JP3170234B2 - 化学石膏の製造方法 - Google Patents
化学石膏の製造方法Info
- Publication number
- JP3170234B2 JP3170234B2 JP28707197A JP28707197A JP3170234B2 JP 3170234 B2 JP3170234 B2 JP 3170234B2 JP 28707197 A JP28707197 A JP 28707197A JP 28707197 A JP28707197 A JP 28707197A JP 3170234 B2 JP3170234 B2 JP 3170234B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gypsum
- slurry
- tank
- calcium carbonate
- sulfuric acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、硫酸および炭酸カ
ルシウムから二水石膏を直接二水法によって製造する化
学石膏の製造方法であって、安定的に嵩密度の大きい石
膏を製造することが可能な化学石膏の製造方法に関す
る。
ルシウムから二水石膏を直接二水法によって製造する化
学石膏の製造方法であって、安定的に嵩密度の大きい石
膏を製造することが可能な化学石膏の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】硫酸を炭酸カルシウムを用いて直接中和
し、二水石膏を数百ｔ／日の工業的規模で製造する場
合、嵩密度が0.4 〜0.5(g/cm3)程度の微粉状石膏と、厚
みが10μm 程度の薄板状の石膏が混在したものしか製造
することができず、用途が限定されていた。
し、二水石膏を数百ｔ／日の工業的規模で製造する場
合、嵩密度が0.4 〜0.5(g/cm3)程度の微粉状石膏と、厚
みが10μm 程度の薄板状の石膏が混在したものしか製造
することができず、用途が限定されていた。
【０００３】また、そのような石膏は、石膏製造工程に
おける脱水機の電力増加、石膏製造装置のスケーリング
の促進、石膏輸送コストの増加などの問題を生じる。こ
のため、添加剤を使用し結晶の成長を促進する場合もあ
るが、石膏ボード用に使用する場合にはその添加剤には
ボード製造に適さない成分が含まれる場合が多く、薬剤
コスト、管理の煩雑さ、品質の面から実際には使用でき
ないことが多い。
おける脱水機の電力増加、石膏製造装置のスケーリング
の促進、石膏輸送コストの増加などの問題を生じる。こ
のため、添加剤を使用し結晶の成長を促進する場合もあ
るが、石膏ボード用に使用する場合にはその添加剤には
ボード製造に適さない成分が含まれる場合が多く、薬剤
コスト、管理の煩雑さ、品質の面から実際には使用でき
ないことが多い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した従
来技術の問題点を解決し、添加剤（薬剤）を使用するこ
となく、安定的に嵩密度の大きい石膏を製造することが
可能な化学石膏の製造方法を提供することを目的とす
る。
来技術の問題点を解決し、添加剤（薬剤）を使用するこ
となく、安定的に嵩密度の大きい石膏を製造することが
可能な化学石膏の製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、硫酸および炭
酸カルシウムから二水石膏を化学的に合成する化学石膏
の製造方法であって、少なくとも、硫酸と循環石膏スラ
リーとを混合槽で混合する工程と、該混合槽で得られた
硫酸および石膏の混合スラリーと炭酸カルシウムとを反
応槽において反応せしめる工程と、該反応槽で得られた
石膏結晶を熟成槽において熟成する工程とを有し、前記
混合槽へ循環、供給する循環石膏スラリーが、前記熟成
槽以降の工程で得られた石膏スラリーであって、前記混
合槽への石膏循環量 (kg-CaSO4・2H2O/h) および前記循
環石膏スラリーの石膏濃度(g-CaSO4・2H2O/l) が、それ
ぞれ下記式(1) 、(2) を満足し、前記反応槽の液温を60
℃以上、反応槽の溶液のpHを２以下に調整することを特
徴とする化学石膏の製造方法である。
酸カルシウムから二水石膏を化学的に合成する化学石膏
の製造方法であって、少なくとも、硫酸と循環石膏スラ
リーとを混合槽で混合する工程と、該混合槽で得られた
硫酸および石膏の混合スラリーと炭酸カルシウムとを反
応槽において反応せしめる工程と、該反応槽で得られた
石膏結晶を熟成槽において熟成する工程とを有し、前記
混合槽へ循環、供給する循環石膏スラリーが、前記熟成
槽以降の工程で得られた石膏スラリーであって、前記混
合槽への石膏循環量 (kg-CaSO4・2H2O/h) および前記循
環石膏スラリーの石膏濃度(g-CaSO4・2H2O/l) が、それ
ぞれ下記式(1) 、(2) を満足し、前記反応槽の液温を60
℃以上、反応槽の溶液のpHを２以下に調整することを特
徴とする化学石膏の製造方法である。
【０００６】 前記混合槽への石膏循環量（kg-CaSO4・2H2O/h) ／石膏製造量（kg-CaSO4・2H 2 O/h) ＝3.3 〜5.9 ………(1) 前記循環石膏スラリーの石膏濃度＝500 〜700g-CaSO4・2H2O/l………(2) 前記した本発明においては、前記混合槽へ供給する硫酸
の硫酸濃度：60〜70wt％で、かつ、前記反応槽へ供給す
る炭酸カルシウムが炭酸カルシウム濃度：30〜40wt％の
スラリーであることが好ましい。
の硫酸濃度：60〜70wt％で、かつ、前記反応槽へ供給す
る炭酸カルシウムが炭酸カルシウム濃度：30〜40wt％の
スラリーであることが好ましい。
【０００７】また、前記した本発明においては、前記反
応槽への炭酸カルシウムの供給を炭酸カルシウムのスラ
リーの供給によって行い、該炭酸カルシウムのスラリー
を反応槽液中に配設したノズルを用い、ノズル噴出口に
おける噴出速度が1.0m/s以上で反応槽液中に噴出せしめ
ることが好ましい。
応槽への炭酸カルシウムの供給を炭酸カルシウムのスラ
リーの供給によって行い、該炭酸カルシウムのスラリー
を反応槽液中に配設したノズルを用い、ノズル噴出口に
おける噴出速度が1.0m/s以上で反応槽液中に噴出せしめ
ることが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。図１に、本発明に係わる石膏製造設備の一例を側
面図によって示す。図１において、１は混合槽、２は反
応槽、３は第１熟成槽、４は第２熟成槽、５は分離機送
液槽、６は攪拌機、７は攪拌翼、８は硫酸供給配管、９
は炭酸カルシウムスラリー供給配管、10は炭酸カルシウ
ムスラリー噴出ノズル、11は石膏スラリー循環配管、12
は送液配管、13はポンプ、14は石膏スラリーの遠心分離
機への送液配管を示す。
する。図１に、本発明に係わる石膏製造設備の一例を側
面図によって示す。図１において、１は混合槽、２は反
応槽、３は第１熟成槽、４は第２熟成槽、５は分離機送
液槽、６は攪拌機、７は攪拌翼、８は硫酸供給配管、９
は炭酸カルシウムスラリー供給配管、10は炭酸カルシウ
ムスラリー噴出ノズル、11は石膏スラリー循環配管、12
は送液配管、13はポンプ、14は石膏スラリーの遠心分離
機への送液配管を示す。
【０００９】すなわち、図１に示す本発明に係わる石膏
製造設備は、硫酸濃度：60〜70wt％に調整された硫酸
（硫酸水溶液）と第２熟成槽４から循環される石膏スラ
リーを予備混合する混合槽１と、混合槽１からオーバー
フローする硫酸および石膏の混合スラリー（以下混合ス
ラリーとも記す）と、炭酸カルシウム濃度：30〜40wt％
に調整された炭酸カルシウムスラリーとを反応させる反
応槽２と、石膏結晶を熟成し、スラリーのpHを後段の分
離機工程に影響がないpHまで上昇させる第１熟成槽３、
第２熟成槽４と、第２熟成槽４からオーバーフローする
石膏スラリーを遠心分離機に送液する分離機送液槽５と
から構成されている。
製造設備は、硫酸濃度：60〜70wt％に調整された硫酸
（硫酸水溶液）と第２熟成槽４から循環される石膏スラ
リーを予備混合する混合槽１と、混合槽１からオーバー
フローする硫酸および石膏の混合スラリー（以下混合ス
ラリーとも記す）と、炭酸カルシウム濃度：30〜40wt％
に調整された炭酸カルシウムスラリーとを反応させる反
応槽２と、石膏結晶を熟成し、スラリーのpHを後段の分
離機工程に影響がないpHまで上昇させる第１熟成槽３、
第２熟成槽４と、第２熟成槽４からオーバーフローする
石膏スラリーを遠心分離機に送液する分離機送液槽５と
から構成されている。
【００１０】なお、本発明においては、混合槽１へ供給
する循環石膏スラリーは、上記した図１に示す第２熟成
槽４から抜き出す石膏スラリーに限定されることなく、
図１に示す第１熟成槽３から抜き出して供給する方
法、第１熟成槽３および第２熟成槽４の両者から抜き
出して供給する方法、熟成槽が１槽の場合は当該熟成
槽から抜き出して供給する方法、熟成槽の後工程から
抜き出して供給する方法を用いることができる。
する循環石膏スラリーは、上記した図１に示す第２熟成
槽４から抜き出す石膏スラリーに限定されることなく、
図１に示す第１熟成槽３から抜き出して供給する方
法、第１熟成槽３および第２熟成槽４の両者から抜き
出して供給する方法、熟成槽が１槽の場合は当該熟成
槽から抜き出して供給する方法、熟成槽の後工程から
抜き出して供給する方法を用いることができる。
【００１１】すなわち、本発明においては、混合槽１へ
供給する循環石膏スラリーは、熟成槽以降の工程で得ら
れた石膏スラリーであれば、特に制限はされない。ま
た、本発明においては、１基の反応槽後に設けられ、石
膏結晶の成長が生じる反応槽を熟成槽と定義し、該熟成
槽には硫酸、炭酸カルシウム、またはそれらの両者が供
給されてもよい。
供給する循環石膏スラリーは、熟成槽以降の工程で得ら
れた石膏スラリーであれば、特に制限はされない。ま
た、本発明においては、１基の反応槽後に設けられ、石
膏結晶の成長が生じる反応槽を熟成槽と定義し、該熟成
槽には硫酸、炭酸カルシウム、またはそれらの両者が供
給されてもよい。
【００１２】本発明においては、嵩密度が0.7 〜0.8g/c
m3と高く、石膏ボード用に適した成分の石膏を製造する
ために、製造する石膏量の3.3 〜5.9 重量倍の種晶石膏
を第１熟成槽３以降の工程からスラリー状で混合槽１に
循環し、原料硫酸と混合槽１において予備混合すること
で、硫酸水溶液中に種晶石膏を均一かつ高濃度の状態で
分散させ、反応槽２へ供給する硫酸水溶液を、予め、後
段の反応槽２で生成する石膏が種晶石膏に付着、析出し
易い状態にしておく。
m3と高く、石膏ボード用に適した成分の石膏を製造する
ために、製造する石膏量の3.3 〜5.9 重量倍の種晶石膏
を第１熟成槽３以降の工程からスラリー状で混合槽１に
循環し、原料硫酸と混合槽１において予備混合すること
で、硫酸水溶液中に種晶石膏を均一かつ高濃度の状態で
分散させ、反応槽２へ供給する硫酸水溶液を、予め、後
段の反応槽２で生成する石膏が種晶石膏に付着、析出し
易い状態にしておく。
【００１３】すなわち、本発明においては、混合槽１へ
の石膏循環量（kg-CaSO4・2H2O/h)と石膏製造量（kg-Ca
SO4・2H2O/h) との比である種晶石膏循環比が下記式(1-
1)を満足するように、例えば図１に示されるように第２
熟成槽４から混合槽１へ石膏スラリーを循環、供給す
る。 種晶石膏循環比＝混合槽１への石膏循環量（kg-CaSO4・2H2O/h) ／石膏製造量 （kg-CaSO4・2H2O/h) ＝3.3 〜5.9 ………(1-1) 種晶石膏循環比が3.3 未満の場合は、得られる石膏の嵩
密度が低下し、5.9 超えの場合は、嵩密度の増加効果が
実用的に飽和し、循環スラリー送液ポンプの電力使用量
が増加し経済的でない。
の石膏循環量（kg-CaSO4・2H2O/h)と石膏製造量（kg-Ca
SO4・2H2O/h) との比である種晶石膏循環比が下記式(1-
1)を満足するように、例えば図１に示されるように第２
熟成槽４から混合槽１へ石膏スラリーを循環、供給す
る。 種晶石膏循環比＝混合槽１への石膏循環量（kg-CaSO4・2H2O/h) ／石膏製造量 （kg-CaSO4・2H2O/h) ＝3.3 〜5.9 ………(1-1) 種晶石膏循環比が3.3 未満の場合は、得られる石膏の嵩
密度が低下し、5.9 超えの場合は、嵩密度の増加効果が
実用的に飽和し、循環スラリー送液ポンプの電力使用量
が増加し経済的でない。
【００１４】また、種晶石膏循環比が前記式(1-1) を満
足する場合でも、循環石膏スラリー中の石膏濃度が薄い
場合、混合槽１内の種晶石膏濃度が薄くなり反応槽２で
微細結晶が生成する。このため、本発明においては、混
合槽１へ循環する石膏スラリーの石膏濃度が500g-CaSO4
・2H2O/l以上となるように調節し、混合槽１内の液中の
種晶石膏を適切な濃度に保つ。
足する場合でも、循環石膏スラリー中の石膏濃度が薄い
場合、混合槽１内の種晶石膏濃度が薄くなり反応槽２で
微細結晶が生成する。このため、本発明においては、混
合槽１へ循環する石膏スラリーの石膏濃度が500g-CaSO4
・2H2O/l以上となるように調節し、混合槽１内の液中の
種晶石膏を適切な濃度に保つ。
【００１５】なお、混合槽１へ循環する石膏スラリーの
石膏濃度が700g-CaSO4・2H2O/lを超えると、石膏スラリ
ーの送液が困難となり、本発明においては、混合槽１へ
循環する石膏スラリーの石膏濃度を、500 〜700g-CaSO4
・2H2O/lと規定した。また、本発明においては、工業的
に簡易な方法で上記した目的とする石膏スラリーの石膏
濃度を得るために、混合槽１へ供給する硫酸の濃度を60
〜70wt％に調整すると共に、反応槽２へ供給する炭酸カ
ルシウムとしては炭酸カルシウムのスラリーを用い、当
該炭酸カルシウムスラリーの炭酸カルシウム濃度を30〜
40wt％に調整することが、より好ましい。
石膏濃度が700g-CaSO4・2H2O/lを超えると、石膏スラリ
ーの送液が困難となり、本発明においては、混合槽１へ
循環する石膏スラリーの石膏濃度を、500 〜700g-CaSO4
・2H2O/lと規定した。また、本発明においては、工業的
に簡易な方法で上記した目的とする石膏スラリーの石膏
濃度を得るために、混合槽１へ供給する硫酸の濃度を60
〜70wt％に調整すると共に、反応槽２へ供給する炭酸カ
ルシウムとしては炭酸カルシウムのスラリーを用い、当
該炭酸カルシウムスラリーの炭酸カルシウム濃度を30〜
40wt％に調整することが、より好ましい。
【００１６】また、本発明においては、反応槽２におい
て、炭酸カルシウムのスラリーを、反応槽液中に配設し
た炭酸カルシウムスラリー噴出ノズル10を用い、ノズル
噴出口における噴出速度が1.0m/s以上で反応槽液中に噴
出せしめることが好ましい。なお、上記したノズル噴出
口における噴出速度とは、炭酸カルシウムスラリーの噴
出量（m3/s) を炭酸カルシウムスラリー噴出ノズル10の
噴出口開口部の面積（m2）で除した値で定義される。
て、炭酸カルシウムのスラリーを、反応槽液中に配設し
た炭酸カルシウムスラリー噴出ノズル10を用い、ノズル
噴出口における噴出速度が1.0m/s以上で反応槽液中に噴
出せしめることが好ましい。なお、上記したノズル噴出
口における噴出速度とは、炭酸カルシウムスラリーの噴
出量（m3/s) を炭酸カルシウムスラリー噴出ノズル10の
噴出口開口部の面積（m2）で除した値で定義される。
【００１７】上記した噴出速度で炭酸カルシウムのスラ
リーを反応槽液中に噴出せしめることによって、反応槽
液中での炭酸カルシウムの分布が均一となり、混合槽１
から反応槽２へ供給される混合スラリーとの反応が反応
槽２内で均一に生じ、この結果、局所的に炭酸カルシウ
ム濃度が濃い箇所で発生する微小結晶石膏の生成が抑制
される。
リーを反応槽液中に噴出せしめることによって、反応槽
液中での炭酸カルシウムの分布が均一となり、混合槽１
から反応槽２へ供給される混合スラリーとの反応が反応
槽２内で均一に生じ、この結果、局所的に炭酸カルシウ
ム濃度が濃い箇所で発生する微小結晶石膏の生成が抑制
される。
【００１８】また、本発明においては、炭酸カルシウム
スラリーを、液中の撹拌機６の撹拌翼７の近傍に、炭酸
カルシウムスラリー噴出ノズル10を用い、ノズル噴出口
における噴出速度が1.0m/s以上で、反応槽液中に鉛直下
向きに噴出せしめることがより好ましい。本発明におい
て、反応槽２内の液温および反応槽２内の溶液のpHはい
ずれも得られる石膏の嵩密度に大きく影響する。
スラリーを、液中の撹拌機６の撹拌翼７の近傍に、炭酸
カルシウムスラリー噴出ノズル10を用い、ノズル噴出口
における噴出速度が1.0m/s以上で、反応槽液中に鉛直下
向きに噴出せしめることがより好ましい。本発明におい
て、反応槽２内の液温および反応槽２内の溶液のpHはい
ずれも得られる石膏の嵩密度に大きく影響する。
【００１９】このため、反応槽２内の液温は60℃以上、
より好ましくは60〜70℃に調整し、反応槽２内の溶液の
pHは２以下、より好ましくは1.5 以下に調整する。反応
槽２内の液温が60℃未満の場合、板状結晶の厚み方向へ
の結晶成長の速度が遅く、得られる石膏の嵩密度が小さ
くなり、逆に70℃超えの場合は、結晶成長の促進効果が
実用的に飽和し、経済的でない。
より好ましくは60〜70℃に調整し、反応槽２内の溶液の
pHは２以下、より好ましくは1.5 以下に調整する。反応
槽２内の液温が60℃未満の場合、板状結晶の厚み方向へ
の結晶成長の速度が遅く、得られる石膏の嵩密度が小さ
くなり、逆に70℃超えの場合は、結晶成長の促進効果が
実用的に飽和し、経済的でない。
【００２０】反応槽２内の溶液のpHが２を超えると板状
結晶の厚み方向への結晶成長の速度が遅く、得られる石
膏の嵩密度が小さくなる。なお、pHの下限は、石膏の嵩
密度の上から制限されるものではなく、装置の耐酸性に
対する仕様決定などの面から任意に決定できる。第１熟
成槽３内の液温、第２熟成槽４内の液温は、いずれも60
〜70℃に調整し、第１熟成槽３内の溶液のpHは 3.5〜4.
5 に調整することが好ましい。
結晶の厚み方向への結晶成長の速度が遅く、得られる石
膏の嵩密度が小さくなる。なお、pHの下限は、石膏の嵩
密度の上から制限されるものではなく、装置の耐酸性に
対する仕様決定などの面から任意に決定できる。第１熟
成槽３内の液温、第２熟成槽４内の液温は、いずれも60
〜70℃に調整し、第１熟成槽３内の溶液のpHは 3.5〜4.
5 に調整することが好ましい。
【００２１】第１熟成槽３内の溶液のpHの制御は、反応
槽２への炭酸カルシウムスラリーの供給量を調整するこ
とで行うことができる。第２熟成槽４内の溶液のpHは
5.0〜6.0 に調整することが好ましい。以上述べた本発
明によれば、添加剤（薬剤）なしに板状結晶の厚み方向
への結晶成長を促進させ、また、種晶石膏不足時に発生
する全長10μm 以下の微結晶の生成を抑制し、化学石膏
の嵩密度を増加させることができる。
槽２への炭酸カルシウムスラリーの供給量を調整するこ
とで行うことができる。第２熟成槽４内の溶液のpHは
5.0〜6.0 に調整することが好ましい。以上述べた本発
明によれば、添加剤（薬剤）なしに板状結晶の厚み方向
への結晶成長を促進させ、また、種晶石膏不足時に発生
する全長10μm 以下の微結晶の生成を抑制し、化学石膏
の嵩密度を増加させることができる。
【００２２】
種晶石膏循環比（：前記式(1-1) で定義される種晶石膏
循環比）：2.1 〜5.3 混合槽１へ循環、供給した循環石膏スラリーの石膏濃
度：450 、620 g-CaSO4・2H2O /l 混合槽１へ供給した硫酸濃度：40〜70wt％ 反応槽２へ供給した炭酸カルシウムスラリーの炭酸カル
シウム濃度：38wt％ 反応槽１液中に配設した炭酸カルシウムスラリー噴出ノ
ズル10のノズル噴出口におけるスラリーの噴出速度：１
m/s 反応槽２の液温 ：65℃ 反応槽２の溶液 pH ：1.0 、2.0 、4.0 第１熟成槽３の液温、第２熟成槽４の液温：65℃ 第１熟成槽３の溶液のpH：４ 第２熟成槽４の溶液のpH：５ 得られた結果を操業条件と併せて表１に示す。
循環比）：2.1 〜5.3 混合槽１へ循環、供給した循環石膏スラリーの石膏濃
度：450 、620 g-CaSO4・2H2O /l 混合槽１へ供給した硫酸濃度：40〜70wt％ 反応槽２へ供給した炭酸カルシウムスラリーの炭酸カル
シウム濃度：38wt％ 反応槽１液中に配設した炭酸カルシウムスラリー噴出ノ
ズル10のノズル噴出口におけるスラリーの噴出速度：１
m/s 反応槽２の液温 ：65℃ 反応槽２の溶液 pH ：1.0 、2.0 、4.0 第１熟成槽３の液温、第２熟成槽４の液温：65℃ 第１熟成槽３の溶液のpH：４ 第２熟成槽４の溶液のpH：５ 得られた結果を操業条件と併せて表１に示す。
【００２３】表１に示されるように、本発明によれば、
添加剤（薬剤）を使用することなく、安定的に嵩密度の
大きい石膏を製造することが可能となった。また、石膏
製造設備におけるスケーリングを抑制することが可能と
なった。
添加剤（薬剤）を使用することなく、安定的に嵩密度の
大きい石膏を製造することが可能となった。また、石膏
製造設備におけるスケーリングを抑制することが可能と
なった。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【発明の効果】本発明によって、添加剤なしで、大規模
プラントでも石膏ボードの生産に適する嵩密度0.6 〜0.
8(g/cm3)の二水石膏を安定して製造することが可能とな
った。また、本発明によって、石膏製造設備におけるス
ケーリングを抑制することが可能となり、設備保守が軽
減し、石膏製造設備の生産性を向上することが可能とな
った。
プラントでも石膏ボードの生産に適する嵩密度0.6 〜0.
8(g/cm3)の二水石膏を安定して製造することが可能とな
った。また、本発明によって、石膏製造設備におけるス
ケーリングを抑制することが可能となり、設備保守が軽
減し、石膏製造設備の生産性を向上することが可能とな
った。
【００２６】さらに、本発明によって、石膏製造工程に
おける脱水機の台数、脱水機における所要電力、石膏輸
送コスト、石膏製造設備の保守コストのいずれも削減す
ることが可能となった。
おける脱水機の台数、脱水機における所要電力、石膏輸
送コスト、石膏製造設備の保守コストのいずれも削減す
ることが可能となった。
【図１】本発明に係わる石膏製造設備の一例を示す側面
図である。
図である。
１ 混合槽 ２ 反応槽 ３ 第１熟成槽 ４ 第２熟成槽 ５ 分離機送液槽 ６ 攪拌機 ７ 攪拌翼 ８ 硫酸供給配管 ９ 炭酸カルシウムスラリー供給配管 10 炭酸カルシウムスラリー噴出ノズル 11 石膏スラリー循環配管 12 送液配管 13 ポンプ 14 石膏スラリーの遠心分離機への送液配管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C01F 11/46
Claims (3)
- 【請求項１】 硫酸および炭酸カルシウムから二水石膏
を化学的に合成する化学石膏の製造方法であって、少な
くとも、硫酸と循環石膏スラリーとを混合槽で混合する
工程と、該混合槽で得られた硫酸および石膏の混合スラ
リーと炭酸カルシウムとを反応槽において反応せしめる
工程と、該反応槽で得られた石膏結晶を熟成槽において
熟成する工程とを有し、前記混合槽へ循環、供給する循
環石膏スラリーが、前記熟成槽以降の工程で得られた石
膏スラリーであって、前記混合槽への石膏循環量 (kg-C
aSO4・2H2O/h) および前記循環石膏スラリーの石膏濃度
(g-CaSO4・2H2O/l) が、それぞれ下記式(1) 、(2) を満
足し、前記反応槽の液温を60℃以上、反応槽の溶液のpH
を２以下に調整することを特徴とする化学石膏の製造方
法。 記 前記混合槽への石膏循環量（kg-CaSO4・2H2O/h) ／石膏
製造量（kg-CaSO4・2H2O/h) ＝3.3 〜5.9 ………(1) 前記循環石膏スラリーの石膏濃度＝500 〜700g-CaSO4・
2H2O/l………(2) - 【請求項２】 前記混合槽へ供給する硫酸の硫酸濃度：
60〜70wt％で、かつ、前記反応槽へ供給する炭酸カルシ
ウムが炭酸カルシウム濃度：30〜40wt％のスラリーであ
ることを特徴とする請求項１記載の化学石膏の製造方
法。 - 【請求項３】 前記反応槽への炭酸カルシウムの供給を
炭酸カルシウムのスラリーの供給によって行い、該炭酸
カルシウムのスラリーを反応槽液中に配設したノズルを
用い、ノズル噴出口における噴出速度が1.0m/s以上で反
応槽液中に噴出せしめることを特徴とする請求項１また
は２記載の化学石膏の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28707197A JP3170234B2 (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | 化学石膏の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28707197A JP3170234B2 (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | 化学石膏の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11116239A JPH11116239A (ja) | 1999-04-27 |
| JP3170234B2 true JP3170234B2 (ja) | 2001-05-28 |
Family
ID=17712685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28707197A Expired - Fee Related JP3170234B2 (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | 化学石膏の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3170234B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008062538A1 (fr) * | 2006-11-24 | 2008-05-29 | Nittetsu Mining Co., Ltd. | Gypse dihydrate en paillettes et son procédé de production |
| JP6172011B2 (ja) * | 2014-03-24 | 2017-08-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 石膏の製造方法 |
| CN104609454B (zh) * | 2015-02-11 | 2016-03-23 | 芜湖卓越纳米新材料有限公司 | 一种循环利用过滤水生产纳米活性碳酸钙的方法 |
-
1997
- 1997-10-20 JP JP28707197A patent/JP3170234B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11116239A (ja) | 1999-04-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN108117055B (zh) | 一种电池级磷酸铁的制备方法和生产装置 | |
| US4324772A (en) | Process for producing hydroxyapatite | |
| CN104418388B (zh) | 一种连续生产超细碳酸钴粉的工艺及其装置 | |
| CN113185160B (zh) | 控制半水石膏粗大结晶的方法 | |
| US4780303A (en) | Continuous process for the preparation of high strength sodium hypochlorite solutions | |
| DE112022000296T5 (de) | Vorläufer mit transformierter kristallform und herstellungsverfahren davon | |
| JP3170234B2 (ja) | 化学石膏の製造方法 | |
| CN104910031B (zh) | 甘氨酸与乙内酰脲的联合生产方法及装置 | |
| EP0846486B1 (de) | Verfahren zur Minderung oder Vermeidung einer Schaumbildung bei chemischen und physikalischen Stoffumwandlungsprozessen und Vorrichtung zu seiner Durchführung | |
| US3726647A (en) | Apparatus for the production of phosphoric acid | |
| CN113173566A (zh) | 一种高收率水合晶相重构湿法磷酸生产工艺 | |
| EP2984040B1 (de) | Verfahren und anlage zur herstellung von kristallinem calciumcarbonat unter kombinierter verwendung zweier gase mit unterschiedlichem co2-gehalt | |
| EP0018339B1 (en) | A method of producing an aluminium-sulphate solution | |
| US20120039785A1 (en) | Process for Producing Products Under Very Low Supersaturation | |
| US5310533A (en) | Production of copper compounds | |
| US2555667A (en) | Procedures for the production of hydroxylamine compounds | |
| CN101875668B (zh) | 一种连续化调节草甘膦生产过程中稀水剂pH值的方法 | |
| GB2034294A (en) | Process for Producing Sodium Bicarbonate | |
| CN108975374B (zh) | 利用磷石膏制备硝酸钙的方法和硝酸钙 | |
| KR101913700B1 (ko) | 황산알루미늄 파우더의 제조방법 | |
| CN1169711C (zh) | 己内酰胺生产过程中高浓度羟胺的制备方法 | |
| CN107082452A (zh) | 一种制备碳酸锰的生产工艺 | |
| US3523754A (en) | Process for preparing phosphoric acil | |
| CN217511852U (zh) | 实现akd合成反应的喷射混合器装置 | |
| DE69010892T2 (de) | Verfahren zur herstellung von nitrosylfluorid. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080316 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090316 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090316 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100316 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100316 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110316 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110316 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120316 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130316 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130316 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140316 Year of fee payment: 13 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |