JP3162744B2 - Ｘ線回折計装置及びその使用法 - Google Patents
Ｘ線回折計装置及びその使用法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線源と、該Ｘ線源用
のコリメータ装置と、試料支持体と、試料により反射さ
れたビームに対するコリメータ装置と、試料により反射
された光子の数に比例する出力信号を電圧形態にて発生
するカウンタとを具えているＸ線回折計装置に関するも
のである。
のコリメータ装置と、試料支持体と、試料により反射さ
れたビームに対するコリメータ装置と、試料により反射
された光子の数に比例する出力信号を電圧形態にて発生
するカウンタとを具えているＸ線回折計装置に関するも
のである。
【０００２】本発明はこのＸ線回折計装置の傾斜入射
（視射）モードでの使用法にも関するものである。本発
明は、例えばＸ線光学装置用の多層ミラーの如き、Ｘ線
技法に利用される多層構造の特性を決定したり、光学的
指標が異なる金属、半導体又は絶縁材料製の層の幅を測
定するのに用いられる。
（視射）モードでの使用法にも関するものである。本発
明は、例えばＸ線光学装置用の多層ミラーの如き、Ｘ線
技法に利用される多層構造の特性を決定したり、光学的
指標が異なる金属、半導体又は絶縁材料製の層の幅を測
定するのに用いられる。
【０００３】本発明によれば層の幅をナノメートルのレ
ンジで測定でき、２又は３ナノメートルの異なる材料層
を積み重ねた（２又は３層系）場合に、これらの層の幅
を測定でき、繰り返し積み重ねるピッチを測定でき、こ
れらの層を形成する材料の特性パラメータを測定でき、
従ってこれらの材料を識別でき、体積層の表面の荒さ、
その平均的荒さを決定することができる。
ンジで測定でき、２又は３ナノメートルの異なる材料層
を積み重ねた（２又は３層系）場合に、これらの層の幅
を測定でき、繰り返し積み重ねるピッチを測定でき、こ
れらの層を形成する材料の特性パラメータを測定でき、
従ってこれらの材料を識別でき、体積層の表面の荒さ、
その平均的荒さを決定することができる。
【０００４】
【従来の技術】Ｘ線回折計装置はフィリップス社から市
販されているＰＷ 1050 タイプの従来の装置から既知で
ある。この装置は、Ｘ線源と、このＸ線源から到来する
ビームに対するコリメーションスリット系と、入射ビー
ムが試料に（π／２）−θに相当する入射角、即ちビー
ムが試料支持体の平面に対して視射角θを成すように配
置される試料支持体と、反射ビーム用のコリメーション
スリット系と、反射光子の数を検出する比例カウンタタ
イプの検出器とを具えている。
販されているＰＷ 1050 タイプの従来の装置から既知で
ある。この装置は、Ｘ線源と、このＸ線源から到来する
ビームに対するコリメーションスリット系と、入射ビー
ムが試料に（π／２）−θに相当する入射角、即ちビー
ムが試料支持体の平面に対して視射角θを成すように配
置される試料支持体と、反射ビーム用のコリメーション
スリット系と、反射光子の数を検出する比例カウンタタ
イプの検出器とを具えている。
【０００５】なお、ここに云う比例カウンタとは検出す
べき光子束によりイオン化することのできるガスを収容
しており、且つ光子の数に比例する電圧形態の信号を供
給する装置のことを意味するものとする。実際上、比例
カウンタの応答性はビームの所定の強度範囲内でしか線
形とならない。試料によって反射されるビーム強度が弱
過ぎたり、又は強過ぎたりすると、カウンタの出力が線
形応答範囲内に入らなくなる。
べき光子束によりイオン化することのできるガスを収容
しており、且つ光子の数に比例する電圧形態の信号を供
給する装置のことを意味するものとする。実際上、比例
カウンタの応答性はビームの所定の強度範囲内でしか線
形とならない。試料によって反射されるビーム強度が弱
過ぎたり、又は強過ぎたりすると、カウンタの出力が線
形応答範囲内に入らなくなる。
【０００６】そこで、既に市販されている回折計装置は
試料の多層試料の特性を決定するのに意図的に用いるの
に適しておらず、又層の幅を測定するのにも適さない。
その理由は、斯かる回折計装置は所定の入射角の範囲内
でしか作動できないからである。この装置は種々の材料
の粉末試料のメッシュパラメータを測定するのには申し
分なく適している。これは、粉末の場合には入射角度が
極めて高い値となることはなく、即ち入射角は一般に視
射角又は直角入射の範囲内に位置しないからである。メ
ッシュパラメータは比例カウンタの出力信号の変化を判
断することにより測定される。これらの出力信号の変化
は、振幅値が検出器により受け捕られる光子の数に比例
すると共に距離が材料の特性、特にその材料のメッシュ
パラメータでもあるピークを呈する。これらの測定値を
分類表に含まれるデータと比較することにより、調べよ
うとする粉末のメッシュパラメータを求め、且つそれか
ら複合材料の性質を得ることができる。
試料の多層試料の特性を決定するのに意図的に用いるの
に適しておらず、又層の幅を測定するのにも適さない。
その理由は、斯かる回折計装置は所定の入射角の範囲内
でしか作動できないからである。この装置は種々の材料
の粉末試料のメッシュパラメータを測定するのには申し
分なく適している。これは、粉末の場合には入射角度が
極めて高い値となることはなく、即ち入射角は一般に視
射角又は直角入射の範囲内に位置しないからである。メ
ッシュパラメータは比例カウンタの出力信号の変化を判
断することにより測定される。これらの出力信号の変化
は、振幅値が検出器により受け捕られる光子の数に比例
すると共に距離が材料の特性、特にその材料のメッシュ
パラメータでもあるピークを呈する。これらの測定値を
分類表に含まれるデータと比較することにより、調べよ
うとする粉末のメッシュパラメータを求め、且つそれか
ら複合材料の性質を得ることができる。
【０００７】前述したタイプの既知の装置を用いての斯
かる方法によるメッシュパラメータの測定はブラッグの
関係式、即ち ２ｄ・sin θ＝λ に基づくものである。ここに、λ＝Ｘ線源の一定値の波
長、θ＝入射ビームの通路と調査材料の網状平面との間
の視射角、ｄ＝例えば、調査粉末を成す材料のメッシュ
パラメータである。従来の装置は大きな視射角で調査用
粉末に配置するので、この装置で行われる測定はメッシ
ュパラメータｄの値が小さい材料にしか適用することが
できない。
かる方法によるメッシュパラメータの測定はブラッグの
関係式、即ち ２ｄ・sin θ＝λ に基づくものである。ここに、λ＝Ｘ線源の一定値の波
長、θ＝入射ビームの通路と調査材料の網状平面との間
の視射角、ｄ＝例えば、調査粉末を成す材料のメッシュ
パラメータである。従来の装置は大きな視射角で調査用
粉末に配置するので、この装置で行われる測定はメッシ
ュパラメータｄの値が小さい材料にしか適用することが
できない。
【０００８】現在では、粉末だけでなく、バルキー(bul
ky) エレメント、例えば軟Ｘ線の分野で作動する多層ミ
ラーや、薄い金属、半導体層、絶縁層、あらゆる固体物
質等の特性を調べることのできるようにする必要があ
る。
ky) エレメント、例えば軟Ｘ線の分野で作動する多層ミ
ラーや、薄い金属、半導体層、絶縁層、あらゆる固体物
質等の特性を調べることのできるようにする必要があ
る。
【０００９】例えば前記バルキーエレメント又は多層ミ
ラーは屈折率の異なる少なくとも２つの材料、即ち重質
材料と称されるものと、軽質材料と称されるものとを交
互に並べて形成される。層間の間隔はミラーの構造によ
り規定される。
ラーは屈折率の異なる少なくとも２つの材料、即ち重質
材料と称されるものと、軽質材料と称されるものとを交
互に並べて形成される。層間の間隔はミラーの構造によ
り規定される。
【００１０】このタイプのバルキーエレメントの特性を
決定するには、大きなパラメータｄを測定する必要があ
る。従って、前述した関係式から結論付けられること
は、Ｘ線源の波長が一定の場合、測定を極めて小さな入
射角θ（視射角）で行う場合にのみ、大きなパラメータ
ｄを有する材料の特性を決定することができるようにな
り、又層の厚さを測定する場合に、１〜300 nmの範囲内
の幅を測定できると云うことにある。
決定するには、大きなパラメータｄを測定する必要があ
る。従って、前述した関係式から結論付けられること
は、Ｘ線源の波長が一定の場合、測定を極めて小さな入
射角θ（視射角）で行う場合にのみ、大きなパラメータ
ｄを有する材料の特性を決定することができるようにな
り、又層の厚さを測定する場合に、１〜300 nmの範囲内
の幅を測定できると云うことにある。
【００１１】前述したタイプの従来の装置では、比例カ
ウンタに制限があるために、視射角が極めて大きな場合
には作動させることができない。実際上、視射角が大き
い場合には、反射強度が極めて強くなり、しかも飽和現
象のために比例カウンタの出力は、このカウンタの応答
性が線形となる強度範囲から外れてしまう。従って、従
来装置では前述した試料の特性を決定することはできな
い。
ウンタに制限があるために、視射角が極めて大きな場合
には作動させることができない。実際上、視射角が大き
い場合には、反射強度が極めて強くなり、しかも飽和現
象のために比例カウンタの出力は、このカウンタの応答
性が線形となる強度範囲から外れてしまう。従って、従
来装置では前述した試料の特性を決定することはできな
い。
【００１２】又、前記多層ミラーの如き固体試料の場合
には、入射角（π／２）−θに対するθの値をθ＝０か
ら、０でない小さな値、例えばθ＝２°又はθ＝４°ま
での値とする必要がある。この場合には、反射強度が大
きな割合で変化する。例えば、反射ビームの強度がθ＝
０°に対して比例カウンタの線形範囲内にある場合、こ
の反射強度はθ＝２°に対しては最早強度不足により斯
かる線形範囲には含まれなくなる。これに反し、反射強
度がθ＝２°に対して比例カウンタの線形範囲内にある
場合には、この反射強度が過度に大きくなるために、θ
＝０°に対しては斯かる線形範囲内に入らなくなる。
には、入射角（π／２）−θに対するθの値をθ＝０か
ら、０でない小さな値、例えばθ＝２°又はθ＝４°ま
での値とする必要がある。この場合には、反射強度が大
きな割合で変化する。例えば、反射ビームの強度がθ＝
０°に対して比例カウンタの線形範囲内にある場合、こ
の反射強度はθ＝２°に対しては最早強度不足により斯
かる線形範囲には含まれなくなる。これに反し、反射強
度がθ＝２°に対して比例カウンタの線形範囲内にある
場合には、この反射強度が過度に大きくなるために、θ
＝０°に対しては斯かる線形範囲内に入らなくなる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】光学系における過度に
高い光度により生ずる問題点を解決するのに吸収フィル
タを介挿することは当業者に既知である。しかし前述し
たように、この解決策を従来の装置に直接適用すること
はできない。その理由は、反射強度が測定条件の１つで
カウンタの線形範囲内にあっても、同じ測定用の条件が
変化した時点から反射強度は最早斯かる線形範囲から外
れることになるからである。
高い光度により生ずる問題点を解決するのに吸収フィル
タを介挿することは当業者に既知である。しかし前述し
たように、この解決策を従来の装置に直接適用すること
はできない。その理由は、反射強度が測定条件の１つで
カウンタの線形範囲内にあっても、同じ測定用の条件が
変化した時点から反射強度は最早斯かる線形範囲から外
れることになるからである。
【００１４】これがため、測定条件が変化する場合に、
所定のフィルタを所定の試料により反射されたビーム強
度の関数として介挿する問題に対する解を見出す必要が
ある。このような解を見つければ、固体試料だけでな
く、メッシュパラメータが大きい試料並びに固体で、し
かもパラメータの大きい試料を測定でき、即ち試料のパ
ラメータが各測定毎に変化する場合でも測定することが
できる。
所定のフィルタを所定の試料により反射されたビーム強
度の関数として介挿する問題に対する解を見出す必要が
ある。このような解を見つければ、固体試料だけでな
く、メッシュパラメータが大きい試料並びに固体で、し
かもパラメータの大きい試料を測定でき、即ち試料のパ
ラメータが各測定毎に変化する場合でも測定することが
できる。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は冒頭にて述べた
種類のＸ線回折計装置において、当該Ｘ線回折計装置
が： −試料支持体用のモータ駆動部； −前記比例カウンタにより供給される信号Ｙを、試料の
入射平面と入射ビームとの間の角度θの関数Ｘとして記
録する記録手段； −吸収係数が異なる複数のフィルタに対する支持体を有
し、且つこの支持体用のモータ駆動部を含む機械的手
段； −前記フィルタ支持体における１つのフィルタを選択
し、前記試料支持体のモータ駆動部、前記フィルタ支持
体のモータ駆動部及び/又は前記記録手段を制御し、且
つ前記比例カウンタに向かって伝搬するビームの強度が
該比例カウンタの線形動作レンジに対応するように、前
記試料により反射されるビーム通路内に、反射強度の一
部を吸収する吸収度を有するフィルタを挿入させるため
のデータ処理手段； も具えていることを特徴とする。
種類のＸ線回折計装置において、当該Ｘ線回折計装置
が： −試料支持体用のモータ駆動部； −前記比例カウンタにより供給される信号Ｙを、試料の
入射平面と入射ビームとの間の角度θの関数Ｘとして記
録する記録手段； −吸収係数が異なる複数のフィルタに対する支持体を有
し、且つこの支持体用のモータ駆動部を含む機械的手
段； −前記フィルタ支持体における１つのフィルタを選択
し、前記試料支持体のモータ駆動部、前記フィルタ支持
体のモータ駆動部及び/又は前記記録手段を制御し、且
つ前記比例カウンタに向かって伝搬するビームの強度が
該比例カウンタの線形動作レンジに対応するように、前
記試料により反射されるビーム通路内に、反射強度の一
部を吸収する吸収度を有するフィルタを挿入させるため
のデータ処理手段； も具えていることを特徴とする。
【００１６】このような装置によれば、比例カウンタが
もはや線形作動しなくなる値に反射強度が達するや否
や、吸収フィルタを自動的に別のフィルタと置き換え
て、この別のフィルタの吸収性により比例カウンタが再
び線形作動するようになると云う利点がある。
もはや線形作動しなくなる値に反射強度が達するや否
や、吸収フィルタを自動的に別のフィルタと置き換え
て、この別のフィルタの吸収性により比例カウンタが再
び線形作動するようになると云う利点がある。
【００１７】従って、一方では比例カウンタは常にそれ
が線形作動する範囲内で作動し、他方では角度及び又は
試料の種類に関係なく、オペレータを煩わす必要なくあ
らゆる測定を同時に行うことができる。
が線形作動する範囲内で作動し、他方では角度及び又は
試料の種類に関係なく、オペレータを煩わす必要なくあ
らゆる測定を同時に行うことができる。
【００１８】図面につき本発明を説明する。図１に示す
ように、Ｘ線回折計装置は市販のフィリップス装置PW10
50から既知の少なくとも次の素子を含んでいる。 −リニアＸ線源１；実際には市販で入手し得るＸ線源は
リニアＸ線源である。このＸ線源は装置の光軸に対し、
このＸ線源がこの光軸とサンプリング角と称す小角度又
は大角度をなすように位置決めされ、有用光度は試料角
に依存する。−ソラースリット２と発散スリット３を含
むコリメータ系２及び３； −試料方向づけ手段10（図示せず）を具えるゴニオメー
タ式試料支持体；この方向づけ手段は特に入射角の制御
手段を具え、説明を簡単にするために、“視射角θ”な
る表現を入斜角が（π／２）−θのときのビームと試料
面との間の角度θを表わすのに用いる。 −いわゆる受光スリットから成るコリメータ系５； −ＸＲ（Ｘ線）領域のグラファイトモノクロメータ型モ
ノクロメータ７； −比例カウンタ８；
ように、Ｘ線回折計装置は市販のフィリップス装置PW10
50から既知の少なくとも次の素子を含んでいる。 −リニアＸ線源１；実際には市販で入手し得るＸ線源は
リニアＸ線源である。このＸ線源は装置の光軸に対し、
このＸ線源がこの光軸とサンプリング角と称す小角度又
は大角度をなすように位置決めされ、有用光度は試料角
に依存する。−ソラースリット２と発散スリット３を含
むコリメータ系２及び３； −試料方向づけ手段10（図示せず）を具えるゴニオメー
タ式試料支持体；この方向づけ手段は特に入射角の制御
手段を具え、説明を簡単にするために、“視射角θ”な
る表現を入斜角が（π／２）−θのときのビームと試料
面との間の角度θを表わすのに用いる。 −いわゆる受光スリットから成るコリメータ系５； −ＸＲ（Ｘ線）領域のグラファイトモノクロメータ型モ
ノクロメータ７； −比例カウンタ８；
【００１９】
【実施例】本発明は、従来の装置を、いわゆるブラッグ
の関係式２ｄsin θ＝λでθ及びλ（Ｘ線源の波長）と
関係づけられる所定のパラメータｄの大きな値を測定し
得るように変更するものである。極めて大きなパラメー
タｄの測定を得るために、一方ではＸ線源の選択、即ち
λの選択を行う。この実行のためにＸ線源を、いくつか
のＸ線金属源のＸ線Ｋαの関数として波長λ（Å＝1/10
nm単位) を示す後記の表Ｉに指定したＸ線源の中から選
択する。他方では、角度θの変化を視射角で０°≦θ≦
２°の角度範囲内に選択する。
の関係式２ｄsin θ＝λでθ及びλ（Ｘ線源の波長）と
関係づけられる所定のパラメータｄの大きな値を測定し
得るように変更するものである。極めて大きなパラメー
タｄの測定を得るために、一方ではＸ線源の選択、即ち
λの選択を行う。この実行のためにＸ線源を、いくつか
のＸ線金属源のＸ線Ｋαの関数として波長λ（Å＝1/10
nm単位) を示す後記の表Ｉに指定したＸ線源の中から選
択する。他方では、角度θの変化を視射角で０°≦θ≦
２°の角度範囲内に選択する。
【００２０】この変更装置は固体材料のメッシュパラメ
ータ、例えばＸ線用干渉ミラーのような多層材料の幅、
表面粗さ度又は平均積層粗さ度の測定に用いる。この装
置を上記の視射モードで動作させると、試料支持体１１
上に位置する固体材料により反射されるＸ線強度が、試
料が粉末のときよりも著しく大きくなる。平坦な試料の
場合、Ｘ線ビームの反射は特に、波長λ、材料の密度及
び性質により決まる或る角度θcまでは全反射し、即ち
反射率が１に等しくなる。この結果、比例カウンタ８は
設計量より多量の光子を受光し、この場合にはカウンタ
は非線形動作レンジ内にある。
ータ、例えばＸ線用干渉ミラーのような多層材料の幅、
表面粗さ度又は平均積層粗さ度の測定に用いる。この装
置を上記の視射モードで動作させると、試料支持体１１
上に位置する固体材料により反射されるＸ線強度が、試
料が粉末のときよりも著しく大きくなる。平坦な試料の
場合、Ｘ線ビームの反射は特に、波長λ、材料の密度及
び性質により決まる或る角度θcまでは全反射し、即ち
反射率が１に等しくなる。この結果、比例カウンタ８は
設計量より多量の光子を受光し、この場合にはカウンタ
は非線形動作レンジ内にある。
【００２１】この問題を解決するために本発明によれ
ば、試料により反射されたビーム通路内の、受光スリッ
ト５とグラファイトモノクロメータ７との間に反射強度
の一部を吸収する適切なフィルタ６２を挿入して、比例
カウンタ８に向かって伝搬するビームの強度をこのカウ
ンタの線形動作レンジに対応させるようにする。
ば、試料により反射されたビーム通路内の、受光スリッ
ト５とグラファイトモノクロメータ７との間に反射強度
の一部を吸収する適切なフィルタ６２を挿入して、比例
カウンタ８に向かって伝搬するビームの強度をこのカウ
ンタの線形動作レンジに対応させるようにする。
【００２２】更に、測定を実行するために視射角を例え
ば０°と２°との間で変化させると、反射強度が変化す
る。反射強度は角度θの所定の変化範囲内において材料
の関数として変化する。ある値のθに対する顕著なピー
ク、これらピークの値及び位置は材料の特徴であり、こ
れら特徴により分類表を参照して前述したパラメータを
決定することができる。
ば０°と２°との間で変化させると、反射強度が変化す
る。反射強度は角度θの所定の変化範囲内において材料
の関数として変化する。ある値のθに対する顕著なピー
ク、これらピークの値及び位置は材料の特徴であり、こ
れら特徴により分類表を参照して前述したパラメータを
決定することができる。
【００２３】視射角θ及び従って反射強度の値がどのよ
うな値であっても比例カウンタ８を線形動作レンジ内で
連続的に使用し得るようにするために、本発明では受光
スリット５とグラファイトモノクロメータ７との間に複
数のフィルタ62、例えば62ａ，62ｂ等を挿入する手段６
を設ける。これらフィルタの吸収量を反射強度の関数と
して適切に選択して比例カウンタ８が常に線形動作レン
ジ内で動作するようにする。
うな値であっても比例カウンタ８を線形動作レンジ内で
連続的に使用し得るようにするために、本発明では受光
スリット５とグラファイトモノクロメータ７との間に複
数のフィルタ62、例えば62ａ，62ｂ等を挿入する手段６
を設ける。これらフィルタの吸収量を反射強度の関数と
して適切に選択して比例カウンタ８が常に線形動作レン
ジ内で動作するようにする。
【００２４】表Ｉは、種々の幅ｅ（μ単位）を有する種
々の金属（Ni, Al, Cu) から成り種々の吸収係数Ａ＝Ｉ
／Ｉ0 （Ｉ0 は入射強度及びＩはフィルタで吸収された
後の強度）を有する種々のフィルタの例をＸ線源及びそ
れらの波長λ（Å単位）の関数として示すものである。
々の金属（Ni, Al, Cu) から成り種々の吸収係数Ａ＝Ｉ
／Ｉ0 （Ｉ0 は入射強度及びＩはフィルタで吸収された
後の強度）を有する種々のフィルタの例をＸ線源及びそ
れらの波長λ（Å単位）の関数として示すものである。
【００２５】表Ｉにはできるだけ10に近い吸収係数が得
られるようにしたフィルタの幅ｅ及びフィルタ形成金属
が示されている。更にできるだけ５に近い吸収係数が得
られるフィルタの例（幅ｅ及び金属材料）も示されてい
る。当業者であれば表Ｉに基づいて値を補間することに
より他の値の吸収係数Ａを選択することができる。例え
ば、幅ｅが約10の吸収係数に対応するとき、この幅ｅを
ｅ＝０（Ａ＝１に対応する）からｎ×ｅまで乗算するこ
とによりそれぞれ10°, 101 ,---10n の値を有する吸収
係数が得られる。
られるようにしたフィルタの幅ｅ及びフィルタ形成金属
が示されている。更にできるだけ５に近い吸収係数が得
られるフィルタの例（幅ｅ及び金属材料）も示されてい
る。当業者であれば表Ｉに基づいて値を補間することに
より他の値の吸収係数Ａを選択することができる。例え
ば、幅ｅが約10の吸収係数に対応するとき、この幅ｅを
ｅ＝０（Ａ＝１に対応する）からｎ×ｅまで乗算するこ
とによりそれぞれ10°, 101 ,---10n の値を有する吸収
係数が得られる。
【００２６】本発明では、斯る後に、適切なフィルタ62
を位置させて比例カウンタがいかなる視射角θのときで
も線形動作レンジ内で連続的に動作するようにする自動
化システムを設ける。この自動化システム20は種々のフ
ィルタを支持すると共にこれらフィルタを位置させる機
械的手段６と、フィルタ支持体を制御するデータ処理手
段とを具える。
を位置させて比例カウンタがいかなる視射角θのときで
も線形動作レンジ内で連続的に動作するようにする自動
化システムを設ける。この自動化システム20は種々のフ
ィルタを支持すると共にこれらフィルタを位置させる機
械的手段６と、フィルタ支持体を制御するデータ処理手
段とを具える。
【００２７】本発明では、更に比例カウンタから到来す
る信号Ｙを視射角θから成る情報Ｘの関数として処理
し、測定中種々の強度領域において得られた曲線区分を
互に関連させて連続するＸの関数としての曲線Ｙを得る
と共に理論曲線に対するシステマティックな比較を行っ
て求めるパラメータ値の決定を自動的に実行するシステ
ム30，40，50を設ける。
る信号Ｙを視射角θから成る情報Ｘの関数として処理
し、測定中種々の強度領域において得られた曲線区分を
互に関連させて連続するＸの関数としての曲線Ｙを得る
と共に理論曲線に対するシステマティックな比較を行っ
て求めるパラメータ値の決定を自動的に実行するシステ
ム30，40，50を設ける。
【００２８】図１は、自動化装置20に加えて、強度Ｉの
曲線を角度θの関数として表示する表示スクリーン30も
示してあり、データ処理コンピュータは符号40で示して
あり、ブロック50はコンピュータで得られた理論曲線を
表示するものである。図２ａは、種々のフィルタを支持
しこれらフィルタを所定の位置に位置させる機械的手段
６の正面図、即ち図１の紙面に垂直方向の平面図であ
る。
曲線を角度θの関数として表示する表示スクリーン30も
示してあり、データ処理コンピュータは符号40で示して
あり、ブロック50はコンピュータで得られた理論曲線を
表示するものである。図２ａは、種々のフィルタを支持
しこれらフィルタを所定の位置に位置させる機械的手段
６の正面図、即ち図１の紙面に垂直方向の平面図であ
る。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
【００３１】この機械的手段６はＮ個のフィルタを収納
するＮ個の窓を有するフィルタ支持体60を具える。図２
ａに示す例ではＮ＝６であり、62ａ，62ｂ，62ｃ，62
ｄ，62ｅ及び62ｆで示す６個のフィルタを具える。これ
らフィルタは、１つのフィルタがそのフィルタから他の
フィルタへ連続的に切り換わる際にその吸収が一定率づ
つ減少するように配置する。図２ａに例示する特定の例
では、軸61を中心に回転し得る円板状のフィルタ支持体
60を採用している。フィルタを等間隔配置の周縁の孔内
に収納する。これらフィルタの吸収係数Ａの値は、１つ
のフィルタが他のフィルタに切り換わるとき、10に最も
近い率づつ減少するように選択する。
するＮ個の窓を有するフィルタ支持体60を具える。図２
ａに示す例ではＮ＝６であり、62ａ，62ｂ，62ｃ，62
ｄ，62ｅ及び62ｆで示す６個のフィルタを具える。これ
らフィルタは、１つのフィルタがそのフィルタから他の
フィルタへ連続的に切り換わる際にその吸収が一定率づ
つ減少するように配置する。図２ａに例示する特定の例
では、軸61を中心に回転し得る円板状のフィルタ支持体
60を採用している。フィルタを等間隔配置の周縁の孔内
に収納する。これらフィルタの吸収係数Ａの値は、１つ
のフィルタが他のフィルタに切り換わるとき、10に最も
近い率づつ減少するように選択する。
【００３２】このようにすると、表Ｉを用い、例えば N
iKα源に対し例えば表IIの種々のフィルタを選択するよ
うに図２ａに示す自動化装置を実現することができる。
所定のフィルタ62を試料10より反射されたＸ線ビームの
通路内に位置させるために板60を第２の板68に連結され
た伝達ベルト64の作用によりその軸61を中心に回転させ
る。この板68はその軸69又は他の任意の手段を介して
“フィルタモータ”と称す第１モータにより板60と同時
に駆動される。この第２の板68はその周縁に均等に分布
されたフィルタ62ａ〜62ｆと同数の孔66ａ〜66ｆを有す
る。
iKα源に対し例えば表IIの種々のフィルタを選択するよ
うに図２ａに示す自動化装置を実現することができる。
所定のフィルタ62を試料10より反射されたＸ線ビームの
通路内に位置させるために板60を第２の板68に連結され
た伝達ベルト64の作用によりその軸61を中心に回転させ
る。この板68はその軸69又は他の任意の手段を介して
“フィルタモータ”と称す第１モータにより板60と同時
に駆動される。この第２の板68はその周縁に均等に分布
されたフィルタ62ａ〜62ｆと同数の孔66ａ〜66ｆを有す
る。
【００３３】図２ｂは図２ａの III−III 線上の断面図
である。所定のフィルタを試料10で反射されたビームの
通路内に位置させるために、２つの発光−受光ダイオー
ド71ａ，71ｂを板68の両側に、軸69から孔66までの距離
に等しい位置に配置する。孔66は、フィルタが選択位置
にあるとき孔66が同時に発光−受光ダイオード71ａ〜71
ｂの光軸に位置するように位置させて受光ダイオードか
らの信号が板60及び68を駆動する“フィルタモータ”の
停止を制御するようにする。
である。所定のフィルタを試料10で反射されたビームの
通路内に位置させるために、２つの発光−受光ダイオー
ド71ａ，71ｂを板68の両側に、軸69から孔66までの距離
に等しい位置に配置する。孔66は、フィルタが選択位置
にあるとき孔66が同時に発光−受光ダイオード71ａ〜71
ｂの光軸に位置するように位置させて受光ダイオードか
らの信号が板60及び68を駆動する“フィルタモータ”の
停止を制御するようにする。
【００３４】位置制御板68とフィルタ支持板60を同時に
駆動する“フィルタモータ”はデータ処理手段によって
も制御される。本発明装置により達成すべき目的は比例
カウンタにより供給される信号を視射角θ＝Ｘの関数と
して連続的に記録することにある。
駆動する“フィルタモータ”はデータ処理手段によって
も制御される。本発明装置により達成すべき目的は比例
カウンタにより供給される信号を視射角θ＝Ｘの関数と
して連続的に記録することにある。
【００３５】制御処理手段により実行される機能を図３
に示す。これら機能は反射ビームの通路内に位置するフ
ィルタに対応する信号の符号化を含み、この符号化はエ
ンコーダ27により行われる。この符号化された情報は主
コンピュータ25と組み合わされたマイクロプロセッサカ
ード24にデータとして転送される。
に示す。これら機能は反射ビームの通路内に位置するフ
ィルタに対応する信号の符号化を含み、この符号化はエ
ンコーダ27により行われる。この符号化された情報は主
コンピュータ25と組み合わされたマイクロプロセッサカ
ード24にデータとして転送される。
【００３６】“フィルタモータ”と称する第１モータを
始動させる機能部（スタート−ストップ）はブロック26
で示す。他方、比例カウンタ８により供給される信号Ｙ
をθ（信号Ｘ）の関数としてｍＶ単位で記録する。信号
Ｘが所定値より低くなるか、他の所定値より高くなると
同時に、試料を１ステップΔθだけ進める“試料モー
タ”と称す第２モータに対する停止命令を入射角がθ＋
Δθになるときエンコーダ21を経てマイクロプロセッサ
カード24に供給する。停止命令はエンコーダ21からスタ
ート−ストップ機能部22を経て“試料モータ”28に到達
する。
始動させる機能部（スタート−ストップ）はブロック26
で示す。他方、比例カウンタ８により供給される信号Ｙ
をθ（信号Ｘ）の関数としてｍＶ単位で記録する。信号
Ｘが所定値より低くなるか、他の所定値より高くなると
同時に、試料を１ステップΔθだけ進める“試料モー
タ”と称す第２モータに対する停止命令を入射角がθ＋
Δθになるときエンコーダ21を経てマイクロプロセッサ
カード24に供給する。停止命令はエンコーダ21からスタ
ート−ストップ機能部22を経て“試料モータ”28に到達
する。
【００３７】次いで“フィルタモータ”26が動作を開始
してもっと高吸収又は低吸収のフィルタを位置させるこ
とができる。この動作はエンコーダ27を経てシステムに
到来する“フィルタモータ”の制御部26の命令により実
行される。フィルタ支持体60の回転が実行され終わる
と、“フィルタモータ”が（ダイオードシステム71ａ−
71ｂにより）停止され、記録を再スタートする命令がエ
ンコーダ21を経て“試料モータ”のスタート−ストップ
制御部22により与えられる。他方、機能部23は前記モー
タが一方向又は反対方向の走行の終点０°又はθに到達
した“試料モータ”を逆転させるものである。
してもっと高吸収又は低吸収のフィルタを位置させるこ
とができる。この動作はエンコーダ27を経てシステムに
到来する“フィルタモータ”の制御部26の命令により実
行される。フィルタ支持体60の回転が実行され終わる
と、“フィルタモータ”が（ダイオードシステム71ａ−
71ｂにより）停止され、記録を再スタートする命令がエ
ンコーダ21を経て“試料モータ”のスタート−ストップ
制御部22により与えられる。他方、機能部23は前記モー
タが一方向又は反対方向の走行の終点０°又はθに到達
した“試料モータ”を逆転させるものである。
【００３８】最低吸収フィルタ（例えば吸収係数１を有
するフィルタ62ｆ）がビーム路内に位置するときは、カ
ウンタから到来するデータＹ及び試料モータから到来す
る信号Ｘの記録を測定値が所定の低限界値より低くなる
場合でも中断なしに連続させることができる。試料モー
タに位置するエンコーダ21は本質的に測定ステップΔθ
の選択を可能にする。
するフィルタ62ｆ）がビーム路内に位置するときは、カ
ウンタから到来するデータＹ及び試料モータから到来す
る信号Ｘの記録を測定値が所定の低限界値より低くなる
場合でも中断なしに連続させることができる。試料モー
タに位置するエンコーダ21は本質的に測定ステップΔθ
の選択を可能にする。
【００３９】本発明装置を用いると比例カウンタの係数
率の伸張が得られる。図４ａは本発明装置により得られ
る不規則曲線を示す。この曲線の部分Ａでは反射強度
（Ｙ軸にプロットしてある）は最初極めて大きい。これ
がため高吸収フィルタを使用する。その後、強度はＸ軸
にプロットした角度θの関数として減少する。部分Ａの
底部領域において、この強度は記録を点Ａ2 で停止しな
ければ決定困難になる。このときフィルタ支持体60を回
転させて高吸収フィルタを吸収がこのフィルタの約1/10
であるフィルタと置き替え、斯る後に記録を再スタート
させる。この場合、曲線部分Ｂ1 −Ｂ2 が得られる。Ｂ
2 において強度が著しく弱くなり、記録を再び停止す
る。このときフィルタ支持体60を回転させてこのフィル
タを吸収がこのフィルタの約1/10であるフィルタと置き
替え、斯る後に記録を再スタートする。
率の伸張が得られる。図４ａは本発明装置により得られ
る不規則曲線を示す。この曲線の部分Ａでは反射強度
（Ｙ軸にプロットしてある）は最初極めて大きい。これ
がため高吸収フィルタを使用する。その後、強度はＸ軸
にプロットした角度θの関数として減少する。部分Ａの
底部領域において、この強度は記録を点Ａ2 で停止しな
ければ決定困難になる。このときフィルタ支持体60を回
転させて高吸収フィルタを吸収がこのフィルタの約1/10
であるフィルタと置き替え、斯る後に記録を再スタート
させる。この場合、曲線部分Ｂ1 −Ｂ2 が得られる。Ｂ
2 において強度が著しく弱くなり、記録を再び停止す
る。このときフィルタ支持体60を回転させてこのフィル
タを吸収がこのフィルタの約1/10であるフィルタと置き
替え、斯る後に記録を再スタートする。
【００４０】これとは逆に、強度が所定値を越えて増大
する場合には、記録を再び停止させ、もっと高い吸収を
有するフィルタをビーム路内に位置させる。このように
して所定の強度レンジに適応するフィルタの挿入を自動
的に実行する。カウンタの信号ＹをＸ＝θの関数として
記録する処理中にオペレータがこの処理に介在する必要
は何もない。
する場合には、記録を再び停止させ、もっと高い吸収を
有するフィルタをビーム路内に位置させる。このように
して所定の強度レンジに適応するフィルタの挿入を自動
的に実行する。カウンタの信号ＹをＸ＝θの関数として
記録する処理中にオペレータがこの処理に介在する必要
は何もない。
【００４１】更に、なめらかな記録曲線を得るためには
第２データ処理手段を設ける。図４ｂはデータを更に処
理して得られる図４ａの曲線を示す。この曲線は連続曲
線であり、終端Ａ2 とＢ1 、Ｂ2 とＣ1 等を一致させた
ものである。第２データ処理手段は論理回路を具える
が、ワイヤド回路で構成することもできる。論理回路を
用いるときは、次のアルゴリズムを使用する。 1) 比例カウンタ、即ち０〜100 ｍＶのレンジを有する
ｍＶマルチメータにより供給される信号の測定値の初期
化；2) 測 定 (a) グラフの境界(b) 測定値の境界
(c) フィルタ交替テスト(d1)マルチメータの測定値＞90
ｍＶの場合、最大吸収フィルタの挿入；(d2)マルチメー
タの測定値＜最小反射の境界値（例えば20又は50ｍＶ）
の場合、最低吸収フィルタの挿入；3) 測定の終了(a)
ファイルの保管(b) 測定値の正規化及び補正(c) 測定値
の記憶→ファイル名4) 測定値の検索 a1)線形a2)線形−
対数5) プリンティング：印字出力6) フォーマッティン
グ（ＡＳＣII) ＝ファイルを主コンピュータが使用する
機械語に変換する。
第２データ処理手段を設ける。図４ｂはデータを更に処
理して得られる図４ａの曲線を示す。この曲線は連続曲
線であり、終端Ａ2 とＢ1 、Ｂ2 とＣ1 等を一致させた
ものである。第２データ処理手段は論理回路を具える
が、ワイヤド回路で構成することもできる。論理回路を
用いるときは、次のアルゴリズムを使用する。 1) 比例カウンタ、即ち０〜100 ｍＶのレンジを有する
ｍＶマルチメータにより供給される信号の測定値の初期
化；2) 測 定 (a) グラフの境界(b) 測定値の境界
(c) フィルタ交替テスト(d1)マルチメータの測定値＞90
ｍＶの場合、最大吸収フィルタの挿入；(d2)マルチメー
タの測定値＜最小反射の境界値（例えば20又は50ｍＶ）
の場合、最低吸収フィルタの挿入；3) 測定の終了(a)
ファイルの保管(b) 測定値の正規化及び補正(c) 測定値
の記憶→ファイル名4) 測定値の検索 a1)線形a2)線形−
対数5) プリンティング：印字出力6) フォーマッティン
グ（ＡＳＣII) ＝ファイルを主コンピュータが使用する
機械語に変換する。
【図１】本発明による測定自動化システムが付加された
標準回折計装置の概略構成図である。
標準回折計装置の概略構成図である。
【図２】２ａはこの自動化装置の機械部分の平面図であ
り、２ｂは図２ａの III−III 線上の断面図である。
り、２ｂは図２ａの III−III 線上の断面図である。
【図３】本発明自動化システムにおける測定信号の処理
手順を示すブロック図である。
手順を示すブロック図である。
【図４】４ａは自動化システムが設けられた回折計装置
により得られたディジタル処理前の測定値の一例を示す
図であり、４ｂはディジタル処理後の同一の測定値の例
を示す図である。
により得られたディジタル処理前の測定値の一例を示す
図であり、４ｂはディジタル処理後の同一の測定値の例
を示す図である。
１ Ｘ線源 ２，３ コリメータ系 ５ コリメータ系 ６ フィルタ挿入手段 ７ モノクロメータ ８ 比例カウンタ 10 試料方向づけ手段 11 試料支持体 20 自動化システム 21 エンコーダ 22 スタート−ストップ機能部 23 逆転機能部 24 マイクロプロセッサ 25 主コンピュータ 26 スタート−ストップ機能部 27 エンコーダ 30，40，50 データ処理システム 60 支持体 62ａ〜62ｆ フィルタ 68 円板 66ａ〜66ｆ 孔 71ａ，71ｂ 発光−発光ダイオード系
フロントページの続き (73)特許権者 590000248 Ｇｒｏｅｎｅｗｏｕｄｓｅｗｅｇ １, 5621 ＢＡ Ｅｉｎｄｈｏｖｅｎ， Ｔ ｈｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ (72)発明者 ジャン−ピエール ウェベール フランス国 94100 サン−モール リ ュ ポール ドルレード ８ (56)参考文献 特開 平２−167500（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−89247（ＪＰ，Ｕ) 米国特許5195115（ＵＳ，Ａ) 欧州特許468582（ＥＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 23/00 - 23/227
Claims (13)
- 【請求項１】 Ｘ線源と、該Ｘ線源用のコリメータ装置
と、試料支持体と、試料により反射されたビームに対す
るコリメータ装置と、試料により反射された光子の数に
比例する出力信号を電圧形態にて発生する比例カウンタ
とを具えているＸ線回折計装置において、当該Ｘ線回折
計装置が： −試料支持体用のモータ駆動部； −前記比例カウンタにより供給される信号Ｙを、試料の
入射平面と入射ビームとの間の角度θの関数Ｘとして記
録する記録手段； −吸収係数が異なる複数のフィルタに対する支持体を有
し、且つこの支持体用のモータ駆動部を含む機械的手
段； −前記フィルタ支持体における１つのフィルタを選択
し、前記試料支持体のモータ駆動部、前記フィルタ支持
体のモータ駆動部及び/又は前記記録手段を制御し、且
つ前記比例カウンタに向かって伝搬するビームの強度が
該比例カウンタの線形動作レンジに対応するように、前
記試料により反射されるビーム通路内に、反射強度の一
部を吸収する吸収度を有するフィルタを挿入させるため
のデータ処理手段； も具えていることを特徴とするＸ線回折計装置。 - 【請求項２】 前記データ処理手段が： −境界が予め定められる範囲に関連する比例カウンタか
ら到来する信号Ｙの値を測定する機能部と、境界に達し
た場合に： −信号Ｙの記録及び試料用モータ駆動部を停止させる機
能部と； −複数のフィルタから１つのフィルタを選択する機能部
と； −この選択したフィルタを試料により反射されたＸ線ビ
ームの通路内に動かすようにフィルタ支持モータ駆動部
を始動させる機能部と； −信号Ｙの記録及び試料用モータ駆動部の駆動を開始さ
せる機能部；とを具えることを特徴とする請求項１に記
載のＸ線回折計装置。 - 【請求項３】 前記機械的手段が、前記フィルタ支持体
を所定位置に固定させて、選択したフィルタが試料によ
り反射されたビーム通路内に位置付けられるようにする
固定手段を具えていることを特徴とする請求項１又は２
に記載のＸ線回折計装置。 - 【請求項４】 前記固定手段が前記フィルタ支持体に連
結した支持体にあけた孔を有し、これらの孔の数を前記
フィルタの個数に対応させ、且つこれらの孔を、１つの
孔が発光−受光ダイオード系におけるビーム通路を通過
する際に、フィルタ支持体用モータ駆動部が停止位置に
調整されるように配置したことを特徴とする請求項３に
記載のＸ線回折計装置。 - 【請求項５】 前記複数個のフィルタが、ｎを整数とす
るとき、吸収係数Ａが100 , 101,------10n から選定さ
れるＸ線に対するフィルタを具え、且つこれらのフィル
タを吸収係数Ａが小さくなるような順序でフィルタ支持
体に収容させたことを特徴とする請求項１〜４のいずれ
かに記載のＸ線回折計装置。 - 【請求項６】 前記フィルタ支持体をベルトを介してモ
ータにより駆動される平板としたことを特徴とする請求
項５に記載のＸ線回折計装置。 - 【請求項７】 前記発光−受光ダイオード系に結合させ
る孔を、ベルトを介してモータにより駆動される平板に
あけたことを特徴とする請求項５又は６のいずれかに記
載のＸ線回折計装置。 - 【請求項８】 前記フィルタ支持体及び前記孔をあけた
平板を同じモータにより駆動させるようにしたことを特
徴とする請求項７に記載のＸ線回折計装置。 - 【請求項９】 前記フィルタを幅ｅが次第に小さくなる
薄い金属細条で実現したことを特徴とする請求項１〜８
のいずれかに記載のＸ線回折計装置。 - 【請求項１０】 前記フィルタ用金属をCu, Ni, Alの内
からＸ線源の波長の関数として選定したことを特徴とす
る請求項９に記載のＸ線回折計装置。 - 【請求項１１】 記録された曲線を平滑化するための第
２データ処理手段も具えていることを特徴とする請求項
１〜１０のいずれかに記載のＸ線回折計装置。 - 【請求項１２】 前記データ処理手段が少なくとも： １） 比例カウンタにより電圧として供給される信号
の測定値を初期化する機能部と； ２） グラフの境界、カウンタによる測定値の境界を
測定し、フィルタ交換試験を行い、カウンタにより行っ
た測定が所定の境界値を越える場合にはもっと高い吸収
度を有するフィルタを位置させるが、カウンタにより行
った測定が最小反射に対応する所定の境界値以下となる
場合には、吸収度の小さいフィルタを位置させる機能部
と； ３） 測定を終了させる機能部と； ４） 測定を検索する機能部と； ５） 出力をプリントアウトする機能部と ６） フォーマッティングする機能部と； を具えていることを特徴とする請求項１１に記載のＸ線
回折計装置。 - 【請求項１３】 多層の金属、半導体又は絶縁体の特性
を決定するために請求項１〜１２のいずれかに記載のＸ
線回折計装置を視射角モードで使用し、角度θが０°〜
２°の角度値の範囲内でステップ状に変化し、各ステッ
プΔθが特定フィルタでの測定範囲に対応して、比例カ
ウンタが、その対応値が線形となる範囲内で作動するよ
うにすることを特徴とするＸ線回折計装置の使用方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9009443A FR2665261A1 (fr) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | Dispositif de diffractometrie a rayons x et utilisation de ce dispositif. |
| FR9009443 | 1990-07-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04232843A JPH04232843A (ja) | 1992-08-21 |
| JP3162744B2 true JP3162744B2 (ja) | 2001-05-08 |
Family
ID=9399045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20620591A Expired - Fee Related JP3162744B2 (ja) | 1990-07-24 | 1991-07-24 | Ｘ線回折計装置及びその使用法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5195115A (ja) |
| EP (1) | EP0468582B1 (ja) |
| JP (1) | JP3162744B2 (ja) |
| DE (1) | DE69117827T2 (ja) |
| FR (1) | FR2665261A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2692700A1 (fr) * | 1992-06-17 | 1993-12-24 | Philips Electronique Lab | Dispositif de traitement d'un signal mesure correspondant à l'intensité de rayons X réfléchie par une structure de couches multiples sur un substrat. |
| FI94913C (fi) * | 1994-02-15 | 1995-11-10 | Orion Yhtymae Oy | Röntgenkuvauslaitteen suodinjärjestely |
| EP0720737B1 (en) * | 1994-06-25 | 2002-01-16 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Analysing a material sample |
| US6269144B1 (en) | 1998-03-04 | 2001-07-31 | William P. Dube | Method and apparatus for diffraction measurement using a scanning x-ray source |
| US6389100B1 (en) * | 1999-04-09 | 2002-05-14 | Osmic, Inc. | X-ray lens system |
| US6947521B2 (en) * | 2003-06-17 | 2005-09-20 | Illinois Institute Of Technology | Imaging method based on attenuation, refraction and ultra-small-angle-scattering of x-rays |
| US7076025B2 (en) | 2004-05-19 | 2006-07-11 | Illinois Institute Of Technology | Method for detecting a mass density image of an object |
| US7330530B2 (en) * | 2004-10-04 | 2008-02-12 | Illinois Institute Of Technology | Diffraction enhanced imaging method using a line x-ray source |
| DE102004050543A1 (de) * | 2004-10-16 | 2006-04-20 | Bruker Axs Gmbh | Analysegerät mit variabel ausgeleuchtetem Streifendetektor |
| JP5070810B2 (ja) * | 2006-11-14 | 2012-11-14 | 横河電機株式会社 | フィルタホイール |
| US7469037B2 (en) * | 2007-04-03 | 2008-12-23 | Illinois Institute Of Technology | Method for detecting a mass density image of an object |
| US7742566B2 (en) * | 2007-12-07 | 2010-06-22 | General Electric Company | Multi-energy imaging system and method using optic devices |
| CA2763367C (en) * | 2009-06-04 | 2016-09-13 | Nextray, Inc. | Strain matching of crystals and horizontally-spaced monochromator and analyzer crystal arrays in diffraction enhanced imaging systems and related methods |
| US8204174B2 (en) * | 2009-06-04 | 2012-06-19 | Nextray, Inc. | Systems and methods for detecting an image of an object by use of X-ray beams generated by multiple small area sources and by use of facing sides of adjacent monochromator crystals |
| US9693742B2 (en) * | 2011-01-18 | 2017-07-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for generating a contrast medium-assisted X-ray image and X-ray system |
| US9372163B2 (en) * | 2014-01-28 | 2016-06-21 | Bruker Axs, Inc. | Method of conducting an X-ray diffraction-based crystallography analysis |
| CN109613596B (zh) * | 2019-01-14 | 2020-10-27 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 用于测量特殊能段x光信号的方法 |
| CN117664324B (zh) * | 2024-01-31 | 2024-04-12 | 中国科学院上海高等研究院 | 一种在线x光光强实时高速监测系统 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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