JP3170659B2 - 低圧鋳造用保持炉 - Google Patents
低圧鋳造用保持炉Info
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- JP3170659B2 JP3170659B2 JP30774492A JP30774492A JP3170659B2 JP 3170659 B2 JP3170659 B2 JP 3170659B2 JP 30774492 A JP30774492 A JP 30774492A JP 30774492 A JP30774492 A JP 30774492A JP 3170659 B2 JP3170659 B2 JP 3170659B2
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- Japan
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- holding furnace
- molten metal
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- chamber
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は低圧鋳造に使用される
保持炉に関するものである。
保持炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】低圧鋳造装置における保持炉は、仕切壁
によってその内部を脱ガス処理室と溶湯保持室とに仕切
り、脱ガス処理室において溶湯の脱ガスを行うとともに
溶湯保持室において鋳型への注湯を行っている。このた
め、従来の保持炉にあっては、仕切壁に透孔が形成さ
れ、この透孔を介して脱ガス処理室と溶湯保持室との間
を溶湯が互いに流動できるように構成されている。
によってその内部を脱ガス処理室と溶湯保持室とに仕切
り、脱ガス処理室において溶湯の脱ガスを行うとともに
溶湯保持室において鋳型への注湯を行っている。このた
め、従来の保持炉にあっては、仕切壁に透孔が形成さ
れ、この透孔を介して脱ガス処理室と溶湯保持室との間
を溶湯が互いに流動できるように構成されている。
【０００３】
【０００４】しかしながら、かかる従来の保持炉にあっ
ては、前記仕切壁の透孔が唯一であったため、溶湯保持
室と脱ガス処理室との間において溶湯が流動しにくく、
この結果、溶湯保持室内の溶湯が均一に脱ガスしにくい
という不都合を有した。
ては、前記仕切壁の透孔が唯一であったため、溶湯保持
室と脱ガス処理室との間において溶湯が流動しにくく、
この結果、溶湯保持室内の溶湯が均一に脱ガスしにくい
という不都合を有した。
【０００５】この発明の課題は、かかる不都合を解消す
ることである。
ることである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を達成するため
に、この発明の低圧鋳造用保持炉においては、保持炉の
上方に鋳型を設置し、前記保持炉内の溶湯を低圧にて前
記鋳型に充填する低圧鋳造装置にあって、前記保持炉に
仕切壁を立設することによってこの保持炉内を脱ガス処
理室と溶湯保持室とに仕切った低圧鋳造用保持炉におい
て、
に、この発明の低圧鋳造用保持炉においては、保持炉の
上方に鋳型を設置し、前記保持炉内の溶湯を低圧にて前
記鋳型に充填する低圧鋳造装置にあって、前記保持炉に
仕切壁を立設することによってこの保持炉内を脱ガス処
理室と溶湯保持室とに仕切った低圧鋳造用保持炉におい
て、
【０００７】前記仕切壁の下部に一対の透孔を形成する
とともにこれらの透孔を並設させたものである。
とともにこれらの透孔を並設させたものである。
【０００８】
【作用】この発明に係る低圧鋳造用保持炉は上記のよう
に構成されているため、溶湯流動手段を設置することに
よって、保持炉内における脱ガス処理室と溶湯保持室と
の間で溶湯を還流させることができるものである。
に構成されているため、溶湯流動手段を設置することに
よって、保持炉内における脱ガス処理室と溶湯保持室と
の間で溶湯を還流させることができるものである。
【０００９】なお、前記仕切壁における前記一対の透孔
の間にガイド壁を突設するとともにこのガイド壁を前記
溶湯保持室内に延すことによって、溶湯の還流を溶湯保
持室内の奥深くまで延ばすことができる結果、脱ガスの
均一化は一層向上する。
の間にガイド壁を突設するとともにこのガイド壁を前記
溶湯保持室内に延すことによって、溶湯の還流を溶湯保
持室内の奥深くまで延ばすことができる結果、脱ガスの
均一化は一層向上する。
【００１０】
【実施例】図１および図２において、１は台車、２はこ
の台車１に載置された低圧鋳造用保持炉である。この保
持炉２は本体21と蓋体22とから構成されている。なお、
11,11 は台車の車輪、12はこの車輪11を駆動させるため
の減速機付モータである。
の台車１に載置された低圧鋳造用保持炉である。この保
持炉２は本体21と蓋体22とから構成されている。なお、
11,11 は台車の車輪、12はこの車輪11を駆動させるため
の減速機付モータである。
【００１１】最初に、保持炉本体21において、23は仕切
壁であり、本体21の底面に立設されている。この仕切壁
23は保持炉２内を溶湯保持室Ｆと脱ガス処理室Ｇとに仕
切っている。なお、脱ガス処理室Ｇは図３に示すように
後記溶湯供給口６側が漸次底浅に成っている。231 は上
部空間であり、前記仕切壁23の先端縁と保持炉本体21の
天井面との間に形成されている。このため、溶湯保持室
Ｆ内の熱量が気体を介して脱ガス処理室Ｇに伝わりやす
いものである。
壁であり、本体21の底面に立設されている。この仕切壁
23は保持炉２内を溶湯保持室Ｆと脱ガス処理室Ｇとに仕
切っている。なお、脱ガス処理室Ｇは図３に示すように
後記溶湯供給口６側が漸次底浅に成っている。231 は上
部空間であり、前記仕切壁23の先端縁と保持炉本体21の
天井面との間に形成されている。このため、溶湯保持室
Ｆ内の熱量が気体を介して脱ガス処理室Ｇに伝わりやす
いものである。
【００１２】また、図３に示すように、この仕切壁23に
は一対の透孔232,233 が形成され、後記インペラ73の回
転に伴う溶湯Ｍの還流を可能にしている。なお、24はガ
イド壁であり（図４参照のこと）、前記保持炉本体21の
底面に立設された状態で前記仕切壁23と一体成形されて
いる。このガイド壁24は溶湯保持室Ｆに延び、溶湯Ｍの
還流の範囲を延ばしている。
は一対の透孔232,233 が形成され、後記インペラ73の回
転に伴う溶湯Ｍの還流を可能にしている。なお、24はガ
イド壁であり（図４参照のこと）、前記保持炉本体21の
底面に立設された状態で前記仕切壁23と一体成形されて
いる。このガイド壁24は溶湯保持室Ｆに延び、溶湯Ｍの
還流の範囲を延ばしている。
【００１３】溶湯保持室Ｆにおいて、25は掃除用窓であ
り、保持炉本体21の左側壁部に形成されている。この掃
除用窓25は扉251 を有する。３は空気供給管であり、前
記保持炉本体21に設置されている。この空気供給管３は
保持炉２内の内圧を増加させるために空気を供給するた
めのものである。なお、31は保持炉本体21に設置された
開閉弁、４，４，…は同ヒーターである。また、５，５
は保持炉用蓋22に設置されたストークス、８はこのスト
ークス５，５の先端に設置された鋳型である。このスト
ークス５，５を介して、保持炉２内の溶湯Ｍは前記鋳型
８に供給される。
り、保持炉本体21の左側壁部に形成されている。この掃
除用窓25は扉251 を有する。３は空気供給管であり、前
記保持炉本体21に設置されている。この空気供給管３は
保持炉２内の内圧を増加させるために空気を供給するた
めのものである。なお、31は保持炉本体21に設置された
開閉弁、４，４，…は同ヒーターである。また、５，５
は保持炉用蓋22に設置されたストークス、８はこのスト
ークス５，５の先端に設置された鋳型である。このスト
ークス５，５を介して、保持炉２内の溶湯Ｍは前記鋳型
８に供給される。
【００１４】次に、脱ガス処理室Ｇにおいて、６は溶湯
供給口であり、前記保持炉本体21の右側壁部に設置され
ている。この溶湯供給口６を介して保持炉２内に溶湯Ｍ
が供給される。61はスライド蓋であり、前記溶湯供給口
６の開口部を覆っている。このスライド蓋61はピストン
シリンダ機構611 によって開閉する（図２参照のこ
と）。なお、図２において、26は管理用窓であり、前記
保持炉本体21の右側壁部に設置されている。この管理用
窓26を介して、作業者は溶湯Ｍの状態を管理する。
供給口であり、前記保持炉本体21の右側壁部に設置され
ている。この溶湯供給口６を介して保持炉２内に溶湯Ｍ
が供給される。61はスライド蓋であり、前記溶湯供給口
６の開口部を覆っている。このスライド蓋61はピストン
シリンダ機構611 によって開閉する（図２参照のこ
と）。なお、図２において、26は管理用窓であり、前記
保持炉本体21の右側壁部に設置されている。この管理用
窓26を介して、作業者は溶湯Ｍの状態を管理する。
【００１５】また、脱ガス処理室Ｇにおいて、７は脱ガ
ス用ガス（アルゴン、塩素、窒素等）供給装置であり、
前記保持炉本体21の天井部に設置されている。71はこの
脱ガス用ガス供給装置７の回転軸であり、モータ72によ
って回転する（図５参照のこと）。この回転軸71は軸孔
を有し、この軸孔から脱ガス用ガスを溶湯Ｍ中に供給す
る。73はインペラであり、前記回転軸71の先端に設置さ
れている。このインペラ73の回転によって脱ガス用ガス
は溶湯Ｍ中に均一に供給される。
ス用ガス（アルゴン、塩素、窒素等）供給装置であり、
前記保持炉本体21の天井部に設置されている。71はこの
脱ガス用ガス供給装置７の回転軸であり、モータ72によ
って回転する（図５参照のこと）。この回転軸71は軸孔
を有し、この軸孔から脱ガス用ガスを溶湯Ｍ中に供給す
る。73はインペラであり、前記回転軸71の先端に設置さ
れている。このインペラ73の回転によって脱ガス用ガス
は溶湯Ｍ中に均一に供給される。
【００１６】
【発明の効果】この発明の低圧鋳造用保持炉は、保持炉
の上方に鋳型を設置し、前記保持炉内の溶湯を低圧にて
前記鋳型に充填する低圧鋳造装置にあって、前記保持炉
に仕切壁を立設することによってこの保持炉内を脱ガス
処理室と溶湯保持室とに仕切った低圧鋳造用保持炉にお
いて、
の上方に鋳型を設置し、前記保持炉内の溶湯を低圧にて
前記鋳型に充填する低圧鋳造装置にあって、前記保持炉
に仕切壁を立設することによってこの保持炉内を脱ガス
処理室と溶湯保持室とに仕切った低圧鋳造用保持炉にお
いて、
【００１７】前記仕切壁の下部に一対の透孔を形成する
とともにこれらの透孔を並設させたため、
とともにこれらの透孔を並設させたため、
【００１８】溶湯流動手段を設置することによって、保
持炉内における脱ガス処理室と溶湯保持室との間で溶湯
を還流させることができるものである。
持炉内における脱ガス処理室と溶湯保持室との間で溶湯
を還流させることができるものである。
【００１９】よって、この低圧鋳造用保持炉を使用すれ
ば、溶湯保持炉内の溶湯を均一に脱ガスさせやすいもの
である。
ば、溶湯保持炉内の溶湯を均一に脱ガスさせやすいもの
である。
【００２０】なお、前記仕切壁における前記一対の透孔
の間にガイド壁を突設するとともにこのガイド壁を前記
溶湯保持室内に延すことによって、溶湯の還流を溶湯保
持室内の奥深くまで延ばすことができる結果、脱ガスの
均一化は一層向上する。
の間にガイド壁を突設するとともにこのガイド壁を前記
溶湯保持室内に延すことによって、溶湯の還流を溶湯保
持室内の奥深くまで延ばすことができる結果、脱ガスの
均一化は一層向上する。
【図１】この発明の低圧鋳造用保持炉の断面図である。
【図２】同平面図である。
【図３】図２におけるIII ーIII 線断面図である。
【図４】図３におけるIVーIV線断面図である。
【図５】図２におけるV ーV 線拡大断面図である。
２ … 保持炉 23 … 仕切壁 232 … 透孔 233 … 透孔 24 … ガイド壁 ８ … 鋳型 Ｆ … 溶湯保持室 Ｇ … 脱ガス処理室 Ｍ … 溶湯
Claims (2)
- 【請求項１】 保持炉の上方に鋳型を設置し、前記保持
炉内の溶湯を低圧にて前記鋳型に充填する低圧鋳造装置
にあって、 前記保持炉に仕切壁を立設することによってこの保持炉
内を脱ガス処理室と溶湯保持室とに仕切った低圧鋳造用
保持炉において、 前記仕切壁の下部に一対の透孔を形成するとともにこれ
らの透孔を並設させたことを特徴とする低圧鋳造用保持
炉。 - 【請求項２】 前記仕切壁における前記一対の透孔の間
にガイド壁を突設するとともにこのガイド壁を前記溶湯
保持室内に延ばしたことを特徴とする請求項１の低圧鋳
造用保持炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30774492A JP3170659B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | 低圧鋳造用保持炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30774492A JP3170659B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | 低圧鋳造用保持炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06126419A JPH06126419A (ja) | 1994-05-10 |
| JP3170659B2 true JP3170659B2 (ja) | 2001-05-28 |
Family
ID=17972748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30774492A Expired - Fee Related JP3170659B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | 低圧鋳造用保持炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3170659B2 (ja) |
-
1992
- 1992-10-20 JP JP30774492A patent/JP3170659B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06126419A (ja) | 1994-05-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |