JP3180463U - 昇降輸送型化学浴析出装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】太陽電池を製作する十分な時間をかけて薄膜析出プロセスを進め、薄膜の厚さの均一性を高めた昇降輸送型化学浴析出装置を提供する。
【解決手段】昇降輸送型化学浴析出装置1は、輸送ユニット3および浴槽5を少なくとも含む。輸送ユニット3は薬液ケース7を移動させるのに用いられ、輸送ユニット3は少なくとも複数の輸送ローラー31からなり、輸送ローラー31は水平方向に配列して設置され、薬液ケース7は少なくとも1つの基板71と薬液蓋73を密合して組み合わせる。薬液蓋73は前記基板71の上方を覆い、基板71は上表面711を有する。薬液蓋73には薬液注入口731および薬液排出口733を少なくとも設け、薬液注入口731から薬液2が薬液ケース7に注入され、薬液2は基板71の上表面711上を覆蓋する。薬液排出口733は薬液2を薬液ケース7から排出する。
【選択図】図2

Description

本考案は化学浴析出装置に関するものであって、特に、薬液ケースを昇降および往復移動させる方式を利用し、薬液を均等に散布して基板上をまんべんなく覆い、基板上に形成される薄膜の厚さをより一貫して均一なものにできる化学浴析出装置に関するものである。
今日の電子工業の急速な発展により、多くの電子製品において物理的析出技術あるいは化学的析出技術の応用が必要とされている。また、世界は石油エネルギーの枯渇、コスト高騰および環境保護問題などに直面し、太陽エネルギーや水素エネルギー燃料電池の需要は日に日に増している。
太陽電池の製造には、基材上に様々な析出層(薄膜)を構成しないとその機能を有効に発揮できないので、析出プロセスは電子産業および生活産業において極めて重要な鍵となる技術であると見なされている。
公知の化学浴析出(Chemical Bath Deposition,CBD)プロセスおよびその装置も析出技術の一つであり、表面に予め処理が施された基材(例えば、単結晶シリコン基板、多結晶シリコン基板、アモルファスシリコン基板等)を化学薬液中に一定時間持続的に浸漬し、この基材表面に半導体薄膜を形成するものがある。
公知の化学浴析出装置は、基材を化学薬液の中に浸すものであるため、この基材の両面に膜が形成されてしまうが、基材で実際に用いられるのは片面だけであり、余分な部分により資源が無駄になり、製造コストの増加を招く。
図1は公知技術の化学浴析出装置を示す図である。化学浴析出装置は輸送ユニット20および溶液槽30を含み、輸送ユニット20は薬液ケース40を移動するのに用いられ、輸送ユニット20は複数の輸送ローラー201からなり、この薬液ケース40は基板401および薬液蓋403が密合した状態で組み立てられたものであり、薬液ケース40に基板401上を覆蓋する薬液50を注入する。このような基板401は片面のみ薬液50で覆蓋される。
溶液槽30の内部には溶液301を収容し、溶液301は液面3011を有し、輸送ローラー201はこの溶液301の液面3011の下に設置され、輸送ローラー201が薬液ケースを移動させるとき、薬液ケース40は部分的に溶液301中に浸漬する。薬液ケース40内の薬液50は移動過程で溶液301の加熱作用を受けるので、薬液50の化学析出作用が促される。
公知技術の欠点は、薄膜析出の厚さの不均一という問題にある。その原因は、薬液を薬液ケースに注入する際、薬液が基板上で均等に分散されず、基板上部の各所全てを薬液で覆蓋したい場合、薬液量をさらに増やす必要がある。しかし、薬液量の増加は基板を変形させ破損を招く恐れがあるため、薬液量を増やさない状況で、薬液を基板上に均等に散布することで、薄膜の厚さの均一性を高められる化学浴析出装置を提供する必要がある。
本考案の主な目的は、薬液ケースを昇降および往復移動させる方式により、薬液が基板上を均等に覆蓋するようにし、適当な反応条件のもと、薄膜の厚さの均一性が大幅に高められる昇降輸送型化学浴析出装置を提供することである。
本考案のもう1つの目的は、保温材および循環加熱システムの保温および温度制御メカニズムを利用し、安定した化学反応温度および反応環境を提供することにより、薄膜析出プロセスを進めるのに役立つ昇降輸送型化学浴析出装置を提供することである。
上述の目的を達成するため、本考案の具体的技術手段は、輸送ユニットおよび浴槽を含み、輸送ユニットは薬液ケースを受け取るとともに移動させるのに用いられ、前記薬液ケースは、少なくとも基板と薬液蓋が密合した状態で組み立てられたものである。
前記基板は上表面を有し、前記薬液ケースには前記基板上部を覆蓋できる薬液を注入し、前記輸送ユニットは複数の輸送ローラーからなり、前記浴槽内には溶液を収容し、前記溶液は液面を有し、前記輸送ローラーは前記浴槽の内部に設置される。
本考案の特徴は、前記輸送ローラーにより昇降および前後往復移動を行うことが可能であり、このような輸送ローラーの上にある前記薬液ケースが、前記溶液の内部まで降下するとともに前後往復移動することにより、前記薬液が前記基板の前記上表面の各所に均等に散布され、前記薄膜が前記上表面上で全面的かつ均等に成長する。
薬液ケースを溶液中に浸漬して前後に往復移動させる技術手段により、薬液が交互に行き来して均等に基板上の各所に流れるようにすることで、公知技術の欠点を解決し、薄膜析出の均一性を高めることができる。
公知技術の化学浴析出装置を示す図。 本考案の昇降輸送型化学浴析出装置の薬液ケース移動を示す図。 本考案の昇降輸送型化学浴析出装置の昇降機構を示す図。 本考案の薬液ケースが輸送ユニットの降下により溶液中に入った状態を示す図。 本考案の輸送ローラーにより薬液ケースを往復移動させている状態を示す図。 本考案の昇降輸送型化学浴析出装置の循環加熱システムを示す図。
当該技術分野を熟知した者が本明細書にもとづき本考案を実施できるよう、以下に図と符号を合わせて本考案の実施方式について詳細に説明する。
図2は、本考案の昇降輸送型化学浴析出装置の薬液ケース移動を示す図である。本考案の化学浴析出装置1は太陽電池を製作する基板上に少なくとも1層の薄膜を析出させるのに主に用いられるものであり、昇降および往復式の基板移動方式を利用し、薬液を交互に行き来させ均等に基板上の各所に散布し、薄膜が全面的かつ均一に基板上で成長するようにし、薄膜の厚さの均一性を高めるものである。
図2によれば、昇降輸送型化学浴析出装置1は、輸送ユニット3および浴槽5を少なくとも含む。輸送ユニット3は薬液ケース7を移動させるのに用いられ、輸送ユニット3は少なくとも複数の輸送ローラー31からなり、輸送ローラー31は水平方向に配列して設置され、薬液ケース7は少なくとも1つの基板71と薬液蓋73を密合して組み合わせたものである。
ここで留意すべきは、図中には、本考案の内容説明をしやすいように本考案の特徴と関係する構成要素を示したに過ぎず、その他周知の構成要素は図示されていない。薬液蓋73は多くの構成要素を実際に含んでいるが、以下の説明に影響しない。
薬液蓋73は前記基板71の上方を覆い、基板71は上表面711を有する。薬液蓋73には薬液注入口731および薬液排出口733を少なくとも設け、薬液注入口731から薬液2が薬液ケース7に注入され、薬液2は基板71の上表面711上を覆蓋する。
薬液排出口733は薬液2を薬液ケース7から排出する出口である。ここで留意すべきは、上述の本考案の薬液ケース7は説明を容易にするために用いられた実例に過ぎず、本考案の範囲を限定するものではない。すなわち、基板と密合固定されてなる構造体は全て本考案の範囲内に含まれる。
浴槽5は、密閉された槽体であってもよく、溶液を収容する。この溶液はここでは、室温よりも高い溶液51であるが、プロセスの必要に応じて室温より低い溶液51に置き換えることもできる。輸送ローラー31は浴槽5の内部に設置されるものであり、好ましくは、輸送ローラー31が液面511の上に設置されてもよいし、液面511の下に設置されてもよい。
浴槽5は内壁面513および外壁面515を有し、内壁面513および外壁面515の間には保温材8をさらに設置して浴槽5内部の溶液51の温度が過度に変化するのを防止する。また、内壁面513および外壁面515の間に加温器または冷却器(図中未表示)を設置して浴槽の温度を調節することもできる。
図3Aは本考案の昇降輸送型化学浴析出装置の昇降機構を示す図であり、図3Bは本考案の薬液ケースが輸送ユニットの降下により溶液中に入った状態を示す図である。
輸送ユニット3は垂直昇降を行うことができ、薬液ケース7は下降したり溶液51から離れたりする。輸送ユニット3により薬液ケース7を下降させ溶液51に入れるとき、薬液注入口731および薬液排出口733の高さが液面511よりも低くならないようにし、溶液51が薬液ケース7の中に流入するのを防止する。
ただし、薬液ケース7の薬液注入口731と薬液排出口733を溶液51の液面511の高さより高くするのは、薬液2が実際に基板71と反応する反応物を含有するが、浴槽5の溶液51は実際に析出反応に関わってはいないからである。つまり、溶液51は化学反応を促す触媒にすぎない。
図3Aと図2をあわせて参照されたい。薬液ケース7が溶液51に位置するとき、薬液2と溶液51の間は基板71のみで隔てられている。このため、基板71の上の薬液2は基板71の下の溶液51の熱エネルギーを直接受けて安定的な化学的薄膜析出反応が起こる。
輸送ユニット3の下方には昇降機構4が設置され、輸送ユニット3の上昇または下降は昇降機構4により制御される。昇降機構4は垂直昇降または斜め方向の昇降のうち少なくとも一方を行うことができ、昇降機構4が降下したとき、輸送ローラー31の上の基板71は少なくとも溶液51に浸漬される。
通常輸送ローラー31は対応する2つの支持体33の間に設置される。昇降機構4はモーター41および少なくとも2つのボールねじ43を少なくとも備え、少なくとも2つのボールねじ43は2つの支持体33の底部にそれぞれ設置され、支持体33は平状状態で支えられる。
留意すべきは、本考案の内容説明をしやすいように本考案の特徴と関係する構成要素を示したに過ぎず、その他周知の構成要素は図示されていない。昇降機構4はまだ多くの構成要素を実際に含んでいるが、以下の説明に影響しない。
モーター41は駆動に同期して少なくとも2つのボールネジ43を上昇または下降させるのに用いられ、2つの支持体33も線的に上昇または下降する。2つの支持体33が上昇または下降するとき、輸送ローラー31および薬液ケース7も2つの支持体33に伴って上昇または下降する。これにより薬液ケース7が下降する、または溶液から離れるという目的が達成される。
留意すべきは、上述のモーターおよびボールねじを利用して薬液ケースを昇降させる機構は、説明を容易にするために用いられた実例に過ぎず、本考案の範囲を限定するものではない。すなわち、輸送ユニットに伴って薬液ケースを昇降させる機構は全て本考案の範囲内に含まれる。
図4は本考案の輸送ローラーにより薬液ケースを往復移動している状態を示す図である。図2とあわせて参照されたい。薬液2を基板71の上表面711上に均等に散布するために、輸送ローラー31は正・逆転を交互に行い薬液ケース7を前後に往復移動させる。
好ましい方式では、輸送ローラー31と薬液ケース7を共に下降させ溶液51中に入れたとき、薬液ケース7を前後往復移動させる。こうして薬液2が交互に行き来しながら基板71上表面711の各所に行き渡り、とりわけ上表面711の周縁も完全に薬液2に浸漬できる。これにより、基板71周縁とその中心の薄膜の厚さの差異を大幅に低減できる。
ここから、基板71の上表面711の各所は全て薬液2により完全に覆蓋されることがわかる。このようにして、上表面711の各所全てにおいて薄膜析出のための適当な反応時間を有することができ、最後に析出する基板71上の薄膜の厚さも均一になり、後続プロセスの処理が容易になる。
図5は考案の昇降輸送型化学浴析出装置の循環加熱システムを示す図である。本考案の昇降輸送型化学浴析出装置1は循環加熱システム10をさらに含む。循環加熱システム10は一時貯液層101、ブースターポンプ103および加熱器105をさらに備え、一時貯液槽101と浴槽5の間は少なくとも1つの回収管路107で接続する。また、一時貯液槽101とブースターポンプ103の間、およびブースターポンプ103と加熱器105の間は全て管路111で接続する。加熱器105と浴槽5の間は少なくとも1つの配送管路109で接続する。回収管路107の一端は溶液51の中に位置する必要があり、配送管路109の一端は溶液51の中または溶液51の上のうち少なくとも一方に位置することができる。
上述の配置によれば、浴槽5中の溶液51は一時貯液槽101の中に流れ込み、一時貯液槽101中の溶液51は管路111を経由してブースターポンプ103および加熱器105を流れて通る。ブースターポンプ103は溶液51を増圧輸送する機能を有し、加熱器105は加熱器105を流れて通る溶液51を加熱するのに用いられる。ブースターポンプ103が溶液を輸送するとき、ブースターポンプ103によって送り出された強力な流体は加熱器105中に入り、加熱器105内の加熱された溶液51は配送管路109に排出され浴槽5の中に戻る。
このことから、浴槽5中の溶液51はまず循環加熱システム10の一時貯液槽101に流入し、一時貯液槽101中の溶液51はブースターポンプ103および加熱器105を通過し、加熱された溶液51は配送管路109を経由して浴槽5に戻されることがわかる。このように浴槽5中は加熱された溶液51を受け入れ、浴槽5の溶液51の一定温度が保たれることで、安定した温度環境のもとで薬液2による化学的薄膜析出反応を進めることができる。
上述の記載は本考案の好ましい実施例の説明に過ぎず、本考案に対するいかなる形式上の制限をも企図するものではない。したがって、同じ考案の精神の下で加えられたいかなる潤色や変更も、本考案の保護されるべき範疇に含まれる。
1 化学浴析出装置
2、50 薬液
3、20 輸送ユニット
31、201 輸送ローラー
33 支持体
4 昇降機構
41 モーター
43 ボールねじ
30 浴槽
301 溶液
5 浴槽
51 溶液
511、3011 液面
513 内壁面
515 外壁面
7、40 薬液ケース
71、401 基板
73、403 薬液蓋
731 薬液注入口
733 薬液排出口
711 上表面
8 保温材
10 循環加熱システム
101 一時貯液槽
103 ブースターポンプ
105 加熱器
107 回収管路
109 配送管路
111 管路

Claims (8)

  1. 溶液を収容するのに用いられる浴槽と、
    少なくとも複数の輸送ローラーからなり、前記浴槽中に設置されて薬液ケースを移動させるのに用いられ、前記輸送ローラーが正逆転を交互に行い、前記薬液ケースを往復移動させる輸送ユニットと、
    前記輸送ユニットの下方に設置され、前記輸送ユニットを昇降移動させるのに用いられる昇降機構と、
    を少なくとも含むことを特徴とする昇降輸送型化学浴析出装置。
  2. 前記昇降機構は、垂直昇降または斜め方向昇降のうちの少なくとも一方を行うことができることを特徴とする、請求項1に記載の昇降輸送型化学浴析出装置。
  3. 前記昇降機構が降下したとき、前記輸送ローラーの上の基板は少なくとも溶液に浸漬されることを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の昇降輸送型化学浴析出装置。
  4. 前記浴槽は内壁面および外壁面を有し、前記内壁面および前記外壁面の間には保温材をさらに設置することを特徴とする、請求項1に記載の昇降輸送型化学浴析出装置。
  5. 前記浴槽は内壁面および外壁面を有し、前記内壁面および前記外壁面の間には、前記浴槽および前記溶液の温度を調節するのに用いられる加温器または冷却器をさらに設置することを特徴とする、請求項1に記載の昇降輸送型化学浴析出装置。
  6. さらに循環加熱システムを備え、前記循環加熱システムは、少なくとも1つの一時貯液槽、ブースターポンプおよび加熱器を含み、前記一時貯液槽と前記浴槽の間は少なくとも1つの回収管路で接続され、前記一時貯液槽と前記ブースターポンプの間および前記ブースターポンプと前記加熱器の間はいずれも管路で接続され、前記加熱器と前記浴槽の間は少なくとも1つの配送管路で接続され、前記ブースターポンプは前記溶液を増圧輸送する機能を有し、前記加熱器は前記加熱器を通って流れる前記溶液を加熱するのに用いられることを特徴とする、請求項1に記載の昇降輸送型化学浴析出装置。
  7. 前記回収管路の一端は前記溶液液面の下に位置する必要があり、前記配送管路の一端は前記溶液の中または前記溶液の上のうちの少なくとも一方に位置することができることを特徴とする、請求項6に記載の昇降輸送型化学浴析出装置。
  8. 前記輸送ユニットは2つの支持体を含み、前記輸送ローラーは対応する2つの支持体の間に設置され、前記2つの支持体の下方には昇降機構を設置し、前記昇降機構は1つのモーターおよび2つのボールねじを少なくとも含み、前記2つのボールネジは前記2つの支持体底部にそれぞれ設置され、前記モーターは、駆動時に少なくとも2つのボールねじを同時に上昇または下降させることで、前記2の支持体および前記輸送ローラーを同時に上昇または下降させるのに用いられることを特徴とする、請求項1に記載の昇降輸送型化学浴析出装置。
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