JP3152322B2 - Twinless (Nd, La) GaO3 single crystal and method for producing the same - Google Patents

Twinless (Nd, La) GaO3 single crystal and method for producing the same

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JP3152322B2 JP06751293A JP6751293A JP3152322B2 JP 3152322 B2 JP3152322 B2 JP 3152322B2 JP 06751293 A JP06751293 A JP 06751293A JP 6751293 A JP6751293 A JP 6751293A JP 3152322 B2 JP3152322 B2 JP 3152322B2
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【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は無双晶(Nd,La)G
aO3単結晶およびその製造方法、さらに詳細には酸化
物超伝導薄膜成長の基板材料等として使用する(Nd,
La)GaO3単結晶を無双晶単結晶として製造せしめ
得る混合組成および製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a twinless (Nd, La) G
aO 3 single crystal and its manufacturing method, more specifically used as a substrate material for oxide superconducting thin film growth (Nd,
La) It relates to a mixed composition and a production method capable of producing a GaO 3 single crystal as a twinless single crystal.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、LaGaO3、NdGaO3を代表
とするガレート酸化物は酸化物超伝導体薄膜用格子整合
基板としての有効性が報告されている(例えば、Sandst
rom等、Applied Physics Letters 53(1988)1874)。こ
れらのガレート酸化物単結晶基板上に酸化物超伝導体を
エピタキシャル成長させて成膜する際、そのガレート基
板と酸化物超伝導体薄膜の成膜温度における格子整合性
が成膜時の薄膜の成長様式、膜質に影響を及ぼす。理想
的には成膜温度における格子不整合率が0%であれば、
それは成膜時に疑似的なホモエピタキシャル成長条件を
満足し、良質膜を成膜せしめる望ましい基板である。
2. Description of the Related Art In recent years, gallate oxides represented by LaGaO 3 and NdGaO 3 have been reported to be effective as lattice matching substrates for oxide superconductor thin films (for example, Sandst).
rom et al., Applied Physics Letters 53 (1988) 1874). When an oxide superconductor is epitaxially grown on these gallate oxide single crystal substrates and formed into a film, the lattice match between the gallate substrate and the oxide superconductor thin film at the film formation temperature is determined by the growth of the thin film during film formation. Influences style and film quality. Ideally, if the lattice mismatch rate at the film formation temperature is 0%,
It is a desirable substrate that satisfies pseudo homoepitaxial growth conditions at the time of film formation and forms a high-quality film.

【0003】酸化物超伝導体をYBa2Cu3xとした
場合、上記LaGaO3、NdGaO3ガレート酸化物の
成膜温度における格子整合率は、それぞれ−0.10
%、0.26%であり、疑似的なホモエピタキシャル成
長条件を満足するまでに至らない(格子整合率は、式
(af−as)/{(af+as)/2}より計算した。こ
こで、afおよびasは、それぞれ薄膜および基板の格子
定数を示す)。しかし、上記格子不整合率を詳しく見る
と、YBa2Cu3xを基準として各々のガレート酸化
物の格子定数は、それぞれLaGaO3が僅かに大き
く、NdGaO3が僅かに小さい。したがって、これら
二つのガレート酸化物を混晶とすれば、格子不整合率0
%の単結晶基板を製造することが可能である。このよう
に酸化物超伝導体薄膜基板としてガレート酸化物の混晶
材料を用いることの報告は、1989年にKoen等によっ
てApplied Physics Letters Vol.54の1056頁
に記述されたLa0.95Gd0.05GaO3単結晶が最初で
ある。(Nd,La)GaO3ガレート酸化物混晶に関
しては、1991年に大石等によって特開平3−279
250号に報告されているのが最初である。しかし、基
板用単結晶には上述の格子整合性に加えて、成膜した薄
膜の膜質に影響を及ぼすクラックや双晶等の結晶欠陥を
含まない単結晶であることが重要であり、上記(Nd,
La)GaO3ガレート酸化物混晶を酸化物超伝導体薄
膜用基板として用いる際にはその(Nd,La)GaO
3ガレート混晶をクラックや双晶を含まない単結晶とし
て育成製造し基板として用いることを目的とした、組成
の明確化や製造方法の確率が重要である。(Nd,L
a)GaO3混晶単結晶の一構成要素であるLaGaO3
は、室温から融点までの間に二つの構造相変態点を有し
ており(小林等、Journal of Material Science 6(199
1)97)、この構造相変態が単結晶作製時に発生するクラ
ックや双晶の原因となっている。したがって、構造相変
態を有せずクラックや双晶を含まない単結晶の作製が可
能なNdGaO3とクラックや双晶を含んだ単結晶しか
作製できないLaGaO3を構成要素とする(Nd,L
a)GaO3混晶は、そのLa/Nd比に依存してクラ
ックや双晶のない単結晶を製造できる組成範囲が限られ
ることは容易に推測できる。しかし、上記発明(特開平
3−279250号)では、これらの点について何ら言
及をしていない。
When the oxide superconductor is made of YBa 2 Cu 3 O x , the lattice matching rates of the above-mentioned LaGaO 3 and NdGaO 3 gallate oxides at the film forming temperature are each -0.10.
%, 0.26%, does not result in until satisfying the pseudo homoepitaxial growth conditions (lattice matching ratio was calculated from the formula (a f -a s) / { (a f + a s) / 2} . here, a f and a s denotes the lattice constant of the thin film and the substrate, respectively). However, looking at the lattice mismatch rate in detail, the lattice constants of the respective gallate oxides based on YBa 2 Cu 3 O x are slightly larger for LaGaO 3 and slightly smaller for NdGaO 3 . Therefore, if these two gallate oxides are mixed crystals, a lattice mismatch rate of 0
% Of a single crystal substrate can be manufactured. A report on the use of a mixed crystal material of gallate oxide as the oxide superconductor thin film substrate in this way was published in 1989 by Koen et al. In Applied Physics Letters Vol. The La 0.95 Gd 0.05 GaO 3 single crystal described at page 54, page 1056 is the first. Regarding the mixed crystal of (Nd, La) GaO 3 gallate oxide, Oishi et al.
First reported in issue 250. However, it is important that the single crystal for the substrate be a single crystal that does not include crystal defects such as cracks and twins that affect the film quality of the formed thin film in addition to the lattice matching described above. Nd,
When (La) GaO 3 gallate oxide mixed crystal is used as a substrate for an oxide superconductor thin film, the (Nd, La) GaO 3
It is important to clarify the composition and the probability of the production method for the purpose of growing and producing a 3- gallate mixed crystal as a single crystal containing no cracks or twins and using it as a substrate. (Nd, L
a) LaGaO 3 which is one component of GaO 3 mixed crystal single crystal
Has two structural transformation points between room temperature and its melting point (Kobayashi et al., Journal of Material Science 6 (1992).
1) 97), this structural phase transformation causes cracks and twins to occur during the production of single crystals. Therefore, NdGaO 3 capable of producing a single crystal having no structural phase transformation and containing no cracks or twins and LaGaO 3 capable of producing only a single crystal containing cracks or twins are constituent elements (Nd, L
a) It can be easily inferred that the composition range in which a GaO 3 mixed crystal can produce a single crystal without cracks or twins is limited depending on its La / Nd ratio. However, the above invention (Japanese Patent Laid-Open No. 3-279250) does not mention these points at all.

【0004】上記NdGaO3ガレート単結晶の製造方
法に関しては、1956年フラックス法を用いて初めて
試みられたが、フラックスに用いる鉛酸化物の混入によ
る品質の低下と得られる単結晶の小ささ(5mm角程
度)が報告されている(Remeika, Journal of American
Chemical Society 78(1956)4259)。これらの問題を解
決すべく、シリコン単結晶等の製造において一般的な単
結晶製造法である引上げ法の適用が1975年より試み
られているが、熱応力によるクラックや双晶発生のた
め、アフターヒーターを用いない一般的な引上げ装置で
は直径10mm程度の小さい無双晶単結晶しか得ること
ができなかった(Ruse等,Journal of Crystal Growth
29(1975)305)。また、LaGaO3ガレート単結晶に関
しては、引上げ法により製造されているが、現在のとこ
ろ、無双晶の単結晶は得られていない。
[0004] The method of producing the above-mentioned single crystal of NdGaO 3 gallate was first attempted in 1956 by using the flux method. However, the quality was deteriorated due to the incorporation of lead oxide used in the flux and the size of the obtained single crystal was reduced to 5 mm. Angle)) (Remeika, Journal of American
Chemical Society 78 (1956) 4259). In order to solve these problems, a pulling method, which is a general single crystal manufacturing method, has been attempted in the manufacture of silicon single crystals and the like since 1975. However, cracks and twins are generated due to thermal stress. With a general pulling apparatus without a heater, only a small twinless single crystal having a diameter of about 10 mm could be obtained (Ruse et al., Journal of Crystal Growth).
29 (1975) 305). LaGaO 3 gallate single crystals are produced by the pulling method, but no twin-crystal single crystals have been obtained at present.

【0005】図5に従来一般的に使用されている高周波
誘導加熱式の引上げ装置の図面を示す。図中、1はイリ
ジウム製ルツボ、3は高周波加熱コイル、4は保温筒、
5は融液、6は石英管、7は熱電対である。母原料とな
る焼結体をイリジウム製ルツボ1に充填し、高周波加熱
コイル3で融解し、種結晶を融液につけて回転させなが
ら引上げて(Nd,La)GaO3を育成する。
FIG. 5 shows a drawing of a high frequency induction heating type pulling apparatus generally used in the prior art. In the figure, 1 is an iridium crucible, 3 is a high-frequency heating coil, 4 is an insulated cylinder,
Reference numeral 5 denotes a melt, 6 denotes a quartz tube, and 7 denotes a thermocouple. A sintered body serving as a base material is filled in an iridium crucible 1, melted by a high-frequency heating coil 3, and a seed crystal is immersed in a melt and rotated to grow (Nd, La) GaO 3 .

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】図5に示した方法で種
々のLa/Nd比を持つ(Nd,La)GaO3単結晶
を育成したところ、育成中において単結晶にクラックや
双晶が入り、良質な単結晶を得ることができなかった。
また、クラックや双晶が少ない単結晶でも引上げ工程終
了後の冷却工程や単結晶引上げ装置から取り出した後の
放置中に単結晶にクラックや双晶が入ることがあった。
このため、従来の方法で育成した単結晶からは直径20
mm程度の大きな直径の単結晶基板を得ることは不可能
であった。また、直径10mm程度の小さい径の単結晶
基板でも歩留まりは非常に低伊という問題点があった。
When (Nd, La) GaO 3 single crystals having various La / Nd ratios were grown by the method shown in FIG. 5, cracks and twins were formed in the single crystal during the growth. A good single crystal could not be obtained.
Even in a single crystal having few cracks or twins, cracks or twins may be formed in the single crystal during the cooling step after the pulling step or during standing after being removed from the single crystal pulling apparatus.
Therefore, a single crystal grown by the conventional method has a diameter of 20 mm.
It was impossible to obtain a single crystal substrate having a diameter as large as about mm. Further, there is a problem that the yield is very low even with a single crystal substrate having a small diameter of about 10 mm.

【0007】したがって、本発明はクラックや双晶を含
まない(Nd,La)GaO3単結晶製造を可能とする
組成(La/Nd比)を明確にし、良質な格子整合基板
を提供することを目的とする。また、(Nd,La)G
aO3単結晶の引上げ法による育成技術において育成中
にもまた育成後の冷却中にもクラックや双晶が入らない
単結晶製造方法を提供することを目的とする。さらに、
本発明は引上げ法で製造した(Nd,La)GaO3
結晶が放置中にクラックや双晶が入ることを防止する方
法を提供することも目的とする。
Accordingly, the present invention provides a composition (La / Nd ratio) that enables production of a (Nd, La) GaO 3 single crystal free of cracks and twins and provides a high-quality lattice-matched substrate. Aim. Also, (Nd, La) G
It is an object of the present invention to provide a method for producing a single crystal in which cracks and twins do not enter during growth or during cooling after growth in a growth technique based on the aO 3 single crystal pulling method. further,
Another object of the present invention is to provide a method for preventing cracks and twins from entering a (Nd, La) GaO 3 single crystal produced by a pulling method during standing.

【0008】[0008]

【問題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め、本発明による無双晶(Nd,La)GaO3単結晶
は、Nd1-xLaxGaO3(0<x<0.3)であるこ
とを特徴とする。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the twin-free (Nd, La) GaO 3 single crystal according to the present invention comprises Nd 1 -x La x GaO 3 (0 <x <0.3). It is characterized by being.

【0009】また本発明による無双晶(Nd,La)G
aO3単結晶の製造方法は、単結晶製造用引上げ炉中で
種結晶を(Nd,La)GaO3融液に接触させ、引上
げた後、冷却する無双晶(Nd,La)GaO3単結晶
の製造方法において、前記(Nd,La)GaO3融液
はNd1-xLaxGaO3(0<x<0.3)単結晶とな
るための組成を有し、前記単結晶引上げ炉内の引上げ軸
方向の温度勾配は(Nd,La)GaO3融液の液面直
上において45℃/cm以下であり、引上げ中の(N
d,La)GaO3単結晶を(融点−60)℃を越えて
冷却させないよう調整するとともに、無双晶(Nd,L
a)GaO3単結晶の上記引上げ工程終了後、無双晶
(Nd,La)GaO3単結晶を60℃/hr以下の冷
却速度で室温まで冷却することを特徴とする。
The twinless (Nd, La) G according to the present invention
An aO 3 single crystal is produced by bringing a seed crystal into contact with a (Nd, La) GaO 3 melt in a pulling furnace for producing a single crystal, pulling the crystal, and then cooling the twin crystal without twin (Nd, La) GaO 3 single crystal. Wherein the (Nd, La) GaO 3 melt has a composition for forming a Nd 1 -x La x GaO 3 (0 <x <0.3) single crystal, and Is 45 ° C./cm or less immediately above the liquid surface of the (Nd, La) GaO 3 melt,
d, La) GaO 3 single crystal was adjusted so as not to be cooled above (melting point −60) ° C., and twin-free (Nd, L
a) After the pulling step of the GaO 3 single crystal is completed, the twin-free (Nd, La) GaO 3 single crystal is cooled to room temperature at a cooling rate of 60 ° C./hr or less.

【0010】また本発明による無双晶(Nd,La)G
aO3単結晶の製造方法は、単結晶製造用引上げ炉中で
種結晶を(Nd,La)GaO3融液に接触させ、引上
げた後、冷却する無双晶(Nd,La)GaO3単結晶
の製造方法において、前記(Nd,La)GaO3融液
はNd1-xLaxGaO3(0<x<0.3)単結晶とな
るための組成を有し、前記単結晶引上げ炉内の引上げ軸
方向の温度勾配は(Nd,La)GaO3融液の液面直
上において45℃/cm以下であり、引上げ中の(N
d,La)GaO3単結晶を(融点−60)℃を越えて
冷却させないよう調整するとともに、無双晶(Nd,L
a)GaO3単結晶の上記引上げ工程終了後、無双晶
(Nd,La)GaO3単結晶を60℃/hr以下の冷
却速度で室温まで冷却したのち、製造された無双晶(N
d,La)GaO3単結晶を1000℃以上の温度でア
ニールすることを特徴とする。
Further, the twinless (Nd, La) G according to the present invention.
An aO 3 single crystal is produced by bringing a seed crystal into contact with a (Nd, La) GaO 3 melt in a pulling furnace for producing a single crystal, pulling the crystal, and then cooling the twin crystal without twin (Nd, La) GaO 3 single crystal. Wherein the (Nd, La) GaO 3 melt has a composition for forming a Nd 1 -x La x GaO 3 (0 <x <0.3) single crystal, and Is 45 ° C./cm or less immediately above the liquid surface of the (Nd, La) GaO 3 melt,
d, La) GaO 3 single crystal was adjusted so as not to be cooled above (melting point −60) ° C., and twin-free (Nd, L
a) GaO 3 after the pulling step the end of the single crystal, matchless crystal (Nd, La) GaO 3 After cooling to room temperature single crystal 60 ° C. / hr or less in the cooling rate, matchless crystals produced (N
d, La) annealing a GaO 3 single crystal at a temperature of 1000 ° C. or higher.

【0011】また、本発明に係る単結晶引上げ装置は、
(Nd,La)GaO3の融液を溶融するルツボと、前
記ルツボ内の融液を加熱する加熱手段と、前記ルツボの
開口部から引上げられた単結晶の側面を取り囲みかつ引
上げ方向にテーパを有する中空体アフターヒーターと、
アフターヒーターの外側を取り囲む保温筒と、を含んで
なる単結晶引上げ装置であり、前述の(Nd,La)G
aO3単結晶の引上げ軸方向の温度勾配を(Nd,L
a)GaO3融液の液面直上において45℃/cm以下
とすること、かつ引上げ中の(Nd,La)GaO3
結晶を(融点−60)℃を越えて冷却させないことを満
足するよう調整を加えてある。
Further, the single crystal pulling apparatus according to the present invention comprises:
A crucible for melting the melt of (Nd, La) GaO 3 , heating means for heating the melt in the crucible, and a taper surrounding the side surface of the single crystal pulled from the opening of the crucible and extending in the pulling direction. Having a hollow body after heater,
A single crystal pulling apparatus comprising: a heat retaining cylinder surrounding the outside of the after-heater, wherein the (Nd, La) G
The temperature gradient of the aO 3 single crystal in the pulling axis direction is (Nd, L
a) The temperature should be 45 ° C./cm or less immediately above the liquid surface of the GaO 3 melt, and the (Nd, La) GaO 3 single crystal during pulling should not be cooled beyond (melting point−60) ° C. Adjustments have been made.

【0012】以下本発明の構成を説明する。The configuration of the present invention will be described below.

【0013】本発明による無双晶(Nd,La)GaO
3単結晶は、(Nd,La)GaO3の混晶において、N
1-xLaxGaO3(0<x<0.3)の組成を有して
いる。
A twinless (Nd, La) GaO according to the present invention
The 3 single crystal is a mixed crystal of (Nd, La) GaO 3
It has a composition of d 1-x La x GaO 3 (0 <x <0.3).

【0014】(Nd,La)GaO3混晶単結晶の一構
成要素であるLaGaO3は、室温から融点までの間に
二つの構造相変態点を有しており、この構造相変態が単
結晶作製時に発生するクラックや双晶の原因となってい
る。本発明者は詳細な(Nd,La)GaO3混晶に対
する熱分析の結果、Nd1-xLaxGaO3で表記される
組成0<x<0.3において上述の構造相変態が存在せ
ず、クラックや双晶のない単結晶を製造できる組成範囲
であることを見い出した。図1はLa濃度と融点および
相変態温度との関係を示す図であり、図中、実線は融点
を示し、○、×は相変態温度の文献値、測定値をそれぞ
れ示す。この図より明らかなようにxが0.3未満の組
成においては、室温から融点まで構造相変態が存在しな
い。すなわち上述の組成は、室温から融点までの温度領
域において構造相変態が存在しない組成であり、クラッ
クや双晶のない(Nd,La)GaO3単結晶を製造し
得る組成範囲である。
LaGaO 3 , which is one component of the (Nd, La) GaO 3 mixed crystal single crystal, has two structural phase transformation points between room temperature and its melting point, and this structural phase transformation is a single crystal. It causes cracks and twins that occur during fabrication. As a result of detailed thermal analysis of the (Nd, La) GaO 3 mixed crystal, the present inventor has found that the above-mentioned structural phase transformation exists in the composition 0 <x <0.3 represented by Nd 1 -x La x GaO 3. And a composition range in which a single crystal free of cracks and twins can be produced. FIG. 1 is a diagram showing the relationship between the La concentration, the melting point, and the phase transformation temperature. In the figure, the solid line shows the melting point, and ○ and × show the literature values and measured values of the phase transformation temperature, respectively. As is clear from this figure, in the composition where x is less than 0.3, no structural phase transformation exists from room temperature to the melting point. That is, the above composition is a composition in which no structural phase transformation is present in a temperature range from room temperature to a melting point, and is a composition range in which a (Nd, La) GaO 3 single crystal without cracks or twins can be produced.

【0015】次に、本発明の無双晶(Nd,La)Ga
3単結晶の製造方法を説明すると、本発明において
は、単結晶製造用引上げ炉中で種結晶を(Nd,La)
GaO3融液に接触させ、引上げた後、冷却して無双晶
(Nd,La)GaO3単結晶を製造するに際し、まず
Nd1-xLaxGaO3(0<x<0.3)単結晶となる
ための組成を有する前記(Nd,La)GaO3融液を
形成する。
Next, the twin-free (Nd, La) Ga of the present invention
A method for producing an O 3 single crystal will be described. In the present invention, a seed crystal is (Nd, La) in a pulling furnace for producing a single crystal.
After being brought into contact with the GaO 3 melt, pulled up, and then cooled to produce a twin-free (Nd, La) GaO 3 single crystal, first, a single Nd 1 -x La x GaO 3 (0 <x <0.3) single crystal The (Nd, La) GaO 3 melt having a composition to become a crystal is formed.

【0016】本発明の単結晶製造法の融液の素原料は、
Nd23とLa23とGa23の粉末を使用することが
できる。これらの酸化物粉末は99.99%以上の高純
度品であることが好ましい。これらの酸化物を混合し直
ちにルツボで溶解することもできるが、混合粉を加圧成
型した後、焼結を行った焼結体原料を使用することが溶
解中の原料の蒸発などを少なくする上で好ましい。ま
た、焼結体原料は混合時より所望の組成比の(Nd,L
a)GaO3とすることも可能であるし、(Nd,L
a)GaO3は混晶酸化物であるから一旦その構成酸化
物であるLaGaO3とNdGaO3を作製し、それらの
焼結体を所望の組成となるようルツボに充填することも
可能である。所望の組成に配合した焼結体原料をルツボ
に充填し、高周波熱または抵抗加熱で1500〜160
0℃で融解して融液を形成する。
The raw material of the melt in the method for producing a single crystal of the present invention is:
Powders of Nd 2 O 3 , La 2 O 3 and Ga 2 O 3 can be used. These oxide powders are preferably high purity products of 99.99% or more. These oxides can be mixed and immediately melted with a crucible, but after pressing the mixed powder, using a sintered raw material reduces the evaporation of the raw material during melting. Preferred above. In addition, the sintered material has a desired composition ratio (Nd, L
a) GaO 3 can be used, and (Nd, L
a) Since GaO 3 is a mixed crystal oxide, its constituent oxides, LaGaO 3 and NdGaO 3 , can be once prepared, and their sintered bodies can be filled in a crucible to have a desired composition. A crucible is filled with a sintered material mixed with a desired composition, and is heated to 1500 to 160 by high-frequency heat or resistance heating.
Melt at 0 ° C. to form a melt.

【0017】次に、種結晶を取付けた引上げ棒を上部よ
り前記融液に接触させ、引上げ棒を回転させながら引上
げ、(Nd,La)GaO3単結晶を育成する。
Next, a pulling rod on which a seed crystal is attached is brought into contact with the melt from above, and the pulling rod is pulled while rotating to grow a (Nd, La) GaO 3 single crystal.

【0018】この時、引上げ炉の融液液面上の温度勾配
が二つの温度勾配条件を満たすことが必要である。すな
わち第一は、前記単結晶引上げ炉内の引上げ軸方向の温
度勾配を(Nd,La)GaO3融液の液面直上におい
て45℃/cm以下とすることである。
At this time, it is necessary that the temperature gradient on the melt surface of the pulling furnace satisfy two temperature gradient conditions. That is, first, the temperature gradient in the pulling axis direction in the single crystal pulling furnace is set to 45 ° C./cm or less immediately above the liquid level of the (Nd, La) GaO 3 melt.

【0019】本発明者らは図5に示すような従来の引上
げ炉内の温度勾配を測定したところ、約70℃/cmの
非常に高い温度勾配を有することを見い出した。この高
い温度勾配は(Nd,La)GaO3単結晶の育成にお
いては単結晶にクラックや双晶を発生させる程過度の熱
応力を誘起する原因であり、(Nd,La)GaO3
液の液面直上において温度勾配をなだらかに設定するこ
と、かつ引上げ中の(Nd,La)GaO3単結晶を過
度に冷却させず単結晶中に急激な温度勾配をつけないこ
とがクラックおよび双晶発生防止に有効であることを見
い出した。すなわち、(Nd,La)GaO3融液直上
の温度勾配が45℃/cmを越えると、融液直上でクラ
ックや双晶を発生させる熱応力が発生し、クラックや双
晶の発生に至る。引上げ中の単結晶のある温度勾配を従
来より緩やかになるように制御する。従来法と本発明法
の温度勾配を上記区間で比較すると、従来法では区間全
体で温度勾配が急峻になっていた。
The present inventors measured the temperature gradient in a conventional pulling furnace as shown in FIG. 5, and found that the temperature had a very high temperature gradient of about 70 ° C./cm. This high temperature gradient (Nd, La) in GaO 3 single crystal growth is responsible for inducing excessive thermal stresses extent to generate cracks and twin on the single crystal, (Nd, La) GaO 3 melt Cracking and twinning occur when the temperature gradient is set gently just above the liquid surface, and the (Nd, La) GaO 3 single crystal during pulling is not excessively cooled and a sharp temperature gradient is not formed in the single crystal. It was found that it was effective for prevention. That is, when the temperature gradient directly above the (Nd, La) GaO 3 melt exceeds 45 ° C./cm, thermal stress that generates cracks and twins immediately above the melt is generated, leading to generation of cracks and twins. A certain temperature gradient of the single crystal during pulling is controlled to be gentler than before. Comparing the temperature gradient between the conventional method and the method of the present invention in the above section, the conventional method shows that the temperature gradient is steep throughout the section.

【0020】次に、第二の温度勾配を説明する。Next, the second temperature gradient will be described.

【0021】上述のような(Nd,La)GaO3融液
直上の温度勾配を45℃/cm以下に設定しても、引上
げ中の(Nd,La)GaO3単結晶が(融点−60)
℃を越えた温度勾配を持った場合、単結晶中にクラック
や双晶を発生させる熱応力が発生し、クラックや双晶の
発生に至る。
Even if the temperature gradient immediately above the (Nd, La) GaO 3 melt is set at 45 ° C./cm or less, the (Nd, La) GaO 3 single crystal being pulled still has a melting point of −60.
If the temperature gradient exceeds ℃, a thermal stress that generates cracks and twins is generated in the single crystal, which leads to the generation of cracks and twins.

【0022】このクラックや双晶を発生させない温度勾
配を作り出すためには、ルツボ内の(Nd,La)Ga
3融液の加熱手段が高周波誘導コイルであるときは、
前述の従来の引上げ装置の構成物に加え、後述の図3に
示す単結晶引上げ装置に示すようにアフターヒーターの
付加、上記アフターヒーターの位置の調節、高周波誘導
コイルの位置調節等が必要である。さらに、抵抗加熱で
ルツボを加熱するときは多段ヒーターを設け、個々のヒ
ーターを調節することにより所定温度勾配を設定するこ
とができる。
In order to create a temperature gradient that does not generate cracks and twins, it is necessary to use (Nd, La) Ga in the crucible.
When the heating means of the O 3 melt is a high-frequency induction coil,
In addition to the components of the conventional pulling apparatus described above, it is necessary to add an after-heater, adjust the position of the after-heater, adjust the position of the high-frequency induction coil, etc., as shown in the single crystal pulling apparatus shown in FIG. . Further, when heating the crucible by resistance heating, a multi-stage heater is provided, and a predetermined temperature gradient can be set by adjusting each heater.

【0023】次に、引き上げた(Nd,La)GaO3
単結晶を60℃/hr以下の冷却速度で室温まで冷却す
る。
Next, the (Nd, La) GaO 3 pulled up
The single crystal is cooled to room temperature at a cooling rate of 60 ° C./hr or less.

【0024】さらに、二つの温度勾配を設定した方法で
無双晶でクラックや双晶の発生を防止した際も双晶が僅
かに発生する場合があった。本発明者はこの原因は引上
げた無双晶(Nd,La)GaO3単結晶を室温まで冷
却する際に単結晶中に発生する熱応力によることを発見
した。すなわち図2に示す臨界応力に対応する臨界冷却
速度を説明する図より明らかなように、60℃/hr以
下の冷却速度で室温まで冷却することが冷却時に発生す
る双晶をより安定に防止することができることを見い出
した。引上げ後の冷却工程において、育成した単結晶に
クラックや双晶が発生しやすい冷却速度を緩やかにして
クラックや双晶の防止に有効である。
Further, even when the generation of cracks and twins is prevented by using a method in which two temperature gradients are set, twins may be slightly generated. The present inventor has discovered that the cause is thermal stress generated in the pulled twinless (Nd, La) GaO 3 single crystal when the single crystal is cooled to room temperature. That is, as is apparent from FIG. 2 illustrating the critical cooling rate corresponding to the critical stress, cooling to room temperature at a cooling rate of 60 ° C./hr or less more stably prevents twins generated at the time of cooling. I found what I could do. In the cooling step after pulling, the cooling rate at which cracks and twins are easily generated in the grown single crystal is moderated, which is effective in preventing cracks and twins.

【0025】上述の方法において、無双晶(Nd,L
a)GaO3単結晶を製造することができるが、本発明
においては育成されたインゴットに放置中にクラックや
双晶が発生することを防止するために、本発明の方法は
引上げ・冷却後に1000℃以上の温度でアニールする
こともできる。
In the method described above, twinless (Nd, L
a) Although a GaO 3 single crystal can be produced, in the present invention, in order to prevent cracks and twins from occurring during standing in a grown ingot, the method of the present invention requires 1000 g after pulling and cooling. Annealing can be performed at a temperature of not less than ° C.

【0026】アニールは引上げ後インゴットに残存する
熱応力歪を少なくする手段である。この方法は従来法で
炉から取り出した後の放置中に発生するクラックや双晶
の防止に有効である。これにより、インゴットを全長お
よび全断面で均熱し、引上げ・冷却後インゴットに残っ
ている熱応力歪を取り除きクラックや双晶を少なくする
ことができる。アニールは引上げ炉とは独立したアニー
ル炉を使用してもよく、あるいは均熱のよい条件が得ら
れれば、引上げ炉内で引上げ後連続的にアニールしても
よい。
Annealing is a means for reducing the thermal stress distortion remaining in the ingot after pulling. This method is effective for preventing cracks and twins that occur during standing after being taken out of the furnace by the conventional method. As a result, the ingot can be uniformly heated over the entire length and cross section, and the thermal stress strain remaining in the ingot after pulling / cooling can be removed to reduce cracks and twins. Annealing may be performed by using an annealing furnace independent of the pulling furnace, or, if good soaking conditions are obtained, annealing may be performed continuously after pulling in the pulling furnace.

【0027】次に、本発明の製造方法を実施するための
引上げ炉について説明する。
Next, a pulling furnace for performing the manufacturing method of the present invention will be described.

【0028】すなわち、図3に示すように本発明を実施
するための引上げ炉は、(Nd,La)GaO3の融液
を溶融するルツボ1と、前記ルツボ1内の融液5を加熱
する加熱手段3と、前記ルツボ1の開口部から引上げら
れた単結晶の側面を取り囲みかつ引上げ方向にテーパを
有する中空体アフターヒーター2と、アフターヒーター
2の外側を取り囲む保温筒4と、を含んでなる単結晶引
上げ装置であり、前述の(Nd,La)GaO3単結晶
の引上げ軸方向の温度勾配を(Nd,La)GaO3
液の液面直上において45℃/cm以下とすること、か
つ引上げ中の(Nd,La)GaO3単結晶を(融点−
60)℃を越えて冷却させないことを満足するよう調整
を加えてある。なお、符号6は石英管、7は熱電対であ
る。
That is, as shown in FIG. 3, a pulling furnace for carrying out the present invention heats a crucible 1 for melting a melt of (Nd, La) GaO 3 and a melt 5 in the crucible 1. Heating means 3, a hollow after-heater 2 surrounding the side surface of the single crystal pulled from the opening of the crucible 1 and having a taper in the pulling direction, and a heat retaining cylinder 4 surrounding the outside of the after-heater 2. A temperature gradient in the direction of the pulling axis of the (Nd, La) GaO 3 single crystal is set to 45 ° C./cm or less directly above the liquid surface of the (Nd, La) GaO 3 melt. In addition, the (Nd, La) GaO 3 single crystal that is being pulled is melted (melting point−
60) Adjustments have been made to satisfy the requirement not to cool the temperature beyond ℃. Reference numeral 6 denotes a quartz tube, and reference numeral 7 denotes a thermocouple.

【0029】本発明者は引上げ炉構造を種々検討し、そ
の結果アフターヒーター2が少なくとも前記(Nd,L
a)GaO3融液の液面から20mm以上の区間に存在
する構造にすることによりクラックや双晶を防止するこ
とができることを見い出した。また、高周波誘導コイル
の位置を調節することによりアフターヒーター内の温度
勾配を緩和し、引上げ中の(Nd,La)GaO3単結
晶にクラックや双晶の発生をより安定に防止することが
できることを見い出した。
The present inventor has studied various structures of the pulling furnace, and as a result, the after-heater 2 has at least the above (Nd, L
a) It has been found that cracks and twins can be prevented by adopting a structure existing in a section of 20 mm or more from the liquid surface of the GaO 3 melt. Also, by adjusting the position of the high-frequency induction coil, the temperature gradient in the after-heater can be reduced, and the generation of cracks and twins in the (Nd, La) GaO 3 single crystal during pulling can be prevented more stably. I found

【0030】以下、図1を参照して実施例により本発明
をさらに詳しく説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to an embodiment with reference to FIG.

【0031】[0031]

【実施例1】等モル量のNd23とGa23およびLa
23とGa23を混合し、それぞれ加圧成型後1200
℃で焼結し、NdGaO3焼結体およびLaGaO3焼結
体を作製した。得られた焼結体を組成Nd0.8La0.2
aO3となるよう、直径50mmのイリジウム製ルツボ
1にいれ、高周波コイル3による加熱により97%窒素
と3%酸素の割合で混合した雰囲気中で1600℃で融
解した。
EXAMPLE 1 Equimolar amounts of Nd 2 O 3 , Ga 2 O 3 and La
After mixing 2 O 3 and Ga 2 O 3 , and pressing each
Sintered at ° C., to produce a NdGaO 3 sintered and LaGaO 3 sintered body. The obtained sintered body was subjected to composition Nd 0.8 La 0.2 G
It was placed in an iridium crucible 1 having a diameter of 50 mm so as to obtain aO 3, and was melted at 1600 ° C. in an atmosphere in which 97% nitrogen and 3% oxygen were mixed by heating with a high-frequency coil 3.

【0032】引上げ装置のイリジウム製ルツボ1の上方
にはイリジウム製アフターヒーター2を融液5の液面か
ら20mm〜80mmの区間にテーパ角度約70°をも
って設けた。その外側にはアルミナ製保温筒4を同軸上
に設けた。これらにより結晶引上げ区間の温度勾配を緩
やかにする。
Above the iridium crucible 1 of the pulling apparatus, an iridium after heater 2 was provided in a section of 20 mm to 80 mm from the liquid surface of the melt 5 with a taper angle of about 70 °. On the outside thereof, an alumina heat retaining cylinder 4 was provided coaxially. Thus, the temperature gradient in the crystal pulling section is moderated.

【0033】引上げ棒(図示せず)の先端に着けられた
種結晶(直径4mm)を融液5に接触させて、回転数2
0rpm、引上げ速度1.0mm/hrで引上げ、高周
波コイル3の出力をコントロールしながら単結晶を育成
した。
A seed crystal (4 mm in diameter) attached to the tip of a pulling rod (not shown) was brought into contact with the melt 5 to rotate at a rotation speed of 2 mm.
A single crystal was grown at 0 rpm at a pulling speed of 1.0 mm / hr while controlling the output of the high-frequency coil 3.

【0034】上記方法により得られた単結晶引上げ軸方
向の温度分布を図4に示す。融液直上の温度勾配は45
℃/cmであり、単結晶引上げ区間の温度は融点下60
℃を越えて冷却されることはなかった。
FIG. 4 shows the temperature distribution in the direction of the single crystal pulling axis obtained by the above method. The temperature gradient just above the melt is 45
° C / cm, and the temperature in the single crystal pulling section is below the melting point.
It did not cool down above ° C.

【0035】冷却は60℃/hr以下の冷却速度で行な
った。
The cooling was performed at a cooling rate of 60 ° C./hr or less.

【0036】上記方法により4本のインゴットを製造し
たが単結晶育成中にも単結晶冷却中にもクラックや双晶
が発生しなかった。
Four ingots were produced by the above method, but no cracks or twins were generated during single crystal growth and single crystal cooling.

【0037】また、製造した無双晶Nd0.8La0.2Ga
3単結晶の格子定数より成膜温度におけるYBa2Cu
3xとの格子整合率を見積ったところ、0.002%で
あり、従来の基板に比べて最もよい格子整合性を持つこ
とが明らかとなった。したがって、この単結晶は、クラ
ックや双晶がなく、成膜時に疑似的なホモエピタキシャ
ル成長条件を満足するYBa2Cu3x酸化物超伝導体
薄膜成長用基板として有用な単結晶であるということが
できる。
The manufactured twinless Nd 0.8 La 0.2 Ga
YBa 2 Cu at film formation temperature based on lattice constant of O 3 single crystal
When the lattice matching ratio with 3 O x was estimated, it was 0.002%, which revealed that the lattice matching ratio was the best as compared with the conventional substrate. Therefore, this single crystal has no cracks or twins, and is a single crystal useful as a substrate for growing a YBa 2 Cu 3 O x oxide superconductor thin film that satisfies pseudo homoepitaxial growth conditions during film formation. Can be.

【0038】[0038]

【比較例】図5の装置により、アフターヒーターを付加
しないこと以外は実施例1と同じ方法によりインゴット
の引上げを行ったところ、単結晶引上げ区間の温度勾配
は70℃/cmであった。4本のインゴットは育成中に
クラックが発生し、3本のインゴットは放置中にクラッ
クおよび双晶が発生した。
COMPARATIVE EXAMPLE The ingot was pulled in the same manner as in Example 1 except that no after-heater was added using the apparatus shown in FIG. 5, and the temperature gradient in the single crystal pulling section was 70 ° C./cm. Cracks occurred during growth of the four ingots, and cracks and twins occurred during the standing of the three ingots.

【0039】[0039]

【実施例2】実施例1において育成中にクラックが発生
しなかったインゴット(育成後徐冷状態)を、直ちに均
熱性が優れたマッフル炉に入れ、酸素中で20℃/hr
で昇温し1000℃で10時間保持し、20℃/hrで
降温するアニールを行ったところ、その後の放置中のク
ラックや双晶の増加は起こらなかった。
Example 2 An ingot in which cracks did not occur during growth in Example 1 (slowly cooled state after growth) was immediately placed in a muffle furnace having excellent heat uniformity, and heated at 20 ° C./hr in oxygen.
After annealing at 1000 ° C. for 10 hours and cooling at 20 ° C./hr, no increase in the number of cracks or twins during subsequent standing occurred.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば
(Nd,La)GaO3単結晶の製造において、その組
成をNd1-xLaxGaO3で表記される組成0<x<
0.3に限って、単結晶育成中にもまた放置中にもクラ
ックや双晶の発生を防止することができるので、歩留ま
りの向上および大型基板の製造に寄与する。
As described above, according to the present invention, in the production of (Nd, La) GaO 3 single crystal, the composition is represented by the composition 0 <x <represented by Nd 1 -x La x GaO 3.
Only 0.3, cracks and twins can be prevented from being generated both during growth of the single crystal and during standing, thereby contributing to improvement in yield and production of large substrates.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】La濃度と融点および相変態温度との関係を示
す図。
FIG. 1 is a diagram showing the relationship between La concentration, melting point, and phase transformation temperature.

【図2】臨界応力に対応する臨界冷却速度を説明する
図。
FIG. 2 is a diagram illustrating a critical cooling rate corresponding to a critical stress.

【図3】本発明の製造方法を実施するための単結晶引上
げ装置の構造を示す断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a structure of a single crystal pulling apparatus for performing the manufacturing method of the present invention.

【図4】実施例1における温度勾配を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a temperature gradient in the first embodiment.

【図5】従来の単結晶引上げ装置の断面図。FIG. 5 is a sectional view of a conventional single crystal pulling apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ルツボ 2 アフターヒーター 3 高周波加熱コイル 4 保温筒 5 融液 6 石英管 7 熱電対 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Crucible 2 After-heater 3 High-frequency heating coil 4 Insulation tube 5 Melt 6 Quartz tube 7 Thermocouple

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−144994(JP,A) 特開 平4−114993(JP,A) 特開 平2−275685(JP,A) 特開 平3−199199(JP,A) 特開 平4−97989(JP,A) 特開 平3−199198(JP,A) 特開 平3−279250(JP,A) OISHI AKIRA et a l.,”New substrate La1−xNdxGa03 for Hi gh−Tc YBa2Cu30x Epi taxial Films,”Adva nces in Supercondu ctivity V,Proceedi ngs of the 5th Int ernational Symposi um on Superconduct ivity(ISS−92),Meeti ng Date Nov.1992,pp. 869−872 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C30B 29/24 CA(STN) JICSTファイル(JOIS) REGISTRY(STN)────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-4-144994 (JP, A) JP-A-4-114993 (JP, A) JP-A-2-27585 (JP, A) JP-A-3- 199199 (JP, A) JP-A-4-97989 (JP, A) JP-A-3-199198 (JP, A) JP-A-3-279250 (JP, A) OISHI AKIRA et al. , "New substrate La1-xNdxGa03 for Hi gh-Tc YBa2Cu30x Epi taxial Films," Adva nces in Supercondu ctivity V, Proceedi ngs of the 5th Int ernational Symposi um on Superconduct ivity (ISS-92), Meeti ng Date Nov. 1992, pp. 869-872 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C30B 29/24 CA (STN) JICST file (JOIS) REGISTRY (STN)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】Nd1-xLaxGaO3(0<x<0.3)
であることを特徴とする無双晶(Nd,La)GaO3
単結晶。
1. Nd 1-x La x GaO 3 (0 <x <0.3)
Twin (Nd, La) GaO 3
Single crystal.
【請求項2】単結晶製造用引上げ炉中で種結晶を(N
d,La)GaO3融液に接触させ、引上げた後、冷却
する無双晶(Nd,La)GaO3単結晶の製造方法に
おいて、前記(Nd,La)GaO3融液はNd1-xLa
xGaO3(0<x<0.3)単結晶となるための組成を
有し、前記単結晶引上げ炉内の引上げ軸方向の温度勾配
は(Nd,La)GaO3融液の液面直上において45
℃/cm以下であり、引上げ中の(Nd,La)GaO
3単結晶を(融点−60)℃を越えて冷却させないよう
調整するとともに、無双晶(Nd,La)GaO3単結
晶の上記引上げ工程終了後、無双晶(Nd,La)Ga
3単結晶を60℃/hr以下の冷却速度で室温まで冷
却することを特徴とする無双晶(Nd,La)GaO3
単結晶の製造方法。
2. A seed crystal (N) is pulled in a pulling furnace for producing a single crystal.
d, La) GaO 3 is brought into contact with the melt, after pulled up, matchless crystal cooling (Nd, La) in the manufacturing method of GaO 3 single crystal, the (Nd, La) GaO 3 melt Nd 1-x La
x GaO 3 (0 <x <0.3) has a composition to become a single crystal, and the temperature gradient in the pulling axis direction in the single crystal pulling furnace is directly above the liquid level of the (Nd, La) GaO 3 melt. At 45
° C / cm or less, and (Nd, La) GaO
3 The single crystal is adjusted so as not to be cooled above (melting point −60) ° C., and after the above-mentioned step of pulling the twin-free (Nd, La) GaO 3 single crystal, the twin-free (Nd, La) Ga
A twin-free (Nd, La) GaO 3 characterized by cooling an O 3 single crystal to room temperature at a cooling rate of 60 ° C./hr or less.
Single crystal production method.
【請求項3】単結晶製造用引上げ炉中で種結晶を(N
d,La)GaO3融液に接触させ、引上げた後、冷却
する無双晶(Nd,La)GaO3単結晶の製造方法に
おいて、前記(Nd,La)GaO3融液はNd1-xLa
xGaO3(0<x<0.3)単結晶となるための組成を
有し、前記単結晶引上げ炉内の引上げ軸方向の温度勾配
は(Nd,La)GaO3融液の液面直上において45
℃/cm以下であり、引上げ中の(Nd,La)GaO
3単結晶を(融点−60)℃を越えて冷却させないよう
調整するとともに、無双晶(Nd,La)GaO3単結
晶の上記引上げ工程終了後、無双晶(Nd,La)Ga
3単結晶を60℃/hr以下の冷却速度で室温まで冷
却したのち、製造された無双晶(Nd,La)GaO3
単結晶を1000℃以上の温度でアニールすることを特
徴とする無双晶(Nd,La)GaO3単結晶の製造方
法。
3. A seed crystal (N) in a pulling furnace for producing a single crystal.
d, La) GaO 3 is brought into contact with the melt, after pulled up, matchless crystal cooling (Nd, La) in the manufacturing method of GaO 3 single crystal, the (Nd, La) GaO 3 melt Nd 1-x La
x GaO 3 (0 <x <0.3) has a composition to become a single crystal, and the temperature gradient in the pulling axis direction in the single crystal pulling furnace is directly above the liquid level of the (Nd, La) GaO 3 melt. At 45
° C / cm or less, and (Nd, La) GaO
3 The single crystal is adjusted so as not to be cooled above (melting point −60) ° C., and after the above-mentioned step of pulling the twin-free (Nd, La) GaO 3 single crystal, the twin-free (Nd, La) Ga
After cooling the O 3 single crystal to room temperature at a cooling rate of 60 ° C./hr or less, the manufactured twinless (Nd, La) GaO 3
A method for producing a twin-free (Nd, La) GaO 3 single crystal, comprising annealing a single crystal at a temperature of 1000 ° C. or higher.
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