
開平4−93924号公報、特開平5−196946号
公報では、カラーフィルターの2色あるいは3色の色画
素を積層した構造を形成しスペーサーとして用いること
が提案されている。
To solve these problems, Japanese Patent Application Laid-Open No.
In Japanese Patent No. 40324, JP-A-63-82405, JP-A-4-93924, and JP-A-5-196946, a structure in which two or three color pixels of a color filter are stacked is formed and used as a spacer. It has been proposed to use.

【0005】また特開平7−318950号公報には樹
脂の単層をカラーフィルターに別途形成しスペーサーと
して用いた液晶表示装置も提案されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-318950 proposes a liquid crystal display device in which a single layer of resin is separately formed on a color filter and used as a spacer.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
開示技術を用いて得られた液晶表示装置においては、ス
ペーサーが潰れてしまい、スペーサーとして有効に機能
しないという問題がある。
However, in the liquid crystal display devices obtained by using these disclosed techniques, there is a problem that the spacer is crushed and does not function effectively as a spacer.

【0007】さらに液晶表示装置の高開口率化やスペー
サーと対向する基板の高集積化により、スペーサーサイ
ズを小さくしたい要望が高まっている。またスペーサー
周囲の液晶配向が乱れやすいということからスペーサー
の数を少なくしたいという要望が高い。しかし、スペー
サーの潰れは、特にスペーサーのサイズが小さい場合
や、スペーサーの数が少ない場合に発生しやすかった。
[0007] Further, with an increase in the aperture ratio of the liquid crystal display device and the high integration of the substrate facing the spacer, there is an increasing demand for reducing the size of the spacer. Further, since the liquid crystal alignment around the spacer is easily disturbed, there is a high demand to reduce the number of spacers. However, the crushing of the spacer is likely to occur particularly when the size of the spacer is small or when the number of spacers is small.

【0008】そこで、本発明の目的は、形成されたスペ
ーサーが潰れにくい液晶表示装置用基板を提供し、液晶
表示装置の生産性を上げると共に表示品位を向上するこ
とにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a substrate for a liquid crystal display device in which formed spacers are hard to be crushed, to improve the productivity of the liquid crystal display device and to improve the display quality.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的は、液
晶表示装置用基板上に形成されるスペーサーであって、
金属酸化物超微粒子および/または金属アルコキシドを
含有することを特徴とするスペーサー用樹脂組成物によ
って達成することができる。
An object of the present invention is to provide a spacer formed on a substrate for a liquid crystal display device,
This can be achieved by a resin composition for a spacer characterized by containing ultrafine metal oxide particles and / or metal alkoxide.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】すなわち本発明のスペーサー用樹
脂組成物は、潰れを防止するために、金属酸化物超微粒
子とおよび/または(b)金属アルコキシドを含むもの
である。
The resin composition for a spacer according to the present invention contains ultrafine metal oxide particles and / or (b) a metal alkoxide in order to prevent crushing.

【0011】本発明において、(a)金属酸化物超微粒
子の具体例としては、SiO2、TiO2、Sb25、Z
rO2、Al23、Nb25、MnO2、PbO、Bi2
3、SnO2、HfO2、Nd23などが挙げられ、こ
れらのうち、1種または2種以上を組み合わせて使用で
きる。ただし上記金属酸化物超微粒子に限定されるもの
ではなく、スペーサー潰れ防止効果のある金属酸化物超
微粒子であれば使用することができる。なかでも、樹脂
組成物の保存安定性、汎用性、コスト、分散性に鑑み
て、SiO2、TiO2、Sb25、ZrO2、Al23
などが好ましい。さらに、材料の汎用性、使用の容易さ
等を考慮すると、SiO2、TiO2、Sb25がより好
ましい。
In the present invention, specific examples of (a) ultrafine metal oxide particles include SiO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , Z
rO 2 , Al 2 O 3 , Nb 2 O 5 , MnO 2 , PbO, Bi 2
O 3 , SnO 2 , HfO 2 , Nd 2 O 3 and the like can be mentioned, and of these, one kind or a combination of two or more kinds can be used. However, the present invention is not limited to the above-described metal oxide ultrafine particles, and any metal oxide ultrafine particles having an effect of preventing spacer crushing can be used. Above all, in view of storage stability, versatility, cost and dispersibility of the resin composition, SiO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , ZrO 2 , Al 2 O 3
Are preferred. Further, considering the versatility and ease of use of the material, SiO 2 , TiO 2 , and Sb 2 O 5 are more preferable.

【0012】金属酸化物微粒子は、本発明の樹脂組成物
中にも含有されるとともに、基板上に形成された後も金
属酸化物超微粒子として含有される。
The metal oxide fine particles are contained not only in the resin composition of the present invention but also as ultrafine metal oxide particles after being formed on the substrate.

【0013】スペーサーをパターニングによって得る際
に、パターニング不良や残渣等により不必要な領域にも
スペーサー材料が残る場合がある。特に表示領域に残る
場合には、表示の色調の変化を招くことになることから
スペーサー材料は可視光波長領域で透過率の波長依存性
が無いことが好ましい。スペーサー材料の透過率の波長
依存性を損なわないようにするため、金属酸化物超微粒
子の粒径は5〜100nmであることが好ましく、5〜
50nmであればより好ましい。
When a spacer is obtained by patterning, the spacer material may remain in unnecessary regions due to poor patterning or residues. In particular, when the spacer material remains in the display region, the color tone of the display is changed. Therefore, it is preferable that the spacer material has no wavelength dependence of the transmittance in the visible light wavelength region. In order not to impair the wavelength dependence of the transmittance of the spacer material, the metal oxide ultrafine particles preferably have a particle size of 5 to 100 nm,
50 nm is more preferable.

【0014】なお金属酸化物超微粒子は、スペーサー用
樹脂組成物を作製する際に、粉体をそのまま樹脂溶液に
添加することが可能であるが、金属酸化物超微粒子の微
分散化、分散安定化の点で、金属酸化物超微粒子を溶剤
に分散した金属酸化物超微粒子ゾルとして樹脂溶液に添
加することが好ましい。
The metal oxide ultrafine particles can be added to the resin solution as it is when preparing the resin composition for the spacer. From the viewpoint of chemical conversion, it is preferable to add the metal oxide ultrafine particles to the resin solution as a metal oxide ultrafine particle sol dispersed in a solvent.

【0015】金属酸化物超微粒子の分散溶剤としては、
水、エタノール、メタノール、イソブタノール、3−メ
チル−3−メトキシブタノールなどのアルコール類、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンなどのケトン類、ジエチルエーテル、イソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テルなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エ
チレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチ
レングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブ
チロラクトンなどのエステル類、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類、2−ピロリドン、N−メチルピロリドンなどのピロ
リドン類などが挙げられる。
As a dispersion solvent for the metal oxide ultrafine particles,
Alcohols such as water, ethanol, methanol, isobutanol and 3-methyl-3-methoxybutanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol Diethyl ether, ethers such as diethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, n-butyl acetate,
Esters such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and γ-butyrolactone Amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; and pyrrolidones such as 2-pyrrolidone and N-methylpyrrolidone.

【0016】これらの溶剤のうち、エステル系高沸点溶
剤が、金属酸化物超微粒子の微分散性、保存安定性の点
から好ましく、単独で、または、2種類以上を混合して
使用することができる。特に、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテートなどの溶剤が、高沸点かつ
保存安定性の観点から好ましい。また、スペーサー用樹
脂組成物の保存安定性に鑑みて、金属酸化物微粒子の分
散溶剤は、スペーサー用樹脂組成物で使用されるその他
の溶剤と同一のものにすることが好ましい。
Among these solvents, ester-based high-boiling solvents are preferred from the viewpoint of fine dispersibility of metal oxide ultrafine particles and storage stability. It is preferable that these solvents be used alone or in combination of two or more. it can. Particularly, solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and diethylene glycol monomethyl ether acetate are preferable from the viewpoint of high boiling point and storage stability. Further, in view of the storage stability of the spacer resin composition, it is preferable that the dispersion solvent of the metal oxide fine particles be the same as the other solvent used in the spacer resin composition.

【0017】また、(b)金属アルコキシドとしては、
Si(OCH2CH34 、Ti(OCH(C
324、Hf(OCH2CH2CH2CH34、Ta
(OC255、Zr(OCH2CH2CH2CH34、B
a(OC252、Pb(OCH2CH2CH2CH32
Al(OC253、Zn(OC252、Ga(OCH
33、Ge(OC254、W(OC256、Nb(O
255、Mo(OC256、Y(OCH33、La
(OC253、Te(OC254などが挙げられ、こ
れらのうち、1種または2種以上組み合わせて使用でき
る。
Further, (b) the metal alkoxide includes:
Si (OCH 2 CH 3 ) 4 , Ti (OCH (C
H 3) 2) 4, Hf (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 4, Ta
(OC 2 H 5 ) 5 , Zr (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 4 , B
a (OC 2 H 5 ) 2 , Pb (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 2 ,
Al (OC 2 H 5 ) 3 , Zn (OC 2 H 5 ) 2 , Ga (OCH
3 ) 3 , Ge (OC 2 H 5 ) 4 , W (OC 2 H 5 ) 6 , Nb (O
C 2 H 5) 5, Mo (OC 2 H 5) 6, Y (OCH 3) 3, La
(OC 2 H 5 ) 3 , Te (OC 2 H 5 ) 4 and the like, and one or more of these can be used in combination.

【0018】なお上記に具体例として挙げた金属アルコ
キシドは、水やアルコールと酸性触媒との存在下で、加
水分解物を生成し、縮合反応により重合していくことが
知られている。そのため、上記金属アルコキシドを含む
場合、水や酸性触媒の存在する系では、スペーサー用樹
脂組成物の保存安定性が悪い場合がある。しかしなが
ら、β−ジケトンやβ−ケト酸エステル類と金属アルコ
キシド類の反応で生成する金属錯体は、加水分解および
縮合反応を抑制することができるため、保存安定性が向
上することが可能となる。したがって、金属アルコキシ
ドを添加する場合は、使用する樹脂や溶剤に金属アルコ
キシドを直接添加する、あるいは、金属アルコキシドを
金属錯体に変換してから添加すればよい。
It is known that the metal alkoxides mentioned above as specific examples generate a hydrolyzate in the presence of water or an alcohol and an acidic catalyst, and are polymerized by a condensation reaction. Therefore, when the above-mentioned metal alkoxide is contained, the storage stability of the spacer resin composition may be poor in a system in which water or an acidic catalyst is present. However, the metal complex formed by the reaction of the β-diketone or β-keto acid ester with the metal alkoxide can suppress the hydrolysis and the condensation reaction, so that the storage stability can be improved. Therefore, when adding a metal alkoxide, the metal alkoxide may be directly added to the resin or solvent to be used, or may be added after converting the metal alkoxide into a metal complex.

【0019】金属アルコキシドの中で、経済性、汎用性
の点から、Si(OCH2CH34、Ti(OCH(C
324、Hf(OCH2CH2CH2CH34、Ta
(OC255、Zr(OCH2CH2CH2CH34を使
用することが好ましい。その中で、とくに、Si(OC
2CH34 、Ti(OCH(CH324、Zr(O
CH2CH2CH2CH34などのシリカ、チタン、ある
いは、ジルコニウムのアルコキシドが、金属錯体生成の
安定性、簡便性の点からより好ましい。
Among the metal alkoxides, Si (OCH 2 CH 3 ) 4 and Ti (OCH (C
H 3) 2) 4, Hf (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 4, Ta
(OC 2 H 5) 5, it is preferable to use Zr (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 4. Among them, in particular, Si (OC
H 2 CH 3 ) 4 , Ti (OCH (CH 3 ) 2 ) 4 , Zr (O
Silica such as CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 4 or an alkoxide of titanium or zirconium is more preferable in terms of stability of metal complex formation and simplicity.

【0020】金属アルコキシドと金属錯体を形成するも
のとして上記したβ−ジケトン、β−ケト酸エステル類
の具体例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセ
トン、ジベンゾイルメタン、メチルアセトアセテート、
エチルアセトアセテート、ベンゾイルアセトアセテー
ト、エチルベンゾイルアセテート、メチルベンゾイルア
セテートなどが挙げられる。
Specific examples of the above-mentioned β-diketones and β-keto acid esters which form a metal complex with a metal alkoxide include acetylacetone, benzoylacetone, dibenzoylmethane, methylacetoacetate, and the like.
Ethyl acetoacetate, benzoylacetoacetate, ethyl benzoyl acetate, methyl benzoyl acetate and the like can be mentioned.

【0021】本発明において、金属錯体は金属アルコキ
シドからの合成以外に、金属からの合成、金属ハロゲン
化物からの合成、金属ハロゲン化物以外の金属塩からの
合成、金属酸化物や水酸化物からの合成、有機金属化合
物からの合成などが挙げられるが、入手性、有毒性の観
点から、金属アルコキシドからの合成が好ましい。
In the present invention, a metal complex may be synthesized from a metal, a metal halide, a metal salt other than a metal halide, a metal oxide or a hydroxide, in addition to the metal alkoxide. Synthesis, synthesis from an organometallic compound, and the like are mentioned. From the viewpoint of availability and toxicity, synthesis from a metal alkoxide is preferable.

【0022】以上のようなスペーサー用樹脂組成物に金
属アルコキシドを含有させる方法は、溶液状態を経由す
るため、分子レベルで樹脂と均一に混合することが可能
である。さらにスペーサー樹脂組成物を基板上にパター
ニングした後加熱等することにより、金属アルコキシド
は樹脂と化学結合しスペーサー中に分子レベルで分散し
たすることとなる。
Since the above-described method of adding a metal alkoxide to the resin composition for a spacer involves a solution state, it can be uniformly mixed with the resin at a molecular level. Further, by patterning the spacer resin composition on the substrate and then heating the metal alkoxide, the metal alkoxide is chemically bonded to the resin and dispersed at the molecular level in the spacer.

【0023】本発明のスペーサー用樹脂組成物を構成す
る樹脂としては特に制限はないが、ポリイミド系樹脂、
エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等を含む感光
性又は非感光性の材料が好ましく挙げられる。
The resin constituting the resin composition for a spacer of the present invention is not particularly limited, but a polyimide resin,
A photosensitive or non-photosensitive material including an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, and a polyolefin resin is preferably exemplified.

【0024】感光性の樹脂としては、光分解型樹脂、光
架橋型樹脂、光重合型樹脂などのタイプがあり、特に、
エチレン不飽和結合を有するモノマ、オリゴマ又はポリ
マと紫外線によりラジカルを発生する開始剤とを含む感
光性組成物、感光性ポリアミック酸組成物等が好適に用
いられる。
As the photosensitive resin, there are types such as a photolytic resin, a photocrosslinkable resin, and a photopolymerizable resin.
A photosensitive composition, a photosensitive polyamic acid composition and the like containing a monomer, an oligomer or a polymer having an ethylenically unsaturated bond and an initiator generating a radical by ultraviolet rays are preferably used.

【0025】非感光性の樹脂としては、上記の各種ポリ
マなどのうち、現像処理が可能なものが好ましく用いら
れるが、導電層の製膜工程や液晶表示装置の製造工程で
かかる熱に耐えられるような耐熱性を有する樹脂が好ま
しく、また、液晶表示装置の製造工程で使用される有機
溶剤への耐性を持つ樹脂が好ましく、中でもポリイミド
系樹脂が特に好ましい。
As the non-photosensitive resin, of the above-mentioned various polymers, those which can be developed are preferably used, but can withstand the heat applied in the process of forming the conductive layer and the process of manufacturing the liquid crystal display device. A resin having such heat resistance is preferable, a resin having resistance to an organic solvent used in a manufacturing process of a liquid crystal display device is preferable, and a polyimide resin is particularly preferable.

【0026】ここで、ポリイミド系樹脂としては、特に
限定されるものではないが、通常次の一般式で表される
構造単位を主成分とするポリイミド前駆体を、加熱又は
適当な触媒によってイミド化したものが好適に用いられ
る。
Here, the polyimide resin is not particularly limited, but usually a polyimide precursor having a structural unit represented by the following general formula as a main component is imidized by heating or an appropriate catalyst. Those that have been used are preferably used.

【0027】[0027]

【化1】 上記一般式においてnは0あるいは1〜4の数である。
1は酸成分残基であり、R1は少なくとも2個の炭素原
子を有する3価または4価の有機基を示す。耐熱性の面
から、R1は環状炭化水素、芳香族環または芳香族複素
環を含有し、かつ炭素数6から30の3価または4価の
基が好ましい。R1の例として、フェニル基、ビフェニ
ル基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペリレン基、ジ
フェニルエーテル基、ジフェニルスルフォン基、ジフェ
ニルプロパン基、ベンゾフェノン基、ビフェニルトリフ
ルオロプロパン基、シクロブチル基、シクロペンチル基
などから誘導された基が挙げられるがこれらに限定され
るものではない。
Embedded image In the above general formula, n is 0 or a number from 1 to 4.
R 1 is an acid component residue, and R 1 is a trivalent or tetravalent organic group having at least two carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R 1 is preferably a trivalent or tetravalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocyclic ring and having 6 to 30 carbon atoms. Examples of R 1 include phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, perylene, diphenylether, diphenylsulfone, diphenylpropane, benzophenone, biphenyltrifluoropropane, cyclobutyl, and cyclopentyl. However, the present invention is not limited thereto.

【0028】R2は少なくなくとも2個の炭素原子を有
する2価の有機基を示す。耐熱性の面から、R2は環状
炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、かつ
炭素数6から30の2価の基が好ましい。R2の例とし
て、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフ
タレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェ
ニルスルフォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェ
ノン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェニ
ルメタン基、シクロヘキシルメタン基などから誘導され
た基が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
上記一般式で表される構造単位を主成分とするポリマー
はR1、R2がこれらのうち、各々1個から構成されてい
ても良いし、各々2種以上から構成される共重合体であ
っても良い。
R 2 represents a divalent organic group having at least two carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R 2 is preferably a divalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocyclic ring and having 6 to 30 carbon atoms. Examples of R 2 include phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, perylene, diphenylether, diphenylsulfone, diphenylpropane, benzophenone, biphenyltrifluoropropane, diphenylmethane, cyclohexylmethane, and the like. Derived groups include, but are not limited to.
The polymer having a structural unit represented by the above general formula as a main component may be a copolymer in which R 1 and R 2 are each composed of one or two or more. There may be.

【0029】またアクリル系樹脂を含むスペーサーも好
ましく使用される。このとき用いられるアクリル系樹脂
は、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、
メチルメタクリレートなどのアルキルアクリレートまた
はアルキルメタクリレート、環状のアクリレートまたは
メタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレートまた
は、メタクリレートなどの内から3〜5種類程度のモノ
マを用いて、分子量5000〜200000程度に重合
した樹脂を用いるのが好ましい。アクリル系樹脂を含む
場合、スペーサー用樹脂組成物が感光性か非感光性は制
限されないが、スペーサーの微細加工のしやすさの点か
ら感光性の材料が好ましく用いられる。感光性樹脂の場
合には、アクリル系樹脂と光重合性モノマ、光重合開始
剤を配合した組成物が好ましく用いられる。
Also, a spacer containing an acrylic resin is preferably used. The acrylic resin used at this time is acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate,
Alkyl acrylates or alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, cyclic acrylates or methacrylates, hydroxyethyl acrylates or methacrylates are used, and a resin polymerized to a molecular weight of about 5,000 to 200,000 using about 3 to 5 types of monomers. preferable. When an acrylic resin is contained, the resin composition for the spacer is not limited to photosensitive or non-photosensitive, but a photosensitive material is preferably used from the viewpoint of ease of fine processing of the spacer. In the case of a photosensitive resin, a composition comprising an acrylic resin, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator is preferably used.

【0030】光重合性モノマとしては、2官能、3官
能、多官能モノマがあり、2官能モノマとして、1,6
−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールアクリレートなどがあ
り、3官能モノマとして、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートな
どがあり、多官能モノマとしてジトリメチロールプロパ
ンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
およびヘキサアクリレートなどがある。また、光重合開
始剤としては、ベンゾフェノン、チオキサントン、イミ
ダゾール、トリアジン系などが単独もしくは混合で用い
られる。
As photopolymerizable monomers, there are bifunctional, trifunctional and polyfunctional monomers.
-Hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, triethylene glycol acrylate, etc., and trifunctional monomers such as trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanate, etc. And polyfunctional monomers such as ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol penta and hexaacrylate. As the photopolymerization initiator, benzophenone, thioxanthone, imidazole, triazine and the like are used alone or in combination.

【0031】またエポキシ樹脂も好ましく用いることが
でき、具体的には、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、脂肪族ポリグリシジルエ
ーテルなどを硬化剤により硬化したものを使用すること
ができる。
Epoxy resins can also be preferably used. Specifically, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, cycloaliphatic epoxy resin, fatty acid Those obtained by curing an aromatic polyglycidyl ether or the like with a curing agent can be used.

【0032】上記スペーサー用樹脂組成物には、必要に
応じて、別途添加剤を加えても良い。添加剤としては、
色画素やブラックマトリックスやオーバーコート膜に用
いられる有機顔料、無機顔料、染料等の着色剤、さらに
は、紫外線吸収剤、分散剤、レベリング剤等の種々の添
加剤がある。スペーサーに遮光性が要求される際には、
カーボンブラック、酸化チタン、四酸化鉄等の金属酸化
物粉末、金属硫化物粉末、金属粉末といった遮光剤の他
に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることがで
きる。着色層でスペーサーを形成する場合には、樹脂中
に赤、青、緑色等の顔料等の着色剤を分散又は溶解させ
たものを用いることが好ましい。着色剤や遮光剤を添加
する量に特に制限はないが、樹脂成分に対する着色剤お
よび遮光剤成分の重量比が10:0〜1:9であること
が、スペーサー形成の点から好ましい。
If necessary, an additive may be separately added to the spacer resin composition. As additives,
There are coloring agents such as organic pigments, inorganic pigments, and dyes used for color pixels, black matrices, and overcoat films, and various additives such as ultraviolet absorbers, dispersants, and leveling agents. When the light shielding property is required for the spacer,
In addition to light-blocking agents such as metal oxide powders such as carbon black, titanium oxide and iron tetroxide, metal sulfide powders and metal powders, mixtures of pigments such as red, blue and green can be used. When a spacer is formed with a colored layer, it is preferable to use a resin in which a coloring agent such as a pigment such as red, blue, or green is dispersed or dissolved in a resin. There is no particular limitation on the amount of the colorant and the light-shielding agent to be added, but it is preferable that the weight ratio of the colorant and the light-shielding agent component to the resin component is 10: 0 to 1: 9 from the viewpoint of forming the spacer.

【0033】基板がカラーフィルターであり、かつ色画
素やブラックマトリックス、オーバーコート膜等を積層
して複数層からなるスペーサーを形成する場合には、ス
ペーサーを構成する層の少なくとも1層にスペーサー用
樹脂組成物を用いて形成しても良い。例えば、スペーサ
ー用樹脂組成物に赤色顔料を分散した樹脂組成物を用い
て、赤色画素を形成するとともに複数層からなるスペー
サーの1層を形成することが考えられる。色画素を積層
してスペーサーを形成する方法については後述する。
When the substrate is a color filter and a spacer composed of a plurality of layers is formed by laminating a color pixel, a black matrix, an overcoat film and the like, at least one of the layers constituting the spacer is provided with a resin for the spacer. It may be formed using a composition. For example, using a resin composition in which a red pigment is dispersed in a resin composition for a spacer, it is conceivable to form a red pixel and to form one layer of a spacer composed of a plurality of layers. A method of forming a spacer by stacking color pixels will be described later.

【0034】スペーサー用樹脂組成物に使用される溶剤
としては水、エタノール、メタノール、イソブタノー
ル、3−メチル−3−メトキシブタノールなどのアルコ
ール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ジエチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸
n−ブチル、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテー
ト、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、γ−ブチロラクトンなどのエステル類、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドな
どのアミド類、2−ピロリドン、N−メチルピロリドン
などのピロリドン類などが挙げられる。これらの中で、
エステル系高沸点溶剤がスペーサー用材料塗液の塗布性
の点から好ましく、単独で、または、2種類以上を混合
して使用することができる。特に、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテートなどの溶剤が高沸点か
つ保存安定性の観点から好ましい。
Solvents used in the spacer resin composition include water, alcohols such as ethanol, methanol, isobutanol and 3-methyl-3-methoxybutanol, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, and diethyl. Ethers such as ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, n-butyl acetate, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate; Ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol Esters such as methyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and γ-butyrolactone; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; And pyrrolidones such as -pyrrolidone and N-methylpyrrolidone. Among these,
Ester-based high-boiling solvents are preferred from the viewpoint of coatability of the spacer material coating liquid, and they can be used alone or as a mixture of two or more. Particularly, solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and diethylene glycol monomethyl ether acetate are preferable from the viewpoint of high boiling point and storage stability.

【0035】本発明においてはスペーサー用樹脂組成物
中の、(a)金属酸化物超微粒子および/または(b)
金属アルコキシドの含有率は、樹脂100重量部に対
し、1〜200重量部、好ましくは1〜100重量部、
より好ましくは1〜50重量部である。成分(a)およ
び/または(b)の添加量がこれより少ないと、スペー
サーの潰れ防止効果の点で好ましくなく、また、これよ
り多いとスペーサー用樹脂組成物の塗布性の点で好まし
くない。スペーサー用樹脂組成物のの塗布性、潰れ防止
の観点から10〜50重量部がさらに好ましい。
In the present invention, (a) ultrafine metal oxide particles and / or (b) in the resin composition for a spacer are used.
The content of the metal alkoxide is 1 to 200 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin.
More preferably, it is 1 to 50 parts by weight. If the addition amount of the components (a) and / or (b) is less than this, it is not preferable from the viewpoint of the effect of preventing the spacer from being crushed, and if it is more than this, it is not preferable from the viewpoint of coating properties of the spacer resin composition. The amount is more preferably from 10 to 50 parts by weight from the viewpoints of coatability of the resin composition for a spacer and prevention of collapse.

【0036】(a)、(b)の分散の相違は(a)は物
理的に超微粒子を樹脂中に分散させるのに対し、(b)
は化学的に金属酸化物を分散させることである。しかし
(a)、(b)のどちらを用いても、潰れ防止効果に大
きな差違はない。
The difference in dispersion between (a) and (b) is that (a) physically disperses ultrafine particles in resin, while (b)
Is to chemically disperse the metal oxide. However, there is no significant difference in the crush prevention effect using either (a) or (b).

【0037】スペーサー用樹脂組成物の塗布性、および
スペーサー高さの均一性を良好にする目的で、スペーサ
ー用樹脂組成物に界面活性剤を添加することができる。
界面活性剤の添加量は、樹脂100重量部に対して、
0.01〜10重量部が好ましく0.03〜1重量部が
より好ましい。添加量が少なすぎると、塗布性、膜表面
の平滑性の改良、あるいは微粒子の分散性の改良の効果
がなく、多すぎると逆に塗布性が不良となったり、塗膜
の強靱性が低下したり、微粒子が凝集する傾向がある。
For the purpose of improving the coatability of the spacer resin composition and the uniformity of the spacer height, a surfactant can be added to the spacer resin composition.
The addition amount of the surfactant is based on 100 parts by weight of the resin.
0.01 to 10 parts by weight is preferable, and 0.03 to 1 part by weight is more preferable. If the addition amount is too small, there is no effect of improving the coating properties, the smoothness of the film surface, or the dispersibility of the fine particles, while if it is too large, the coating properties become poor or the toughness of the coating film decreases. And the fine particles tend to agglomerate.

【0038】界面活性剤の具体例としては、ジメチルシ
リコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなど
のシリコーンオイル類、アルキル、フッ素変性シリコー
ンオイル、ポリエーテル、アルコール変性シリコーンオ
イル、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリ
コーンオイル、フェノール、カルボキシ、メルカプト変
性シリコーンオイルなどの変性シリコーンオイル類、ラ
ウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル硫酸トリエタノールアミンなどの陰イオン界面
活性剤、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドな
どの陽イオン界面活性剤、ラウリルジメチルアミンオキ
サイド、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイ
ミダゾリウムベタインなどの両性界面活性剤、ポリオキ
シエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステ
アリルエーテル、ソルビタンモノステアレートなどの非
イオン界面活性剤などが挙げられるが、これらに限定さ
れない。上記のような界面活性剤を1種、または2種以
上組み合わせて用いることができる。界面活性剤の添加
は、金属酸化物超微粒子、あるいは、金属アルコキシド
の添加前後の、どの時点でも行うことができる。しかし
添加のタイミングによっては、金属酸化物超微粒子の分
散性が変わる場合があるので、適宜添加の手順を設定す
る必要がある。
Specific examples of the surfactant include silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, alkyl, fluorine-modified silicone oil, polyether, alcohol-modified silicone oil, amino-modified silicone oil, and epoxy-modified silicone oil. Modified silicone oils such as phenol, carboxy, mercapto-modified silicone oils, anionic surfactants such as ammonium lauryl sulfate, polyoxyethylene alkyl ether triethanolamine sulfate, cationic surfactants such as lauryl trimethyl ammonium chloride, lauryl dimethyl Amphoteric surfactants such as amine oxide, lauryl carboxymethyl hydroxyethyl imidazolium betaine, polyoxyethylene lauri Ether, polyoxyethylene stearyl ether, but such nonionic surfactants such as sorbitan monostearate and the like, without limitation. The above surfactants can be used alone or in combination of two or more. The surfactant can be added at any time before and after the addition of the metal oxide ultrafine particles or the metal alkoxide. However, depending on the timing of addition, the dispersibility of the metal oxide ultrafine particles may change, so it is necessary to appropriately set the addition procedure.

【0039】スペーサーの形状、すなわち、スペーサー
を基板と平行な面で切断した場合の横断面の形状は、特
に限定されないが、円、楕円、角が丸い多角形、十字、
T字又はL字形が好ましい。また、積層によりスペーサ
ーを形成する場合においても、それぞれの層のスペーサ
ーの形状は、特に制限されないが、円、楕円、角が丸い
多角形、十字、T字又はL字形が好ましく、これらを任
意に積層しスペーサーを形成してよい。
The shape of the spacer, that is, the cross-sectional shape when the spacer is cut along a plane parallel to the substrate is not particularly limited, but may be a circle, an ellipse, a polygon with rounded corners, a cross,
A T or L shape is preferred. In the case where the spacer is formed by lamination, the shape of the spacer in each layer is not particularly limited, but is preferably a circle, an ellipse, a polygon having rounded corners, a cross, a T-shape or an L-shape, and these may be arbitrarily selected. They may be laminated to form a spacer.

【0040】スペーサーの高さは、1〜9μmが好まし
く、さらには2〜8μmが好ましい。スペーサーの高さ
が1μmよりも低いと、十分なセルギャップを確保しに
くい。一方、9μmを超えると、液晶表示装置のセルギ
ャップが大きくなりすぎて駆動に要する電圧が高くなり
好ましくない。なお、スペーサーの高さとは、1個のス
ペーサーに着目し、カラーフィルターの開口部着色層と
該スペーサーの最上表面との間の距離を意味する。基板
上の表示部平坦部の高さにムラがある場合には、スペー
サーの最上表面と各表示部平坦部との間の距離の内、最
大のものを指す。
The height of the spacer is preferably 1 to 9 μm, more preferably 2 to 8 μm. If the height of the spacer is lower than 1 μm, it is difficult to secure a sufficient cell gap. On the other hand, if the thickness exceeds 9 μm, the cell gap of the liquid crystal display device becomes too large, and the voltage required for driving becomes undesirably high. In addition, the height of the spacer refers to a single spacer, and means the distance between the opening coloring layer of the color filter and the uppermost surface of the spacer. When there is unevenness in the height of the display portion flat portion on the substrate, it indicates the largest one of the distances between the uppermost surface of the spacer and each display portion flat portion.

【0041】スペーサーによって保たれる2枚の液晶表
示装置用基板間の間隔の画面内均一性を高める点から、
画面内および画面外の非表示領域にスペーサーを形成す
ることが好ましいが、画面内または画面外のどちらか一
方の非表示領域に形成しても良い。
From the viewpoint of increasing the uniformity of the distance between the two substrates for the liquid crystal display device held by the spacer in the screen,
The spacer is preferably formed in the non-display area inside and outside the screen, but may be formed in either the non-display area inside the screen or outside the screen.

【0042】スペーサーの1個あたりの面積や配置場所
は液晶表示装置の構造に大きく影響を受ける。固定され
たスペーサーを有するカラーフィルターにおいて1画素
中の非表示領域の面積の制約から、画面内の1個あたり
のスペーサー面積は、10μm2〜1000μm2である
ことが好ましい。さらに好ましくは、10μm2〜25
0μm2である。ここでいうスペーサー面積とはカラー
フィルター上に形成されたスペーサー最頂部であって、
液晶表示装置を作製した際に対向基板に接触する部分の
面積もしくは対向基板上に作製されたスペーサーに接触
する部分の面積を指す。1個あたりのスペーサーの面積
が10μm2よりも小さい場合は、精密なパターンの形
成や積層が難しくなる。1個あたりのスペーサーの面積
が1000μm2よりも大きい場合は、スペーサーパタ
ーンの形成や積層は容易になるが、画面内のスペーサー
は表示領域に現れてしまい表示不良の原因となる。一
方、画面外のスペーサーを設ける場合には、画面外のス
ペーサーは表示領域に現れることが無いので、面積を、
画面内のスペーサーのひとつ当たりの面積と等しいかも
しくは大きくすることがスペーサーの形成を容易にする
観点から好ましい。
The area and arrangement location of each spacer are greatly affected by the structure of the liquid crystal display device. Constraints of the area of the non-display region 1 in the pixel in a color filter having a fixed spacer, the spacer area per one screen is preferably 10μm 2 ~1000μm 2. More preferably, 10 μm 2 to 25
0 μm 2 . The spacer area here is the top of the spacer formed on the color filter,
It refers to the area of a portion that comes into contact with a counter substrate or the area of a portion that comes into contact with a spacer formed on a counter substrate when a liquid crystal display device is manufactured. When the area of each spacer is smaller than 10 μm 2 , it is difficult to form a precise pattern and to form a laminate. If the area of each spacer is larger than 1000 μm 2 , the formation and lamination of the spacer pattern are facilitated, but the spacers in the screen appear in the display area and cause display failure. On the other hand, when a spacer outside the screen is provided, the spacer outside the screen does not appear in the display area.
It is preferable to make the area equal to or larger than the area of each spacer in the screen from the viewpoint of facilitating the formation of the spacer.

【0043】さらに本発明においてスペーサーは、パタ
ーンを積層する際には、対向するガラス基板への接触部
の面積がスペーサーの底部の面積より小さくなるように
設計することが望ましい。
Further, in the present invention, it is desirable that the spacer is designed so that the area of the contact portion with the glass substrate facing the glass substrate is smaller than the area of the bottom of the spacer when the patterns are laminated.

【0044】本発明のスペーサーの形成は、フォトリソ
グラフィー法や転写法、印刷法、電着法、インクジェッ
ト法などの方法によって行われるのがよい。なかでもス
ペーサーを容易に設計通りの位置に形成できるのでフォ
トリソグラフィー法により形成するのが好ましい。フォ
トリソグラフィー法はスペーサー用樹脂組成物を基板上
に塗布、乾燥した後にスペーサーパターンを有するマス
クを介し露光し、現像しパターニングを行う方法であ
る。スペーサー用樹脂組成物を塗布する方法としては、
ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダイコー
ティング法、ワイヤバーコーティング法などが好適に用
いられ、この後、必要に応じてオーブンやホットプレー
トを用いて加熱乾燥(セミキュア)を行う。セミキュア
条件は、金属アルコキシドの有無、使用する樹脂、溶
媒、樹脂塗布量により異なるが、60〜200℃で1〜
60分加熱することが好ましい。このようにして得られ
たスペーサー用樹脂被膜は、樹脂が非感光性の樹脂であ
る場合は、その上にフォトレジスト膜を形成した後に、
また、樹脂が感光性の樹脂である場合は、そのままかあ
るいは酸素遮断膜を形成した後に、露光、現像を行う。
必要に応じて、フォトレジスト膜又は酸素遮断膜を除去
し、加熱乾燥(本キュア)する。以上のプロセスによ
り、透明基板上にスペーサーが形成される。1回のパタ
ーニングで十分な高さを得られることが困難である場合
には、スペーサーの形成する工程を複数回実施し樹脂層
を積層して十分な高さを得ることも可能である。
The spacer of the present invention is preferably formed by a method such as a photolithography method, a transfer method, a printing method, an electrodeposition method, and an ink-jet method. Among them, the spacer is preferably formed by a photolithography method since the spacer can be easily formed at a designed position. The photolithography method is a method in which a resin composition for a spacer is applied on a substrate, dried, exposed through a mask having a spacer pattern, developed, and patterned. As a method of applying the resin composition for a spacer,
A dip method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a wire bar coating method, or the like is suitably used. Thereafter, if necessary, heat drying (semi-curing) is performed using an oven or a hot plate. Semi-curing conditions vary depending on the presence or absence of a metal alkoxide, the resin used, the solvent, and the amount of resin applied.
Preferably, heating is performed for 60 minutes. In the case where the resin is a non-photosensitive resin, after forming a photoresist film thereon,
When the resin is a photosensitive resin, exposure and development are performed as it is or after forming an oxygen blocking film.
If necessary, the photoresist film or the oxygen barrier film is removed, and the film is dried by heating (this cure). By the above process, a spacer is formed on the transparent substrate. When it is difficult to obtain a sufficient height by one patterning, it is also possible to perform a step of forming a spacer a plurality of times and laminate resin layers to obtain a sufficient height.

【0045】転写法は、あらかじめ基材上に感光性を付
与した樹脂層を形成した転写基板を準備し、これを必要
に応じ熱や圧力を加えつつ基板の上に重ね合わせ、露光
・現像し、しかる後に基材を剥離してスペーサーを基板
上に形成する方法、もしくはあらかじめフォトリソグラ
フィー等にて転写基板上にスペーサーを形成しておいて
から基板上に熱や圧力を加えてスペーサーを転写する方
法である。
In the transfer method, a transfer substrate in which a photosensitive resin layer is formed on a base material in advance is prepared, and the transfer substrate is overlaid on the substrate while applying heat and pressure as necessary, and exposed and developed. Then, the base material is peeled off and the spacer is formed on the substrate, or the spacer is formed on the transfer substrate in advance by photolithography or the like, and then the heat and pressure are applied to the substrate to transfer the spacer. Is the way.

【0046】次に本発明のスペーサーを用いた液晶表示
装置用基板および液晶表示装置について説明する。
Next, a liquid crystal display substrate and a liquid crystal display device using the spacer of the present invention will be described.

【0047】液晶表示装置用基板は、液晶方式であれば
よく、必要に応じて基板上に電極や薄膜トランジスター
や色画素を有するものであってもよい。具体的には、色
画素を有するカラーフィルターやモノクロのフィルター
を有するものであってもよいし、薄膜トランジスタ(T
FT)付基板のような、トランジスターを複数個有する
基板であってもよい。
The substrate for the liquid crystal display device may be of a liquid crystal type, and may have electrodes, thin film transistors and color pixels on the substrate as necessary. Specifically, a color filter having color pixels or a monochrome filter may be used, or a thin film transistor (T
A substrate having a plurality of transistors, such as a substrate with FT), may be used.

【0048】図を用いて本発明の液晶表示装置用基板お
よび液晶表示装置についてさらに述べる。
The substrate for a liquid crystal display device and the liquid crystal display device of the present invention will be further described with reference to the drawings.

【0049】図1は本発明の液晶表示装置用基板の一例
の概略図である。ブラックマトリックス4と青画素1、
赤画素2、緑画素3が形成された上に、さらに電極層6
aが形成されたガラス基板5aであり、電極層6a上に
パターニングされたスペーサー用樹脂組成物12が形成
されている。
FIG. 1 is a schematic view of an example of the substrate for a liquid crystal display of the present invention. Black matrix 4 and blue pixel 1,
After the red pixel 2 and the green pixel 3 are formed, an electrode layer 6
a is a glass substrate 5a on which a patterned resin composition 12 for a spacer is formed on an electrode layer 6a.

【0050】図2は、図1の液晶表示装置用基板を用い
た液晶表示装置の一例の概略図であり、図1に示す液晶
表示装置用基板上にさらに配向膜7を形成した基板と、
電極層6bおよび薄膜トランジスター9を形成したガラ
ス基板5bに、配向膜7を形成した後、対向して張り合
わせ、液晶を注入したもので、注入口はシール剤8によ
りシールされており、各基板間の距離はパターニングさ
れたスペーサー12により維持されるものである。
FIG. 2 is a schematic view of an example of a liquid crystal display device using the liquid crystal display device substrate of FIG. 1, and a substrate in which an alignment film 7 is further formed on the liquid crystal display device substrate shown in FIG.
After the alignment film 7 is formed on the glass substrate 5b on which the electrode layer 6b and the thin film transistor 9 are formed, the alignment film 7 is adhered to the glass substrate 5b, and the liquid crystal is injected. Is maintained by the patterned spacer 12.

【0051】液晶表示装置用基板にスペーサー形成前お
よび/またはスペーサー形成後に、オーバーコート膜を
形成しても良い。このようなオーバーコート膜の塗設
は、液晶表示装置用基板の構造を複雑にし製造コストが
高くなる点では不利であるが、スペーサー高さの制御、
液晶表示装置用基板およびスペーサー表面からの不純物
のシミ出し防止、表面平坦化に有利であり、総合的な要
求特性に鑑みてその採用の可否を判断すればよい。スペ
ーサー部にオーバーコート膜を形成することで、スペー
サーの一部はオーバーコート膜により構成されることに
なる。材質は特に限定されず、無機ガラス膜や、樹脂膜
などが用いられる。具体的には、無機ガラス膜として
は、テトラメトキシシランの縮合物やテトラエトキシシ
ランの縮合物など、樹脂膜としては、エポキシ系樹脂、
アクリル系樹脂、シロキサン系樹脂、ポリイミド系樹
脂、などが挙げられるが、これらに限定されない。
An overcoat film may be formed on the liquid crystal display device substrate before and / or after the spacer is formed. The application of such an overcoat film is disadvantageous in that the structure of the substrate for a liquid crystal display device is complicated and the production cost is high, but the control of the spacer height and
This is advantageous for preventing impurities from being stained from the surface of the substrate for the liquid crystal display device and the spacer and for flattening the surface. It is sufficient to judge whether or not to employ the material in view of the overall required characteristics. By forming the overcoat film in the spacer portion, a part of the spacer is constituted by the overcoat film. The material is not particularly limited, and an inorganic glass film, a resin film, or the like is used. Specifically, as an inorganic glass film, a condensate of tetramethoxysilane or a condensate of tetraethoxysilane, and as a resin film, an epoxy resin,
Examples include, but are not limited to, acrylic resins, siloxane resins, and polyimide resins.

【0052】また、本発明の液晶表示装置用基板には必
要に応じスペーサー形成前またはスペーサー形成後に導
電層が製膜されてもよい。なお液晶表示装置を構成する
2枚の液晶表示装置用基板のうち少なくとも一方に導電
層を有するのが好ましい。導電層を介して液晶に電圧を
印加し液晶表示装置を駆動させることが可能になる。ス
ペーサー上やスペーサー側壁に形成された導電層が液晶
表示装置の表示特性に悪影響を及ぼす場合にはスペーサ
ーの形成前に電極層を形成するのが好ましい。スペーサ
ーに導電性をもたせたい場合には、スペーサー形成後に
電極層を設けるのがよい。電極層としては酸化インジウ
ムスズ(ITO)などの透明導電性薄膜が採用される。
カラー液晶表示装置の場合、スペーサーの形成のしやす
さの点から、色画素を含んだ液晶表示装置用基板である
カラーフィルターが、固定されたスペーサーを有する液
晶表示装置用基板として好ましい。
Further, a conductive layer may be formed on the substrate for a liquid crystal display device of the present invention before or after the spacer is formed, if necessary. Note that it is preferable that at least one of the two substrates for a liquid crystal display device constituting the liquid crystal display device has a conductive layer. A voltage can be applied to the liquid crystal through the conductive layer to drive the liquid crystal display. When the conductive layer formed on the spacer or on the spacer side wall adversely affects the display characteristics of the liquid crystal display device, it is preferable to form the electrode layer before forming the spacer. When the spacer is desired to have conductivity, it is preferable to provide an electrode layer after the spacer is formed. As the electrode layer, a transparent conductive thin film such as indium tin oxide (ITO) is employed.
In the case of a color liquid crystal display device, a color filter, which is a substrate for a liquid crystal display device including color pixels, is preferable as a substrate for a liquid crystal display device having a fixed spacer from the viewpoint of easy formation of the spacer.

【0053】以下、液晶表示装置用基板が色画素を含ん
だカラーフィルターの場合を例として本発明をさらに詳
細に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by taking, as an example, the case where the substrate for a liquid crystal display device is a color filter including color pixels.

【0054】本発明のカラーフィルターは、基板上に必
要に応じてブラックマトリックスを設け、さらにその上
に少なくとも3原色から成る色画素を複数配列したもの
が好ましい。ここで言うブラックマトリックスは、各画
素間に配列された遮光領域を示し、液晶表示装置の表示
コントラストを向上させ、またTFTなどの能動素子に
光が入射して誤動作することを防ぐために設けられる。
The color filter of the present invention is preferably one in which a black matrix is provided on a substrate as required, and a plurality of color pixels consisting of at least three primary colors are arranged thereon. The black matrix referred to herein indicates a light-shielding region arranged between pixels, is provided to improve display contrast of a liquid crystal display device, and to prevent light from being incident on an active element such as a TFT and causing a malfunction.

【0055】カラーフィルターに用いられる基板として
は、特に限定されるものではなく、石英ガラス、ホウケ
イ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、表面をシリカコ
ートしたソーダライムガラスなどの無機ガラス類、有機
プラスチックのフィルム又はシート等の透明基板が好ま
しく用いられる。
The substrate used for the color filter is not particularly limited, and inorganic glass such as quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass whose surface is coated with silica, and organic plastic film Alternatively, a transparent substrate such as a sheet is preferably used.

【0056】ブラックマトリックスは、クロムやニッケ
ル等の金属又はそれらの酸化物等や着色膜の重ね塗りで
形成してもよいが、樹脂及び遮光剤から成る樹脂ブラッ
クマトリックスを形成することが製造コストや廃棄物処
理コストの面から好ましい。この場合、ブラックマトリ
ックスに用いられる樹脂としては、特に限定されない
が、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレ
フィン系樹脂などの感光性又は非感光性の材料が好まし
く用いられる。樹脂ブラックマトリックス用樹脂は、画
素や保護膜に用いられる樹脂よりも高い耐熱性を有する
樹脂が好ましく、また、ブラックマトリックス形成後の
工程で使用される有機溶剤に耐性を持つ樹脂が好ましい
ことから、ポリイミド系樹脂が特に好ましく用いられ
る。なお、好ましいポリイミド系樹脂としては、上記し
たスペーサーを形成するのに適した樹脂を挙げることが
できる。
The black matrix may be formed by overcoating a metal such as chromium or nickel, an oxide thereof, or a colored film. However, forming a resin black matrix composed of a resin and a light-shielding agent requires a low production cost. It is preferable from the viewpoint of waste disposal cost. In this case, the resin used for the black matrix is not particularly limited, but is a photosensitive or non-photosensitive material such as an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin, and a polyolefin resin. Is preferably used. The resin for the resin black matrix is preferably a resin having higher heat resistance than the resin used for the pixels and the protective film, and since a resin having resistance to the organic solvent used in the step after the formation of the black matrix is preferable, A polyimide resin is particularly preferably used. In addition, as a preferable polyimide-based resin, a resin suitable for forming the above-described spacer can be used.

【0057】ブラックマトリックス用の遮光剤として
は、カーボンブラック、酸化チタン、四酸化鉄等の金属
酸化物粉、金属酸化物超微粒子、金属硫化物粉、金属粉
の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いること
ができる。この中でも、カーボンブラックは遮光性が優
れており、特に好ましい。分散の良い粒径の小さいカー
ボンブラックは主として茶系統の色調を呈するので、カ
ーボンブラックに対する補色の顔料を混合させて無彩色
にするのが好ましい。
Examples of the light-shielding agent for the black matrix include metal oxide powders such as carbon black, titanium oxide and iron tetroxide, metal oxide ultrafine particles, metal sulfide powder and metal powder, as well as red, blue and green. And the like. Among them, carbon black is particularly preferable because of its excellent light-shielding properties. Since carbon black having a good dispersion and a small particle size mainly exhibits a brownish color tone, it is preferable to mix a pigment of a complementary color to carbon black to obtain an achromatic color.

【0058】金属酸化物微粒子および/または金属アル
コキシドを含有するスペーサー用樹脂組成物に遮光剤を
添加した樹脂ブラックマトリックスを用いて、複数層か
らなるスペーサーの1層を形成してもよい。
One layer of the spacer composed of a plurality of layers may be formed by using a resin black matrix in which a light-shielding agent is added to a spacer resin composition containing metal oxide fine particles and / or metal alkoxide.

【0059】ブラックマトリックス用の樹脂がポリイミ
ド系樹脂の場合、黒色ペースト溶媒としては、通常、N
−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトア
ミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系極性
溶媒、γ−ブチロラクトンなどのラクトン系極性溶媒等
が好適に使用される。
When the resin for the black matrix is a polyimide resin, the black paste solvent is usually N
Amide polar solvents such as -methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, and lactone polar solvents such as γ-butyrolactone are preferably used.

【0060】カーボンブラックや、カーボンブラックに
対して補色の顔料等の遮光剤を分散させる方法として
は、例えば、ポリイミド前駆体溶液中に遮光剤や必要に
応じて下記添加剤等を混合させた後、三本ロール、サン
ドグラインダー、ボールミルなどの分散機中で分散させ
る方法などがあるが、この方法に特に限定されない。ま
た添加剤は、主にカーボンブラックの分散性向上、ある
いは塗布性やレベリング性向上のため加えられる。
As a method for dispersing a light-shielding agent such as a pigment of a complementary color to carbon black or carbon black, for example, a method of mixing a light-shielding agent and the following additives as necessary into a polyimide precursor solution is used. , A three-roll, a sand grinder, a method of dispersing in a disperser such as a ball mill, and the like, but the method is not particularly limited. Additives are mainly added for improving the dispersibility of carbon black, or for improving applicability and leveling property.

【0061】樹脂ブラックマトリックスの製法として
は、黒色ペーストを透明基板上に塗布、乾燥した後に、
パターニングを行う。黒色ペーストを塗布する方法とし
ては、ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダ
イコーティング法、ワイヤバーコーティング法などが好
適に用いられ、この後、オーブンやホットプレートを用
いて加熱乾燥(セミキュア)を行う。セミキュア条件
は、使用する樹脂、溶媒、ペースト塗布量により異なる
が、通常60〜200℃で1〜60分加熱することが好
ましい。
As a method for producing a resin black matrix, a black paste is applied on a transparent substrate, dried, and then
Perform patterning. As a method for applying the black paste, a dip method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a wire bar coating method, or the like is suitably used. After that, heat drying (semi-curing) using an oven or a hot plate is performed. Do. The semi-curing conditions vary depending on the resin, solvent and paste applied amount, but it is usually preferable to heat at 60 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes.

【0062】このようにして得られた黒色ペースト被膜
は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にフォ
トレジスト膜を形成した後に、また、樹脂が感光性の樹
脂である場合は、そのままかあるいは酸素遮断膜を形成
した後に、露光、現像を行う。必要に応じて、ポジ形フ
ォトレジスト膜まは酸素遮断膜を除去し、また、加熱乾
燥(本キュア)する。本キュア条件は、前駆体からポリ
イミド系樹脂を得る場合には、塗布量により若干異なる
が、通常200〜300℃で1〜60分加熱すればよ
い。またアクリル系樹脂の場合には、本キュア条件は、
通常150〜300℃で1〜60分加熱すればよい。以
上のプロセスにより、基板上にブラックマトリックスが
形成される。
The black paste film obtained in this manner is formed after forming a photoresist film on the non-photosensitive resin when the resin is a non-photosensitive resin, or after forming a photoresist film on the non-photosensitive resin. Exposure and development are performed as it is or after forming an oxygen barrier film. If necessary, the positive photoresist film or the oxygen barrier film is removed, and the film is dried by heating (this cure). These curing conditions are slightly different depending on the amount of the polyimide resin to be obtained from the precursor, but may be usually heated at 200 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. In the case of acrylic resin, the curing conditions are as follows:
Usually, heating may be performed at 150 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. Through the above process, a black matrix is formed on the substrate.

【0063】また、転写法によって樹脂ブラックマトリ
ックスを形成してもよい。後述する着色層を重ねてブラ
ックマトリックスを形成しても良い。
The resin black matrix may be formed by a transfer method. A black matrix may be formed by stacking colored layers described later.

【0064】樹脂ブラックマトリックスの膜厚は、好ま
しくは0.5〜2.0μm、より好しくは0.8〜1.
5μmである。膜厚が0.5μmよりも薄い場合には、
樹脂ブラックマトリックス上に樹脂層をさらに積層して
スペーサーを作製する場合、十分な高さのスペーサーを
形成することが難しくなり、また、遮光性が不十分にな
ることからも好ましくない。一方、膜厚が2.0μmよ
りも厚い場合には、遮光性は確保できるものの、カラー
フィルターの平坦性が犠牲になり易く、段差が生じやす
い。
The thickness of the resin black matrix is preferably 0.5 to 2.0 μm, more preferably 0.8 to 1.
5 μm. When the film thickness is smaller than 0.5 μm,
When a spacer is produced by further laminating a resin layer on the resin black matrix, it is difficult to form a spacer having a sufficient height, and the light-shielding property is insufficient, which is not preferable. On the other hand, when the film thickness is greater than 2.0 μm, although the light-shielding property can be ensured, the flatness of the color filter is easily sacrificed, and a step is easily generated.

【0065】樹脂ブラックマトリックスの遮光性は、O
D値(透過率の逆数の常用対数)で表されるが、液晶表
示装置の表示品位を向上させるためには、好ましくは
1.6以上であり、より好ましくは2.0以上であり、
さらに好ましくは3.0以上である。また、樹脂ブラッ
クマトリックスの膜厚の好適な範囲をしるしたが、OD
値の上限は、これとの関係で定められるべきである。
The light shielding property of the resin black matrix is O
It is represented by a D value (common logarithm of the reciprocal of transmittance), and is preferably 1.6 or more, more preferably 2.0 or more, in order to improve the display quality of the liquid crystal display device.
More preferably, it is 3.0 or more. In addition, although the preferred range of the thickness of the resin black matrix is specified, the OD
The upper limit of the value should be set in this connection.

【0066】樹脂ブラックマトリックス間には通常(2
0〜200)μm×(20〜300)μmの開口部が設
けられるが、この開口部を少なくとも被覆するように3
原色のそれぞれの色画素が複数配列される。すなわち、
1つの開口部は、3原色のいずれか1つの色画素により
被覆され、各色画素が複数配列される。
Usually, (2)
An opening of 0 to 200) μm × (20 to 300) μm is provided.
A plurality of primary color pixels are arranged. That is,
One opening is covered with any one color pixel of the three primary colors, and a plurality of pixels of each color are arranged.

【0067】カラーフィルターの場合、色画素は、少な
くとも3原色、赤(R)、緑(G)、青(B)、または
シアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー(Y)の3層
を包含するものであり、各色画素にはこれらの3色のい
ずれかの1つの着色層が設けられる。
In the case of a color filter, a color pixel includes at least three layers of three primary colors, red (R), green (G), blue (B), or cyan (C), magenta (M), and yellow (Y). Each color pixel is provided with one colored layer of any of these three colors.

【0068】色画素に用いられる着色剤としては、有機
顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、さ
らには、紫外線吸収剤、分散剤、レベリング剤等の種々
の添加剤を添加してもよい。顔料としては、赤(R)と
してPigment Red9、97、122、123、149、
168、177、180、192、215など、緑
(G)としてPigment Green7、36など、青(B)と
してはPigment Blue15、22、60、64などが一般
的に用いられる。分散剤としては界面活性剤、顔料の中
間体、染料の中間体、高分子分散剤などの広範囲のもの
が使用される。
As the colorant used for the color pixel, organic pigments, inorganic pigments, dyes and the like can be preferably used. Further, various additives such as an ultraviolet absorber, a dispersant and a leveling agent are added. You may. As the pigment, Pigment Red 9, 97, 122, 123, 149, as red (R),
168, 177, 180, 192, 215, etc., such as Pigment Green 7, 36 as green (G) and Pigment Blue 15, 22, 60, 64, etc. as blue (B) are generally used. A wide range of dispersants such as surfactants, pigment intermediates, dye intermediates, and polymer dispersants are used.

【0069】色画素に用いられる樹脂としては、特に限
定されないが、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレ
タン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリオレフィン系樹脂などの感光性又は非感光性の材料
が採用できる。色画素を構成する樹脂には上記着色剤を
分散させる点から、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂
の採用が好ましく、ポリイミド系樹脂がより好ましく用
いられる。
The resin used for the color pixel is not particularly limited, but may be an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin,
A photosensitive or non-photosensitive material such as a polyolefin resin can be employed. From the viewpoint of dispersing the colorant, it is preferable to use an acrylic resin or a polyimide resin as the resin constituting the color pixel, and more preferably use a polyimide resin.

【0070】色画素を形成する方法としては、ブラック
マトリックスを形成した基板上に着色剤を含む着色ペー
ストを塗布、乾燥した後に、パターニングを行う。着色
剤を分散又は溶解させ着色ペーストを得る方法として
は、溶媒中に樹脂と着色剤を混合させた後、三本ロー
ル、サンドグラインダー、ボールミルなどの分散機中で
分散させる方法などがあるが、この方法に特に限定され
ない。
As a method of forming a color pixel, a color paste containing a colorant is applied to a substrate on which a black matrix is formed, dried, and then patterned. As a method of obtaining a colored paste by dispersing or dissolving the colorant, after mixing the resin and the colorant in a solvent, three-roll, sand grinder, there is a method of dispersing in a dispersing machine such as a ball mill, The method is not particularly limited.

【0071】着色ペーストを塗布する方法としては、黒
色ペーストの場合と同様、ディップ法、ロールコーター
法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバーコ
ーティング法等が好適に用いられ、この後、オーブンや
ホットプレートを用いて加熱乾燥(セミキュア)を行
う。セミキュア条件は、使用する樹脂、溶媒、ペースト
塗布量により異なるが通常60〜200℃で1〜60分
加熱することが好ましい。
As a method for applying the colored paste, a dipping method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a wire bar coating method, etc. are preferably used, as in the case of the black paste, and thereafter, an oven or hot Heat drying (semi-cure) is performed using a plate. The semi-curing conditions vary depending on the resin used, the solvent, and the amount of the paste applied, but it is usually preferable to heat at 60 to 200 ° C for 1 to 60 minutes.

【0072】このようにして得られた着色ペースト被膜
は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にフォ
トレジスト膜を形成した後に、また、樹脂が感光性の樹
脂である場合は、そのままかあるいは酸素遮断膜を形成
した後に、露光、現像を行う。必要に応じて、フォトレ
ジスト膜または酸素遮断膜を除去し、加熱乾燥(本キュ
ア)する。
When the resin is a non-photosensitive resin, the colored paste film thus obtained is formed after forming a photoresist film thereon, and when the resin is a photosensitive resin, Exposure and development are performed as it is or after forming an oxygen barrier film. If necessary, the photoresist film or the oxygen barrier film is removed, and the film is dried by heating (this cure).

【0073】本キュア条件は、前駆体からポリイミド系
樹脂を得る場合には、塗布量により若干異なるが、通常
200〜300℃で1〜60分加熱すればよい。アクリ
ル系樹脂の場合には、本キュア条件は、通常150〜3
00℃で1〜60分加熱すればよい。以上のプロセスに
より、ブラックマトリックスを形成した基板上にパター
ニングされた着色層が形成される。また、ブラックマト
リックスをいわゆる転写法で着色層を形成してもよい。
The curing conditions are slightly different depending on the amount of coating when a polyimide resin is obtained from the precursor, but it is usually sufficient to heat at 200 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. In the case of an acrylic resin, the curing conditions are usually 150 to 3
What is necessary is just to heat at 00 degreeC for 1 to 60 minutes. Through the above process, a patterned colored layer is formed on the substrate on which the black matrix is formed. Further, a colored layer may be formed on the black matrix by a so-called transfer method.

【0074】ブラックマトリックスを形成した基板上
に、上記のように、第1色目の着色層を全面にわたって
形成した後に、不必要な部分をフォトリソグラフィ法に
より除去し、所望の第1色目の着色層の色画素パターン
を形成する。同様の操作を繰り返し、第2色目の着色層
の色画素パターン、第3色目の着色層の色画素パターン
を形成する。
After the first color layer is formed over the entire surface of the substrate on which the black matrix is formed as described above, unnecessary portions are removed by photolithography, and the desired first color layer is removed. Is formed. The same operation is repeated to form a color pixel pattern of the second color layer and a color pixel pattern of the third color layer.

【0075】カラーフィルターにスペーサーを形成する
際に、スペーサーを形成する工程が別途必要とならない
ように、または十分な高さのスペーサーを実現するため
に、色画素の加工と同時にカラーフィルターの色画素積
層で構成されたスペーサーを形成するのが好ましい。な
お、カラーフィルターの色画素でスペーサーを構成する
場合、着色層樹脂に(a)、(b)どちらか一方を含有
したもの、または(a)、(b)両方を含有したものを
使用してもよい。
When forming a spacer on a color filter, a process of forming a spacer is not required separately, or in order to realize a spacer having a sufficient height, a color pixel of a color filter is simultaneously processed with a color pixel. It is preferable to form a spacer formed by lamination. When a spacer is constituted by the color pixels of the color filter, a color resin containing either (a) or (b) or a resin containing both (a) and (b) is used. Is also good.

【0076】またスペーサーの一部または全部を色画素
の着色層の積層で構成することができる。例えば、ブラ
ックマトリックスを形成した基板上に第1色目の色画素
の着色層で所望の第1色目の色画素のパターンを形成す
る際に、ブラックマトリックスの開口部を被覆する部分
と、着色層の積層によりスペーサーを形成する部分に着
色層を残す。第2色目、第3色目も同様な操作を繰り返
し、ブラックマトリックスの開口部上には1層の着色層
が形成され、スペーサーの一部または全部が形成され
る。スペーサーとして十分なセルギャップを確保するた
めには、好ましくは2層から3層の色画素の着色層がス
ペーサー形成位置に積層されることが好ましい。
A part or all of the spacers can be formed by laminating colored layers of color pixels. For example, when a desired color pixel pattern of the first color is formed with the color layer of the first color pixel on the substrate on which the black matrix is formed, a portion that covers the opening of the black matrix, The coloring layer is left in the portion where the spacer is formed by lamination. The same operation is repeated for the second color and the third color, so that one colored layer is formed on the opening of the black matrix, and part or all of the spacer is formed. In order to secure a sufficient cell gap as a spacer, it is preferable that two to three colored layers of color pixels are stacked at the spacer forming position.

【0077】色画素の着色層を積層後さらに上記したス
ペーサー用樹脂組成物を塗布し、必要に応じてパターン
加工をしスペーサーを形成しても良い。
After the colored layers of the color pixels are laminated, the above-mentioned resin composition for a spacer may be further applied, and the spacer may be formed by patterning as necessary.

【0078】着色層などの積層によりスペーサーの一部
または全部を形成する場合、スペーサーを構成する層の
内、いずれか1層に本発明のスペーサー用樹脂組成物を
もちいた層が含まれればよい。
When a part or all of the spacer is formed by lamination of a colored layer or the like, any one of the layers constituting the spacer may include a layer using the spacer resin composition of the present invention. .

【0079】また、スペーサーの形成とともに、スペー
サーとして機能しない高さ、言い換えればスペーサーよ
り高さの低い積層物を形成しても良い。例えば、スペー
サーが4層で形成される場合には3層、2層もしくは1
層からなる積層物、スペーサーが3層で形成される場合
には2層もしくは1層からなる積層物を形成しても良
い。これらは、通常時は対向する基板と接することは無
いが、液晶表示装置に圧力が加わった際に対向する基板
と接することでセルギャップを確保して、液晶表示装置
の表示品位の信頼性を高めることができる。
Further, together with the formation of the spacer, a laminate having a height that does not function as a spacer, in other words, a height lower than the spacer may be formed. For example, when the spacer is formed by four layers, three layers, two layers, or one layer
In the case where the laminate composed of layers and the spacer are formed of three layers, a laminate composed of two layers or one layer may be formed. These do not normally come into contact with the opposing substrate, but when the liquid crystal display device is pressurized, it comes into contact with the opposing substrate to secure a cell gap and improve the reliability of the display quality of the liquid crystal display device. Can be enhanced.

【0080】開口部上の着色層とスペーサーを形成する
着色層とは連続していても、また、分離されていてもよ
い。
The coloring layer on the opening and the coloring layer forming the spacer may be continuous or separated.

【0081】本発明の液晶表示装置用基板を用いて液晶
表示装置を作製する場合には、適当な液晶の配向処理を
施すことが好ましい。液晶の配向処理としては、配向膜
を塗布する方法、ラビング処理を施す方法、紫外線光等
の照射による光配向処理を施す方法等が挙げられる。本
発明においては、例えば液晶表示装置用基板に適当な液
晶配向処理を施した後、2枚の液晶表示装置用基板をエ
ポキシ接着材等をシール剤として用いて対向して貼り合
わせ、シール部に設けられた注入口から液晶を注入す
る。液晶を注入後、注入口を封止し、さらに偏光板を基
板の外側に貼り合わせ液晶表示装置を作製することがで
きる。
When manufacturing a liquid crystal display device using the substrate for a liquid crystal display device of the present invention, it is preferable to perform an appropriate liquid crystal alignment treatment. Examples of the liquid crystal alignment treatment include a method of applying an alignment film, a method of performing a rubbing treatment, and a method of performing a light alignment treatment by irradiation with ultraviolet light or the like. In the present invention, for example, after subjecting a liquid crystal display device substrate to an appropriate liquid crystal alignment treatment, two liquid crystal display device substrates are bonded to each other facing each other using an epoxy adhesive or the like as a sealing agent, and Liquid crystal is injected from the provided injection port. After the liquid crystal is injected, the injection port is sealed, and a polarizing plate is attached to the outside of the substrate, whereby a liquid crystal display device can be manufactured.

【0082】本発明の液晶表示装置に用いられる液晶と
しては特に限定されないが、ネマチック液晶や強誘電性
液晶や反強誘電性液晶、無しきい値反強誘電性液晶等が
好適に用いられる。
The liquid crystal used in the liquid crystal display device of the present invention is not particularly limited, but a nematic liquid crystal, a ferroelectric liquid crystal, an antiferroelectric liquid crystal, a thresholdless antiferroelectric liquid crystal and the like are preferably used.

【0083】本発明の液晶表示装置用基板および液晶表
示装置は、パソコン、ワードプロセッサー、エンジニア
リング・ワークステーション、ナビゲーションシステ
ム、液晶テレビなどの表示画面に用いられ、また、液晶
プロジェクション等にも好適に用いられる。また、光通
信や光情報処理の分野において、液晶を用いた空間変調
素子としても好適に用いられる。空間変調素子は、素子
への入力信号に応じて、素子に入射する光の強度や位
相、偏光方向等を変調させるもので、実時間ホログラフ
ィーや空間フィルター、インコヒーレント/コヒーレン
ト変換等に用いられるものである。
The substrate for a liquid crystal display device and the liquid crystal display device of the present invention are used for display screens of personal computers, word processors, engineering workstations, navigation systems, liquid crystal televisions and the like, and are also suitably used for liquid crystal projection and the like. . Further, in the field of optical communication and optical information processing, it is suitably used as a spatial modulation element using a liquid crystal. A spatial modulation element modulates the intensity, phase, polarization direction, etc. of light incident on the element according to an input signal to the element, and is used for real-time holography, a spatial filter, incoherent / coherent conversion, and the like. It is.

【0084】[0084]

【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お本発明において、OD値、膜厚、表面抵抗は次の方法
で測定される値とする。
EXAMPLES The present invention will now be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the present invention, the OD value, the film thickness, and the surface resistance are values measured by the following methods.

【0085】(1)OD値 遮光性の指標となる光学濃度OD(optical density)値
は顕微分光器(大塚電子製MCPD2000)を用いて、波長4
30〜640nmの可視光領域において下記の関係式よ
り求めた。 OD値 = log10 (I0/I) ここでI0 は入射光強度、Iは透過光強度である。
(1) OD value The optical density (OD) value, which is an index of the light-shielding property, was measured at a wavelength of 4 using a microspectroscope (MCPD2000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).
In the visible light region of 30 to 640 nm, it was obtained from the following relational expression. OD value = log10 (I0 / I) where I0 is the incident light intensity and I is the transmitted light intensity.

【0086】(2)膜厚測定 株式会社小坂研究所(製)表面粗さ測定機“Surfc
ordar”SE−3300を用いて、透明導電膜の有
無による段差測定にて、膜厚を求めた。
(2) Film thickness measurement Kosaka Laboratory Co., Ltd. (product) “Surfc”
Using order “SE-3300”, the film thickness was determined by measuring the level difference depending on the presence or absence of the transparent conductive film.

【0087】(3)表面抵抗 三菱油化株式会社(製)表面抵抗測定機“Lorest
a”または”Hiresta”を用いて、4探針法によ
って表面抵抗値(シート抵抗)を測定し、膜厚を乗じて
比抵抗値を求めた。
(3) Surface resistance "Lorest", a surface resistance measurement device manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd.
Using "a" or "Hiresta", the surface resistance (sheet resistance) was measured by a four-point probe method, and the specific resistance was determined by multiplying the film thickness.

【0088】実施例1 (カラーフィルターの作製) [ブラックマトリックスの作製]γ−ブチロラクトンとN
−メチル−2−ピロリドンの混合溶媒中で、ピロメリッ
ト酸二無水物(0.5モル当量)、ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物(0.49モル当量)、4,4´
−ジアミノジフェニルエーテル(0.95モル当量)、
ビス−3−(アミノプロピル)テトラメチルシロキサン
(0.05モル当量)を反応させ、ポリイミド前駆体溶
液(ポリマー濃度20重量%)を得た。
Example 1 (Preparation of color filter) [Preparation of black matrix] γ-butyrolactone and N
In a mixed solvent of -methyl-2-pyrrolidone, pyromellitic dianhydride (0.5 molar equivalent), benzophenonetetracarboxylic dianhydride (0.49 molar equivalent), 4,4 '
-Diaminodiphenyl ether (0.95 molar equivalent),
Bis-3- (aminopropyl) tetramethylsiloxane (0.05 molar equivalent) was reacted to obtain a polyimide precursor solution (polymer concentration: 20% by weight).

【0089】このポリイミド前駆体溶液を200g取り
出し、それにγ−ブチロラクトン186g、ブチルセロ
ソルブ64gを添加して、ポリマー濃度10重量%のポ
リアミック酸溶液を得た。
200 g of this polyimide precursor solution was taken out, and 186 g of γ-butyrolactone and 64 g of butyl cellosolve were added to obtain a polyamic acid solution having a polymer concentration of 10% by weight.

【0090】カーボンブラック4g、N−メチル−2−
ピロリドン40g、ブチルセロソルブ6gをガラスビー
ズ100gとともにホモジナイザーを用い、7000r
pmで30分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により
除去し、顔料濃度8重量%の顔料分散液を得た。
4 g of carbon black, N-methyl-2-
Using a homogenizer, 40 g of pyrrolidone and 6 g of butyl cellosolve together with 100 g of glass beads were used for 7000 r.
After a dispersion treatment at pm for 30 minutes, the glass beads were removed by filtration to obtain a pigment dispersion having a pigment concentration of 8% by weight.

【0091】顔料分散液30gに、前記のポリマー濃度
10重量%のポリイミド前駆体溶液28gを添加混合
し、黒色ペーストを作製した。本ペーストを無アルカリ
ガラス基板上に塗布後、125℃でプリベークを行い、
ポリイミド前駆体黒色着色膜を形成した。冷却後、ポジ
型フォトレジストを塗布し、90℃で加熱乾燥してフォ
トレジスト被膜を形成した。これを紫外線露光機を用い
て、フォトマスクを介して露光した。露光後、アルカリ
現像液に浸漬し、フォトレジストの現像、ポリイミド前
駆体黒色着色膜のエッチングを同時に行い、開口部を形
成した。エッチング後、不要となったフォトレジスト層
をメチルセルソルブアセテートにて剥離した。エッチン
グされたポリイミド前駆体黒色着色膜を290℃に加熱
して熱硬化を行い、ポリイミドに転換して樹脂ブラック
マトリクスを形成した。
To 30 g of the pigment dispersion, 28 g of the polyimide precursor solution having a polymer concentration of 10% by weight was added and mixed to prepare a black paste. After applying this paste on a non-alkali glass substrate, pre-bake at 125 ° C,
A polyimide precursor black colored film was formed. After cooling, a positive photoresist was applied and dried by heating at 90 ° C. to form a photoresist film. This was exposed through a photomask using an ultraviolet exposure machine. After the exposure, the film was immersed in an alkaline developer, and the development of the photoresist and the etching of the polyimide precursor black colored film were simultaneously performed to form openings. After the etching, the unnecessary photoresist layer was peeled off with methyl cellosolve acetate. The etched polyimide precursor black colored film was heated to 290 ° C. and thermally cured to be converted to polyimide to form a resin black matrix.

【0092】[画素の作製]次に、赤、緑、青の顔料とし
て各々 Pigment Red 177で示されるジアントラキノン系
顔料、 Pigment Green 36で示されるフタロシアニング
リーン系顔料、 Pigment Blue 15-4で示されるフタロシ
アニンブルー系顔料を用意した。上記ポリイミド前駆体
溶液と上記顔料を各々(ポリイミド前駆体:顔料)重量
比6:4の割合で混合分散させて、赤、緑、青の3種類
の着色ペーストを得た。この着色ペーストを用い、赤画
素と緑画素と青画素を形成した。
[Preparation of Pixel] Next, dianthraquinone pigments represented by Pigment Red 177, phthalocyanine green pigments represented by Pigment Green 36, and Pigment Blue 15-4 as red, green, and blue pigments, respectively. A phthalocyanine blue pigment was prepared. The polyimide precursor solution and the pigment were mixed and dispersed at a weight ratio of 6: 4 (polyimide precursor: pigment) to obtain three types of colored pastes of red, green, and blue. Using this colored paste, red pixels, green pixels, and blue pixels were formed.

【0093】更にポリイミドシロキサン前駆体溶液を基
板上に塗布して、ポリイミドシロキサンからなるオーバ
ーコート膜を形成してカラーフィルターを作製した。
Further, a polyimide siloxane precursor solution was applied on the substrate to form an overcoat film made of polyimide siloxane, thereby producing a color filter.

【0094】[スペーサー用樹脂組成物およびスペーサ
ーの作製]ダイセル化学工業(株)製セロキサイド20
21P(脂環式エポキシ化合物)10gと、旭電化工業
(株)アデカオプトマSP−150(光重合開始剤)を
0.2gと、固形分濃度30%のSiO2メタノールゾ
ル溶液 5gを、3−メトキシ−3−メチルブチルアセ
テートに溶解し、全固形分濃度が30%となるように調
整した。得られた溶液を、孔径0.2μmのメンブレン
フィルターで濾過した後、スピンコーターを用いてカラ
ーフィルター上に塗布し、100℃で10分間加熱し
た。
[Preparation of Spacer Resin Composition and Spacer] Celloxide 20 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
10 g of 21P (alicyclic epoxy compound), 0.2 g of Adeka Optoma SP-150 (photopolymerization initiator) by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., and 5 g of an SiO 2 methanol sol solution having a solid concentration of 30% were added to 3-methoxy. It was dissolved in -3-methylbutyl acetate and adjusted to have a total solid content concentration of 30%. After the obtained solution was filtered through a membrane filter having a pore size of 0.2 μm, the solution was applied on a color filter using a spin coater, and heated at 100 ° C. for 10 minutes.

【0095】冷却後、これを紫外線露光機を用いて、フ
ォトマスクを介して露光した。露光後、現像液に浸漬
し、スペーサー用樹脂組成物のエッチングを行い、スペ
ーサー部を形成した。エッチングされたスペーサー用樹
脂組成物を230℃に加熱して熱硬化を行い塗膜を硬化
した。画面内ブラックマトリックス上及び額縁上、額縁
周辺部のシール部上、シール部の外側にスペーサーの形
成を行った。画面内ブラックマトリックス上のスペーサ
ーは、ブラックマトリックス層、オーバーコート膜およ
びスペーサー用樹脂組成物からなる層の3層積層体であ
る。画面内ブラックマトリックス上スペーサーの高さは
4μm、1個当たりのスペーサーの面積は100μm2
あった。シール部外側のスペーサーは3μm、1個当た
りのスペーサーの面積は200μm2であった。
After cooling, this was exposed through a photomask using an ultraviolet exposure machine. After the exposure, the film was immersed in a developing solution, and the resin composition for a spacer was etched to form a spacer portion. The etched resin composition for a spacer was heated to 230 ° C. and thermally cured to cure the coating film. Spacers were formed on the black matrix in the screen, on the frame, on the seal around the frame, and outside the seal. The spacer on the in-screen black matrix is a three-layer laminate of a black matrix layer, an overcoat film, and a layer composed of a spacer resin composition. The height of the spacers on the black matrix in the screen was 4 μm, and the area of each spacer was 100 μm 2 . The spacer outside the seal portion was 3 μm, and the area of each spacer was 200 μm 2 .

【0096】(カラー液晶表示装置の作製と評価)この
カラーフィルター上にポリイミド系の配向膜を設け、ラ
ビング処理を施した。また、同様に対向する薄膜トラン
ジスタを備えた液晶表示装置用基板についても、ポリイ
ミド系の配向膜を設け、ラビング処理を施した。この2
枚の基板をエポキシ接着材をシール剤として用いて貼り
合わせた後に、シール部に設けられた注入口からネマチ
ック液晶を注入した。液晶を注入後、注入口を封止し、
さらに偏光板を基板の外側に貼り合わせ液晶表示装置を
作製した。実施例1での液晶表示装置は横電界液晶駆動
による表示装置である。
(Production and Evaluation of Color Liquid Crystal Display Device) A polyimide-based alignment film was provided on this color filter and rubbed. Similarly, a liquid crystal display device substrate having a thin film transistor opposed thereto was also provided with a polyimide-based alignment film and subjected to a rubbing treatment. This 2
After bonding the two substrates together using an epoxy adhesive as a sealant, a nematic liquid crystal was injected from an injection port provided in the seal portion. After injecting the liquid crystal, seal the injection port,
Further, a polarizing plate was attached to the outside of the substrate to produce a liquid crystal display device. The liquid crystal display device according to the first embodiment is a display device driven by a lateral electric field liquid crystal.

【0097】このような手法に基づき、一定の公知の製
造工程を経て、100個の液晶表示装置を作製したとこ
ろ、特に問題点がない液晶表示装置を得ることが出来
た。これらの液晶表示装置の表示品位を評価した。表示
品位は良好であった。表示品位確認後、液晶表示装置を
解体しスペーサーを光学顕微鏡等を観察したがスペーサ
ーの潰れは確認されなかった。
Based on such a method, 100 liquid crystal display devices were manufactured through certain known manufacturing steps. As a result, a liquid crystal display device having no particular problem could be obtained. The display quality of these liquid crystal display devices was evaluated. The display quality was good. After confirming the display quality, the liquid crystal display device was disassembled and the spacer was observed under an optical microscope or the like, but no collapse of the spacer was confirmed.

【0098】比較例1 SiO2メタノールゾル溶液を加えないこと以外は、実
施例1と同様にしてスペーサーを得、実施例1と同様の
製造工程を経て100個の液晶表示装置を作製したとこ
ろ、15個の液晶表示装置において、表示品位の低下が
みられた。原因を解析したところ、スペーサーが潰れて
いることがわかった。
Comparative Example 1 A spacer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the SiO 2 methanol sol solution was not added, and 100 liquid crystal display devices were manufactured through the same manufacturing steps as in Example 1. In 15 liquid crystal display devices, the display quality was deteriorated. Analysis of the cause revealed that the spacer was crushed.

【0099】実施例2 (カラーフィルターの作製) [ブラックマトリックスの作製]無アルカリガラス基板上
に、クロム及びその酸化物から成る遮光膜を真空蒸着法
により形成した。これにフォトレジストを塗布し、加熱
乾燥によりフォトレジストの被膜を形成した。これを紫
外線露光機を用いて、フォトマスクを介して露光した。
露光後、アルカリ現像液に浸漬し、フォトレジストの現
像を行った。その後、酸現像液により遮光膜をエッチン
グし、エッチング後、不要となったフォトレジスト層を
剥離し、ブラックマトリックスを形成した。
Example 2 (Preparation of color filter) [Preparation of black matrix] On a non-alkali glass substrate, a light-shielding film made of chromium and its oxide was formed by vacuum evaporation. A photoresist was applied thereto and dried by heating to form a photoresist film. This was exposed through a photomask using an ultraviolet exposure machine.
After the exposure, the photoresist was immersed in an alkaline developer to develop the photoresist. Thereafter, the light-shielding film was etched with an acid developer, and after the etching, the unnecessary photoresist layer was peeled off to form a black matrix.

【0100】[画素の作製]次に、赤、緑、青の顔料とし
て各々Pigment Red 177で示されるジアントラキノン系
顔料、Pigment Green 36で示されるフタロシアニングリ
ーン系顔料、Pigment Blue 15-4で示されるフタロシア
ニンブルー系顔料を用意した。実施例1に記載されるポ
リイミド前駆体溶液と上記顔料を各々(ポリイミド前駆
体:顔料)重量比6:4の割合で混合分散させて、赤、
緑、青の3種類の着色ペーストを得た。この着色ペース
トを用い、赤画素と緑画素と青画素を形成した。この
後、スパッタリング法にて透明電極を形成した。透明電
極の膜厚は150nmであり、表面抵抗は20Ω/□で
あった。
[Preparation of Pixel] Next, as red, green and blue pigments, dianthraquinone pigments represented by Pigment Red 177, phthalocyanine green pigments represented by Pigment Green 36, and Pigment Blue 15-4, respectively. A phthalocyanine blue pigment was prepared. The polyimide precursor solution described in Example 1 and the above-mentioned pigment were mixed and dispersed at a weight ratio of 6: 4 (polyimide precursor: pigment), and red,
Green and blue colored pastes were obtained. Using this colored paste, red pixels, green pixels, and blue pixels were formed. Thereafter, a transparent electrode was formed by a sputtering method. The thickness of the transparent electrode was 150 nm, and the surface resistance was 20 Ω / □.

【0101】[スペーサーの作製]実施例1で用いたスペ
ーサー用樹脂組成物を用いて、実施例1と同様な手法を
用いカラーフィルター上にスペーサーを形成した。形成
箇所は表示画面部ブラックマトリックス上及び額縁上、
額縁周辺部のシール部上にスペーサーの形成を行った。
ブラックマトリックス上のスペーサーは、ブラックマト
リックス層およびスペーサー用樹脂組成物からなる層の
2層積層体である。スペーサーの高さは4.5μm、表
示画面部の1個当たりのスペーサーの面積は80μm2
あった。
[Preparation of Spacer] Using the spacer resin composition used in Example 1, a spacer was formed on a color filter in the same manner as in Example 1. The formation location is on the display screen black matrix and on the frame,
A spacer was formed on the seal around the frame.
The spacer on the black matrix is a two-layer laminate of a black matrix layer and a layer composed of a resin composition for a spacer. The height of the spacer was 4.5 μm, and the area of the spacer per display screen was 80 μm 2 .

【0102】(カラー液晶表示装置の作製と評価)この
カラーフィルター上にポリイミド系の配向膜を設け、ラ
ビング処理を施した。また、同様に対向する薄膜トラン
ジスタを備えた液晶表示装置用基板についても、ポリイ
ミド系の配向膜を設け、ラビング処理を施した。この2
枚の基板をエポキシ接着材をシール剤として用いて貼り
合わせた後に、シール部に設けられた注入口からネマチ
ック液晶を注入した。液晶を注入後、注入口を封止し、
さらに偏光板を基板の外側に貼り合わせ液晶表示装置を
作製した。
(Production and Evaluation of Color Liquid Crystal Display Device) A polyimide-based alignment film was provided on this color filter and rubbed. Similarly, a liquid crystal display device substrate having a thin film transistor opposed thereto was also provided with a polyimide-based alignment film and subjected to a rubbing treatment. This 2
After bonding the two substrates together using an epoxy adhesive as a sealant, a nematic liquid crystal was injected from an injection port provided in the seal portion. After injecting the liquid crystal, seal the injection port,
Further, a polarizing plate was attached to the outside of the substrate to produce a liquid crystal display device.

【0103】実施例2の液晶表示装置は2枚の液晶表示
装置用基板にそれぞれ形成された電極間で駆動する表示
方式のものである。このような手法に基づき、一定の公
知の製造工程を経て、100個の液晶表示装置を作製し
たところ、特に問題点がない液晶表示装置を得ることが
出来た。表示品位確認後、液晶表示装置を解体しスペー
サーを光学顕微鏡等を観察したがスペーサーの潰れは確
認されなかった。
The liquid crystal display device of the second embodiment is of a display type in which the liquid crystal display device is driven between electrodes formed on two substrates for a liquid crystal display device. When 100 liquid crystal display devices were manufactured through a certain known manufacturing process based on such a method, a liquid crystal display device having no particular problem could be obtained. After confirming the display quality, the liquid crystal display device was disassembled and the spacer was observed under an optical microscope or the like, but no collapse of the spacer was confirmed.

【0104】比較例2 SiO2メタノールゾル溶液を加えないこと以外は、実
施例2と同様にしてスペーサーを得、実施例2と同様の
製造工程を経て100個の液晶表示装置を作製したとこ
ろ、13個の液晶表示装置において、表示品位の低下が
みられた。原因を解析したところ、スペーサーが潰れて
いることがわかった。
Comparative Example 2 A spacer was obtained in the same manner as in Example 2 except that the methanol sol solution of SiO 2 was not added, and 100 liquid crystal display devices were manufactured through the same manufacturing steps as in Example 2. In 13 liquid crystal display devices, display quality was deteriorated. Analysis of the cause revealed that the spacer was crushed.

【0105】実施例3 実施例1と同様にブラックマトリックス、画素、オーバ
ーコート膜を形成した。その後、スパッタリング法にて
透明電極を形成した。透明電極の膜厚は130nmであ
り、表面抵抗は22Ω/□であった。
Example 3 As in Example 1, a black matrix, pixels, and an overcoat film were formed. Thereafter, a transparent electrode was formed by a sputtering method. The thickness of the transparent electrode was 130 nm, and the surface resistance was 22 Ω / □.

【0106】次にSiO2メタノールゾル溶液の変わり
に、Sb25メタノールゾル溶液を用いる以外は、実施
例1と同様にしてスペーサー用材料を得た。スペーサー
用材料を実施例1と同様にしてスペーサーの形成を行っ
た。スペーサーの高さは3.8μm、表示画面部の1個
当たりのスペーサーの面積は30μm2であった。
Next, a spacer material was obtained in the same manner as in Example 1 except that an Sb 2 O 5 methanol sol solution was used instead of the SiO 2 methanol sol solution. A spacer was formed in the same manner as in Example 1 using a spacer material. The height of the spacer was 3.8 μm, and the area of the spacer per one display screen was 30 μm 2 .

【0107】実施例2と同様な製造工程を経て、100
個の液晶表示装置を作製したところ、特に問題点がない
液晶表示装置を得ることが出来た。表示品位確認後、液
晶表示装置を解体しスペーサーを光学顕微鏡等を観察し
たがスペーサーの潰れは確認されなかった。
Through the same manufacturing steps as in Example 2, 100
When the liquid crystal display devices were manufactured, a liquid crystal display device having no particular problem could be obtained. After confirming the display quality, the liquid crystal display device was disassembled and the spacer was observed under an optical microscope or the like, but no collapse of the spacer was confirmed.

【0108】比較例3 SiO2メタノールゾル溶液を加えないこと以外は、実
施例3と同様にしてスペーサーを得、実施例3と同様の
製造工程を経て100個の液晶表示装置を作製したとこ
ろ、18個の液晶表示装置において、表示品位の低下が
みられた。原因を解析したところ、スペーサーが潰れて
いることがわかった。
Comparative Example 3 A spacer was obtained in the same manner as in Example 3 except that the SiO 2 methanol sol solution was not added, and 100 liquid crystal display devices were manufactured through the same manufacturing steps as in Example 3. In 18 liquid crystal display devices, a decrease in display quality was observed. Analysis of the cause revealed that the spacer was crushed.

【0109】実施例4 (カラーフィルターの作製)実施例1と同様にブラック
マトリックスを作製した。ただしブラックマトリックス
パターンと同時に画面の周囲に20μm角のスペーサー
パターンを複数個エッチングにより形成した。
Example 4 (Production of color filter) A black matrix was produced in the same manner as in Example 1. However, at the same time as the black matrix pattern, a plurality of 20 μm square spacer patterns were formed around the screen by etching.

【0110】実施例1で示したポリイミド前駆体溶液
に、固形分濃度30%のSiO2メタノールゾル溶液重
量比1:1の割合で添加し混合した。次に、赤、緑、青
の顔料として各々Pigment Red 177で示されるジアント
ラキノン系顔料、Pigment Green36で示されるフタロシ
アニングリーン系顔料、Pigment Blue 15-4で示される
フタロシアニンブルー系顔料を用意した。上記顔料を各
々(ポリイミド前駆体:顔料)重量比6:2の割合で混
合分散させて、赤、緑、青の3種類の着色ペーストを得
た。この着色ペーストを用い、赤画素と緑画素と青画素
を形成し、同時に、画面部ブラックマトリックス上及び
額縁上、画面の周囲の20μm角のスペーサーパターン
上に画素材の積層によりスペーサーの形成を行った。
The polyimide precursor solution shown in Example 1 was added and mixed at a weight ratio of 1: 1 of a SiO 2 methanol sol solution having a solid content of 30%. Next, a dianthraquinone pigment represented by Pigment Red 177, a phthalocyanine green pigment represented by Pigment Green 36, and a phthalocyanine blue pigment represented by Pigment Blue 15-4 were prepared as red, green, and blue pigments. The pigments were mixed and dispersed at a weight ratio of 6: 2 (polyimide precursor: pigment) to obtain three kinds of colored pastes of red, green and blue. Using this colored paste, a red pixel, a green pixel and a blue pixel are formed, and at the same time, a spacer is formed by laminating an image material on a 20 μm square spacer pattern on the screen black matrix and on the picture frame and around the screen. Was.

【0111】この樹脂ブラックマトリックスと赤画素、
緑画素、青画素、スペーサーを有する基板上に、スパッ
タリング法にて透明導電膜を形成し、カラーフィルター
を得た。樹脂ブラックマトリックスの膜厚は1.2μm
であった。スペーサーの高さは4.3μm、表示画面部
の1個当たりのスペーサーの面積は70μm2であった。
スペーサーはブラックマトリックス層、赤画素、緑画
素、青画素からなる4層積層体である。
This resin black matrix and red pixel
A transparent conductive film was formed by a sputtering method on a substrate having a green pixel, a blue pixel, and a spacer to obtain a color filter. 1.2μm thickness of resin black matrix
Met. The height of the spacer was 4.3 μm, and the area of the spacer per display screen was 70 μm 2 .
The spacer is a four-layer laminate including a black matrix layer, red pixels, green pixels, and blue pixels.

【0112】実施例2と同様な製造工程を経て、100
個の液晶表示装置を作製したところ、特に問題点がない
液晶表示装置を得ることが出来た。表示品位確認後、液
晶表示装置を解体しスペーサーを光学顕微鏡等を観察し
たがスペーサーの潰れは確認されなかった。
Through the same manufacturing steps as in Example 2, 100
When the liquid crystal display devices were manufactured, a liquid crystal display device having no particular problem could be obtained. After confirming the display quality, the liquid crystal display device was disassembled and the spacer was observed under an optical microscope or the like, but no collapse of the spacer was confirmed.

【0113】実施例7 実施例1と同様にブラックマトリックス、画素、オーバ
ーコート膜を形成した。その後、スパッタリング法にて
透明電極を形成した。透明電極の膜厚は130nmであ
り、表面抵抗は22Ω/□であった。
Example 7 A black matrix, pixels and an overcoat film were formed in the same manner as in Example 1. Thereafter, a transparent electrode was formed by a sputtering method. The thickness of the transparent electrode was 130 nm, and the surface resistance was 22 Ω / □.

【0114】実施例1の樹脂ブラックマトリックスを作
製するのに用いたポリアミック酸のN−メチル−2−ピ
ロリドン溶液200gに、固形分濃度30%のSiO2
メタノールゾル溶液200gを添加しスペーサー用樹脂
組成物を得た。スペーサー用樹脂組成物を用いスペーサ
ーの形成を行った。スペーサーの高さは4.0μm、表
示画面部の1個当たりのスペーサーの面積は35μm2
あった。
The N 2 -methyl-2-pyrrolidone solution of polyamic acid used for preparing the resin black matrix of Example 1 was added to 200 g of an N 2 -methyl-2-pyrrolidone solution having a solid concentration of 30% SiO 2
200 g of a methanol sol solution was added to obtain a resin composition for a spacer. A spacer was formed using the spacer resin composition. The height of the spacer was 4.0 μm, and the area of the spacer per display screen portion was 35 μm 2 .

【0115】実施例2と同様な製造工程を経て、100
個の液晶表示装置を作製したところ、特に問題点がない
液晶表示装置を得ることが出来た。表示品位確認後、液
晶表示装置を解体しスペーサーを光学顕微鏡等を観察し
たがスペーサーの潰れは確認されなかった。
Through the same manufacturing steps as in Example 2, 100
When the liquid crystal display devices were manufactured, a liquid crystal display device having no particular problem could be obtained. After confirming the display quality, the liquid crystal display device was disassembled and the spacer was observed under an optical microscope or the like, but no collapse of the spacer was confirmed.

【0116】実施例8 実施例1と同様にブラックマトリックス、画素、オーバ
ーコート膜を形成した。その後、スパッタリング法にて
透明電極を形成した。透明電極の膜厚は130nmであ
り、表面抵抗は22Ω/□であった。
Example 8 In the same manner as in Example 1, a black matrix, pixels, and an overcoat film were formed. Thereafter, a transparent electrode was formed by a sputtering method. The thickness of the transparent electrode was 130 nm, and the surface resistance was 22 Ω / □.

【0117】Ti(OCH(CH324 5gにアセ
チルアセトン 4.5gを加え、チタンアセチルアセト
ネートとしてから、純水 0.5gを加えた。これを、
実施例1の樹脂ブラックマトリックスを作製するのに用
いたポリアミック酸のNMP溶液に添加しスペーサー用
樹脂組成物を得た。スペーサー用樹脂組成物を用い、実
施例7と同様にしてスペーサーの形成を行った。但し塗
布後の加熱温度を50℃にして行った。スペーサーの高
さは4.5μm、表示画面部の1個当たりのスペーサー
の面積は20μm2であった。
4.5 g of acetylacetone was added to 5 g of Ti (OCH (CH 3 ) 2 ) 4 to form titanium acetylacetonate, and then 0.5 g of pure water was added. this,
It was added to the NMP solution of the polyamic acid used to prepare the resin black matrix of Example 1 to obtain a resin composition for a spacer. Using the resin composition for a spacer, a spacer was formed in the same manner as in Example 7. However, the heating temperature after coating was set to 50 ° C. The height of the spacer was 4.5 μm, and the area of the spacer per display screen was 20 μm 2 .

【0118】実施例2と同様な製造工程を経て、100
個の液晶表示装置を作製したところ、特に問題点がない
液晶表示装置を得ることが出来た。表示品位確認後、液
晶表示装置を解体しスペーサーを光学顕微鏡等を観察し
たがスペーサーの潰れは確認されなかった。
Through the same manufacturing steps as in Example 2, 100
When the liquid crystal display devices were manufactured, a liquid crystal display device having no particular problem could be obtained. After confirming the display quality, the liquid crystal display device was disassembled and the spacer was observed under an optical microscope or the like, but no collapse of the spacer was confirmed.

【0119】実施例9 実施例8と同様にブラックマトリックス、画素、オーバ
ーコート膜を形成した。その後、スパッタリング法にて
透明電極を形成した。透明電極の膜厚は130nmであ
り、表面抵抗は22Ω/□であった。
Example 9 A black matrix, pixels, and an overcoat film were formed in the same manner as in Example 8. Thereafter, a transparent electrode was formed by a sputtering method. The thickness of the transparent electrode was 130 nm, and the surface resistance was 22 Ω / □.

【0120】Ti(OCH(CH324 およびTi
2を分散したスペーサー用塗液を塗布後、露光、現像
し、スペーサーの高さ4μm、表示画面部の1個当たり
の面積は50μm2であった。 実施例2と同様な製造工
程を経て、100個の液晶表示装置を作製したところ、
特に問題点がない液晶表示装置を得ることが出来た。表
示品位確認後、液晶表示装置を解体しスペーサーを光学
顕微鏡等を観察したがスペーサーの潰れは確認されなか
った。
Ti (OCH (CH 3 ) 2 ) 4 and Ti
After coating with a spacer coating liquid in which O 2 was dispersed, exposure and development were carried out. The height of the spacer was 4 μm, and the area per display screen was 50 μm 2 . Through the same manufacturing process as in Example 2, 100 liquid crystal display devices were manufactured.
A liquid crystal display device having no particular problem was obtained. After confirming the display quality, the liquid crystal display device was disassembled and the spacer was observed under an optical microscope or the like, but no collapse of the spacer was confirmed.

【0121】実施例10 実施例1と同様にブラックマトリックス、画素、オーバ
ーコート膜を形成した。その後、スパッタリング法にて
透明電極を形成した。透明電極の膜厚は130nmであ
り、表面抵抗は22Ω/□であった。
Example 10 A black matrix, pixels, and an overcoat film were formed in the same manner as in Example 1. Thereafter, a transparent electrode was formed by a sputtering method. The thickness of the transparent electrode was 130 nm, and the surface resistance was 22 Ω / □.

【0122】この基板上に感光性アクリル樹脂中にTi
2を分散したスペーサー用塗液を塗布後、露光、現像
し、スペーサーの高さ4μm、表示画面部の1個当たり
の面積は50μm2であった。 実施例2と同様な製造工
程を経て、100個の液晶表示装置を作製したところ、
特に問題点がない液晶表示装置を得ることが出来た。表
示品位確認後、液晶表示装置を解体しスペーサーを光学
顕微鏡等を観察したがスペーサーの潰れは確認されなか
った。
On this substrate, a photosensitive acrylic resin containing Ti
After coating with a spacer coating liquid in which O 2 was dispersed, exposure and development were carried out. The height of the spacer was 4 μm, and the area per display screen was 50 μm 2 . Through the same manufacturing process as in Example 2, 100 liquid crystal display devices were manufactured.
A liquid crystal display device having no particular problem was obtained. After confirming the display quality, the liquid crystal display device was disassembled and the spacer was observed under an optical microscope or the like, but no collapse of the spacer was confirmed.

【0123】[0123]

【発明の効果】本発明のスペーサーは、液晶表示装置用
基板上に形成されるスペーサーであって、金属酸化物超
微粒子および/または金属アルコキシドを含有するスペ
ーサー用樹脂組成物を用いてスペーサーを形成するもの
であるため、本発明のスペーサーを有する液晶表示装置
用基板を用いた液晶表示装置は、十分なセルギャップを
実現すると共に、画面内で均一なセルギャップを保持
し、外部からの力又は衝撃が加わった場合に、パターニ
ングされたスペーサーの潰れによる表示品位の低下が従
来よりも発生しにくい。さらに液晶表示装置の生産性を
向上させることもできる。
The spacer of the present invention is a spacer formed on a substrate for a liquid crystal display device. The spacer is formed by using a resin composition for a spacer containing ultrafine metal oxide particles and / or metal alkoxide. Therefore, the liquid crystal display device using the substrate for a liquid crystal display device having the spacer of the present invention realizes a sufficient cell gap, maintains a uniform cell gap in the screen, and applies an external force or When an impact is applied, the deterioration of display quality due to the collapse of the patterned spacer is less likely to occur than before. Further, the productivity of the liquid crystal display device can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のパターニングされたスペーサーを用い
た、液晶表示装置用基板の一例の概略図である。
FIG. 1 is a schematic view of an example of a substrate for a liquid crystal display device using a patterned spacer of the present invention.

【図2】本発明のパターニングされたスペーサーを用い
た液晶表示装置の一例の概略図である。
FIG. 2 is a schematic view of an example of a liquid crystal display device using a patterned spacer of the present invention.

【図3】従来のビーズ状スペーサーを用いた、液晶表示
装置の概略図である。
FIG. 3 is a schematic diagram of a liquid crystal display device using a conventional bead-shaped spacer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1’:青画素 2、2’:赤画素 3、3’:緑画素 4、4’:ブラックマトリックス 5a、5b、5’a、5’b:ガラス基板 6a、6b、6’a、6’b:電極層 7、7’:配向膜 8、8’:シール剤 9、9’:薄膜トランジスター 10、10’:液晶 11:ビーズ状スペーサー 12:パターニングされたスペーサー用樹脂組成物 1, 1 ': blue pixel 2, 2': red pixel 3, 3 ': green pixel 4, 4': black matrix 5a, 5b, 5'a, 5'b: glass substrate 6a, 6b, 6'a, 6'b: Electrode layer 7, 7 ': Alignment film 8, 8': Sealant 9, 9 ': Thin film transistor 10, 10': Liquid crystal 11: Bead-shaped spacer 12: Patterned resin composition for spacer

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1335 505 G02F 1/1335 505 Fターム(参考) 2H048 BA45 BA48 BB00 BB02 BB14 BB37 BB44 2H089 LA07 LA19 LA20 MA04X MA13X NA05 NA24 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB04 FC12 GA08 GA16 HA12 LA03 LA15 4J002 BB001 BG031 CD001 CD011 CD021 CD051 CD061 CF001 CK021 CM041 DE096 DE126 DE136 DE146 DE156 DJ016 EC076 EX036 EZ036 FD310 GP00 GQ00 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) G02F 1/1335 505 G02F 1/1335 505 F-term (Reference) 2H048 BA45 BA48 BB00 BB02 BB14 BB37 BB44 2H089 LA07 LA19 LA20 MA04X MA13X NA05 NA24 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB04 FC12 GA08 GA16 HA12 LA03 LA15 4J002 BB001 BG031 CD001 CD011 CD021 CD051 CD061 CF001 CK021 CM041 DE096 DE126 DE136 DE146 DE156 DJ016 EC076 EX036 EZ036 FD310 GP00 G00

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】液晶表示装置用基板上に形成されるスペー
サー用樹脂組成物であって、金属酸化物超微粒子および
/または金属アルコキシドを含有することを特徴とする
スペーサー用樹脂組成物。
1. A resin composition for a spacer formed on a substrate for a liquid crystal display device, comprising a metal oxide ultrafine particle and / or a metal alkoxide.
【請求項2】樹脂がアクリル系樹脂を含むことを特徴と
する請求項1記載のスペーサー用樹脂組成物。
2. The resin composition for a spacer according to claim 1, wherein the resin contains an acrylic resin.
【請求項3】樹脂がポリイミド系樹脂を含むことを特徴
とする請求項1記載のスペーサー用樹脂組成物。
3. The resin composition for a spacer according to claim 1, wherein the resin contains a polyimide resin.
【請求項4】樹脂がエポキシ系樹脂を含むことを特徴と
する請求項1記載のスペーサー用樹脂組成物。
4. The resin composition for a spacer according to claim 1, wherein the resin contains an epoxy resin.
【請求項5】着色剤を含む請求項1〜4のいずれかに記
載のスペーサー用樹脂組成物。
5. The spacer resin composition according to claim 1, further comprising a coloring agent.
【請求項6】請求項1〜5のいずれかに記載のスペーサ
ー用樹脂組成物を用いて形成したスペーサーを有する液
晶表示装置用基板。
6. A substrate for a liquid crystal display device having a spacer formed using the resin composition for a spacer according to claim 1.
【請求項7】スペーサーが画面内および/または画面外
に形成されたものである請求項6に記載の液晶表示装置
用基板。
7. The substrate for a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the spacer is formed inside and / or outside the screen.
【請求項8】スペーサーの高さが1〜9μmである請求
項6または7記載の液晶表示装置用基板。
8. The substrate for a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the height of the spacer is 1 to 9 μm.
【請求項9】スペーサーが樹脂層の単一層から成るもの
である請求項6〜8のいずれか1項記載の液晶表示装置
用基板。
9. The substrate for a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the spacer comprises a single resin layer.
【請求項10】スペーサーが樹脂層の積層体である請求
項6〜8のいずれか1項記載の液晶表示装置用基板。
10. The substrate for a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the spacer is a laminate of resin layers.
【請求項11】画面内のスペーサーが対向基板と接触す
る面積が1個あたり10〜1000μm2である請求項
7〜10のいずれか1項記載の液晶表示装置用基板。
11. The substrate for a liquid crystal display device according to claim 7, wherein an area of the spacer in the screen in contact with the opposing substrate is 10 to 1000 μm 2 per unit.
【請求項12】少なくとも3原色からなるパターニング
された色画素を有するカラーフィルターを有する請求項
7〜11のいずれか1項記載の液晶表示装置用基板。
12. The substrate for a liquid crystal display device according to claim 7, further comprising a color filter having patterned color pixels of at least three primary colors.
【請求項13】色画素、ブラックマトリックスおよびオ
ーバーコート膜のうち少なくとも1種が金属酸化物超微
粒子および/または金属アルコキシドを含有するスペー
サー用樹脂組成物で形成されたものであり、スペーサー
が、色画素、ブラックマトリックスおよびオーバーコー
トのうちでスペーサー用樹脂組成物を含んだ層を少なく
とも1種含む積層体である請求項12記載の液晶表示装
置用基板。
13. A color pixel, a black matrix and at least one of an overcoat film formed of a resin composition for a spacer containing ultrafine metal oxide particles and / or metal alkoxide, wherein the spacer has a color 13. The substrate for a liquid crystal display device according to claim 12, wherein the substrate is a laminate including at least one layer containing a resin composition for a spacer among pixels, a black matrix, and an overcoat.
【請求項14】スペーサーが、色画素、ブラックマトリ
ックスおよびオーバーコート膜のうちの1種で構成され
る単層または2種以上からなる積層体上に、金属酸化物
超微粒子および/または金属アルコキシドを含有するス
ペーサー用樹脂組成物を用いて形成したものである請求
項12記載の液晶表示装置用基板。
14. A metal oxide ultrafine particle and / or a metal alkoxide is formed on a single layer or a laminate of two or more of the color pixels, the black matrix, and the overcoat film. 13. The substrate for a liquid crystal display device according to claim 12, which is formed using a resin composition for a spacer contained therein.
【請求項15】ブラックマトリックスが黒色顔料を分散
した樹脂から成るものである請求項7〜14のいずれか
1項記載の液晶表示装置用基板。
15. The substrate for a liquid crystal display device according to claim 7, wherein the black matrix is made of a resin in which a black pigment is dispersed.
【請求項16】ブラックマトリックス、色画素、オーバ
ーコートの樹脂成分のうち少なくとも1つがポリイミド
系樹脂を含む請求項7〜15のいずれか1項記載の液晶
表示装置用基板。
16. The liquid crystal display substrate according to claim 7, wherein at least one of the resin components of the black matrix, the color pixels, and the overcoat contains a polyimide resin.
【請求項17】2枚の液晶表示装置用基板により液晶層
を挟持した液晶表示装置において、少なくとも一方の液
晶表示装置用基板が金属酸化物超微粒子および/または
金属アルコキシドを含有するスペーサー用樹脂組成物を
もちいて形成したスペーサーを有する液晶表示装置用基
板であることを特徴とする液晶表示装置。
17. A liquid crystal display device in which a liquid crystal layer is sandwiched between two liquid crystal display device substrates, wherein at least one of the liquid crystal display device substrates has a resin composition for a spacer containing ultrafine metal oxide particles and / or metal alkoxides. A liquid crystal display device comprising a substrate for a liquid crystal display device having a spacer formed using an object.
【請求項18】薄膜トランジスターにより液晶を駆動す
る請求項17記載の液晶表示装置。
18. The liquid crystal display device according to claim 17, wherein the liquid crystal is driven by a thin film transistor.
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