JP3181326U - タッチパネル及びそれに用いられるタッチ表示パネル - Google Patents

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Abstract

【課題】信号伝送線の電気抵抗値が小さくタッチ信号の伝送品質を向上させるタッチパネル及びそれに用いられるタッチ表示パネルを提供する。
【解決手段】蓋板121及びタッチ基板122を備える。該蓋板は第一基材及び信号線層130を含む。信号線層は該第一基材のエッジ121pに形成される。タッチ基板は蓋板122に接続され、且つ第二基材及び感知構造層1222を含む。該感知構造層は第二基材に形成される。
【選択図】図1

Description

本考案は、信号伝送線を有するタッチパネル及びそれに用いられるタッチ表示パネルに関する。
従来のタッチパネルは基板、感知層、及び複数本の信号伝送線を備え、信号伝送線及び感知層は皆同じ基板に形成される。信号伝送線は感知層に接続され、感知層のタッチ信号を回路基板へと伝送させる。
しかしながら、前述した従来の技術では、タッチパネルのサイズが制限され、各信号伝送線が細いために信号伝送線の電気抵抗値が大きくなり、タッチ信号の伝送品質を落とす結果となった。
そこで、本発明者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本考案の提案に到った。
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、タッチパネル及びそれに用いられるタッチ表示パネルを提供することを主目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係るタッチパネルは、蓋板と、前記蓋板に連結されるタッチ基板を備え、前記蓋板は、第一基材と、前記第一基材のエッジに形成される信号線層を更に含み、また、前記タッチ基板は、第二基材と、前記第二基材に形成される感知構造層を更に含むことを特徴とする。
また、本考案に係るタッチ表示パネルは、表示パネルと、
タッチパネルと、前記表示パネルと前記蓋板の内の何れか1つのエッジに形成されると共に前記感知構造層に接続される信号線層を備え、前記タッチパネルは、蓋板と、前記蓋板に接続されるタッチ基板を更に含み、前記タッチ基板は、
第二基材と、前記第二基材に形成される感知構造層を更に含むことを特徴とする。
本考案によれば、信号伝送線の電気抵抗値が小さくタッチ信号の伝送品質を向上させるタッチパネル及びそれに用いられるタッチ表示パネルが得られる。
本考案に係る一実施形態によるタッチ表示パネルを説明する断面模式図である。 本考案に係る図1によるタッチ基板及び蓋板を説明する外観模式図である。 本考案に係る図2によるタッチ基板及び蓋板の組合せから見る平面図である(遮光層を図示せず)。 本考案に係る二実施形態によるタッチ表示パネルを説明する断面模式図である。 本考案に係る図4によるタッチ基板を説明する外観模式図である。 本考案に係る図4によるタッチ表示パネルを説明する分解図である(表示パネル、タッチパネル及び蓋板のみを表示)。
以下、本考案の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
まず、本考案のタッチ表示パネルの一実施形態について説明する。
本考案の第1実施形態の構成を図1から図3に示す。図1は本考案に係る一実施形態によるタッチ表示パネルを説明する断面模式図である。タッチ表示パネル100は表示パネル110、タッチパネル120、信号線層130、及び粘着部材150を備える。表示パネル110とタッチパネル120とは粘着部材150により粘着され、粘着部材150は両面テープ(Double Sided Adhesive、DSA)等である。
表示パネル110は電気泳動ディスプレイ、コレステリック液晶ディスプレイ、液晶ディスプレイ、双安定ディスプレイ、多安定ディスプレイ、有機発光ダイオード(Organic Light−Emitting Diode、 OLED)ディスプレイ、発光ダイオード(Light−Emitting Diode、LED)ディスプレイ、或いは他の種類の表示パネルである。
この実施形態では、タッチパネルは静電容量式タッチパネルである。図1によると、タッチパネル120は蓋板121及びタッチ基板122を備え、タッチ基板122は光学透明接着剤(図示せず)により蓋板121に固定される。
図2は本考案の図1によるタッチ基板及び蓋板を説明する外観模式図である。タッチ基板122は第二基材1221及び感知構造層1222を備える。第二基材1221は透明基板であり、その材質は高透光率の絶縁性材料、例えばガラス、ポリカーボネート(Polycarbonate、PC)、ポリエチレンテレフタラート(Polythylene terephthalate、PET)、ポリメタクリル酸メチル(Polymethylmethacrylate、PMMA)、或いは環状オレフィンコポリマー(Cyclic Olefin Copolymer)等の材料を含む。
第二基材1221は上表面1221uを有し、感知構造層1222は第二基材1221の上表面1221uに形成される。本実施形態では、上表面1221uは感知領域1221a及びエッジ122pを定義させ、感知構造層1222は感知領域1221a内に形成される。感知構造層1222は指或いはタッチペンのタッチを感知させ、対応するタッチ信号を信号線層130へ伝送させる。
感知構造層1222は複数の第一感知列123及び複数の第二感知列124を備える。第一感知列123は順に並列されて第二基材1221の上表面1221uに形成される。第一感知列123は複数本の第一接続線1231及び複数の第一感知電極1232を備える。
第一感知電極1232は第一方向D1に沿い上表面1221uに順に配列され、第一方向D1は例えばX軸方向であり、隣接する2つの第一感知電極1232は第一接続線1231により接続される。第一感知列123は指或いはタッチペンのタッチを感知させる。
第一接続線1231は複数本の第一縁端接続線1231´を備え、第一縁端接続線1231´は第二基材1221のエッジ122pに形成されて信号線層130に接続され、これにより第一感知列123はタッチ信号を信号線層130へ伝送させる。
第二感知列124は第二基材1221の上表面1221uに順に並列されて形成される。第二感知列124は複数本の第二接続線1241及び複数の第二感知電極1242を備える。
第二感知電極1242は第二方向D2に沿い上表面1221uに順に配列され、第二方向D2は例えばY軸方向であり、隣接する2つの第二感知電極1242は第二接続線1241により接続される。第二感知列124は指或いはタッチペンのタッチを感知させる。
第二接続線1241は複数本の第二縁端接続線1241´を備え、第二縁端接続線1241´は第二基材1221のエッジ122pに形成されて信号線層130に接続され、これにより第二感知列124はタッチ信号を信号線層130へ伝送させる。
このほか、第一接続線1231と第二接続線1241とは絶縁層(図示せず)により電気的に隔離されて第一感知列123と第二感知列124とが接触しショートするのを防ぐ。
このほか、第一感知電極1232及び第二感知電極1242の材料は例えば透明導電性酸化物(Transparent Conductive Oxide;TCO)或いは透明の有機導電材料であり、透明導電性酸化物は酸化インジウム錫(Indium Tin Oxide、ITO)や酸化インジウム亜鉛(indium zinc oxide、IZO)等であり、透明の有機導電材料はポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等である。第一接続線1231及び第二接続線1241の材質は金属或いは透明導電性酸化物であり、金属はチタン、アルミニウム、モリブデン、銅、銀、及びそれらの組み合わせで構成されるグループである。
信号線層130の材質は上述の金属を含む。信号線層130は表示パネル110か蓋板121の内の何れか1つのエッジに形成され、本実施形態係では蓋板121のエッジ121pに形成されるものを例に以下に説明する。
図2に示すように、蓋板121は第一基材1211を備え、第一基材1211は下表面1211bを有する。第一基材1211の材質は第二基材1221に相似するため再度の詳述は省略する。
図2に示すように、第一基材1211の下表面1211bの面積は第二基材1221の上表面1221uの面積より大きく、下表面1211bの感知領域1211aの面積は第二基材1221の上表面1221uの面積に近く、信号線層130は第一基材1211の下表面1211bのエッジ121pに形成される。
なお、図2に示すように、信号線層130は複数本の第一信号線131及び第二信号線132を備える。第一信号線131を例に説明すると、第一基材1211に形成される従来の第一信号線131に比べ、本実施形態による第一信号線131は蓋板121に形成されて第一信号線131の敷設領域が比較的広くなり、これにより1本あたりの第一信号線131の広さを比較的広く設計させる事が可能であり、感知構造層1222及び信号線層130の全体の抵抗値を減らせる。
実施形態では、第一信号線131が金属信号線の場合、その広さは30マイクロメートル(従来の設計では、タッチパネルのサイズが制限されるため金属信号線の広さは30マイクロメートルより小さくなる)より大きくでき、第一信号線131が透明信号線の場合、その広さは150マイクロメートル(従来の設計では、タッチパネルのサイズが制限されるため透明信号線の広さは150マイクロメートルより小さくなる)より大きくできる。第一信号線131の広さの上限は基板のサイズにより決定され、本実施形態では限定しない。このほか、第二信号線132は第一信号線131に相似するため更なる詳述は省く。
本実施形態では、信号線層130をタッチ基板122以外の部材に形成させて全体の抵抗値を減らし、感知電極(第一感知電極1232及び/或いは第二感知電極1242)の厚さを20ナノメートル(従来の設計では、少なくとも35ナノメートルより大きい)より小さくさせ、全体の抵抗値を予期或いは所定の範囲内に維持させる。
図2に示すように、タッチパネル120は回路基板140を更に備える。回路基板140は、例えばフレキシブルプリント基板(Flexible Printed Circuit board、FPC)等である。本実施形態では、回路基板140は蓋板121に接続され、信号線層130は回路基板140に接続されて回路基板140に電気的に接続される。感知構造層1222からのタッチ信号(図示せず)は信号線層130を経由し回路基板140へと伝送される。
さらに、図2に示すように、蓋板121は第一基材1211の下表面1211bのエッジ121pに形成される遮光層125(遮光層125により第一基材1211が遮蔽されるため、図2では全ての遮光層125を図示できない)を更に備え、信号線層130の位置は遮光層125に対応させて、信号線層130が外観上露出するのを防ぐ。
本実施形態では、信号線層130は第一基材1211の下表面1211bに形成され、遮光層125は信号線層130に覆設される。他の実施形態では、まず遮光層125が第一基材1211の下表面1211bに形成された後、信号線層130が遮光層125内に埋入される。このほか、遮光層125はブラックマトリクス(BM)等である。
遮光層125は信号線層130の領域に対応させるか、或いは、遮光層125は例えば環状遮光層として、第一基材1211の下表面1211bの全てのエッジに対応させる。
信号線層130の材質は銅等のあらゆる導電材料が可能である。信号線層130の形成方法は、利用化学蒸着、無電解鍍金法(electroless plating)、電解めっき(electrolytic plating)、プリンティング、回転塗布、スプレー塗装、スパッタリング(sputtering)、或いは真空蒸着(vacuum deposition)等の方法を用いて導電材料を第一基材1211に形成させる。その後、フォトリソグラフィ(photolithography)、化学エッチ(chemical etching)、レーザー穴あけ(laser drilling)、或いは機械掘削(mechanical drilling)等を行う。
前記導電材料をパターン化させ、信号線層130を形成させる。他の実施形態では、信号線層130はパターン化された銅箔層であり、例えば転写方式等により形成させる。
図3は本考案の図2によるタッチ基板及び蓋板の組合せから見る平面図である(遮光層は図示せず)。タッチ基板122の各第一縁端接続線1231´は蓋板121の対応する第一信号線131に接続され、タッチ基板122の各第二縁端接続線1241´は蓋板121の対応する第二信号線132に接続されて、タッチ信号に感知構造層1222及び信号線層130を経由させて回路基板140へと伝送させる。
次に、本考案のタッチ表示パネルの二実施形態について説明する。
本考案の二実施形態の構成を図4から図6に示す。図4は本考案に係る二実施形態によるタッチ表示パネルを説明する断面模式図である。タッチ表示パネル200は表示パネル210、タッチパネル220、信号線層230及び粘着部材150を備える。表示パネル210とタッチパネル220とは粘着部材150により粘着される。
タッチパネル220は蓋板221及びタッチ基板222を備え、タッチ基板222は光学透明接着剤(図示せず)により蓋板221に固定される。
図5は本考案の図4によるタッチ基板を説明する外観模式図である。タッチ基板222は第二基材1221及び感知構造層1222を備える。本実施形態では、感知構造層1222はタッチ基板222の両面に形成される。以下に説明する。
第二基材1221は対向し合う上表面1221u及び下表面1221bを有する。感知構造層1222は複数の第二感知列124を備え、第二感知列124は第二基材1221の下表面1221bに順に並列されて形成される。
第二感知列124は複数本の第二接続線1241及び複数の第二感知電極1242を備える。第二感知電極1242は第二方向D2に沿い下表面1221bに順に配列され、隣接する2つの第二感知電極1242は第二接続線1241により接続される。第二感知列124は指或いはタッチペンのタッチを感知させて対応するタッチ信号を伝送させる。
第二接続線1241は複数本の第二縁端接続線1241´を備え、第二縁端接続線1241´は第二基材1221のエッジ122p2に形成される。即ち、第二縁端接続線1241´は上方向へエッジ122p2まで延伸される。他の実施形態では、エッジ122p2は第二基材1221の下エッジであり、即ち、第二縁端接続線1241´は下方向へエッジ122p2まで延伸される。
図6は本考案の図4によるタッチ表示パネルを説明する分解図である(表示パネル、タッチパネル、及び蓋板のみを表示)。感知構造層1222は複数の第一感知列123を更に備え、第一感知列123は第二基材1221の上表面1221u(図6の第二基材1221は図5の第二基材1221の背面である)に順に並列されて形成される。
第一感知列123は複数本の第一接続線1231及び複数の第一感知電極1232を備える。第一感知電極1232は第一方向D1に沿い上表面1221uに順に配列され、隣接する2つの第一感知電極1232は第一接続線1231に接続される。第一感知列123は指或いはタッチペンのタッチを感知させて対応するタッチ信号を信号線層130へ伝送させる。
第一接続線1231は複数本の第一縁端接続線1231´を備え、第一縁端接続線1231´は第二基材1221のエッジ122p1に形成される。即ち、第一縁端接続線1231´は右方向へエッジ122p1まで延伸される。他の実施形態では、エッジ122p1は第二基材1221の左エッジであり、即ち、第二縁端接続線1241´は右方向へエッジ122p1まで延伸される。
図6に示すように、本実施形態の信号線層130は分離される2つの部材、例えば表示パネル210及び蓋板221に形成される。また、信号線層130は複数本の第一信号線131及び複数本の第二信号線132を備える。第一信号線131は蓋板221に形成されると共に第一感知列123に接続され、例えば対応する第一縁端接続線1231´(図3の構造に相似する)に接続される。第二信号線132は表示パネル210に形成されると共に第二感知列124(第二感知列124は図5に図示する)に接続され、例えば対応する第二縁端接続線1241´(図3の構造に相似する)に接続される。
表示パネル210は上表面210uを有し、信号線層130は表示パネル210の上表面210uに形成され、表示パネル210の上表面210uの面積は第二基材1221の下表面1221bの面積より大きい。上表面210uの感知領域210aの面積と第二基材1221の下表面1221bの面積は近く、第二信号線132は上表面210uのエッジ210pを有する表示パネル210に形成される。
図6に示すように、第一信号線131は回路基板140に延伸されてタッチ信号を第一感知列123及び第一信号線131を経由させて回路基板140まで伝送させる。このほか、表示パネル210は回路基板160を更に備え、第二信号線132は回路基板160に電気的に接続されてタッチ信号を第二感知列124及び第二信号線132を経由させて回路基板160まで伝送させる。回路基板160は回路基板140に相似するため更なる詳述は省略する。
この実施形態では、遮光層125は蓋板221の第一基材1211の下表面1211bのエッジ121p1(遮光層125により第一基材1211が遮蔽されるため、図6では全ての遮光層125をは図示できない)に形成され、遮光層125は第一信号線131に覆設されて第一信号線131が外観上露出されるのを防ぐ。他の実施形態では、遮光層125は表示パネル210のエッジ210pに形成され、遮光層125は第二信号線132に覆設されて第二信号線132が外観上露出されるのを防ぐ。
以上、本考案はこのような実施形態に限定されるものではなく、考案の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の形態で実施することができる。
100 タッチ表示パネル
110 表示パネル
120 タッチパネル
121 蓋板
121p エッジ
1211 第一基材
1211a 感知領域
1211b 下表面
122 タッチ基板
122p エッジ
1221a 感知領域
1221b 下表面
1221u 上表面
1222 感知構造層
123 第一感知列
1231 第一接続線
1231’ 第一縁端接続線
1232 第一感知電極
124 第二感知列
1241 第二接続線
1241’ 第二縁端接続線
1242 第二感知電極
125 遮光層
130 信号線層
131 第一信号線
132 第二信号線
140 回路基板
150 粘着部材
160 回路基板
200 タッチ表示パネル
210 表示パネル
210p エッジ
210u 上表面
220 タッチパネル
221 蓋板
222 タッチ基板
230 信号線層
D1 第一方向
D2 第二方向

Claims (7)

  1. 蓋板と、
    前記蓋板に連結されるタッチ基板とを備え、
    前記蓋板は、第一基材と、前記第一基材のエッジに形成される信号線層を更に含み、
    前記タッチ基板は、第二基材と、前記第二基材に形成される感知構造層を更に含む事を特徴とする、
    タッチパネル。
  2. 前記タッチ基板の前記第二基材は前記感知構造層が形成される上表面を有し、前記蓋板の前記第一基材は前記信号線層が形成される下表面を有し、前記第一基材の前記下表面の面積は前記第二基材の前記上表面の面積より大きい事を特徴とする、請求項1に記載のタッチパネル。
  3. 前記感知構造層は、複数本の接続線と、隣接する2つの前記感知電極は対応する前記接続線に接続される複数の感知電極を備え、これら前記接続線は複数本の縁端接続線を含み、これら前記縁端接続線は前記第二基材のエッジに形成されると共に前記信号線層に接続される事を特徴とする、請求項1に記載のタッチパネル。
  4. 表示パネルと、
    タッチパネルと、
    前記表示パネルと前記蓋板の内の何れか1つのエッジに形成されると共に前記感知構造層に接続される信号線層とを備え、
    前記タッチパネルは、蓋板と、前記蓋板に接続されるタッチ基板を更に含み、
    前記タッチ基板は、第二基材と、前記第二基材に形成される感知構造層を更に含む事を特徴とする、
    タッチ表示パネル。
  5. 前記タッチ基板の前記第二基材は前記感知構造層が形成される上表面を有し、前記蓋板は前記信号線層が形成される下表面を有する第一基材を備え、前記第一基材の前記下表面の面積は前記第二基材の前記上表面の面積より大きい事を特徴とする、請求項4に記載のタッチ表示パネル。
  6. 前記タッチ基板の前記第二基材は対向し合う上表面及び下表面を有し、前記感知構造層は、前記第二基材の前記下表面に形成される複数の第一感知列と、前記第二基材の前記上表面に形成される複数の第二感知列を備え、前記信号線層は、前記蓋板に形成されると共にこれら前記第一感知列に接続される複数本の第一信号線と、前記表示パネルに形成されると共にこれら前記第二感知列に接続される複数本の第二信号線とを更に備える事を特徴とする、請求項4に記載のタッチ表示パネル。
  7. 前記感知構造層は、複数本の接続線と、隣接する2つの前記感知電極は対応する前記接続線に接続される複数の感知電極を備え、これら前記接続線は複数本の縁端接続線を備え、これら前記縁端接続線は前記第二基材のエッジに形成されると共に前記信号線層に接続される事を特徴とする、請求項4に記載のタッチ表示パネル。
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