JP3157773B2 - Shield check device - Google Patents

Shield check device

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JP3157773B2
JP3157773B2 JP07205698A JP7205698A JP3157773B2 JP 3157773 B2 JP3157773 B2 JP 3157773B2 JP 07205698 A JP07205698 A JP 07205698A JP 7205698 A JP7205698 A JP 7205698A JP 3157773 B2 JP3157773 B2 JP 3157773B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シールド板に設け
た透孔の目詰まりを検出するシールドチェック装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shield check device for detecting clogging of a through hole provided in a shield plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種のシールドチェック装置は、例え
ば半導体装置を製造する過程に用いられるシールド板の
透孔の目詰まりを検出するために用いられる。
2. Description of the Related Art This type of shield check apparatus is used, for example, to detect clogging of a through hole in a shield plate used in a process of manufacturing a semiconductor device.

【0003】シールド板を用いる半導体装置の製造装置
としては、例えばCVD装置がある。CVD装置の概要
を図3に基づいて説明する。
As an apparatus for manufacturing a semiconductor device using a shield plate, there is, for example, a CVD apparatus. An outline of the CVD apparatus will be described with reference to FIG.

【0004】図3に示すようにCVD装置は、外気から
隔離された成長室内にウェハース1とシールド板2とを
一定間隔に保って対向設置し、シールド板2の中央部に
ノズル3を設置し、シールド板2の透孔2aからN2
スG1をウェハース1とシールド板2との空間内に供給
して不活性雰囲気を形成し、この雰囲気中でノズル3か
ら反応ガスG2を下向きに吹出し、その反応ガスG2を基
盤4上のウェハース1の表面に接触させることにより、
ウェハース1にCVD膜を成膜するようにしている。
As shown in FIG. 3, in a CVD apparatus, a wafer 1 and a shield plate 2 are installed opposite to each other in a growth chamber isolated from the outside at a constant interval, and a nozzle 3 is installed at the center of the shield plate 2. The N 2 gas G 1 is supplied from the through hole 2 a of the shield plate 2 into the space between the wafer 1 and the shield plate 2 to form an inert atmosphere, and the reaction gas G 2 is directed downward from the nozzle 3 in this atmosphere. By blowing the reaction gas G 2 into contact with the surface of the wafer 1 on the base 4,
A CVD film is formed on the wafer 1.

【0005】対向するウェハース1とシールド板2との
空間内に供給された反応ガスG2(N2ガスG1を含む)
は、排気ガスG3としてシールド板1の外縁側に配置し
た排気管5から排気されるが、その排気過程において反
応ガスG1は、ウェハース1の表面に沿って中央部から
外縁側に流動する。各ガスG1,G2,G3が正常に流動
し、ウェハース1の表面にCVD膜が正常に成膜される
状態を図3(a)に示す。
The reaction gas G 2 (including the N 2 gas G 1 ) supplied into the space between the wafer 1 and the shield plate 2 facing each other.
Is exhausted through the exhaust pipe 5 which is disposed on the outer edge side of the shield plate 1 as an exhaust gas G 3, the reaction gas G 1 at the exhaust process, flows to the outer edge side from the center portion along the surface of the wafers 1 . FIG. 3A shows a state in which the gases G 1 , G 2 , G 3 flow normally and a CVD film is normally formed on the surface of the wafer 1.

【0006】ウェハース1に成膜されるCVD膜の膜
厚,膜質等は、反応ガスG1のウェハース1に対する流
動状態に左右されるものである。反応ガスG1のウェハ
ース1に対する流動状態に影響を与える要因としては、
シールド板2とノズル3との継目から反応ガスG1がリ
ークする場合(図3(b))、或いはシールド板2の透
孔2aの目詰まり(図3(c))等が発生した場合であ
る。
The thickness, quality, etc. of the CVD film formed on the wafer 1 depend on the flow state of the reaction gas G 1 with respect to the wafer 1. Factors affecting the flow state of the reaction gas G 1 with respect to the wafer 1 include:
If the case of leaking reaction gas G 1 from the seam between the shielding plate 2 and the nozzle 3 (FIG. 3 (b)), or clogging of the hole 2a of the shield plate 2 (FIG. 3 (c)) or the like occurs is there.

【0007】それらの要因のうち、図3(c)に示すシ
ールド板2の透孔2aが目詰まりしているかいないかを
シールドチェック装置を用いて検査する。
Among these factors, whether or not the through hole 2a of the shield plate 2 shown in FIG. 3C is clogged is inspected by using a shield check device.

【0008】従来では、製品処理をする前に次のような
方法を用いてシールド板2の目詰まりをチェックしてい
る。
Conventionally, clogging of the shield plate 2 is checked by using the following method before product processing.

【0009】すなわち、図4に示すようにダミーウェハ
ース1aを用いてCVD成膜を行い、その膜厚,膜質の
ムラを測定して、シールド板1の目詰まりを検出する方
法、或いは図5に示すように水槽6内にを浸漬し、、シ
ールド板1の背面側に乾燥空気を吹き付けてシールド板
1の前面からの気泡の吹出し状態をチェックする方法が
採用されている。
That is, as shown in FIG. 4, a CVD film is formed using a dummy wafer 1a, and the film thickness and film quality are measured for unevenness to detect clogging of the shield plate 1, or FIG. As shown in the figure, a method of immersing the inside of the water tank 6 and blowing dry air on the back side of the shield plate 1 to check the state of air bubbles blowing from the front surface of the shield plate 1 is adopted.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5に
示す方法では、シールド板1を通して吹き出される気泡
を観測するため、シールド板1全体での目詰まりの度合
をチェックすることができるが、シールド板2の個々の
透孔2a部分での目詰まりの度合を個別にチェックする
ことは困難が伴い、正確に検査することができないとい
う問題がある。
However, in the method shown in FIG. 5, the degree of clogging of the entire shield plate 1 can be checked in order to observe the air bubbles blown out through the shield plate 1. It is difficult to individually check the degree of clogging at the individual through-holes 2a of the plate 2 and there is a problem that accurate inspection cannot be performed.

【0011】また、図4に示す方法では、ウェハース1
の表面に成膜されたCVD膜の分析に基づいてシールド
板2の目詰まりをチェックするものであるため、間接的
な検出となり、必ずしもシールド板2の目詰まりを確実
にチェックすることができないという問題がある。
Further, in the method shown in FIG.
Since the clogging of the shield plate 2 is checked based on the analysis of the CVD film formed on the surface of the device, the detection is indirect, and the clogging of the shield plate 2 cannot always be reliably checked. There's a problem.

【0012】ところで最近、赤外線サーモグラフィー法
を用いて検査する方法が種々開発されている。この赤外
線サーモグラフィー法を用いた検査方法の先行例として
特開平5−80006号公報、特開平8−184571
号公報、特開平9−145647号公報等に種々の検出
方法が開示されており、これらの技術を利用してシール
ド板の目詰まりを検出することが考えられる。
Recently, various inspection methods using infrared thermography have been developed. As prior examples of the inspection method using the infrared thermography method, JP-A-5-80006 and JP-A-8-184571.
Various detection methods are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. Hei 9-145647 and Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-145647, and it is conceivable to detect clogging of the shield plate using these techniques.

【0013】しかしながら、特開平5−80006号公
報に開示された技術は、ICパッケージ全体を加熱し、
その内部構造の異常を計測するものであるため、この技
術をそのまま適用すると、シールド板に透孔を設けたこ
と自体が異常として検出されてしまい、シールド板の透
孔の開口度を検出する構成としては、不向きのものであ
る。
However, the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-80006 heats the entire IC package,
If this technology is applied as it is to measure the abnormality of its internal structure, the provision of the through hole in the shield plate itself will be detected as an abnormality, and the configuration to detect the aperture of the through hole in the shield plate will be detected. As for, it is unsuitable.

【0014】また特開平8−184571号公報に開示
された技術は、熱量の違いに基づいて温度分布を利用し
て検出を行うものであるが、シールド板の透孔は微小な
径のものであり、シールド板の透孔部分での熱量とその
以外の部分での熱量の違いは微少なものであるから、そ
の熱量の違いからシールド板の透孔の開口度を検出する
ことは困難を伴い、シールド板の透孔の開口度を検出す
る構成としては、不向きなものである。
In the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-184571, detection is performed using a temperature distribution based on a difference in the amount of heat. However, the through holes in the shield plate have a small diameter. There is a small difference between the amount of heat in the through hole of the shield plate and the amount of heat in other parts, so it is difficult to detect the aperture of the through hole in the shield plate from the difference in the amount of heat. However, the configuration for detecting the opening degree of the through hole of the shield plate is not suitable.

【0015】また特開平9−145647号公報に開示
された技術は、温度分布の経時的な変化から検出するも
のであるが、シールド板の透孔の直径は極めて小さく、
温度分布の経時的変化に対して状態変化率がきわめて小
さく、シールド板の透孔の開口度合を検出する構成とし
ては、不向きなものである。
The technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-145647 is to detect the temperature distribution over time, but the diameter of the through hole in the shield plate is extremely small.
The state change rate is extremely small with respect to the temporal change of the temperature distribution, and it is not suitable as a configuration for detecting the degree of opening of the through hole of the shield plate.

【0016】以上のように赤外線サーモグラフィー法を
用いて検出する方法が種々開発されているが、それらの
方法は検査対象物に合致させて個々のものとして開発さ
れているため、それらの技術をもってシールド板の目詰
まりを検出することは不可能であり、シールド板の目詰
まりを赤外線サーモグラフィー法を用いて検出する技術
の開発が望まれている。
As described above, various detection methods using the infrared thermography method have been developed. However, since these methods have been developed individually so as to match the inspection object, shielding techniques using these techniques have been developed. It is impossible to detect clogging of the plate, and development of a technique for detecting clogging of the shield plate using infrared thermography is desired.

【0017】本発明の目的は、赤外線サーモグラフィー
法を用いてシールド板の目詰まりを確実に検出するシー
ルドチェック装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a shield check device for reliably detecting clogging of a shield plate by using an infrared thermography method.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係るシールドチェック装置は、温風供給部
と、画像処理部と、判定部とを有し、シールド板に設け
た透孔の目詰まりを検出するシールドチェック装置であ
って、前記シールド板は、板面に透孔を有し、該透孔に
のみ流体の流動を許容するものであり、前記温風供給部
は、前記シールド板の透孔のみから流動させる温風を前
記シールド板の背面側に供給するものであり、前記画像
処理部は、前記透孔のみから流体が流動している前記シ
ールド板の板面を撮像して前記シールド板の透孔部分で
の温度分布を画像データとして処理出力するものであ
り、前記判定部は、前記画像処理部からの画像データを
基準データと比較し全ての透孔部分での温度分布の均斉
度を判定することにより、前記シールド板の透孔の目詰
まりを判定するものである。
In order to achieve the above object, a shield check device according to the present invention has a hot air supply unit, an image processing unit, and a determination unit, and has a through hole provided in a shield plate. A shield check device that detects clogging of the shield plate, wherein the shield plate has a through hole in the plate surface, and allows the flow of fluid only through the through hole, and the hot air supply unit includes The hot air flowing through only the through hole of the shield plate is supplied to the back side of the shield plate, and the image processing unit captures an image of the plate surface of the shield plate through which the fluid flows only through the through hole. And processing and outputting the temperature distribution in the perforated portion of the shield plate as image data, wherein the determination unit compares the image data from the image processing unit with reference data, and performs processing on all the perforated portions. By determining the uniformity of the temperature distribution Is for determining the clogging of holes of the shield plate.

【0019】また前記画像処理部は、赤外線カメラとデ
ータ処理部とを有し、 前記赤外線カメラは、温風が供給
された前記シールド板の各透孔部分での温度分布の画像
を撮像して画像データとして取込むものである。また前
記シールド板の各透孔の目詰まりの検出は、入力データ
に基いて、前記シールド板の板面全体での検出と、前記
シールド板の指定した特定領域での検出とに切替可能と
したものである。
Further, the image processing section includes an infrared camera and a digital camera.
The infrared camera is supplied with hot air.
Of temperature distribution at each through-hole of the shield plate
Is captured and captured as image data. Again before
The detection of clogging of each through-hole of the shield plate is based on the input data.
Based on the detection over the entire surface of the shield plate,
Can be switched to detection in a specific area specified on the shield plate
It was done.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0021】図1は、本発明の実施形態に係るシールド
チェック装置の機械的機構を示す図、図2は、本発明の
実施形態に係るシールドチェック装置の電気的構成を示
すブロック図である。
FIG. 1 is a diagram showing a mechanical mechanism of the shield check device according to the embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram showing an electrical configuration of the shield check device according to the embodiment of the present invention.

【0022】図に示すように本発明の実施形態に係るシ
ールドチェック装置は、半導体装置の製造に用いるシー
ルド板の目詰まりを検査するものであり、温風供給部7
と、画像処理部8と、判定部9とを有している。
As shown in the figure, the shield check device according to the embodiment of the present invention is for inspecting a shield plate used for manufacturing a semiconductor device for clogging.
, An image processing unit 8 and a determination unit 9.

【0023】シールド板2は、中央部にノズル3が嵌合
する嵌合孔2bが開口され、その周縁には透孔2aが複
数開口されており、透孔2aにのみ流体(特に環境雰囲
気作成用の不活性ガス)の流動を許容するようになって
いる。シールド板2の嵌合孔2bには、ノズル3が嵌合
され、ノズル3からの反応ガスがシールド板の中央部分
から吹出すようになっている(図3(a)参照)。
The shield plate 2 has a fitting hole 2b in the center thereof into which the nozzle 3 is fitted, and a plurality of through-holes 2a formed in the periphery thereof. (Inert gas for use). The nozzle 3 is fitted into the fitting hole 2b of the shield plate 2, and the reaction gas from the nozzle 3 is blown out from the central portion of the shield plate (see FIG. 3A).

【0024】温風供給部7は、検査対象となるシールド
板2の背面側に温風を供給するようになっている。具体
的には、図1に示すように温風供給部7は、機枠7aと
送気部7bとを有している。機枠7aは、その前面側が
開口され、その開口部をシールド板2で閉塞して密封状
態となる容器であって、機枠7a内にヒータ7cを設置
している。送気部7bから機枠7a内に空気を送り込
み、その空気をヒータ7cで加熱してシールド板2の背
面側に供給するようになっている。なお、シールド板2
は、中央部の嵌合孔2bが閉塞され、透孔2aのみが開
口されて機枠7aに装着されており、ヒータ7cで加熱
された空気は、シールド板2の透孔2aからのみ吹き出
すようになっている。
The hot air supply section 7 supplies hot air to the rear side of the shield plate 2 to be inspected. Specifically, as shown in FIG. 1, the hot air supply unit 7 has a machine frame 7a and an air supply unit 7b. The machine frame 7a is a container that is opened at the front side and is closed by closing the opening with the shield plate 2, and has a heater 7c installed in the machine frame 7a. Air is sent from the air supply unit 7b into the machine frame 7a, and the air is heated by the heater 7c and supplied to the rear side of the shield plate 2. In addition, the shield plate 2
Is mounted on the machine frame 7a with the central fitting hole 2b closed and only the through hole 2a opened, so that the air heated by the heater 7c blows out only from the through hole 2a of the shield plate 2. It has become.

【0025】画像処理部8は、温風が供給されたシール
ド板2の透孔2a部分での温度分布を画像データとして
処理出力するようになっており、具体的には図1及び図
2に示すように画像処理部8は、赤外線カメラ8aとデ
ータ処理部8bとを有している。赤外線カメラ8aは、
温風が供給されたシールド板2の透孔2a部分での温度
分布の画像を撮像して画像データとして取り込み、デー
タ処理部8bは、赤外線カメラ8aからの画像データを
2値化し、これを判定部9に出力するようになってい
る。
The image processing section 8 processes and outputs, as image data, a temperature distribution in the through-hole 2a of the shield plate 2 to which the warm air is supplied. As shown, the image processing unit 8 has an infrared camera 8a and a data processing unit 8b. The infrared camera 8a
An image of the temperature distribution at the through hole 2a of the shield plate 2 to which the hot air is supplied is captured and captured as image data, and the data processing unit 8b binarizes the image data from the infrared camera 8a and determines this. Output to the unit 9.

【0026】判定部9は、画像処理部8からの画像デー
タを基準データと比較し、シールド板2の透孔2aの目
詰まりを判定するようになっている。具体的には図2に
示すように判定部9は、コンピュータ9aと、キーボー
ド,マウス等の入力機器9bと、パネル9cとを有して
いる。
The judging section 9 compares the image data from the image processing section 8 with the reference data to judge whether the through hole 2a of the shield plate 2 is clogged. Specifically, as shown in FIG. 2, the determination unit 9 has a computer 9a, input devices 9b such as a keyboard and a mouse, and a panel 9c.

【0027】コンピュータ9aは、正常なシールド板2
の透孔2a部分での温度分布に相当する基準データを記
憶しており、またキーボード或いはマウス等の入力機器
9bからの入力データに基づいて、シールド板2の板面
全体での検出、或いは領域指定した特定領域での検出等
に切替えてシールド板2の目詰まりを検出するようにな
っており、その操作状態が操作パネル9cに表示される
ようになっている。
The computer 9a is connected to the normal shield plate 2
The reference data corresponding to the temperature distribution in the through hole 2a is stored, and detection is performed on the entire surface of the shield plate 2 or on the basis of input data from an input device 9b such as a keyboard or a mouse. The clogging of the shield plate 2 is detected by switching to the detection in the designated specific area or the like, and the operation state is displayed on the operation panel 9c.

【0028】本発明の実施形態において、シールド板2
の目詰まりを検出するにあたっては、検査対象のシール
ド板2を温風供給部7の機枠7aにセットし、その機枠
7aの入口7bから空気を導入し、それをヒータ7cで
加温しシールド板2の背面側に供給し、その空気をシー
ルド板2の透孔2aに通して前面に吹き出す。ここで、
シールド板2は、中央部の嵌合孔2bが閉塞され、透孔
2aのみが開口されて機枠7aに装着されており、ヒー
タ7cで加熱された空気は、シールド板2の透孔2aか
らのみ吹き出すようになっている。
In the embodiment of the present invention, the shield plate 2
In order to detect the clogging, the shield plate 2 to be inspected is set on the machine frame 7a of the hot air supply unit 7, air is introduced from the inlet 7b of the machine frame 7a, and the air is heated by the heater 7c. The air is supplied to the rear side of the shield plate 2, and the air is blown out to the front surface through the through holes 2 a of the shield plate 2. here,
The shield plate 2 is mounted on the machine frame 7a with the central fitting hole 2b closed and only the through hole 2a opened, and the air heated by the heater 7c flows through the through hole 2a of the shield plate 2 from the through hole 2a. Only blows out.

【0029】シールド板2の透孔2aから空気を吹き出
す状態の下でシールド板2の透孔2a部分での温度分布
を赤外線カメラ8aで撮像する。赤外線カメラ8aは、
温風が供給されたシールド板2の透孔2a部分での温度
分布の画像を撮像して画像データとして取り込み、デー
タ処理部8bは、赤外線カメラ8aからの画像データを
2値化し、これを判定部9に出力する。
The temperature distribution in the through hole 2a of the shield plate 2 is imaged by the infrared camera 8a in a state where air is blown out from the through hole 2a of the shield plate 2. The infrared camera 8a
An image of the temperature distribution at the through hole 2a of the shield plate 2 to which the hot air is supplied is captured and captured as image data, and the data processing unit 8b binarizes the image data from the infrared camera 8a and determines this. Output to the unit 9.

【0030】判定部9は、データ処理部8bからの画像
データに基づいてシールド板2の透孔2aの目詰まりを
検出する。すなわち、コンピュータ9aは、正常なシー
ルド板2の透孔2a部分での温度分布に相当する基準デ
ータを記憶しており、またキーボード或いはマウス等の
入力機器9bからの入力データに基づいて、シールド板
2の板面全体での検出、或いは領域指定した特定領域で
の検出等に切替えてシールド板2の目詰まりを検出し、
その結果をパネル9cに表示する。
The judging section 9 detects clogging of the through hole 2a of the shield plate 2 based on the image data from the data processing section 8b. That is, the computer 9a stores the reference data corresponding to the temperature distribution in the through hole 2a of the normal shield plate 2, and based on the input data from the input device 9b such as a keyboard or a mouse, the shield plate 2 2, to detect the clogging of the shield plate 2 by switching to the detection on the entire plate surface or the detection in a specific region specified by the region,
The result is displayed on panel 9c.

【0031】パネル9cに表示された評価結果は、目詰
まりのない正常なシールド板2の場合、透孔2a部分で
の熱の分布状態が均一になるが、異常な場合、温度分布
のバラツキが大きくなる。
The evaluation result displayed on the panel 9c shows that, in the case of a normal shield plate 2 without clogging, the distribution of heat in the through hole 2a becomes uniform, but in the case of an abnormal condition, the temperature distribution varies. growing.

【0032】尚、本発明の実施形態では、シールド板は
CVD装置に用いるものとして説明したが、シールド板
の透孔から気体や液体を吹き出すものであって、透孔の
開口度の均斉度をチェックする必要があるものは、本発
明のシールドチェック装置を用いて、その開口度を検査
することができるものであり、図に示す実施形態のもの
に限定されるものではない。
In the embodiment of the present invention, the shield plate has been described as being used in the CVD apparatus. However, the shield plate is used to blow out gas or liquid from the through hole of the shield plate, and the uniformity of the aperture of the through hole is reduced. What needs to be checked can be inspected for its opening degree by using the shield check device of the present invention, and is not limited to the embodiment shown in the drawings.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、シ
ールド板の透孔部分に絞り込んで熱分布を画像データと
して取り込み、シールド板の目詰まりを検出するため、
シールド板の目詰まりを正確に測定することができる。
As described above, according to the present invention, the heat distribution is captured as image data by narrowing down the through holes of the shield plate, and the clogging of the shield plate is detected.
The clogging of the shield plate can be accurately measured.

【0034】したがって正常なシールド板を半導体装置
の製造用CVD装置に用いることにより、良質な膜厚,
膜質をもつCVD膜として成膜することができる。
Therefore, by using a normal shield plate for a CVD apparatus for manufacturing a semiconductor device, a good quality
It can be formed as a CVD film having a film quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態に係るシールドチェック装置
における機械的機構を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a mechanical mechanism in a shield check device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態に係るシールドチェック装置
における電気的構成を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing an electrical configuration of the shield check device according to the embodiment of the present invention.

【図3】CVD成膜装置における成膜状態を示す図であ
る。
FIG. 3 is a view showing a film forming state in a CVD film forming apparatus.

【図4】従来例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional example.

【図5】従来例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ウェハース 2 シールド板 2a シールド板の透孔 3 ノズル 4 基盤 7 温風供給部 8 画像処理部 9 判定部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wafer 2 Shield plate 2a Shield plate through-hole 3 Nozzle 4 Base 7 Hot air supply unit 8 Image processing unit 9 Judgment unit

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 温風供給部と、画像処理部と、判定部と
を有し、シールド板に設けた透孔の目詰まりを検出する
シールドチェック装置であって、 前記シールド板は、板面に透孔を有し、該透孔にのみ流
体の流動を許容するものであり、 前記温風供給部は、前記シールド板の透孔のみから流動
させる温風を前記シールド板の背面側に供給するもので
あり、 前記画像処理部は、前記透孔のみから流体が流動してい
る前記シールド板の板面を撮像して前記シールド板の透
孔部分での温度分布を画像データとして処理出力するも
のであり、 前記判定部は、前記画像処理部からの画像データを基準
データと比較し全ての透孔部分での温度分布の均斉度を
判定することにより、前記シールド板の透孔の目詰まり
を判定するものであることを特徴とするシールドチェッ
ク装置。
1. A shield check device that has a hot air supply unit, an image processing unit, and a determination unit and detects clogging of a through hole provided in a shield plate, wherein the shield plate has a plate surface. The hot air supply unit supplies hot air flowing only from the through holes of the shield plate to the back side of the shield plate. Wherein the image processing unit captures an image of a plate surface of the shield plate through which fluid flows only from the through hole, and processes and outputs a temperature distribution in the through hole portion of the shield plate as image data. Wherein the determination unit compares the image data from the image processing unit with reference data and determines the degree of uniformity of the temperature distribution in all the through- hole portions, thereby clogging the through-holes of the shield plate. Is determined. Field checking device.
【請求項2】 前記画像処理部は、赤外線カメラとデー
タ処理部とを有し、 前記赤外線カメラは、温風が供給された前記シールド板
の各透孔部分での温度分布の画像を撮像して画像データ
として取込むものである ことを特徴とする請求項1に記
載のシールドチェック装置。
2. An image processing unit comprising : an infrared camera;
The infrared camera, the shield plate supplied with hot air.
Image of the temperature distribution at each through-hole
Shield checking device according to claim 1, characterized in that for taking a.
【請求項3】 前記シールド板の各透孔の目詰まりの検3. Detection of clogging of each through hole of the shield plate.
出は、入力データに基いて、前記シールド板の板面全体The output is based on the input data and the entire surface of the shield
での検出と、前記シールド板の指定した特定領域での検At the specified area of the shield plate.
出とに切替可能としたものであることを特徴と請求項12. The device according to claim 1, wherein the switchable state is switchable between an outgoing and an outgoing.
又は2に記載のシールドチェック装置。Or the shield check device according to 2.
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