JP3166946B2 - 電子ビ―ム露光装置 - Google Patents

電子ビ―ム露光装置

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JP3166946B2
JP3166946B2 JP03749993A JP3749993A JP3166946B2 JP 3166946 B2 JP3166946 B2 JP 3166946B2 JP 03749993 A JP03749993 A JP 03749993A JP 3749993 A JP3749993 A JP 3749993A JP 3166946 B2 JP3166946 B2 JP 3166946B2
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electron
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビ―ム露光装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、図6に示すような、(i)電子ビ
―ム源(図示せず)から試料1側に向う、試料1を露光
させる電子ビ―ム2の軸のまわりに、電子ビ―ム2の通
路を形成するように配された、電子ビ―ム2を試料1上
に集束させる電子ビ―ム集束用対物レンズ3と、(i
i)電子ビ―ム集束用対物レンズ3が配されている位置
における、電子ビ―ム集束用対物レンズ3が形成してい
る電子ビ―ム2の通路内に、電子ビ―ム2の通路を形成
するように配されている、電子ビ―ム2を偏向させる電
子ビ―ム偏向器4とを、試料1側端部に有する電子ビ―
ム露光装置(以下、従来の第1の電子ビ―ム露光装置と
称す)が、半導体集積回路を製造するのに用いる電子ビ
―ム露光装置として、提案されている。
【0003】この場合、試料1は、基板体1a上に電子
レジスト層1bが塗布によって形成されている構成を有
する。
【0004】また、電子ビ―ム集束用対物レンズ3は、
図6においては、磁気ヨ―ク3aとコイル3bとを有す
る電磁型のものであるとして示されているが、静電型の
ものであってもよい。
【0005】さらに、電子ビ―ム偏向器4は、図6にお
いては、相対する偏向板4aの複数の組を有する静電型
のものであるとして示されているが、電磁型のものであ
ってもよい。
【0006】また、従来、図7に示すような、図6に示
す従来の第1の電子ビ―ム露光装置と同様の電子ビ―ム
露光装置において、電子ビ―ム偏向器4が、電子ビ―ム
集束用対物レンズ3が配されている位置における、電子
ビ―ム集束用対物レンズ3が形成している電子ビ―ム2
の通路内に配されているのに応じて、試料1と、電子ビ
―ム集束用対物レンズ3または電子ビ―ム偏向器4との
間に、電子ビ―ム2の軸のまわりに、電子ビ―ム偏向器
4によって形成している電子ビ―ム2の通路よりも十分
大きな電子ビ―ム2の通路を形成するように配されてい
る、試料1からの反射電子5を検出する反射電子検出器
6を有する電子ビ―ム露光装置(以下、従来の第2の電
子ビ―ム露光装置と称す)も、同様に、半導体集積回路
を製造するのに用いる電子ビ―ム露光装置として、提案
されている。
【0007】なお、図7に示す従来の第2の電子ビ―ム
露光装置において、反射電子検出器6は、その反射電子
検出器6の出力によって電子ビ―ム2が試料1を露光す
る位置をモニタ制御するために用いているものである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図6及び図7にそれぞ
れ示す従来の第1及び第2の電子ビ―ム露光装置によれ
ば、試料1が電子ビ―ム2によって露光されることによ
って、試料1の表面から、その表面を構成している材料
(電子レジスト層1bを構成している有機物)が蒸発す
るのを予儀なくされ、そして、その蒸発物が、電子ビ―
ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4側に向う
が、この場合、蒸発物が電子ビ―ム集束用対物レンズ3
及び電子ビ―ム偏向器4によってそれぞれ形成している
電子ビ―ム2の通路内に向うのを阻止する何物も有して
いないので、蒸発物が、電子ビ―ム偏向器4によって形
成している電子ビ―ム2の通路内、及び電子ビ―ム集束
用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4間内に、容易に
侵入し、電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム
偏向器4のそれぞれの電子ビ―ム2の通路を画成してい
る内面、とにく電子ビ―ム偏向器4の電子ビ―ム2の通
路を画成している内面に、多量に、汚れとして、容易に
付着する。
【0009】また、試料1が電子ビ―ム2によって露光
されることによって、試料1の表面から電子ビ―ム集束
用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4側に向う反射電
及び2次電子が生じ、そして、それら反射電子
び2次電子が、同様に、電子ビ―ム集束用対物レンズ3
及び電子ビ―ム偏向器4側に向うが、この場合、反射電
及び2次電子が電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び
電子ビ―ム偏向器4にそれぞれ形成されている電子ビ―
ム2の通路内に向うのを阻止する何物も有していないの
で、反射電子及び2次電子が、電子ビ―ム偏向器4に
よって形成されている電子ビ―ム2の通路内、及び電子
ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4間内
に、容易に侵入し、電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び
電子ビ―ム偏向器4のそれぞれの電子ビ―ム2を通路を
画成している内面に付着している上述した汚れを、多量
、容易に照射し、よって、その汚れに、電荷が、多量
に、容易に蓄積される。
【0010】以上のことから、図6及び図7にそれぞれ
示す従来の第1及び第2の電子ビ―ム露光装置によれ
ば、電子ビ―ム2が試料1を露光する位置が、予定の位
置から大きく変化してしまう、という欠点を有してい
た。
【0011】よって、本発明は、上述した欠点を有効に
回避し得る、新規な電子ビ―ム露光装置を提案せんとす
るものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本願第1番目の発明によ
る電子ビ―ム露光装置は、図6に示す従来の第1の電子
ビ―ム露光装置と同様の、(i)電子ビ―ム源から試料
側に向う、上記試料を露光させる電子ビ―ムの軸のまわ
りに、上記電子ビ―ムの通路を形成するように配され
た、上記電子ビ―ムを上記試料上に集束させる電子ビ―
ム集束用対物レンズと、(ii)(a)上記電子ビ―ム
集束用対物レンズが配されている位置における、上記電
子ビ―ム集束用対物レンズが形成している上記電子ビ―
ムの通路内に、または(b)上記電子ビ―ム集束用対物
レンズが配されている位置よりも上記試料側の位置に、
もしくは(c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配さ
れている位置よりも上記試料側とは反対側の位置に、上
記電子ビ―ムの軸のまわりに、上記電子ビ―ムの通路を
形成するように配されている、上記電子ビ―ムを偏向さ
せる電子ビ―ム偏向器とを、上記試料側端部に有する電
子ビ―ム露光装置において、(iii)上記電子ビ―ム
集束用対物レンズ及び上記電子ビ―ム偏向器がそれぞれ
形成している上記電子ビ―ムの通路中の小さい方の上記
電子ビ―ムの通路よりも小さな電子ビ―ム用開口を有
し、且つ上記電子ビ―ム偏向器が、(a)上記電子ビ―
ム集束用対物レンズが配されている位置における、上記
電子ビ―ム集束用対物レンズが形成している上記電子ビ
―ムの通路内に、または(b)電子ビ―ム集束用対物レ
ンズが配されている位置よりも上記試料側の位置に、も
しくは(c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配され
ている位置よりも上記試料側とは反対側に配されている
のに応じて、上記試料と、(a)上記電子ビ―ム集束用
対物レンズまたは上記電子ビ―ム偏向器、または(b)
上記電子ビ―ム偏向器、もしくは(c)上記電子ビ―ム
集束用対物レンズとの間に、上記電子ビ―ム用開口によ
って上記電子ビ―ムの通路を形成するように配されてい
る導電性板体と、(iv)上記導電性板体に、上記試料
を基準として、上記試料からの2次電子が上記電子ビ―
ム集束用対物レンズ及び上記電子ビ―ム偏向器側に向う
のを阻止するための負極性の電圧を印加する電圧印加手
段とを有する、という構成を有する。
【0013】本願第2番目の発明による電子ビ―ム露光
装置は、図7に示す従来の第2の電子ビ―ム露光装置の
場合と同様の、(i)電子ビ―ム源から試料側に向う、
上記試料を露光させる電子ビ―ムの軸のまわりに、上記
電子ビ―ムの通路を形成するように配された、上記電子
ビ―ムを上記試料上に集束させる電子ビ―ム集束用対物
レンズと、(ii)(a)上記電子ビ―ム集束用対物レ
ンズが配されている位置における、上記電子ビ―ム集束
用対物レンズが形成している上記電子ビ―ムの通路内
に、または(b)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配
されている位置よりも上記試料側の位置に、もしくは
(c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている
位置よりも上記試料側とは反対側の位置に、上記電子ビ
―ムの軸のまわりに、上記電子ビ―ムの通路を形成する
ように配されている、上記電子ビ―ムを偏向させる電子
ビ―ム偏向器と、(iii)上記電子ビ―ム偏向器が、
(a)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている
位置における、上記電子ビ―ム集束用対物レンズが形成
している電子ビ―ムの通路内に、または(b)電子ビ―
ム集束用対物レンズが配されている位置よりも上記試料
側の位置に、もしくは(c)電子ビ―ム集束用対物レン
ズが配されている位置よりも上記試料側とは反対側に配
されているのに応じて、上記試料と、(a)上記電子ビ
―ム集束用対物レンズまたは上記電子ビ―ム偏向器、ま
たは(b)上記電子ビ―ム偏向器、もしくは(c)上記
電子ビ―ム集束用対物レンズとの間に、上記電子ビ―ム
の軸のまわりに、上記電子ビ―ムの通路を形成するよう
に配されている、上記試料からの反射電子を検出する反
射電子検出器とを、上記試料側端部に有する電子ビ―ム
露光装置において、(iv)上記電子ビ―ム集束用対物
レンズ及び上記電子ビ―ム偏向器がそれぞれ形成してい
る上記電子ビ―ムの通路中の小さい方の上記電子ビ―ム
の通路よりも小さな電子ビ―ム用開口を有し、且つ上記
電子ビ―ム偏向器が、(a)上記電子ビ―ム集束用対物
レンズが配されている位置における、上記電子ビ―ム集
束用対物レンズが形成している電子ビ―ムの通路内に、
または(b)電子ビ―ム集束用対物レンズが配されてい
る位置よりも上記試料側の位置に、もしくは(c)電子
ビ―ム集束用対物レンズが配されている位置よりも上記
試料側とは反対側に配されているのに応じて、上記反射
電子検出器と、(a)上記電子ビ―ム集束用対物レンズ
または上記電子ビ―ム偏向器、または(b)上記電子ビ
―ム偏向器、もしくは(c)上記電子ビ―ム集束用対物
レンズとの間に、または上記試料と上記反射電子検出器
との間に、上記電子ビ―ム用開口によって上記電子ビ―
ムの通路を形成するように配されている導電性板体と、
(v)上記導電性板体に、上記試料を基準として、上記
試料からの2次電子が上記電子ビ―ム集束用 対物レンズ
及び上記電子ビ―ム偏向器側に向うのを阻止するための
負極性の電圧を印加する電圧印加手段とを有する、とい
う構成を有する。
【0014】本願第3番目の発明による電子ビ―ム露光
装置は、図7に示す従来の第2の電子ビ―ム露光装置の
場合と同様の、(i)電子ビ―ム源から試料側に向う、
上記試料を露光させる電子ビ―ムの軸のまわりに、上記
電子ビ―ムの通路を形成するように配された、上記電子
ビ―ムを上記試料上に集束させる電子ビ―ム集束用対物
レンズと、(ii)(a)上記電子ビ―ム集束用対物レ
ンズが配されている位置における、上記電子ビ―ム集束
用対物レンズが形成している上記電子ビ―ムの通路内
に、または(b)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配
されている位置よりも上記試料側の位置に、もしくは
(c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている
位置よりも上記試料側とは反対側の位置に、上記電子ビ
―ムの軸のまわりに、上記電子ビ―ムの通路を形成する
ように配されている、上記電子ビ―ムを偏向させる電子
ビ―ム偏向器と、(iii)上記電子ビ―ム偏向器が、
(a)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている
位置における、上記電子ビ―ム集束用対物レンズが形成
している電子ビ―ムの通路内に、または(b)電子ビ―
ム集束用対物レンズが配されている位置よりも上記試料
側の位置に、もしくは(c)電子ビ―ム集束用対物レン
ズが配されている位置よりも上記試料側とは反対側に配
されているのに応じて、上記試料と、(a)上記電子ビ
―ム集束用対物レンズまたは上記電子ビ―ム偏向器、ま
たは(b)上記電子ビ―ム偏向器、もしくは(c)上記
電子ビ―ム集束用対物レンズとの間に、または上記試料
と上記反射電子検出器との間に、上記電子ビ―ムの軸の
まわりに、上記電子ビ―ムの通路を形成するように配さ
れている、上記試料からの反射電子を検出する反射電子
検出器とを、上記試料側端部に有する電子ビ―ム露光装
置において、(iv)上記電子ビ―ム集束用対物レンズ
及び上記電子ビ―ム偏向器がそれぞれ形成している上記
電子ビ―ムの通路中の小さい方の上記電子ビ―ムの通路
よりも小さな電子ビ―ム用開口と、そのまわりに形成さ
れている反射電子用開口とを有し、且つ上記試料と上記
反射電子検出器との間に、上記電子ビ―ム用開口によっ
て上記電子ビ―ムの通路を形成し且つ上記反射電子用開
口によって上記試料から反射して上記反射電子検出器側
に向う反射電子の通路を形成するように配されている導
電性板体と、(v)上記導電性板体に、上記試料を基準
として、上記試料からの2次電子が上記電子ビ―ム集束
用対物レンズ及び上記電子ビ―ム偏向器側に向うのを阻
止するための負極性の電圧を印加する電圧印加手段とを
有する、という構成を有する。
【0015】
【作用・効果】本願第1番目及び本願第2番目の発明に
よる電子ビ―ム露光装置によれば、試料が電子ビ―ムに
よって露光されることによって、試料の表面からその表
面を構成している材料が蒸発するのを予儀なくされ、そ
して、その蒸発物が、電子ビ―ム集束用対物レンズ及び
電子ビ―ム偏向器側に向うが、この場合、導電性板体を
有するので、蒸発物を、電子ビ―ム集束用対物レンズ及
び電子ビ―ム偏向器によってそれぞれ形成されている電
子ビ―ムの通路内にほとんど侵入させなくすることがで
きるか、侵入させるとしても、わずかな量でしか侵入さ
せなくすることができ、このため、試料の表面からの蒸
発物を、電子ビ―ム集束用対物レンズ及び電子ビ―ム偏
向器のそれぞれの電子ビ―ムの通路を画成している内面
に、ほとんど、汚れとして付着させなくすることができ
るか、付着させるとしても、わずかな量でしか付着させ
なくすることができる。
【0016】また、試料が電子ビ―ムによって露光され
ることによって、試料の表面から電子ビ―ム集束用対物
レンズ及び電子ビ―ム偏向器側に向う反射電子及び2次
電子が生じ、そして、それら反射電子及び2次電子が、
蒸発物と同様に、電子ビ―ム集束用対物レンズ及び電子
ビ―ム偏向器側に向うが、この場合、導電性板体を有す
とともに電圧印加手段を有し、そして、その電圧印加
手段によって、導電性板体に、試料を基準として負極性
の電圧を印加することができるとともに、その電圧を適
当に選定することができるので、反射電子及び2次電子
中の反射電子を、電子ビ―ム集束用対物レンズ及び電子
ビ―ム偏向器によってそれぞれ形成されている電子ビ―
ムの通路内にほとんど侵入させなくすることができる
か、侵入させるとしても、わずかな量でしか侵入させな
くすることができ、また、反射電子 及び2次電子中の2
次電子のほとんどを、電子ビ―ム偏向器及び電子ビ―ム
集束用対物レンズ側とは反対側に向わせることができ、
このため、2次電子を、電子ビ―ム集束用対物レンズ及
び電子ビ―ム偏向器のそれぞれによって形成されている
通路内にほとんど侵入させなくすることができ、よっ
て、蒸発物が、電子ビ―ム集束用対物レンズ及び電子ビ
―ム偏向器のそれぞれの電子ビ―ムの通路を画成してい
る内面に、汚れとして、付着していても、その汚れに、
反射電子及び2次電子を、ほとんど照射させなくするこ
とができるか、照射させるとしても、わずかな量でしか
照射させなくすることができ、よって、汚れに、電荷を
ほとんど蓄積させなくすることができるか、蓄積させる
としても、わずかな量でしか蓄積させなくすることがで
きる。
【0017】以上のことから、本願第1番目の発明及び
本願第2番目の発明による電子ビ―ム露光装置によれ
ば、電子ビ―ムが試料を露光する位置を、予定の位置か
らほとんど変化させなくすることができるか、変化させ
るとしても、無視し得る程度にしか変化させなくするこ
とができる。
【0018】また、本願第3番目の発明による電子ビ―
ム露光装置によれば、導電性板体を有するが、その導電
性板体が反射電子用開口を有するので、その導電性板体
を大きくしても、反射電子を、反射電子検出器に、有効
に多量、向わせることができるとともに、導電性板体を
大きくすることによって、試料が電子ビ―ムによって露
光されることによって試料の表面から蒸発して得られる
蒸発物を、電子ビ―ム集束用対物レンズ及び電子ビ―ム
偏向器のそれぞれによって形成されている通路内にほと
んど侵入させなくすることができるか、侵入させるとし
ても、きわめてわずかな量でしか侵入させなくすること
が、本願第1番目の発明及び本願第2番目の発明による
電子ビーム露光装置の場合に比しより効果的にでき、こ
のため、試料の表面からの蒸発物を、電子ビ―ム集束用
対物レンズ及び電子ビ―ム偏向器のそれぞれの電子ビ―
ムの通路を画成している内面に、ほとんど、汚れとし
て、付着させなくすることができるか、付着させるとし
ても、わずかな量でしか付着させなくすることができ
る。
【0019】また、本願第1番目の発明及び本願第2番
目の発明による電子ビーム露光装置の場合と同様に、導
電性板を有するとともに電圧印加手段を有し、そして、
その電圧印加手段によって、導電性板体に、試料を基準
として負極性の電圧を印加することができるとともに、
その電圧を適当に選定することができるので、本願第1
番目の発明及び本願第2番目の発明による電子ビーム露
光装置の場合と同様に、反射電子及び2次電子中の反射
電子を、電子ビ―ム集束用対物レンズ及び電子ビ―ム偏
向器によってそれぞれ形成されている電子ビ―ムの通路
内にほとんど侵入させなくすることができるか、侵入さ
せるとしても、わずかな量でしか侵入させなくすること
ができ、また、反射電子及び2次電子中の2次電子のほ
とんどを、電子ビ―ム偏向器及び電子ビ―ム集束用対物
レンズ側とは反対側に向わせることができ、このため、
2次電子を、電子ビ―ム集束用対物レンズ及び電子ビ―
ム偏向器のそれぞれによって形成されている通路内にほ
とんど侵入させなくすることができ、よって、蒸発物
が、電子ビ―ム集束用対物レンズ及び電子ビ―ム偏向器
のそれぞれの電子ビ―ムの通路を画成している内面に、
汚れとして、付着していても、その汚れに、反射電子及
び2次電子を、ほとんど照射させなくすることができる
か、照射させるとしても、わずかな量でしか照射させな
くすることができ、よって、汚れに、電荷をほとんど蓄
積させなくすることができるか、蓄積させるとしても、
わずかな量でしか蓄積させなくすることができる。
【0020】以上のことから、本願第3番目の発明によ
る電子ビーム露光装置によれば、試料が電子ビームによ
って露出されることによって試料の表面から生じる反射
電子を、反射電子検出器に、有効に多量、向わせること
ができるとともに、本願第1番目の発明及び本願第2番
目の発明による電子ビーム露光装置の場合と同様に、
子ビ―ムが試料を露光する位置を、予定の位置からほと
んど変化させなくすることができるか、変化させるとし
ても、きわめてわずかな、無視し得る程度にしか変化さ
せなくすることができる。
【0021】
【実施例1】次に、図1を伴って、本発明による電子ビ
―ム露光装置の第1の実施例を述べよう。
【0022】図1において、図6との対応部分には同一
符号を付して示す。
【0023】図1に示す本発明による電子ビ―ム露光装
置は、図6に示す従来の第1の電子ビ―ム露光装置の場
合と同様の、(i)電子ビ―ム源(図示せず)から試料
1側に向う、試料1を露光させる電子ビ―ム2の軸のま
わりに、電子ビ―ム2の通路を形成するように配され
た、電子ビ―ム2を試料1上に集束させる電子ビ―ム集
束用対物レンズ3と、(ii)電子ビ―ム集束用対物レ
ンズ3が配されている位置における、電子ビ―ム集束用
対物レンズ3が形成している電子ビ―ム2の通路内に、
電子ビ―ム2の通路を形成するように配されている、電
子ビ―ム2を偏向させる電子ビ―ム偏向器4とを、試料
1側端部に有する、という電子ビ―ム露光装置におい
て、(iii)電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子
ビ―ム偏向器4がそれぞれ形成している電子ビ―ム2の
通路中の小さい方の電子ビ―ム2の通路、この場合、電
子ビ―ム偏向器4が形成している電子ビ―ム2の通路よ
りも小さな電子ビ―ム用開口7aを有し、且つ電子ビ―
ム偏向器4が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3が配され
ている位置における、電子ビ―ム集束用対物レンズ3が
形成している電子ビ―ム2の通路内に配されているのに
応じて、試料1と、電子ビ―ム集束用対物レンズ3また
は電子ビ―ム偏向器4との間に、電子ビ―ム用開口7a
によって電子ビ―ム2の通路を形成するように配されて
いる導電性板体7と、(iv)導電性板体7に、試料1
を基準として、試料1からの2次電子が電子ビ―ム集束
用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4側に向うのを阻
止するための負極性の電圧を印加する電源9を有する電
圧印加手段8とを有する、という構成を有する。
【0024】この場合、試料1は、図6に示す従来の第
1の電子ビ―ム露光装置の場合と同様に、基板体1a上
に電子レジスト層1bが塗布によって形成されている構
成を有する。
【0025】また、電子ビ―ム集束用対物レンズ3は、
図1においては、図6に示す従来の第1の電子ビ―ム露
光装置の場合と同様に、磁気ヨ―ク3aとコイル3bと
を有する電磁型のものであるとして示されているが、静
電型のものであってもよい。
【0026】さらに、電子ビ―ム偏向器4は、図1にお
いては、図6に示す従来の第1の電子ビ―ム露光装置の
場合と同様に、相対する偏向板4aの複数の組を有する
静電型のものであるとして示されているが、電磁型のも
のであってもよい。
【0027】また、試料1、及び電圧印加手段8の電源
9の正極端を、図示のように、接地しておくのを可とす
る。
【0028】以上が、本発明による電子ビ―ム露光装置
の第1の実施例の構成である。
【0029】このような構成を有する本発明による電子
ビ―ム露光装置によれば、試料1が電子ビ―ム2によっ
て露光されることによって、試料1の表面からその表面
を構成している材料(電子レジスト層1bを構成してい
る有機物)が蒸発するのを予儀なくされ、そして、その
蒸発物が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―
ム偏向器4側に向うが、この場合、導電性板体7を有す
るので、蒸発物を、電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び
電子ビ―ム偏向器4によってそれぞれ形成されている電
子ビ―ム2の通路内にほとんど侵入させなくすることが
できるか、侵入させるとしても、わずかな量でしか侵入
させなくすることができ、このため、試料1の表面から
の蒸発物を、電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ
―ム偏向器4のそれぞれの電子ビ―ム2の通路を画成し
ている内面に、ほとんど、汚れとして、付着させなくす
ることができるか、付着させるとしても、わずかな量で
しか付着させなくすることができる。
【0030】また、試料1が電子ビ―ム2によって露光
されることによって、試料1の表面から電子ビ―ム集束
用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4側に向う反射電
子5及び2次電子が生じ、そして、それら反射電子5及
び2次電子が、蒸発物と同様に、電子ビ―ム集束用対物
レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4側に向うが、この場
合、導電性板体7を有するとともに電圧印加手段8を有
し、そして、電圧印加手段8によって、導電性板体7
に、試料1を基準として負極性の電圧を印加することが
できるとともに、その電圧を適当に選定することができ
るので、反射電子5及び2次電子中の反射電子を電子ビ
―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4によっ
てそれぞれ形成されている電子ビ―ム2の通路内にほと
んど侵入させなくすることができるか、侵入させるとし
ても、わずかな量でしか侵入させなくすることができ、
また、反射電子5及び2次電子中の2次電子のほとんど
を、電子ビ―ム偏向器4及び電子ビ―ム集束用対物レン
ズ3側とは反対側に向わせることができ、このため、2
次電子を、電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―
ム偏向器4のそれぞれによって形成されている通路内に
ほとんど侵入させなくすることができ、よって、蒸発物
が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向
器4のそれぞれの電子ビ―ム2の通路を画成している内
面に、汚れとして、付着していても、反射電子5及び2
次電子を、汚れに、ほとんど照射させなくすることがで
きるか、照射させるとしても、わずかな量でしか照射さ
せなくすることができ、よって、汚れに、電荷をほとん
ど蓄積させなくすることができるか、蓄積させるとして
も、わずかな量でしか蓄積させなくすることができる。
【0031】以上のことから、図1に示す本発明による
電子ビ―ム露光装置によれば、電子ビ―ム2が試料1を
露光する位置を、予定の位置からほとんど変化させなく
することができるか、変化させるとしても、無視し得る
程度にしか変化させなくすることができる。
【0032】このことは、導電性板体7の電圧に対す
る、試料1上の電子ビ―ムの位置の変化量を測定したと
ころ、図2に示す結果が得られたことからも明らかであ
ろう。
【0033】
【実施例2】次に、本発明による電子ビ―ム露光装置の
第2の実施例を述べよう。
【0034】本発明による電子ビ―ム露光装置の第2の
実施例は、図示詳細説明は省略するが、図1に示す本発
明による電子ビ―ム露光装置の第1の実施例において、
電子ビ―ム偏向器4が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3
が配されている位置に配されているのに代え、電子ビ―
ム集束用対物レンズ3が配されている位置よりも試料1
側の位置に配され、これに応じて、導電性板体7が、試
料1と電子ビ―ム偏向器4との間に配されていることを
除いて、図1に示す本発明による電子ビ―ム露光装置の
第1の実施例の場合と同様の構成を有する。
【0035】このような構成を有する本発明による電子
ビ―ム露光装置の第2の実施例によれば、上述した事項
を除いて、図1に示す本発明による電子ビ―ム露光装置
の第1の実施例の場合と同様の構成を有するので、詳細
説明は省略するが、図1に示す本発明による電子ビ―ム
露光装置の第1の実施例の場合と同様の作用効果が得ら
れることは明らかである。
【0036】
【実施例3】次に、本発明による電子ビ―ム露光装置の
第3の実施例を述べよう。
【0037】本発明による電子ビ―ム露光装置の第3の
実施例は、図示詳細説明は省略するが、図1に示す本発
明による電子ビ―ム露光装置の第1の実施例において、
電子ビ―ム偏向器4が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3
が配されている位置に配されているのに代え、電子ビ―
ム集束用対物レンズ3が配されている位置よりも試料1
側とは反対側の位置に配され、これに応じて、導電性板
体7が、試料1と電子ビ―ム集束用対物レンズ3との間
に配されていることを除いて、図1に示す本発明による
電子ビ―ム露光装置の第1の実施例の場合と同様の構成
を有する。
【0038】このような構成を有する本発明による電子
ビ―ム露光装置の第3の実施例によれば、上述した事項
を除いて、図1に示す本発明による電子ビ―ム露光装置
の第1の実施例の場合と同様の構成を有するので、詳細
説明は省略するが、図1に示す本発明による電子ビ―ム
露光装置の第1の実施例の場合と同様の作用効果が得ら
れることは明らかである。
【0039】
【実施例4】次に、図3を伴って、本発明による電子ビ
―ム露光装置の第4の実施例を述べよう。
【0040】図3において、図1及び図13との対応部
分には同一符号を付して示す。
【0041】図3に示す本発明による電子ビ―ム露光装
置の第4の実施例は、図7で前述した従来の第2の電子
ビ―ム露光装置の場合と同様の、図6に示す従来の第1
の電子ビ―ム露光装置において、電子ビ―ム偏向器4が
電子ビ―ム集束用対物レンズ3が配されている位置にお
ける、電子ビ―ム集束用対物レンズ3が形成している電
子ビ―ム2の通路内に配されているのに応じて、試料1
と、電子ビ―ム集束用対物レンズ3または電子ビ―ム偏
向器4との間に、電子ビ―ム2の軸のまわりに、電子ビ
―ム偏向器4によって形成している電子ビ―ム2の通路
よりも十分大きな電子ビ―ム2の通路を形成するように
配されている、試料1からの反射電子5を検出する反射
電子検出器を有する電子ビ―ム露光装置において、
(i)電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏
向器4がそれぞれ形成している電子ビ―ム2の通路中の
小さい方の電子ビ―ム2の通路、この場合、電子ビ―ム
偏向器4が形成している電子ビ―ム2の通路よりも小さ
電子ビ―ム用開口7aを有し、且つ電子ビ―ム偏向器
4が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3が配されている位
置における、電子ビ―ム集束用対物レンズ3が形成して
いる電子ビ―ム2の通路内に配されているのに応じて、
反射電子検出器6と、電子ビ―ム集束用対物レンズ3ま
たは電子ビ―ム偏向器4との間に、電子ビ―ム用開口7
aによって電子ビ―ム2の通路を形成するように配され
ている導電性板体7と、(ii)導電性板体7に、試料
1を基準として、試料1からの2次電子が電子ビ―ム集
束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4側に向うのを
阻止するための負極性の電圧を印加する電源9を有する
電圧印加手段8とを有する、という構成を有する。
【0042】以上が、本発明による電子ビ―ム露光装置
の第4の実施例の構成である。
【0043】このような構成を有する電子ビ―ム露光装
置によれば、導電性板体7が、図1に示す本発明による
電子ビ―ム露光装置の第1の実施例の場合と同様に、試
料1と、電子ビ―ム集束用対物レンズ3または電子ビ―
ム偏向器4との間に配されている構成を有するととも
に、電圧印加手段8によって導電性板7に試料1からの
2次電子が電子ビーム集束用対物レンズ3及び電子ビー
ム偏向器4側に向かうのを阻止する負極性の電圧を印加
することができる構成を有するので、詳細説明は省略す
るが、図1に示す本発明による電子ビ―ム露光装置の第
1の実施例の場合と同様の作用効果が得られることは明
らかである。
【0044】
【実施例5】次に、本発明による電子ビ―ム露光装置の
第5の実施例を述べよう。
【0045】本発明による電子ビ―ム露光装置の第5の
実施例は、図示詳細説明は省略するが、図3に示す本発
明による電子ビ―ム露光装置の第4の実施例において、
電子ビ―ム偏向器4が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3
が配されている位置に配されているのに代え、電子ビ―
ム集束用対物レンズ3が配されている位置よりも試料1
側の位置に配され、これに応じて、導電性板体7が、試
料1と電子ビ―ム偏向器4との間に配されていることを
除いて、図3に示す本発明による電子ビ―ム露光装置の
第4の実施例の場合と同様の構成を有する。
【0046】このような構成を有する本発明による電子
ビ―ム露光装置の第5の実施例によれば、上述した事項
を除いて、図3に示す本発明による電子ビ―ム露光装置
の第4の実施例の場合と同様の構成を有するので、詳細
説明は省略するが、図3に示す本発明による電子ビ―ム
露光装置の第4の実施例の場合と同様の作用効果が得ら
れることは明らかである。
【0047】
【実施例6】次に、本発明による電子ビ―ム露光装置の
第6の実施例を述べよう。
【0048】本発明による電子ビ―ム露光装置の第6の
実施例は、図示詳細説明は省略するが、図3に示す本発
明による電子ビ―ム露光装置の第4の実施例において、
電子ビ―ム偏向器4が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3
が配されている位置に配されているのに代え、電子ビ―
ム集束用対物レンズ3が配されている位置よりも試料1
側とは反対側の位置に配され、これに応じて、導電性板
体7が、試料1と電子ビ―ム集束用対物レンズ3との間
に配されていることを除いて、図3に示す本発明による
電子ビ―ム露光装置の第4の実施例の場合と同様の構成
を有する。
【0049】このような構成を有する本発明による電子
ビ―ム露光装置の第6の実施例によれば、上述した事項
を除いて、図3に示す本発明による電子ビ―ム露光装置
の第4の実施例の場合と同様の構成を有するので、詳細
説明は省略するが、図3に示す本発明による電子ビ―ム
露光装置の第4の実施例の場合と同様の作用効果が得ら
れることは明らかである。
【0050】
【実施例7】次に、図4を伴って、本発明による電子ビ
―ム露光装置の第7の実施例を述べよう。
【0051】図4において、図1及び図13との対応部
分には同一符号を付して示す。
【0052】図4に示す本発明による電子ビ―ム露光装
置の第7の実施例は、図7で前述した従来の第2の電子
ビ―ム露光装置の場合と同様の、図6に示す従来の第1
の電子ビ―ム露光装置において、電子ビ―ム偏向器4が
電子ビ―ム集束用対物レンズ3が配されている位置にお
ける、電子ビ―ム集束用対物レンズ3が形成している電
子ビ―ム2の通路内に配されているのに応じて、試料1
と、電子ビ―ム集束用対物レンズ3または電子ビ―ム偏
向器4との間に、電子ビ―ム2の軸のまわりに、電子ビ
―ム偏向器4によって形成している電子ビ―ム2の通路
よりも十分大きな電子ビ―ム2の通路を形成するように
配されている、試料1からの反射電子5を検出する反射
電子検出器を有する電子ビ―ム露光装置において、
(i)電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏
向器4がそれぞれ形成している電子ビ―ム2の通路中の
小さい方の電子ビ―ム2の通路、この場合、電子ビ―ム
偏向器4が形成している電子ビ―ム2の通路よりも小さ
電子ビ―ム用開口7aを有し、且つ試料1と、反射電
子検出器6との間に、電子ビ―ム用開口7aによって電
子ビ―ム2の通路を形成するように配されている導電性
板体7と、(ii)導電性板体7に、試料1を基準とし
て、試料1からの2次電子が電子ビ―ム集束用対物レン
ズ3及び電子ビ―ム偏向器4側に向うのを阻止するため
の負極性の電圧を印加する電源9を有する電圧印加手段
8とを有する、という構成を有する。
【0053】以上が、本発明による電子ビ―ム露光装置
の第7の実施例の構成である。
【0054】このような構成を有する電子ビ―ム露光装
置によれば、導電性板体7が、図1に示す本発明による
電子ビ―ム露光装置の第1の実施例の場合と同様に、試
料1と、電子ビ―ム集束用対物レンズ3または電子ビ―
ム偏向器4との間に配されている構成を有するととも
に、電圧印加手段8によって導電性板7に試料1からの
2次電子が電子ビーム集束用対物レンズ3及び電子ビー
ム偏向器4側に向かうのを阻止する負極性の電圧を印加
することができる構成を有するので、詳細説明は省略す
るが、図1に示す本発明による電子ビ―ム露光装置の第
1の実施例の場合と同様の作用効果が得られることは明
らかである。
【0055】
【実施例8】次に、本発明による電子ビ―ム露光装置の
第8の実施例を述べよう。
【0056】本発明による電子ビ―ム露光装置の第8の
実施例は、図示詳細説明は省略するが、図4に示す本発
明による電子ビ―ム露光装置の第7の実施例において、
電子ビ―ム偏向器4が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3
が配されている位置に配されているのに代え、電子ビ―
ム集束用対物レンズ3が配されている位置よりも試料1
側の位置に配されていることを除いて、図4に示す本発
明による電子ビ―ム露光装置の第7の実施例の場合と同
様の構成を有する。
【0057】このような構成を有する本発明による電子
ビ―ム露光装置の第8の実施例によれば、上述した事項
を除いて、図4に示す本発明による電子ビ―ム露光装置
の第7の実施例の場合と同様の構成を有するので、詳細
説明は省略するが、図4に示す本発明による電子ビ―ム
露光装置の第7の実施例の場合と同様の作用効果が得ら
れることは明らかである。
【0058】
【実施例9】次に、本発明による電子ビ―ム露光装置の
第9の実施例を述べよう。
【0059】本発明による電子ビ―ム露光装置の第9の
実施例は、図示詳細説明は省略するが、図4に示す本発
明による電子ビ―ム露光装置の第7の実施例において、
電子ビ―ム偏向器4が、電子ビ―ム集束用対物レンズ3
が配されている位置に配されているのに代え、電子ビ―
ム集束用対物レンズ3が配されている位置よりも試料1
側とは反対側の位置に配されていることを除いて、図4
に示す本発明による電子ビ―ム露光装置の第7の実施例
の場合と同様の構成を有する。
【0060】このような構成を有する本発明による電子
ビ―ム露光装置の第9の実施例によれば、上述した事項
を除いて、図4に示す本発明による電子ビ―ム露光装置
の第7の実施例の場合と同様の構成を有するので、詳細
説明は省略するが、図4に示す本発明による電子ビ―ム
露光装置の第7の実施例の場合と同様の作用効果が得ら
れることは明らかである。
【0061】
【実施例10】次に、図5を伴って、本発明による電子
ビ―ム露光装置の第10の実施例を述べよう。
【0062】図5において、図1及び図7との対応部分
には同一符号を付して示す。
【0063】図7に示す本発明による電子ビ―ム露光装
置の第10の実施例は、図7で前述した従来の第2の電
子ビ―ム露光装置の場合と同様の、図6に示す従来の第
1の電子ビ―ム露光装置において、電子ビ―ム偏向器4
が電子ビ―ム集束用対物レンズ3が配されている位置に
おける、電子ビ―ム集束用対物レンズ3が形成している
電子ビ―ム2の通路内に配されているのに応じて、試料
1と、電子ビ―ム集束用対物レンズ3または電子ビ―ム
偏向器4との間に、電子ビ―ム2の軸のまわりに、電子
ビ―ム偏向器4によって形成している電子ビ―ム2の通
路よりも十分大きな電子ビ―ム2の通路を形成するよう
に配されている、試料1からの反射電子5を検出する反
射電子検出器を有する電子ビ―ム露光装置において、
(i)電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏
向器4がそれぞれ形成している電子ビ―ム2の通路中の
小さい方の電子ビ―ム2の通路、この場合、電子ビ―ム
偏向器4が形成している電子ビ―ム2の通路よりも小さ
電子ビ―ム用開口7aとそのまわりに形成されている
反射電子用開口7bとを有し、且つ試料1と反射電子検
出器6との間に、電子ビ―ム用開口7aによって電子ビ
―ム2の通路を形成と且つ反射電子用開口7bによって
試料1から反射して反射電子検出器6側に向う反射電子
の通路を形成するように配されている導電性板体7と、
(ii)導電性板体7に、試料1を基準として、試料1
からの2次電子が電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電
子ビ―ム偏向器4側に向うのを阻止するための負極性の
電圧を印加する電源9を有する電圧印加手段8とを有す
る、という構成を有する。
【0064】以上が、本発明による電子ビ―ム露光装置
の第10の実施例の構成である。
【0065】このような構成を有する電子ビ―ム露光装
置によれば、導電性板体7を有し、そして、その導電性
板体7を大きくしても、その導電性板体7が反射電子用
開口7bを有するので、反射電子5を、反射電子検出器
6に、有効に多量、向わせることができるとともに、
電性板体7を大きくすることによって、試料1が電子ビ
―ム2によって露光されることによって試料1の表面か
ら蒸発して得られる蒸発物を、電子ビ―ム集束用対物レ
ンズ3及び電子ビ―ム偏向器4のそれぞれによって形成
されている通路内にほとんど侵入させなくすることがで
きるか、侵入させるとしても、きわめてわずかな量でし
か侵入させなくすることが、上述した実施例1〜9に示
す本発明による電子ビーム露光装置の場合に比しより効
果的にでき、このため、試料1の表面からの蒸発物を、
電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4
のそれぞれの電子ビ―ム2の通路を画成している内面
に、ほとんど、汚れとして、付着させなくすることがで
きるか、付着させるとしても、わずかな量でしか付着さ
せなくすることができる。
【0066】また、上述した実施例1〜9に示す本発明
による電子ビーム露光装置の場合と同様に、導電性板7
を有するとともに電圧印加手段8を有し、そして、その
電圧印加手段8によって、導電性板体7に、試料1を基
準として負極性の電圧を印加することができるととも
に、その電圧を適当に選定することができるので、反射
電子5及び2次電子中の反射電子を、電子ビ―ム集束用
対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4によってそれぞれ
形成されている電子ビ―ム2の通路内にほとんど侵入さ
せなくすることができるか、侵入させるとしても、わず
かな量でしか侵入させなくすることができ、また、反射
電子5及び2次電子中の2次電子のほとんどを、電子ビ
―ム偏向器4及び電子ビ―ム集束用対物レンズ3側とは
反対側に向わせることができ、このため、2次電子を、
電子ビ―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4
のそれぞれによって形成されている通路内にほとんど侵
入させなくすることができ、よって、蒸発物が、電子ビ
―ム集束用対物レンズ3及び電子ビ―ム偏向器4のそれ
ぞれの電子ビ―ム2の通路を画成している内面に、汚れ
として、付着していても、その汚れに、反射電子5及び
2次電子を、ほとんど照射させなくすることができる
か、照射させるとしても、わずかな量でしか照射させな
くすることができ、よって、汚れに、電荷をほとんど蓄
積させなくすることができるか、蓄積させるとしても、
わずかな量でしか蓄積させなくすることができる。
【0067】以上のことから、図5に示す本発明による
電子ビーム露光装置による場合も、図1、図3及び図4
に示す本発明による電子ビーム露光装置の場合と同様
に、電子ビ―ム2が試料1を露光する位置を、予定の位
置からほとんど変化させなくすることができるか、変化
させるとしても、きわめてわずかな、無視し得る程度に
しか変化させなくすることができる。
【0068】
【実施例11】次に、本発明による電子ビ―ム露光装置
の第11の実施例を述べよう。
【0069】本発明による電子ビ―ム露光装置の第11
の実施例は、図示詳細説明は省略するが、図5に示す本
発明による電子ビ―ム露光装置の第10の実施例におい
て、電子ビ―ム偏向器4が、電子ビ―ム集束用対物レン
ズ3が配されている位置に配されているのに代え、電子
ビ―ム集束用対物レンズ3が配されている位置よりも試
料1側の位置に配され、これに応じて、導電性板体7
が、試料1と電子ビ―ム偏向器4との間に配されている
ことを除いて、図5に示す本発明による電子ビ―ム露光
装置の第10の実施例の場合と同様の構成を有する。
【0070】このような構成を有する本発明による電子
ビ―ム露光装置の第2の実施例によれば、上述した事項
を除いて、図5に示す本発明による電子ビ―ム露光装置
の第10の実施例の場合と同様の構成を有するので、詳
細説明は省略するが、図5に示す本発明による電子ビ―
ム露光装置の第10の実施例の場合と同様の作用効果が
得られることは明らかである。
【0071】
【実施例12】次に、本発明による電子ビ―ム露光装置
の第12の実施例を述べよう。
【0072】本発明による電子ビ―ム露光装置の第12
の実施例は、図示詳細説明は省略するが、図5に示す本
発明による電子ビ―ム露光装置の第10の実施例におい
て、電子ビ―ム偏向器4が、電子ビ―ム集束用対物レン
ズ3が配されている位置に配されているのに代え、電子
ビ―ム集束用対物レンズ3が配されている位置よりも試
料1側とは反対側の位置に配され、これに応じて、導電
性板体7が、試料1と電子ビ―ム集束用対物レンズ3と
の間に配されていることを除いて、図5に示す本発明に
よる電子ビ―ム露光装置の第10の実施例の場合と同様
の構成を有する。
【0073】このような構成を有する本発明による電子
ビ―ム露光装置の第12の実施例によれば、上述した事
項を除いて、図5に示す本発明による電子ビ―ム露光装
置の第10の実施例の場合と同様の構成を有するので、
詳細説明は省略するが、図5に示す本発明による電子ビ
―ム露光装置の第10の実施例の場合と同様の作用効果
が得られることは明らかである。
【0074】なお、上述においては本発明のわずかな実
施例を示したに留まり、本発明の精神を脱することなし
に、種々の変型、変更をなし得るであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による電子ビ―ム露光装置の第1の実施
例を示す、その要部の略線的断面図である。
【図2】本発明による電子ビ―ム露光装置の第1の実施
例の説明に供する、導電性板体に印加する電圧に対す
る、試料上の電子ビ―ムの位置変動量の関係を示す図で
ある。
【図3】本発明による電子ビ―ム露光装置の第4の実施
例を示す、その要部の略線的断面図である。
【図4】本発明による電子ビ―ム露光装置の第7の実施
例を示す、その要部の略線的断面図である。
【図5】本発明による電子ビ―ム露光装置の第10の実
施例を示す、その要部の略線的断面図である。
【図6】従来の第1の電子ビ―ム露光装置を示す、その
要部の略線的断面図である。
【図7】従来の第2の電子ビ―ム露光装置を示す、その
要部の略線的断面図である。
【符号の説明】
1 試料 2 電子ビ―ム 3 電子ビ―ム集束用対物レンズ 4 電子ビ―ム偏向器 5 反射電子 6 反射電子検出器 7 導電性板体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−147611(JP,A) 特開 平1−248517(JP,A) 特開 昭56−94739(JP,A) 特開 平4−171810(JP,A) 特開 昭60−53021(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (i)電子ビ―ム源から試料側に向う、
    上記試料を露光させる電子ビ―ムの軸のまわりに、上記
    電子ビ―ムの通路を形成するように配された、上記電子
    ビ―ムを上記試料上に集束させる電子ビ―ム集束用対物
    レンズと、(ii)(a)上記電子ビ―ム集束用対物レ
    ンズが配されている位置における、上記電子ビ―ム集束
    用対物レンズが形成している上記電子ビ―ムの通路内
    に、または(b)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配
    されている位置よりも上記試料側の位置に、もしくは
    (c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている
    位置よりも上記試料側とは反対側の位置に、上記電子ビ
    ―ムの軸のまわりに、上記電子ビ―ムの通路を形成する
    ように配されている、上記電子ビ―ムを偏向させる電子
    ビ―ム偏向器とを、上記試料側端部に有する電子ビ―ム
    露光装置において、 (iii)上記電子ビ―ム集束用対物レンズ及び上記電
    子ビ―ム偏向器がそれぞれ形成している上記電子ビ―ム
    の通路中の小さい方の上記電子ビ―ムの通路よりも小さ
    電子ビ―ム用開口を有し、且つ上記電子ビ―ム偏向器
    が、(a)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されて
    いる位置における、上記電子ビ―ム集束用対物レンズが
    形成している上記電子ビ―ムの通路内に、または(b)
    電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている位置よりも
    上記試料側の位置に、もしくは(c)電子ビ―ム集束用
    対物レンズが配されている位置よりも上記試料側とは反
    対側に配されているのに応じて、上記試料と、(a)上
    記電子ビ―ム集束用対物レンズまたは上記電子ビ―ム偏
    向器、または(b)上記電子ビ―ム偏向器、もしくは
    (c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズとの間に、上記
    電子ビ―ム用開口によって上記電子ビ―ムの通路を形成
    するように配されている導電性板体と、 (iv)上記導電性板体に、上記試料を基準として、上
    記試料からの2次電子が上記電子ビ―ム集束用対物レン
    ズ及び上記電子ビ―ム偏向器側に向うのを阻止するため
    の負極性の電圧を印加する電圧印加手段とを有する こと
    を特徴とする電子ビ―ム露光装置。
  2. 【請求項2】 (i)電子ビ―ム源から試料側に向う、
    上記試料を露光させる電子ビ―ムの軸のまわりに、上記
    電子ビ―ムの通路を形成するように配された、上記電子
    ビ―ムを上記試料上に集束させる電子ビ―ム集束用対物
    レンズと、(ii)(a)上記電子ビ―ム集束用対物レ
    ンズが配されている位置における、上記電子ビ―ム集束
    用対物レンズが形成している上記電子ビ―ムの通路内
    に、または(b)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配
    されている位置よりも上記試料側の位置に、もしくは
    (c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている
    位置よりも上記試料側とは反対側の位置に、上記電子ビ
    ―ムの軸のまわりに、上記電子ビ―ムの通路を形成する
    ように配されている、上記電子ビ―ムを偏向させる電子
    ビ―ム偏向器と、(iii)上記電子ビ―ム偏向器が、
    (a)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている
    位置における、上記電子ビ―ム集束用対物レンズが形成
    している上記電子ビ―ムの通路内に、または(b)電子
    ビ―ム集束用対物レンズが配されている位置よりも上記
    試料側の位置に、もしくは(c)上記電子ビ―ム集束用
    対物レンズが配されている位置よりも上記試料側とは反
    対側に配されているのに応じて、上記試料と、(a)上
    記電子ビ―ム集束用対物レンズまたは上記電子ビ―ム偏
    向器、または(b)上記電子ビ―ム偏向器、もしくは
    (c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズとの間に、上記
    電子ビ―ムの軸のまわりに、上記電子ビ―ムの通路を形
    成するように配されている、上記試料からの反射電子を
    検出する反射電子検出器とを、上記試料側端部に有する
    電子ビ―ム露光装置において、 (iv)上記電子ビ―ム集束用対物レンズ及び上記電子
    ビ―ム偏向器がそれぞれ形成している上記電子ビ―ムの
    通路中の小さい方の上記電子ビ―ムの通路よりも小さな
    電子ビ―ム用開口を有し、且つ上記電子ビ―ム偏向器
    が、(a)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されて
    いる位置における、上記電子ビ―ム集束用対物レンズが
    形成している電子ビ―ムの通路内に、または(b)電子
    ビ―ム集束用対物レンズが配されている位置よりも上記
    試料側の位置に、もしくは(c)電子ビ―ム集束用対物
    レンズが配されている位置よりも上記試料側とは反対側
    に配されているのに応じて、上記反射電子検出器と、
    (a)上記電子ビ―ム集束用対物レンズまたは上記電子
    ビ―ム偏向器、または(b)上記電子ビ―ム偏向器、も
    しくは(c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズとの間
    に、または上記試料と上記反射電子検出器との間に、上
    記電子ビ―ム用開口によって上記電子ビ―ムの通路を形
    成するように配されている導電性板体と、 (v)上記導電性板体に、上記試料を基準として、上記
    試料からの2次電子が上記電子ビ―ム集束用対物レンズ
    及び上記電子ビ―ム偏向器側に向うのを阻止するための
    負極性の電圧を印加する電圧印加手段とを有する ことを
    特徴とする電子ビ―ム露光装置。
  3. 【請求項3】 (i)電子ビ―ム源から試料側に向う、
    上記試料を露光させる電子ビ―ムの軸のまわりに、上記
    電子ビ―ムの通路を形成するように配された、上記電子
    ビ―ムを上記試料上に集束させる電子ビ―ム集束用対物
    レンズと、(ii)(a)上記電子ビ―ム集束用対物レ
    ンズが配されている位置における、上記電子ビ―ム集束
    用対物レンズが形成している上記電子ビ―ムの通路内
    に、または(b)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配
    されている位置よりも上記試料側の位置に、もしくは
    (c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている
    位置よりも上記試料側とは反対側の位置に、上記電子ビ
    ―ムの軸のまわりに、上記電子ビ―ムの通路を形成する
    ように配されている、上記電子ビ―ムを偏向させる電子
    ビ―ム偏向器と、(iii)上記電子ビ―ム偏向器が、
    (a)上記電子ビ―ム集束用対物レンズが配されている
    位置における、上記電子ビ―ム集束用対物レンズが形成
    している上記電子ビ―ムの通路内に、または(b)電子
    ビ―ム集束用対物レンズが配されている位置よりも上記
    試料側の位置に、もしくは(c)上記電子ビ―ム集束用
    対物レンズが配されている位置よりも上記試料側とは反
    対側に配されているのに応じて、上記試料と、(a)上
    記電子ビ―ム集束用対物レンズまたは上記電子ビ―ム偏
    向器、または(b)上記電子ビ―ム偏向器、もしくは
    (c)上記電子ビ―ム集束用対物レンズとの間に、上記
    電子ビ―ムの軸のまわりに、上記電子ビ―ムの通路を形
    成するように配されている、上記試料からの反射電子を
    検出する反射電子検出器とを、上記試料側端部に有する
    電子ビ―ム露光装置において、 (iv)上記電子ビ―ム集束用対物レンズ及び上記電子
    ビ―ム偏向器がそれぞれ形成している上記電子ビ―ムの
    通路中の小さい方の上記電子ビ―ムの通路よりも小さな
    電子ビ―ム用開口とそのまわりに形成されている反射
    電子用開口とを有し、且つ上記試料と上記反射電子検出
    器との間に、上記電子ビ―ム用開口によって上記電子ビ
    ―ムの通路を形成し且つ上記反射電子用開口によって上
    記試料から反射して上記反射電子検出器側に向う反射電
    子の通路を形成するように配されている導電性板体と、 (v)上記導電性板体に、上記試料を基準として、上記
    試料からの2次電子が上記電子ビ―ム集束用対物レンズ
    及び上記電子ビ―ム偏向器側に向うのを阻止するための
    負極性の電圧を印加する電圧印加手段とを有する ことを
    特徴とする電子ビ―ム露光装置。
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