JP3173201B2 - 被処理物保持装置 - Google Patents
被処理物保持装置Info
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- JP3173201B2 JP3173201B2 JP199693A JP199693A JP3173201B2 JP 3173201 B2 JP3173201 B2 JP 3173201B2 JP 199693 A JP199693 A JP 199693A JP 199693 A JP199693 A JP 199693A JP 3173201 B2 JP3173201 B2 JP 3173201B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体デバイス
基板のような被処理物上に膜を形成する成膜装置、かか
る被処理物表面又はその上の膜をエッチングするエッチ
ング装置等において該被処理物を所定位置に保持する装
置に関する。
基板のような被処理物上に膜を形成する成膜装置、かか
る被処理物表面又はその上の膜をエッチングするエッチ
ング装置等において該被処理物を所定位置に保持する装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば真空容器内の所定位置に保持装置
にて被処理物を保持し、該真空容器内に導入した成膜用
やエッチング用の処理用ガスをプラズマ化し、該プラズ
マに被処理物を曝すことで該被処理物に目的とする成膜
処理やエッチング処理を施すプラズマ処理装置等では、
前記保持装置として、図３に示す如きものが多用されて
いる。
にて被処理物を保持し、該真空容器内に導入した成膜用
やエッチング用の処理用ガスをプラズマ化し、該プラズ
マに被処理物を曝すことで該被処理物に目的とする成膜
処理やエッチング処理を施すプラズマ処理装置等では、
前記保持装置として、図３に示す如きものが多用されて
いる。
【０００３】図３の保持装置は、被処理物Ｓを載置する
支持台１と、支持台１上に載置される被処理物Ｓの周縁
部を支持台１に押圧固定するためのリング形状のクラン
プリング部材２と、該クランプリング部材２を被処理物
固定位置又は該位置から後退した上昇位置へ選択的に移
動させるピストンシリンダ装置３を備えている。ピスト
ンシリンダ装置３は通常、一台設けられ、そのピストン
ロッド３１がクランプリング部材の一部に連結され、シ
リンダ部３２は定位置に支持される。
支持台１と、支持台１上に載置される被処理物Ｓの周縁
部を支持台１に押圧固定するためのリング形状のクラン
プリング部材２と、該クランプリング部材２を被処理物
固定位置又は該位置から後退した上昇位置へ選択的に移
動させるピストンシリンダ装置３を備えている。ピスト
ンシリンダ装置３は通常、一台設けられ、そのピストン
ロッド３１がクランプリング部材の一部に連結され、シ
リンダ部３２は定位置に支持される。
【０００４】この保持装置によると、クランプリング部
材２がピストンシリンダ装置３にて支持台１から上昇後
退せしめられた状態で支持台１上に半導体ウェーハのよ
うな被処理物Ｓが載置される。そのあと、クランプリン
グ部材２がピストンシリンダ装置３により下降せしめら
れて被処理物Ｓの周縁部を支持台１に押圧固定する。こ
の状態で該被処理物Ｓに目的とする処理が施される。
材２がピストンシリンダ装置３にて支持台１から上昇後
退せしめられた状態で支持台１上に半導体ウェーハのよ
うな被処理物Ｓが載置される。そのあと、クランプリン
グ部材２がピストンシリンダ装置３により下降せしめら
れて被処理物Ｓの周縁部を支持台１に押圧固定する。こ
の状態で該被処理物Ｓに目的とする処理が施される。
【０００５】このように被処理物Ｓを支持台１に押圧固
定するのは、一つには該被処理物を定位置に動かないよ
うに安定配置するためである。また、支持台１がヒータ
で加熱され、或いは冷却水等の循環により冷却されて温
度制御され、この温度制御された支持台１をもって被処
理物Ｓを処理温度に制御するときには、被処理物Ｓをで
きるだけ支持台１表面に密着させることが有利だからで
ある。
定するのは、一つには該被処理物を定位置に動かないよ
うに安定配置するためである。また、支持台１がヒータ
で加熱され、或いは冷却水等の循環により冷却されて温
度制御され、この温度制御された支持台１をもって被処
理物Ｓを処理温度に制御するときには、被処理物Ｓをで
きるだけ支持台１表面に密着させることが有利だからで
ある。
【０００６】また、特公平２−２７７７８号公報に開示
されているように、図４に示す如く、支持台１とその上
の被処理物Ｓとの間に窒素ガス（Ｎ2 ）、ヘリウムガス
（Ｈｅ）、ネオンガス（Ｎｅ）、水素ガス（Ｈ2 ）等の
温度制御用ガスＧを供給して支持台１からの被処理物Ｓ
の温度制御をより正確に行おうとする場合には、被処理
物Ｓの周縁部と支持台１との間に装着されるガス漏れシ
ール材（例えばオーリング）４を被処理物Ｓと支持台１
との間にしっかりと挟着しなければならないからであ
る。
されているように、図４に示す如く、支持台１とその上
の被処理物Ｓとの間に窒素ガス（Ｎ2 ）、ヘリウムガス
（Ｈｅ）、ネオンガス（Ｎｅ）、水素ガス（Ｈ2 ）等の
温度制御用ガスＧを供給して支持台１からの被処理物Ｓ
の温度制御をより正確に行おうとする場合には、被処理
物Ｓの周縁部と支持台１との間に装着されるガス漏れシ
ール材（例えばオーリング）４を被処理物Ｓと支持台１
との間にしっかりと挟着しなければならないからであ
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来保持装置によると、クランプリング部材２の駆動手
段は該部材の一部に連結された一台のピストンシリンダ
装置３だけであるから、この駆動装置３により被処理物
Ｓに圧接されるクランプリング部材２は支持台１と平行
になり難く、そのため被処理物Ｓの周縁各部を支持台１
に均一に押圧固定し難い。その結果、被処理物Ｓの設置
が不安定となり、また、温度制御された支持台１から被
処理物Ｓの温度を制御しようとするときには、それが正
確に行えなくなったり、前述のように温度制御用ガスを
用いて被処理物Ｓの温度を制御しようとするときには、
ガス漏れが発生して所期の効果が得られない等の不都合
が生じる。
従来保持装置によると、クランプリング部材２の駆動手
段は該部材の一部に連結された一台のピストンシリンダ
装置３だけであるから、この駆動装置３により被処理物
Ｓに圧接されるクランプリング部材２は支持台１と平行
になり難く、そのため被処理物Ｓの周縁各部を支持台１
に均一に押圧固定し難い。その結果、被処理物Ｓの設置
が不安定となり、また、温度制御された支持台１から被
処理物Ｓの温度を制御しようとするときには、それが正
確に行えなくなったり、前述のように温度制御用ガスを
用いて被処理物Ｓの温度を制御しようとするときには、
ガス漏れが発生して所期の効果が得られない等の不都合
が生じる。
【０００８】この問題を解決する手段として、ピストン
シリンダ装置３を対称的に複数台設けることも考えられ
るが、ピストンストロークを調整するなどして、それら
複数の装置３を均等に動作させなければならず、その動
作を制御するのに手間を要したり、装置構造が複雑、高
価になる等の新たな問題が発生する。さらに、各装置３
の動作のバラつきを補償するためには一部の装置３によ
る押圧力を高めなければならないことが多く、その結
果、被処理物Ｓの破損を招くことになる。
シリンダ装置３を対称的に複数台設けることも考えられ
るが、ピストンストロークを調整するなどして、それら
複数の装置３を均等に動作させなければならず、その動
作を制御するのに手間を要したり、装置構造が複雑、高
価になる等の新たな問題が発生する。さらに、各装置３
の動作のバラつきを補償するためには一部の装置３によ
る押圧力を高めなければならないことが多く、その結
果、被処理物Ｓの破損を招くことになる。
【０００９】そこで本発明は、被処理物をかかる従来保
持装置に比べると定位置に安定的に確実に保持でき、ま
た、簡単容易に、そして被処理物破損の恐れ無く安全に
保持できる構造簡単な被処理物保持装置を提供すること
を課題とする。
持装置に比べると定位置に安定的に確実に保持でき、ま
た、簡単容易に、そして被処理物破損の恐れ無く安全に
保持できる構造簡単な被処理物保持装置を提供すること
を課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の保持装置は、被処理物を載置する支持台と、前記支
持台上に載置される被処理物を該支持台に押圧固定する
ためのクランプリング部と、前記クランプリング部を支
持する支持部と、前記支持部に連結され、前記クランプ
リング部を前記支持部を介して被処理物固定位置又は該
位置から後退した位置へ移動させる駆動手段とを備え、
前記クランプリング部は同心リング状に配置された大き
さが順次異なる少なくとも二つのリング形状クランプリ
ング部材を含み、前記クランプリング部材のうち一番外
側のものは前記支持部に回動自在に支持されており、該
一番外側のものより内側の各クランプリング部材はそれ
より一つ外側のクランプリング部材に回動自在に支持さ
れており、少なくとも二つのクランプリング部材は互い
に直交する軸線周りにそれぞれ回動自在とされているこ
とを特徴とする。
明の保持装置は、被処理物を載置する支持台と、前記支
持台上に載置される被処理物を該支持台に押圧固定する
ためのクランプリング部と、前記クランプリング部を支
持する支持部と、前記支持部に連結され、前記クランプ
リング部を前記支持部を介して被処理物固定位置又は該
位置から後退した位置へ移動させる駆動手段とを備え、
前記クランプリング部は同心リング状に配置された大き
さが順次異なる少なくとも二つのリング形状クランプリ
ング部材を含み、前記クランプリング部材のうち一番外
側のものは前記支持部に回動自在に支持されており、該
一番外側のものより内側の各クランプリング部材はそれ
より一つ外側のクランプリング部材に回動自在に支持さ
れており、少なくとも二つのクランプリング部材は互い
に直交する軸線周りにそれぞれ回動自在とされているこ
とを特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明の被処理物保持装置によると、被処理物
は支持台上に載置される。しかるのち、クランプリング
部全体がその駆動手段により被処理物固定位置へ向け駆
動され、被処理物が該クランプリング部により支持台に
押圧固定される。この押圧固定状態で被処理物は目的と
する処理を施され、該処理が終了すると、クランプリン
グ部がその駆動手段により支持台から後退せしめられ、
被処理物が支持台から取り外される。
は支持台上に載置される。しかるのち、クランプリング
部全体がその駆動手段により被処理物固定位置へ向け駆
動され、被処理物が該クランプリング部により支持台に
押圧固定される。この押圧固定状態で被処理物は目的と
する処理を施され、該処理が終了すると、クランプリン
グ部がその駆動手段により支持台から後退せしめられ、
被処理物が支持台から取り外される。
【００１２】クランプリング部を構成している複数のリ
ング形状クランプリング部材のうち一番外側のものはク
ランプリング部の支持部に回動自在に支持されるととも
に、一番外側のものより内側の各クランプリング部材は
それより一つ外側のクランプリング部材に回動自在に支
持されているので、これらクランプリング部材がそれぞ
れ被処理物からの抵抗によりその回動軸線周りに自由に
回動傾斜でき、さらに、少なくとも二つのクランプリン
グ部材は互いに直交する軸線周りにそれぞれ回動自在と
されているので、被処理物全体がこれらクランプリング
部材により破損の恐れのない適度の押圧力のもとに安
定、確実に支持台に固定される。
ング形状クランプリング部材のうち一番外側のものはク
ランプリング部の支持部に回動自在に支持されるととも
に、一番外側のものより内側の各クランプリング部材は
それより一つ外側のクランプリング部材に回動自在に支
持されているので、これらクランプリング部材がそれぞ
れ被処理物からの抵抗によりその回動軸線周りに自由に
回動傾斜でき、さらに、少なくとも二つのクランプリン
グ部材は互いに直交する軸線周りにそれぞれ回動自在と
されているので、被処理物全体がこれらクランプリング
部材により破損の恐れのない適度の押圧力のもとに安
定、確実に支持台に固定される。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本発明の１実施例を採用したエッチング装
置を示している。図１のエッチング装置はプラズマによ
るドライエッチング装置であり、真空処理容器５を備
え、この中に半導体デバイス基板（ウェーハ）Ｓを載置
する支持台１を備えている。支持台１の上方には電極６
が配置してある。支持台１は高周波電極を兼ねるもの
で、マッチングボックス７１を介して高周波電源７２に
接続されている。上部電極６は接地されている。
する。図１は本発明の１実施例を採用したエッチング装
置を示している。図１のエッチング装置はプラズマによ
るドライエッチング装置であり、真空処理容器５を備
え、この中に半導体デバイス基板（ウェーハ）Ｓを載置
する支持台１を備えている。支持台１の上方には電極６
が配置してある。支持台１は高周波電極を兼ねるもの
で、マッチングボックス７１を介して高周波電源７２に
接続されている。上部電極６は接地されている。
【００１４】支持台１中には図示しない冷媒通路が形成
されており、この通路にチラー１０が配管接続されてい
る。チラー１０は一定温度の冷媒を支持台１に循環させ
る。また、支持台１にはその下面から上面へ貫通するガ
ス流入孔１ａ及び上面から下面へ貫通するガス流出孔１
ｂが形成してあり、ガス流入孔１ａには温度制御用ガス
供給装置９が配管接続されている。このガスは本例では
ヘリゥム（Ｈｅ）ガスである。ガス流出孔１ｂには容器
５外へ延びるガス流出管１ｃが接続してある。
されており、この通路にチラー１０が配管接続されてい
る。チラー１０は一定温度の冷媒を支持台１に循環させ
る。また、支持台１にはその下面から上面へ貫通するガ
ス流入孔１ａ及び上面から下面へ貫通するガス流出孔１
ｂが形成してあり、ガス流入孔１ａには温度制御用ガス
供給装置９が配管接続されている。このガスは本例では
ヘリゥム（Ｈｅ）ガスである。ガス流出孔１ｂには容器
５外へ延びるガス流出管１ｃが接続してある。
【００１５】支持台１の上方にはクランプリング部２Ａ
と該クランプリング部を支持する支持部２０とが配置し
てある。この支持部２０は、図２に示すように、それに
限定される必要はないが、本例では円形リング形状をし
ており、支持部２０の一か所がピストンシリンダ装置３
のピストンロッド３１に連結され、支持されており、ピ
ストンシリンダ装置３のシリンダ部３２は容器５に支持
されている。また、クランプリング部２Ａの下方におい
て支持台１上にガス漏れ防止用のオーリング４が配置し
てある。
と該クランプリング部を支持する支持部２０とが配置し
てある。この支持部２０は、図２に示すように、それに
限定される必要はないが、本例では円形リング形状をし
ており、支持部２０の一か所がピストンシリンダ装置３
のピストンロッド３１に連結され、支持されており、ピ
ストンシリンダ装置３のシリンダ部３２は容器５に支持
されている。また、クランプリング部２Ａの下方におい
て支持台１上にガス漏れ防止用のオーリング４が配置し
てある。
【００１６】クランプリング部２Ａは、同心リング状に
配置された、大きさが順次異なる、下面平坦な二つのリ
ング形状クランプリング部材２１、２２を含み、このク
ランプリング部材のうち外側のもの２１は、この部材の
直径方向に延びる、そして支持台１の上面と平行又は略
平行な一対の軸２１ａにて支持部２０に回動自在に支持
されている。また、内側のもの２２は、この部材の直径
方向に延びる、そして支持台１の上面と平行又は略平行
な一対の軸２２ａにて外側のクランプリング部材２１に
回動自在に支持されている。
配置された、大きさが順次異なる、下面平坦な二つのリ
ング形状クランプリング部材２１、２２を含み、このク
ランプリング部材のうち外側のもの２１は、この部材の
直径方向に延びる、そして支持台１の上面と平行又は略
平行な一対の軸２１ａにて支持部２０に回動自在に支持
されている。また、内側のもの２２は、この部材の直径
方向に延びる、そして支持台１の上面と平行又は略平行
な一対の軸２２ａにて外側のクランプリング部材２１に
回動自在に支持されている。
【００１７】これらクランプリング部材２１、２２はそ
の下面を同一面に配置できるように高さ位置を定められ
ている。さらに、一対の軸２１ａは一直線上にあり、一
対の軸２２ａも一直線上にある。そして、軸２１ａと軸
２２ａとは互いに直交する方向に配置されている。さら
に、各軸２２ａの支持部２０上での位置は、ピストンシ
リンダ装置３のロッド３１の連結位置から等距離にあ
る。
の下面を同一面に配置できるように高さ位置を定められ
ている。さらに、一対の軸２１ａは一直線上にあり、一
対の軸２２ａも一直線上にある。そして、軸２１ａと軸
２２ａとは互いに直交する方向に配置されている。さら
に、各軸２２ａの支持部２０上での位置は、ピストンシ
リンダ装置３のロッド３１の連結位置から等距離にあ
る。
【００１８】真空容器５にはエッチング処理用ガス供給
装置８を配管接続してある。また、容器５には排気装置
５０も接続してある。前記エッチング装置によると、容
器５が開けられ、ウェーハＳが支持台１の上に載置され
る。次いでピストンシリンダ装置３によりクランプリン
グ部２Ａの支持部２０がウエーハＳへ向け駆動され、こ
れに伴ってクランプリング部２ＡもウエーハＳの方へ駆
動される。かくしてウエーハＳの周縁部がクランプリン
グ部２Ａにより支持台１上に押圧固定される。
装置８を配管接続してある。また、容器５には排気装置
５０も接続してある。前記エッチング装置によると、容
器５が開けられ、ウェーハＳが支持台１の上に載置され
る。次いでピストンシリンダ装置３によりクランプリン
グ部２Ａの支持部２０がウエーハＳへ向け駆動され、こ
れに伴ってクランプリング部２ＡもウエーハＳの方へ駆
動される。かくしてウエーハＳの周縁部がクランプリン
グ部２Ａにより支持台１上に押圧固定される。
【００１９】ウエーハＳの押圧固定に際し、クランプリ
ング部２Ａを構成しているリング形状クランプリング部
材２１、２２のうち外側のもの２１は支持部２０に回動
自在に支持されるとともに、内側のもの２２は外側のク
ランプリング部材２１に回動自在に支持されているの
で、これらクランプリング部材２１、２２がそれぞれウ
エーハＳからの抵抗によりその回動軸２１ａ、２２ａを
中心に自由に回動傾斜でき、さらに、クランプリング部
材２１、２２は互いに直交する軸２１ａ、２２ａを中心
にそれぞれ回動自在とされているので、ウエーハＳ全体
がこれらクランプリング部材２１、２２により破損の恐
れのない適度の押圧力のもとに安定、確実に支持台１に
固定される。また、この状態でウエーハＳの周縁部全体
と支持台１との間にガス漏れが生じないようにオーリン
グ４がしっかりと挟着される。この状態でエッチング処
理が開始される。
ング部２Ａを構成しているリング形状クランプリング部
材２１、２２のうち外側のもの２１は支持部２０に回動
自在に支持されるとともに、内側のもの２２は外側のク
ランプリング部材２１に回動自在に支持されているの
で、これらクランプリング部材２１、２２がそれぞれウ
エーハＳからの抵抗によりその回動軸２１ａ、２２ａを
中心に自由に回動傾斜でき、さらに、クランプリング部
材２１、２２は互いに直交する軸２１ａ、２２ａを中心
にそれぞれ回動自在とされているので、ウエーハＳ全体
がこれらクランプリング部材２１、２２により破損の恐
れのない適度の押圧力のもとに安定、確実に支持台１に
固定される。また、この状態でウエーハＳの周縁部全体
と支持台１との間にガス漏れが生じないようにオーリン
グ４がしっかりと挟着される。この状態でエッチング処
理が開始される。
【００２０】このエッチング処理は、真空容器５を排気
装置５０にて所定エッチング処理真空度に排気しつつ処
理用ガス供給装置８から処理用ガスを容器５内に導入
し、高周波電極を兼ねる支持台１に電源７２から高周波
電力を印加し、該導入ガスをプラズマ化し、このブラズ
マにウエーハＳを曝すことで行われる。また、このエッ
チング処理中、支持台１はチラー１０にて温度制御され
るとともに、温度制御用ガス供給装置９から温度制御用
のＨｅガスが支持台１とウエーハＳとの間に供給され、
このＨｅガスを仲立ちとしてウエーハＳが支持台１から
所定温度に制御される。
装置５０にて所定エッチング処理真空度に排気しつつ処
理用ガス供給装置８から処理用ガスを容器５内に導入
し、高周波電極を兼ねる支持台１に電源７２から高周波
電力を印加し、該導入ガスをプラズマ化し、このブラズ
マにウエーハＳを曝すことで行われる。また、このエッ
チング処理中、支持台１はチラー１０にて温度制御され
るとともに、温度制御用ガス供給装置９から温度制御用
のＨｅガスが支持台１とウエーハＳとの間に供給され、
このＨｅガスを仲立ちとしてウエーハＳが支持台１から
所定温度に制御される。
【００２１】エッチング処理終了後は、クランプリング
部２Ａがピストンシリンダ装置３により支持台１から後
退せしめられ、該支持台からウエーハＳが取り外され
る。本発明は前記実施例に限定されるものではなく他に
も様々の態様で実施できる。例えば、図２に２点鎖線で
示すように、クランプリング部材２２のさらに内側に１
又は２以上の大きさが順次異なるクランプリング部材２
３、２４等を配置し、部材２３を一対の軸２３ａにて部
材２２に、部材２４を一対の軸２４ａにて部材２３にそ
れぞれ回動自在に支持させてもよい。この場合、軸２３
ａは軸２１ａと軸２２ａとがなす９０度の角度を２分す
る４５度の方向とし、軸２４ａは軸２３ａに対し９０度
の方向とすることが望ましい。要するに前記実施例にク
ランプリング部材を追加するときは、２n （ｎ＝１、
２、３・・・）ずつ追加することが望ましく、さらに、
その回動軸線の方向は、全体の円を軸２１ａ、２２ａと
ともに８等分、１６等分・・・・することが望ましい。
部２Ａがピストンシリンダ装置３により支持台１から後
退せしめられ、該支持台からウエーハＳが取り外され
る。本発明は前記実施例に限定されるものではなく他に
も様々の態様で実施できる。例えば、図２に２点鎖線で
示すように、クランプリング部材２２のさらに内側に１
又は２以上の大きさが順次異なるクランプリング部材２
３、２４等を配置し、部材２３を一対の軸２３ａにて部
材２２に、部材２４を一対の軸２４ａにて部材２３にそ
れぞれ回動自在に支持させてもよい。この場合、軸２３
ａは軸２１ａと軸２２ａとがなす９０度の角度を２分す
る４５度の方向とし、軸２４ａは軸２３ａに対し９０度
の方向とすることが望ましい。要するに前記実施例にク
ランプリング部材を追加するときは、２n （ｎ＝１、
２、３・・・）ずつ追加することが望ましく、さらに、
その回動軸線の方向は、全体の円を軸２１ａ、２２ａと
ともに８等分、１６等分・・・・することが望ましい。
【００２２】なお、本発明は以上説明したエッチング装
置だけでなく、所定真空下で化学的又は（及び）物理的
に被処理物に目的とする処理を施す各種真空処理装置等
に採用できる。
置だけでなく、所定真空下で化学的又は（及び）物理的
に被処理物に目的とする処理を施す各種真空処理装置等
に採用できる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によると、従
来保持装置に比べて被処理物を定位置に安定的に確実に
保持でき、また、簡単容易に、そして被処理物破損の恐
れ無く安全に保持できる構造簡単な被処理物保持装置を
提供することができる。
来保持装置に比べて被処理物を定位置に安定的に確実に
保持でき、また、簡単容易に、そして被処理物破損の恐
れ無く安全に保持できる構造簡単な被処理物保持装置を
提供することができる。
【図１】本発明の１実施例を採用したエッチング装置の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図２】図１に示された保持装置の平面図である。
【図３】保持装置の従来例を示す図である。
【図４】保持装置の他の従来例を示す図である。
１ 支持台 ２Ａ クランプリング部 ２１、２２、２３、２４ クランプリング部材 ２１ａ、２２ａ、２３ａ、２４ａ クランプリング部材
の回動軸 ２０ クランプリング部２Ａの支持部 ３ ピストンシリンダ装置 ３１ ピストンロッド ３２ シリンダ部
の回動軸 ２０ クランプリング部２Ａの支持部 ３ ピストンシリンダ装置 ３１ ピストンロッド ３２ シリンダ部
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/205 H01L 21/3065 H01L 21/68
Claims (1)
- 【請求項１】 被処理物を載置する支持台と、前記支持
台上に載置される被処理物を該支持台に押圧固定するた
めのクランプリング部と、前記クランプリング部を支持
する支持部と、前記支持部に連結され、前記クランプリ
ング部を前記支持部を介して被処理物固定位置又は該位
置から後退した位置へ移動させる駆動手段とを備え、前
記クランプリング部は同心リング状に配置された大きさ
が順次異なる少なくとも二つのリング形状クランプリン
グ部材を含み、前記クランプリング部材のうち一番外側
のものは前記支持部に回動自在に支持されており、該一
番外側のものより内側の各クランプリング部材はそれよ
り一つ外側のクランプリング部材に回動自在に支持され
ており、少なくとも二つのクランプリング部材は互いに
直交する軸線周りにそれぞれ回動自在とされていること
を特徴とする被処理物保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP199693A JP3173201B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 被処理物保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP199693A JP3173201B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 被処理物保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06208957A JPH06208957A (ja) | 1994-07-26 |
| JP3173201B2 true JP3173201B2 (ja) | 2001-06-04 |
Family
ID=11517068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP199693A Expired - Fee Related JP3173201B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 被処理物保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3173201B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2515743A (en) * | 2013-07-01 | 2015-01-07 | Leec Ltd | A cadaver carrier transfer apparatus |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102637744B1 (ko) * | 2021-09-30 | 2024-02-19 | 주식회사 나이스플라즈마 | 클램프 링이 구비된 클램프 척 |
-
1993
- 1993-01-08 JP JP199693A patent/JP3173201B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2515743A (en) * | 2013-07-01 | 2015-01-07 | Leec Ltd | A cadaver carrier transfer apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06208957A (ja) | 1994-07-26 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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