JP3179622B2 - シャッター装置 - Google Patents

シャッター装置

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JP3179622B2
JP3179622B2 JP09006593A JP9006593A JP3179622B2 JP 3179622 B2 JP3179622 B2 JP 3179622B2 JP 09006593 A JP09006593 A JP 09006593A JP 9006593 A JP9006593 A JP 9006593A JP 3179622 B2 JP3179622 B2 JP 3179622B2
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Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ネガフィルムの画像を
印画紙に焼付露光するプリンタの焼付露光用開口を開閉
するシャッター装置に関する。
【0002】
【従来の技術】移動する部材の移動エネルギーを吸収し
てこれをスムースに停止させるためのダンパーは種々の
分野で利用されているが、最も簡単な構造のものは、移
動する部材とこの部材の移動を阻止するストッパの何れ
かに設けられた衝撃吸収用の緩衝ゴムである。
【0003】このような緩衝ゴムから成るダンパーは、
例えば、ネガフィルムの画像を印画紙に焼付露光するプ
リンタの焼付露光用開口を開閉するためのシャッター装
置に用いられている。
【0004】この種のシャッター装置では、焼付露光用
開口を開閉可能なシャッターを有している。このシャッ
ターは焼付露光用の開口を開閉可能に配置されており、
ソレノイドが連結されている。また、シャッターの移動
限には一対のストッパが配置されており、ソレノイドに
より開閉移動するシャッターがストッパに当接すること
により、その移動が阻止されて停止する構成である。さ
らに、前記ストッパには、ダンパーとしての緩衝ゴムが
取り付けられており、シャッターがストッパに当接する
際には、この緩衝ゴムが弾性変形することによりシャッ
ターの移動力が吸収されて衝撃が緩和されるようになっ
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
如きシャッターとこの移動を制限するストッパとの間に
緩衝ゴムを配置して衝撃を吸収する構成、換言すれば、
単なる緩衝ゴムから成るダンパー機構では、シャッター
の移動力を全て緩衝ゴムが受けその弾性力によってのみ
エネルギーを吸収する構成であるため、極めてダンピン
グ効果が小さく、このため、シャッターがストッパ(緩
衝ゴム)に当接した後にもシャッターが細かく振動して
スムースに停止し難かったり、ストッパに当接する際に
大きな衝撃音が発生する等の欠点があった。
【0006】この場合、オイルシリンダや緩衝バネ等か
ら成る複雑な構造のダンパーを用いたりソレノイドに代
えてスッテピングモータ等を用いたのでは、装置が大型
でコスト高になり、根本的な解決にはならない。
【0007】本発明は上記事実を考慮し、ダンピング効
果が大きく、焼付露光用の開口を開閉するために往復移
動するシャッターを、スムースに移動開始できると共に
衝撃音が発生することなくスムースかつ高精度に停止さ
せることができ、かつこれを簡単な構造により実現でき
るシャッター装置を得ることが目的である。
【0008】
【0009】
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項に係る発明のシ
ャッター装置は、ネガフィルムの画像を印画紙に焼付露
光するプリンタの焼付露光用開口を開閉可能なシャッタ
ーを有し、前記シャッターが駆動源によって駆動されて
一対のストッパにより設定された所定の範囲内で往復移
動し、前記焼付露光用開口を開閉するシャッター装置に
おいて、前記シャッターと相対移動可能に配置され、前
記往復移動するシヤッターと係合可能な一対の係合部を
有し、前記何れか一方の係合部が前記シャッターに係合
した状態では前記シャッターに押圧されて従動的に移動
すると共に前記一方のストッパに当接してその移動を阻
止され、かつ移動が阻止された状態では前記何れか他方
の係合部が前記他方のストッパから離間状態となる従動
部材と、前記シャッターと係合部との間、及び、前記係
合部とストッパとの間に設けられ、前記シャッターと従
動部材との衝撃、及び、前記従動部材とストッパとの衝
撃を吸収する緩衝材と、前記従動部材の移動軌跡に対向
して配置され、前記従動部材を磁力により吸引して前記
従動部材の移動力を吸収する磁力ブレーキ手段と、を有
することを特徴としている。
【0011】請求項に係る発明のシャッター装置は、
請求項記載のシャッター装置において、前記磁力ブレ
ーキ手段に代えて、前記従動部材を圧接させ前記従動部
材の移動力を滑り摩擦抵抗により吸収する摩擦ブレーキ
手段としたことを特徴としている。
【0012】請求項に係る発明のシャッター装置は、
請求項または請求項記載のシャッター装置におい
て、前記緩衝材の表面に、超高分子量の低摩擦係数材を
重ねて設けたことを特徴としている。
【0013】
【0014】
【0015】
【0016】
【0017】
【0018】
【0019】
【0020】
【0021】
【作用】請求項記載のシャッター装置では、シャッタ
ーが所定位置(例えば、焼付露光用の開口を閉鎖する位
置)に達すると、従動部材の一方の係合部に係合してこ
れを押圧し、従動部材がシャッターと共に移動される。
シャッターと共に従動的に移動する従動部材が一方のス
トッパに達すると、その移動が阻止されてシャッター及
び従動部材の移動が共に停止される。
【0022】ここで、従動部材は、磁力ブレーキ手段に
よって磁力により吸引されており、このため、従動部材
(シャッター)の移動力は磁力により消費吸収される。
したがって、シャッターが従動部材に係合して共に移動
した後は、シャッター及び従動部材はスムースに減速さ
れながら細かく振動することなく速やかに停止され、衝
撃音が発生することも無い。
【0023】また、シャッターと従動部材の係合部との
間、及び、従動部材の係合部とストッパとの間には緩衝
材が設けられているため、シャッターが従動部材に係合
する際、及び従動部材がストッパに当接する際の衝撃が
これによっても吸収され、一層効果的である。
【0024】さらにここで、シャッター及び従動部材が
一方のストッパにより停止した状態では、従動部材の他
方の係合部は他方のストッパから離間した状態となり、
次回のシャッターの移動停止のための待機状態となる。
すなわち、換言すれば、改めて停止位置のリセットを行
う必要は無い。
【0025】一方、シャッター及び従動部材が停止した
後に反対方向(すなわち、例えば焼付露光用の開口を開
放する方向)へ再び移動を開始する際には、シャッター
は従動部材と相対移動可能であるため、シャッターは従
動部材と速やかに分離しシャッターのみが移動される。
この場合には、磁力ブレーキ手段によるブレーキ力はシ
ャッターには及ばないため(従動部材にのみ作用してい
るため)、シャッターはスムースに移動され、磁力ブレ
ーキ手段の悪影響を受けることは無い。
【0026】シャッターが従動部材の他方の係合部に係
合した後は、前述と同様にスムースに減速されながら速
やかに停止される。これにより、例えば焼付露光用の開
口が開放された状態となる。
【0027】すなわち、上記構成のシャッター装置で
は、シャッターが従動部材に係合するまでの間(換言す
れば、シャッターが従動部材の一方の係合部から離間し
て移動を開始し、停止のために従動部材の他方の係合部
に係合するまでの間)は、他からの影響を受けることな
くスムースに移動し、さらに、シャッターが停止のため
に従動部材(係合部)に当接した後は、磁力ブレーキ手
段によって減速されながら速やかに停止される。さら
に、シャッターが停止した状態では、次回のシャッター
停止のための待機状態となり、改めてリセットする必要
がない。
【0028】このように、上記構成のシャッター装置で
は、焼付露光用の開口を開閉するために往復移動するシ
ャッターを、スムースに移動開始できると共に衝撃音が
発生することなくスムースかつ高精度に停止させること
ができ、かつこれを簡単な構造により実現できる。
【0029】請求項記載のシャッター装置では、従動
部材は、摩擦ブレーキ手段によって圧接されており、こ
のため、従動部材(シャッター)の移動力は滑り摩擦抵
抗により消費吸収される。したがって、シャッターが従
動部材に係合した後は、シャッター及び従動部材はスム
ースに減速されながら速やかに停止され、衝撃音が発生
することも無い。また、単に摩擦による移動力吸収機構
であるため、構造も簡単となり、一層効果的である。
【0030】請求項記載のシャッター装置では、緩衝
材の表面に超高分子量の低摩擦係数材が重ねて設けられ
ているため、従動部材が移動部材あるいはストッパに当
接し緩衝材が弾性変形して衝撃を吸収する際に、緩衝材
表面の擦れが減少され、このため緩衝材の耐久性が向上
する。
【0031】
【実施例】図6には、本発明の実施例に係るシャッター
装置50が適用されたプリンタ10の概略構成が示され
ている。
【0032】プリンタ10は外部がケーシング12で覆
われており、図6における左方にケーシング12から突
出する作業テーブル14を備えている。
【0033】作業テーブル14の上面にはネガフィルム
16がセットされるネガキャリア18が載置されてい
る。また、作業テーブル14の下方には光源部36が設
置されている。光源部36は、光源38、フィルタ部4
0及び拡散筒42を備えている。フィルタ部40はC、
M、Yの3枚のフィルタから構成され、各フィルタは光
線38の光軸上に出没可能とされている。光源38から
照射された光線は、フィルタ部40及び拡散筒42を介
してネガキャリア18にセットされたネガフィルム16
へ至る構成である。
【0034】一方、作業テーブル14の上方に位置する
アーム44には、光学系46が配置されている。光学系
46は、レンズ48、後に詳述するシャッター装置5
0、及び反射ミラー51を備えており、レンズ48及び
シャッター装置50は前記光源38から照射された光線
の光軸上に配置されている。ネガフィルム16を透過し
た光線はレンズ48及びシャッター装置50(その開
口)を通過し、反射ミラー51によって(光軸が略90
度)偏向され、露光室52にセットされた印画紙54上
にネガフィルム16の画像を結像させることができる。
【0035】また、光学系46はネガフィルム16の濃
度を測定する例えばCCD等の濃度測定器56を備えて
いる。この濃度測定器56は、図示しないコントローラ
に接続されており、濃度測定器56によって測定された
データ及び、作業者によりキー入力されたデータに基づ
いて、露光時の露光補正値が設定される。
【0036】一方、露光室52の上方右側部分の角部に
は、マガジン装着部60が設けられている。このマガジ
ン装着部60には、長尺状の印画紙54をリール62に
ロール状に巻き取って収容するペーパマガジン64が装
着されるようになっている。なお、ペーパマガジン64
は、収容される印画紙54の幅寸法が異なったものが複
数種類用意されており、所望により選択的に使用され
る。さらに、このマガジン装着部60にはマガジンセン
サ(図示省略)が配置されており、セットされたペーパ
マガジン64の種類(換言すれば、印画紙54の幅寸
法)を検出可能となっている。
【0037】マガジン装着部60の近傍には搬送ローラ
66が配置されており、印画紙54を挟持して水平状態
で露光室52へ搬送する。印画紙54はアーム44の手
前でローラ67に巻掛けられ、90度方向転換されて垂
下される。なお、搬送ローラ66とローラ67との間に
は印画紙を略U字状に案内してストックしておくストッ
ク部69が設けられている。
【0038】ローラ67による印画紙54の案内方向下
流側には、露光ステージ94が設けられている。この露
光ステージ94には、図示しない制御装置に接続されて
開閉される可変マスク95が設けられている。このた
め、制御装置により、プリントサイズ及びプリントの種
類(例えば白枠の有無)に応じて可変マスク95のマス
ク範囲の長さ寸法及び幅寸法が変更されるようになって
いる。
【0039】露光室52の露光位置の下方にはローラ6
8Aが配置されており、露光室52においてネガフィル
ム16の画像が焼付けられた印画紙54が略90度方向
転換されて搬送される。このローラ68Aの下流側に
は、カッタ71が配設されている。このカッタ71は、
焼付処理が終了した印画紙54の後端を切断する役目を
有しており、このため、露光室52内に残った印画紙5
4を再度ペーパマガジン64へ巻き戻すことができる。
【0040】ローラ68Aと水平方向に対向する位置に
はローラ68Bが配置されると共にローラ68Bの上側
方にはローラ68Cが配置されており、ローラ68Aと
ローラ68Bとの間にはリザーバー部73が設けられて
いる。リザーバー部73では、印画紙54をストックす
ることにより、焼付処理を行う露光ステージ94とその
後に現像、漂白定着、水洗の各処理を行い隣接するうプ
ロセッサ部との処理時間の差を吸収してプロセッサ部へ
搬送することができる。
【0041】ここで、図1には前述のシャッター装置5
0の一部破断及び分解した斜視図が示されており、さら
に、図2及び図3にはシャッター装置50の平面図、図
4には図2の4−4線に沿った断面図が示されている。
【0042】シャッター装置50においては、駆動源と
してのソレノイド92が基板94の裏面側に取り付けら
れている。ソレノイド92の回転軸93は、基板94を
貫通して上方へ突出しており、さらに、スプリングピン
96を介して軸受98が固定されている。この軸受98
にシャッター100が一体的に固定されている。このた
め、ソレノイド92が作動することによりシャッター1
00が回動し、基板94に形成された焼付露光用の開口
95に接離移動することができる。このシャッター10
0は、開口95に対応してそれよりも若干大きめに形成
されており、開口95に対向した状態では開口95を遮
断可能である。
【0043】また、軸受98にはアーム101がシャッ
ター100と同様に一体的に固定されている。このアー
ム101は、シャッター100と反対方向(基板94の
開口から離間する方向)へ向けて固定されており、常に
シャッター100と一体的に回動する。
【0044】シャッター100及びアーム101の取付
部分には、ダンパーの一部を構成し従動部材としての着
磁板102が取り付けられている。着磁板102は、扇
状に形成されると共に磁性体とされており、軸受98よ
りも下方の回転軸93にすべり軸受104を介して取り
付けられている。この着磁板102は、アーム101の
直下で基板94との間に位置しており、すべり軸受10
4を介して取り付けられることにより、回転軸93すな
わちシャッター100及びアーム101と相対回転可能
である。
【0045】着磁板102の扇形両端部には、軸10
6、108がそれぞれ上方へ向けて突出されており、さ
らに、各軸106、108にはリング状で緩衝材として
の防振ゴム110、112がそれぞれ取り付けられてい
る。これらの防振ゴム110、112は前述のアーム1
01に対応しており、シャッター100及びアーム10
1と着磁板102とが相対回動してその移動限に達した
際に、アーム101と当接可能となっている。すなわ
ち、アーム101は防振ゴム110、112のそれぞれ
に当接するまでの間で着磁板102と相対回動が可能で
あり、アーム101が各防振ゴム110、112に当接
した状態では、このアーム101によって着磁板102
が押圧されて、着磁板102がアーム101(シャッタ
ー100)と共に従動的に回動される構成である。
【0046】着磁板102の両側方の基板94には、一
対のストッパ114、116が配置されている。各スト
ッパ114、116は、それぞれ着磁板102の回動軌
跡上に位置して前記防振ゴム110、112にそれぞれ
対応しており、防振ゴム110、112が当接すること
により着磁板102の回動を制限している。すなわち、
着磁板102は、防振ゴム110がストッパ114に当
接する状態と、防振ゴム112がストッパ116に当接
する状態との間で回動が可能な構成である。
【0047】なお、着磁板102の回動範囲及びアーム
101の回動範囲は、シャッター100が開口95を遮
断する位置及びこれから完全に離脱する位置に対応して
設定されている。すなわち、アーム101が防振ゴム1
10に当接しかつ防振ゴム110がストッパ114に当
接した状態においてシャッター100が開口95を遮断
する位置に達し、アーム101が防振ゴム112に当接
しかつ防振ゴム112がストッパ116に当接した状態
においてシャッター100が開口95から完全に離脱す
る位置に達するように、ストッパ114、116の固定
位置や防振ゴム110、112の外径寸法等が設定され
ている。
【0048】また、着磁板102の裏面(すなわち、基
板94との間)には、磁力ブレーキ手段を構成する摺動
板118が一体的に固着されている。この摺動板118
は、基板94に接触可能であり、所定の摩擦係数を有し
ている。
【0049】さらに、基板94の裏面(すなわち、ソレ
ノイド92固定側)には、磁力ブレーキ手段を構成する
マグネット120がブラケット122によって取り付け
られている。マグネット120は、摺動板118(すな
わち、着磁板102)に対応しており、着磁板102を
基板94の方向へ磁力により吸引して、摺動板118を
基板94に圧接させている。
【0050】次に本実施例の作用を説明する。プリンタ
10では、焼付処理を実施する際には、光源38を点灯
し、ネガキャリア18を駆動してネガフィルム16の位
置決めを行う。次いで、濃度測定器56によりネガフィ
ルム16のLATD(平均透過濃度)を測定し、この測
定データ及び手動によりキー入力されたデータから露光
補正値を設定し、露光量(露光時間)を演算して、最適
なプリント条件を得る。
【0051】次に、印画紙54が露光室52へ搬送され
て露光ステージ94へ位置決めされ、シャッター装置5
0が作動する。すなわち、ソレノイド92が作動してシ
ャッター100が開放する。これにより、光源38が照
射する光線はフィルタ部40、ネガフィルム16を透過
して露光室52へ到達し、露光ステージ94に位置決め
された印画紙54にネガフィルム16上の画像の焼付け
が開始され、露光条件に従って前記光線の光軸上に位置
しているC、M、Yの各フィルタが移動される。所定の
露光時間が経過した後には、再びソレノイド92が作動
してシャッター100が閉止される。
【0052】以上でネガフィルム16の画像1コマ分の
焼付処理が終了する。これを繰り返すことにより、印画
紙54の焼付処理された部分が順次リザーバー部73へ
搬送され、このリザーバー部73で一旦ストックされた
後にプロセッサ部へ搬送される。
【0053】ここで、印画紙54にネガフィルム16の
画像の焼付露光を行う際に作動するシャッター装置50
の作動状態を、図5(A)乃至図5(E)に示す作動説
明図と共に説明する。
【0054】前述の如く、シャッター装置50のシャッ
ター100はソレノイド92の作動により回動される。
【0055】ここで、例えば、シャッター100が露光
用の開口95を遮断する状態(図2、図5(A)図示状
態)から離脱する方向へ移動して画像の焼付露光が可能
となる場合においては、シャッター100と共に一体的
に回動するアーム101は着磁板102と相対移動可能
であるため、図5(B)及び(C)に示す如く、アーム
101は着磁板102(防振ゴム112)と速やかに分
離しこのアーム101のみが移動される。この場合に
は、マグネット120による磁力はアーム101には及
ばないため(滑り摩擦抵抗は生じないため)、アーム1
01はスムースに移動され、マグネット120及び着磁
板102の悪影響を受けることは無い。
【0056】シャッター100と共に一体的に回動する
アーム101が所定位置に達すると、図5(D)に示す
如く、着磁板102の一方の防振ゴム110に当接して
(図3に二点鎖線にて示す位置)これを押圧し、着磁板
102がアーム101と共に移動される。アーム101
と共に従動的に移動する着磁板102(防振ゴム11
0)がストッパ114に達すると、図5(E)に示す如
く、その移動が阻止されてアーム101及び着磁板10
2の移動が共に停止される(図3図示状態)。これによ
り、シャッター100が露光用の開口95から離脱移動
して画像の焼付露光が可能となる。
【0057】この場合、着磁板102は、マグネット1
20によって磁力により吸引されて摺動板118が基板
94に圧接されており、このため、着磁板102(アー
ム101)の移動力は摺動板118と基板94との間の
滑り摩擦抵抗により消費吸収される。したがって、アー
ム101が着磁板102(防振ゴム110)に当接した
後は(すなわち、図5(D)の状態から図5(E)の状
態へ至る間は)、アーム101及び着磁板102はスム
ースに減速されながら速やかに停止され、衝撃音が発生
することも無い。
【0058】また、アーム101と着磁板102との
間、及び、着磁板102とストッパ114との間には防
振ゴム110が介在するため、アーム101が着磁板1
02を押圧する際、及び着磁板102がストッパ114
に達した際の衝撃がこれによっても吸収され、一層効果
的である。
【0059】さらにここで、アーム101及び着磁板1
02がストッパ114によって停止された状態(図3、
図5(E)の状態)では、着磁板102の他方の防振ゴ
ム112は、他方のストッパ116から離間した状態と
なり、次回のシャッター100(アーム101)の移動
停止のための待機状態となる。すなわち、換言すれば、
改めて停止位置のリセットを行う必要は無い。
【0060】一方、アーム101及び着磁板102がス
トッパ114によって停止されシャッター100が開口
95から離脱した後に、再びソレノイド92が作動して
シャッター100が露光用の開口95を遮断する位置へ
再び移動を開始する際には、アーム101は着磁板10
2と相対移動可能であるため、アーム101は着磁板1
02(防振ゴム110)と速やかに分離しこのアーム1
01のみが移動される。この場合には、マグネット12
0による磁力はアーム101には及ばないため(滑り摩
擦抵抗は生じないため)、アーム101はスムースに移
動され、マグネット120及び着磁板102の悪影響を
受けることは無い。
【0061】その後、シャッター100が露光用の開口
95を遮断する位置に達すると、前述と同様に、アーム
101が着磁板102の他方の防振ゴム112に当接し
て(図2に二点鎖線にて示す位置)これを押圧し、着磁
板102がアーム101と共に移動される。アーム10
1と共に従動的に移動する着磁板102(防振ゴム11
2)がストッパ116に達すると、その移動が阻止され
てアーム101及び着磁板102の移動が共に停止され
る(図2及び図5(A)図示状態)。これにより、シャ
ッター100が露光用の開口95を遮断して次回の焼付
露光の待機状態となる。
【0062】この場合にも、着磁板102はマグネット
120によって磁力により吸引されて摺動板118が基
板94に圧接されており、着磁板102(アーム10
1)の移動力は摺動板118と基板94との間の滑り摩
擦抵抗により消費吸収される。したがって、アーム10
1が着磁板102(防振ゴム112)に当接した後は、
アーム101及び着磁板102はスムースに減速されな
がら速やかに停止され、衝撃音が発生することも無い。
【0063】さらに、防振ゴム112が介在することに
より、アーム101が着磁板102を押圧する際、及び
着磁板102がストッパ116に達した際の衝撃がこれ
によっても吸収され、一層効果的である。
【0064】またこの場合にも、アーム101及び着磁
板102がストッパ116によって停止された状態で
は、着磁板102の一方の防振ゴム110は、一方のス
トッパ114から離間した状態となり、次回のシャッタ
ー100(アーム101)の移動停止のための待機状態
となる。すなわち、この場合にも改めて停止位置のリセ
ットを行う必要は無い。
【0065】以後は、順次前述の作動が繰り返される。
すなわち、上記構成のシャッター装置50では、アーム
101が着磁板102(防振ゴム110、112)に当
接するまでの間(換言すれば、アーム101が移動を開
始してから停止のために着磁板102の防振ゴム11
0、112に当接するまでの間)は、他からの影響を受
けることなくスムースに移動し、さらに、アーム101
が停止のために着磁板102(防振ゴム110、11
2)に当接した後は、マグネット120の磁力により発
生する摺動板118と基板との間の滑り摩擦抵抗によっ
て減速されながら速やかに停止される。
【0066】さらに、シャッター100(アーム10
1)が停止した状態では、着磁板102の防振ゴム11
0、112のうちの何れか一方が、ストッパ114、1
16のうちの何れか一方から離間した状態となり、次回
のシャッター100(アーム101)の移動停止のため
の待機状態となり、改めて停止位置のリセットを行う必
要が無い。
【0067】このように、上記構成のシャッター装置5
0では、露光用の開口95を開閉するために往復移動す
るシャッター100(アーム101)を、スムースに移
動開始できると共に衝撃音が発生することなくスムース
かつ高精度に停止させることができ、かつこれを簡単な
構造により実現できる。
【0068】なお、前記実施例においては、ダンパーを
構成し従動部材としての着磁板102に対向して、磁力
ブレーキ手段を構成するマグネット120を配置した構
成としたが、これに限らず、着磁板102自体にマグネ
ットを取り付け、磁力により基板94に圧接させる構成
としてもよい。
【0069】また、前記実施例においては、着磁板10
2やマグネット120により構成される磁力ブレーキ手
段により、着磁板102を基板94の方向へ磁力により
吸引して摺動板118を基板94に圧接させて滑り摩擦
抵抗により移動力を吸収する構成としたが、これに限ら
ず、磁力のみにより、あるいは摩擦抵抗のみにより移動
力を吸収する構成としてもよい。すなわち、例えば、摺
動板118を省略して着磁板102を基板94から僅か
に離間して配置し、その移動力を磁力のみによって吸収
するようにしてもよく、また、マグネット120を省略
しスプリング等により常時摺動板118を基板94に圧
接させて滑り摩擦抵抗により移動力を吸収するようにし
てもよい。
【0070】さらに、前記実施例においては、アーム1
01あるいはストッパ114、116に当接し着磁板1
02の軸106、108に取り付けられた緩衝材として
の防振ゴム110、112は、単にリング状に形成され
そのゴム表面が露出する構成としたが、これに限らず、
この緩衝材としての防振ゴム110、112の表面に、
超高分子量の低摩擦係数材を重ねて設けた構成としても
よい。
【0071】例えば、図7に示す緩衝材としての防振ゴ
ム130、132の如く、その表面に、肉厚寸法0.3
mm程度で超高分子量PEシートまたはテフロンシート
等の滑り易い材料Sを重ねて設けた構成としてもよい。
この場合には、防振ゴム130、132(材料S)がア
ーム101あるいはストッパ114、116に当接し防
振ゴム130、132が弾性変形して衝撃を吸収する際
に、防振ゴム130、132表面の擦れが減少される。
したがって、防振ゴム130、132表面の耐久性が大
幅に(例えば、5倍以上)向上する。すなわち、前記超
高分子量PEシート等の超高分子量の低摩擦係数材を重
ねて設けた構成とすることにより、弾性変形により衝撃
力を吸収する防振ゴム130、132のゴム特性を損な
うことなく、衝撃面の耐久性を向上させることができ
る。
【0072】さらに、前記実施例においては、ダンパー
を構成し従動部材としての着磁板102を、移動部材と
してのアーム101(シャッター100)と同軸的に配
置し、アーム101と同様に回動する構成としたが、こ
れに限らず、この着磁板102をアーム101とは分離
独立すると共に直線的に移動可能に配置する構成として
もよい。この場合であっても、アーム101(シャッタ
ー100)を停止させる際には、その移動力を消散吸収
しながら速やかに停止させることができる。
【0073】またさらに、前記実施例においては、印画
紙54に画像を焼付露光するプリンタ10の露光用開口
95を開閉するために用いられダンパー機能を有したシ
ャッター装置50について説明したが、本発明はこれに
限らず、他の装置への適用も当然に可能であり、移動す
るシャッターを衝撃音が発生することなくスムースに停
止させる必要があれば適宜用いることができる。
【0074】
【発明の効果】以上説明した如く本発明は以下の効果を
有している。
【0075】
【0076】
【0077】請求項記載のシャッター装置では、焼付
露光用の開口を開閉するために往復移動するシャッター
を、スムースに移動開始できると共に衝撃音が発生する
ことなくスムースかつ高精度に停止させることができ、
さらに改めて停止位置のリセットを行う必要が無く、か
つこれを簡単な構造により実現できる。
【0078】請求項記載のシャッター装置では、シャ
ッターを衝撃音が発生すること無くスムースかつ高精度
に停止させることができ、構造も簡単となる。
【0079】請求項記載のシャッター装置では、従動
部材が移動部材あるいはストッパに当接し緩衝材が弾性
変形して衝撃を吸収する際に緩衝材表面の擦れが減少さ
れ、緩衝材の耐久性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係るダンパー機能を有したシ
ャッター装置の一部破断した斜視図である。
【図2】本発明の実施例に係るシャッター装置の開口遮
断状態を示す平面図である。
【図3】本発明の実施例に係るシャッター装置の開口離
脱状態を示す平面図である。
【図4】図2の4−4線に沿った断面図である。
【図5】(A)乃至(E)はシャッター装置のシャッタ
ーの移動状態を示す概略平面図である。
【図6】本発明の実施例に係るシャッター装置が適用さ
れたプリンタの概略全体構成図である。
【図7】緩衝材としての防振ゴムの表面に低摩擦係数材
を貼着した構成を示す平面図である。
【符号の説明】
10 プリンタ 50 シャッター装置 92 ソレノイド(駆動源) 94 基板 100 シャッター 101 アーム(移動部材) 102 着磁板(従動部材) 110 防振ゴム(緩衝材) 112 防振ゴム(緩衝材) 114 ストッパ 116 ストッパ 118 摺動板(磁力ブレーキ手段) 120 マグネット(磁力ブレーキ手段)
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03B 27/32 F16F 7/00 G03B 9/08 G03B 27/52

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ネガフィルムの画像を印画紙に焼付露光
    するプリンタの焼付露光用開口を開閉可能なシャッター
    を有し、前記シャッターが駆動源によって駆動されて一
    対のストッパにより設定された所定の範囲内で往復移動
    し、前記焼付露光用開口を開閉するシャッター装置にお
    いて、 前記シャッターと相対移動可能に配置され、前記往復移
    動するシヤッターと係合可能な一対の係合部を有し、前
    記何れか一方の係合部が前記シャッターに係合した状態
    では前記シャッターに押圧されて従動的に移動すると共
    に前記一方のストッパに当接してその移動を阻止され、
    かつ移動が阻止された状態では前記何れか他方の係合部
    が前記他方のストッパから離間状態となる従動部材と、 前記シャッターと係合部との間、及び、前記係合部とス
    トッパとの間に設けられ、前記シャッターと従動部材と
    の衝撃、及び、前記従動部材とストッパとの衝撃を吸収
    する緩衝材と、 前記従動部材の移動軌跡に対向して配置され、前記従動
    部材を磁力により吸引して前記従動部材の移動力を吸収
    する磁力ブレーキ手段と、 を有することを特徴とするシャッター装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のシャッター装置におい
    て、前記磁力ブレーキ手段に代えて、前記従動部材を圧
    接させ前記従動部材の移動力を滑り摩擦抵抗により吸収
    する摩擦ブレーキ手段としたことを特徴とするシャッタ
    ー装置。
  3. 【請求項3】 前記緩衝材の表面に、超高分子量の低摩
    擦係数材を重ねて設けたことを特徴とする請求項1また
    は請求項2記載のシャッター装置。
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