JP3149188B2 - 冷却鏡湿度計における光学表面用のワイパー組立品 - Google Patents
冷却鏡湿度計における光学表面用のワイパー組立品Info
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N25/00—Investigating or analyzing materials by the use of thermal means
- G01N25/56—Investigating or analyzing materials by the use of thermal means by investigating moisture content
- G01N25/66—Investigating or analyzing materials by the use of thermal means by investigating moisture content by investigating dew-point
- G01N25/68—Investigating or analyzing materials by the use of thermal means by investigating moisture content by investigating dew-point by varying the temperature of a condensing surface
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Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、光学表面を清掃するための新規な手段に関
する。特に、本発明は光学湿度測定に用いる鏡表面を清
掃するための新規なワイパー組立品に関する。
する。特に、本発明は光学湿度測定に用いる鏡表面を清
掃するための新規なワイパー組立品に関する。
背景技術 近年、湿度測定は工業、研究及びプロセス制御の応用
分野において、同時に顕著な省力化を成し遂げて製作さ
れた製品の質を向上させることにより常に増大する役割
を演じてきた。
分野において、同時に顕著な省力化を成し遂げて製作さ
れた製品の質を向上させることにより常に増大する役割
を演じてきた。
「冷却鏡湿度測定」として知られている技術は、およ
そ30年前に紹介され、最も正確で安定し、かつ再現性の
ある商業的に販売されている露点測定機器として結実し
た。
そ30年前に紹介され、最も正確で安定し、かつ再現性の
ある商業的に販売されている露点測定機器として結実し
た。
この技術においては、露点として知られている温度ま
で、すなわち、大気のサンプルが飽和し露又は霧が生成
する温度まで、熱電冷却装置によって連続的に冷却され
る光学的に滑らかな表面を一般的に使用する。このプロ
セスでは露の形成が検出されるまで正確に制御された速
度で鏡の温度の低下がなされる。そのように形成された
露が連続層を形成することができる前に、鏡は熱されそ
の上の露は蒸発されられる。従って、鏡表面は本質的に
乾燥状態にあり、露点測定がなされる非常に限られた時
間の間、露の層を有する。
で、すなわち、大気のサンプルが飽和し露又は霧が生成
する温度まで、熱電冷却装置によって連続的に冷却され
る光学的に滑らかな表面を一般的に使用する。このプロ
セスでは露の形成が検出されるまで正確に制御された速
度で鏡の温度の低下がなされる。そのように形成された
露が連続層を形成することができる前に、鏡は熱されそ
の上の露は蒸発されられる。従って、鏡表面は本質的に
乾燥状態にあり、露点測定がなされる非常に限られた時
間の間、露の層を有する。
この技術は何年もの間首尾よく使用されてきたが、鏡
表面上の露の層をどのように保持しても、空気により伝
達される汚染物質が鏡に付着するのを促進する傾向があ
ると認識されてきた。このような汚染は鏡の反射性能を
損ない、そしてその結果、連続的な清浄処理が行われな
い限り測定誤差の導入を招く。これまでは、セーム皮も
しくはそれに類するような滑らかな布を用いて光学表面
を拭うことによってこの洗浄を行うことが通常の実施形
態であった。このような手法は、ある一定のレベルの成
功を納めつつ使用されてきたが、当業作業者は鏡の汚染
を減じるために新たな手法を開発すべく努力を続けてき
た。
表面上の露の層をどのように保持しても、空気により伝
達される汚染物質が鏡に付着するのを促進する傾向があ
ると認識されてきた。このような汚染は鏡の反射性能を
損ない、そしてその結果、連続的な清浄処理が行われな
い限り測定誤差の導入を招く。これまでは、セーム皮も
しくはそれに類するような滑らかな布を用いて光学表面
を拭うことによってこの洗浄を行うことが通常の実施形
態であった。このような手法は、ある一定のレベルの成
功を納めつつ使用されてきたが、当業作業者は鏡の汚染
を減じるために新たな手法を開発すべく努力を続けてき
た。
発明の概要 本発明に従って、一ワイピング工程で光学表面を効率
的に清掃するために自動的に使用できる新規なワイパー
構造を使用することによってこの目的は達成される。
的に清掃するために自動的に使用できる新規なワイパー
構造を使用することによってこの目的は達成される。
簡単に言えば、記述された構造は、円筒形の軸の内部
に配置されたばね要素に接続されたワイピング手段を有
し、空気圧により作動されるワイパー要素であり、この
ばね要素はポンピング手段により発生したガス圧力によ
り作動される。ワイピング要素は作動させられるときに
は光学鏡の表面を横切って動き、それによって霜、炭化
水素、伴出された粒子物質及び湿気が一工程で除去され
る。測定プロセスの間、温度は、露の形成が湿度計によ
って検出されるまで正確に制御された速度で下げられ
る。露が鏡上に連続的な層を形成することができる前
に、鏡は熱せられ、鏡面上の露は蒸発させられる。従っ
て、鏡はほとんどいつも乾燥状態にあり、露の測定がな
されるかもしれないほんの短い時間の間だけ露の層を含
んでいる。一般的な測定プロセスにおいて、鏡は三段階
を循環する。第一段階は、周囲温度より高いレベルから
露点と交差するまで鏡を冷却することを必要とし、それ
によって正しい露の形成が検出されるように露が均一で
再現性のある態様で形成することが可能になる。次の段
階では、露の検出が完了した後に冷却装置への電流を逆
転させ、そして周囲温度より数度上に鏡の温度を上昇さ
せる。最後の段階は、鏡が安定化するのを可能にする連
続した冷却段階の中間の短い時間に対応する。このプロ
セスの連鎖において、露は短時間鏡面上に存在する。し
かしながら、ここに記載したタイプの洗浄処理を必要と
する汚染物質の蓄積が起こるのはこの短時間の間であ
る。
に配置されたばね要素に接続されたワイピング手段を有
し、空気圧により作動されるワイパー要素であり、この
ばね要素はポンピング手段により発生したガス圧力によ
り作動される。ワイピング要素は作動させられるときに
は光学鏡の表面を横切って動き、それによって霜、炭化
水素、伴出された粒子物質及び湿気が一工程で除去され
る。測定プロセスの間、温度は、露の形成が湿度計によ
って検出されるまで正確に制御された速度で下げられ
る。露が鏡上に連続的な層を形成することができる前
に、鏡は熱せられ、鏡面上の露は蒸発させられる。従っ
て、鏡はほとんどいつも乾燥状態にあり、露の測定がな
されるかもしれないほんの短い時間の間だけ露の層を含
んでいる。一般的な測定プロセスにおいて、鏡は三段階
を循環する。第一段階は、周囲温度より高いレベルから
露点と交差するまで鏡を冷却することを必要とし、それ
によって正しい露の形成が検出されるように露が均一で
再現性のある態様で形成することが可能になる。次の段
階では、露の検出が完了した後に冷却装置への電流を逆
転させ、そして周囲温度より数度上に鏡の温度を上昇さ
せる。最後の段階は、鏡が安定化するのを可能にする連
続した冷却段階の中間の短い時間に対応する。このプロ
セスの連鎖において、露は短時間鏡面上に存在する。し
かしながら、ここに記載したタイプの洗浄処理を必要と
する汚染物質の蓄積が起こるのはこの短時間の間であ
る。
図面の簡単な説明 本発明は添付した図面と共に以下の詳細な説明を参照
することによってより容易に理解される。
することによってより容易に理解される。
図１は本発明のワイパー組立品の空気系要素とそれと
共に使用される関連装置の構成図である。
共に使用される関連装置の構成図である。
図２は本発明のワイパー組立品の簡略化した側面断面
であり、図３の線２−２に沿って表したものである。
であり、図３の線２−２に沿って表したものである。
図３は本発明のワイパー組立品の簡略化した正面断面
であり、図２の線３−３に沿って表したものである。
であり、図２の線３−３に沿って表したものである。
理解を容易にするために、同一の参照番号を図面に共
通な同一要素を表示するために用いている。
通な同一要素を表示するために用いている。
実施例の詳細な説明 ここでより詳細に図１を参照するが、湿度測定操作の
関連構成要素と協調関係にある本発明のワイパー組立品
の空気系要素の構成図が示されている。図示されている
のは通常の回路13を経てバイアスを付加することによっ
て操作されるポンプ手段12に接続されているエアチャン
バー11である。ポンプが一定流量のプロセスガスを、一
般的には空気だけではないが、ピストン19を作動させる
ことなくシリンダーを通過させて、押し出すことができ
るようにするため、空気圧を抜くことを可能にするオリ
フィス15（一般的に直径0.0012インチ）に導管14を介し
てポンプ12が接続される。ポンプ12は、また、導管14に
より空気圧シリンダーに接続される。組立品16は空気圧
シリンダーとして構成されており、空気圧シリンダーを
貫いて走り、そしてその他端において、一般的にねじ結
合を介して長方形のブレードホルダー20に接続される六
角軸またはピストンロッド19によって、それ自身ピスト
ン18に接続されたばね要素17をその内部に配置する。ブ
レードホルダーは、鏡組立品の拭き取りを実施するため
に使用される硬いラバーブレード21をその中に挿入する
ための角度開口部を有する。導管14は六角ナット22によ
って空気圧シリンダー16に取り付けられる。
関連構成要素と協調関係にある本発明のワイパー組立品
の空気系要素の構成図が示されている。図示されている
のは通常の回路13を経てバイアスを付加することによっ
て操作されるポンプ手段12に接続されているエアチャン
バー11である。ポンプが一定流量のプロセスガスを、一
般的には空気だけではないが、ピストン19を作動させる
ことなくシリンダーを通過させて、押し出すことができ
るようにするため、空気圧を抜くことを可能にするオリ
フィス15（一般的に直径0.0012インチ）に導管14を介し
てポンプ12が接続される。ポンプ12は、また、導管14に
より空気圧シリンダーに接続される。組立品16は空気圧
シリンダーとして構成されており、空気圧シリンダーを
貫いて走り、そしてその他端において、一般的にねじ結
合を介して長方形のブレードホルダー20に接続される六
角軸またはピストンロッド19によって、それ自身ピスト
ン18に接続されたばね要素17をその内部に配置する。ブ
レードホルダーは、鏡組立品の拭き取りを実施するため
に使用される硬いラバーブレード21をその中に挿入する
ための角度開口部を有する。導管14は六角ナット22によ
って空気圧シリンダー16に取り付けられる。
ワイパー組立品の操作において、最初にポンプ12がそ
の容量の約1/6において、ポンプを通って駆動される比
較的少量のプロセスガスで運転される。ワイパー組立品
を操作しようとするときは、ポンプにより発生する圧力
を増加させるため制御電子回路23によって回路13を経
て、増大した駆動馬力がポンプ12にかけられ、これによ
って組立品16へ押し込まれるプロセスガスの圧力を約10
psiの圧力へ増加させる。その際、ピストン18はピスト
ンロッド19を駆動しばね要素17に突き当たらせ、そして
ばね要素を圧縮し、そして空気圧によって、ピストンロ
ッド19を空気圧シリンダー16から、光学鏡の表面を渡っ
て水平方向横方向に膨張させる。鏡の表面上に湿気が形
成された後に、制御電子回路23によって積極的にポンプ
12への電流を減少させることを通じて、ばねにより付加
される復帰力及びピストンへ掛けられる圧力を減少させ
ることにより付加される復帰力によってピストンは引っ
込められる。そして、ワイパー組立品は湿気、炭化水素
及びその他同種物質のような汚染物質を鏡から機械的に
拭き取る。従って、一工程で鏡の表面は拭き取られワイ
パーは引っ込められる。ワイパーが操作される周期は制
御電子回路により通常の方法によって制御される。
の容量の約1/6において、ポンプを通って駆動される比
較的少量のプロセスガスで運転される。ワイパー組立品
を操作しようとするときは、ポンプにより発生する圧力
を増加させるため制御電子回路23によって回路13を経
て、増大した駆動馬力がポンプ12にかけられ、これによ
って組立品16へ押し込まれるプロセスガスの圧力を約10
psiの圧力へ増加させる。その際、ピストン18はピスト
ンロッド19を駆動しばね要素17に突き当たらせ、そして
ばね要素を圧縮し、そして空気圧によって、ピストンロ
ッド19を空気圧シリンダー16から、光学鏡の表面を渡っ
て水平方向横方向に膨張させる。鏡の表面上に湿気が形
成された後に、制御電子回路23によって積極的にポンプ
12への電流を減少させることを通じて、ばねにより付加
される復帰力及びピストンへ掛けられる圧力を減少させ
ることにより付加される復帰力によってピストンは引っ
込められる。そして、ワイパー組立品は湿気、炭化水素
及びその他同種物質のような汚染物質を鏡から機械的に
拭き取る。従って、一工程で鏡の表面は拭き取られワイ
パーは引っ込められる。ワイパーが操作される周期は制
御電子回路により通常の方法によって制御される。
研究により、湿度測定操作において用いられる一般的
な鏡の表面の拭き取り作業は各週１回を越えない頻度で
実施する必要があることが明らかになった。その周期を
減少させることにより、これは明らかに拭き取り操作の
質を高めた。従って、我々の発明したシステムを用いる
拭き取り作業は本質的にメンテナンスフリーで有り得る
と言える程度まで実質的な操作上の省力化が成し遂げら
れた。この他に、ワイパーブレードは摩滅しないことに
特に言及がなされた。
な鏡の表面の拭き取り作業は各週１回を越えない頻度で
実施する必要があることが明らかになった。その周期を
減少させることにより、これは明らかに拭き取り操作の
質を高めた。従って、我々の発明したシステムを用いる
拭き取り作業は本質的にメンテナンスフリーで有り得る
と言える程度まで実質的な操作上の省力化が成し遂げら
れた。この他に、ワイパーブレードは摩滅しないことに
特に言及がなされた。
さて、図２を参照すると、本発明のワイパー組立品の
簡略化した断面図が示されている。そしてこれは図３に
示された線２−２に沿った断面である。図２に示されて
いるのは、ばね要素17を貫いて伸びそしてこれに隣接す
るピストン18に接続されたピストンロッド19をその内部
に配置する空気圧シリンダー16である。ピストンロッド
19は空気圧シリンダー16のヘッドを貫通して伸びるとと
もにワイパーヘッド20と噛み合っている。このワイパー
ヘッドは水平位置に対して約45度の角度で配置されるワ
イパーブレード21を有する。ワイパーヘッドはねじ37に
よってピストンロッド19に固定されている。気圧シリン
ダーは適切にエアーチャンバー11へねじ込まれている。
ここで記述するワイパー組立品は部分的にエアーチャン
バー11にくい込んで適切に配置されている。ピストンロ
ッド19が完全に伸びきったとき、ワイパーブレード21
は、光学鏡44の表面に対し直角方向である矢印51によっ
て示される方向へ、位置ｂまで移動し、鏡の上側表面の
左端に接触する。この鏡は、それ自身サポート49に載せ
られ、かつそこから発出する配線45を有するペルチェ熱
電ヒートポンプ39の上に配置される。ワイパーブレード
は、引っ込められたときは、再び鏡44の表面に直角であ
る矢印52で示された方向に、位置ａまで戻るが、しか
し、（図示するように）今度は鏡の上側表面の右端に接
触している。エアーチャンバー11は一般的に、例えば、
アルミニュウム合金のような金属製であり、そして、適
切な入口空気口及び出口空気口（簡略化のため図示せ
ず）以外は密封されている。
簡略化した断面図が示されている。そしてこれは図３に
示された線２−２に沿った断面である。図２に示されて
いるのは、ばね要素17を貫いて伸びそしてこれに隣接す
るピストン18に接続されたピストンロッド19をその内部
に配置する空気圧シリンダー16である。ピストンロッド
19は空気圧シリンダー16のヘッドを貫通して伸びるとと
もにワイパーヘッド20と噛み合っている。このワイパー
ヘッドは水平位置に対して約45度の角度で配置されるワ
イパーブレード21を有する。ワイパーヘッドはねじ37に
よってピストンロッド19に固定されている。気圧シリン
ダーは適切にエアーチャンバー11へねじ込まれている。
ここで記述するワイパー組立品は部分的にエアーチャン
バー11にくい込んで適切に配置されている。ピストンロ
ッド19が完全に伸びきったとき、ワイパーブレード21
は、光学鏡44の表面に対し直角方向である矢印51によっ
て示される方向へ、位置ｂまで移動し、鏡の上側表面の
左端に接触する。この鏡は、それ自身サポート49に載せ
られ、かつそこから発出する配線45を有するペルチェ熱
電ヒートポンプ39の上に配置される。ワイパーブレード
は、引っ込められたときは、再び鏡44の表面に直角であ
る矢印52で示された方向に、位置ａまで戻るが、しか
し、（図示するように）今度は鏡の上側表面の右端に接
触している。エアーチャンバー11は一般的に、例えば、
アルミニュウム合金のような金属製であり、そして、適
切な入口空気口及び出口空気口（簡略化のため図示せ
ず）以外は密封されている。
記述された構造において使用されるため選択されるワ
イパーブレードは、この目的のために普通に使用される
ラバー類のよく知られた物質の中からどれを選択しても
よい。好ましい実施例においては、既知の商業的出所を
経由して一般的に入手される硬いラバーブレードが使用
されている。
イパーブレードは、この目的のために普通に使用される
ラバー類のよく知られた物質の中からどれを選択しても
よい。好ましい実施例においては、既知の商業的出所を
経由して一般的に入手される硬いラバーブレードが使用
されている。
ここで図３を参照すると、図２に示された線３−３に
沿う本発明のワイパー組立品の正面断面図が示されてい
る。図示されているのは、湿気の検出のためその中に光
学鏡44を配置するエアーチャンバー11に部分的にくい込
んで伸びるワイパー組立品20を有する空気圧シリンダー
16である。鏡44は制御電源（図示せず）に配線45により
接続されたペルチェ熱電ヒートポンプの上に配置される
（図２に示す）。ほとんどの汚染粒子物質が鏡44の表面
に到達するのを防ぐために設計された通常の多孔性フィ
ルター（40ミクロン）46はチャンバー11の内部に光学鏡
に対して本質的に同軸的に配置されている。
沿う本発明のワイパー組立品の正面断面図が示されてい
る。図示されているのは、湿気の検出のためその中に光
学鏡44を配置するエアーチャンバー11に部分的にくい込
んで伸びるワイパー組立品20を有する空気圧シリンダー
16である。鏡44は制御電源（図示せず）に配線45により
接続されたペルチェ熱電ヒートポンプの上に配置される
（図２に示す）。ほとんどの汚染粒子物質が鏡44の表面
に到達するのを防ぐために設計された通常の多孔性フィ
ルター（40ミクロン）46はチャンバー11の内部に光学鏡
に対して本質的に同軸的に配置されている。
本発明は先の記述において詳細に述べられてきたが、
本発明の精神と範囲から外れることなく変更が行なわれ
るであろうことを当業者は理解されたい。従って、例え
ば、ワイパー組立品の構成に用いられる材料は、ワイパ
ーブレードの組成が変わるかもしれないのと同様に、変
わるかもしれない。
本発明の精神と範囲から外れることなく変更が行なわれ
るであろうことを当業者は理解されたい。従って、例え
ば、ワイパー組立品の構成に用いられる材料は、ワイパ
ーブレードの組成が変わるかもしれないのと同様に、変
わるかもしれない。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−149902（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 25/66 G01N 25/68
Claims (16)
- 【請求項１】エアーチャンバー（11）と、鏡（44）と、
熱電ヒートポンプ組立品と、ワイパー組立品（16、17、
18、19、20、21、37）と、ドライブ組立品（12、13、1
4、15、23）とから成り、 エアーチャンバー（11）がガス状の大気を入れるための
ものであり、 鏡（44）がエアーチャンバー内に配置され、互いに対向
する第１表面と第２表面を備える長方形の断面を有し、
第１表面が互いに対向する第１側面と第２側面を備え、
鏡の第１表面がチャンバー内の大気に露出し、鏡の第２
表面が熱電ヒートポンプ組立品（39、49）の上側表面と
隣接し熱的に連絡して接触するものであり、 熱電ヒートポンプ組立品がエアーチャンバーの内面に固
定して取り付けられたものであり、鏡の第１表面の温度
を、それより高い温度では大気からの凝縮液が第１表面
上に形成する温度からそれよりも低い温度では凝縮液が
形成する温度まで、すなわち凝縮液が形成する温度とは
露点であるが、選択的に変化させるためヒートポンプ組
立品へ電流を制御可能に供給し、そして、 ワイパー組立品（16、17、18、19、20、21、37）のその
一部が鏡に関して固定して取り付けられ、かつ鏡の第１
表面に沿って制御可能に滑動するクリーニング要素を有
し、 ドライブ組立品（12、13、14、15、23）が第１表面に沿
ったクリーニング要素の滑動運動を制御するためにワイ
パー組立品に結合されているので、第１表面を清掃する
ため、凝縮液の形成前にクリーニング要素が最初の位置
（ａ）から伸長した位置（ｂ）に移動させられ、そして
次に、凝縮液の形成後には最初の位置に戻るよう移動さ
せられるので、第１表面の凝縮液は第１表面に対するク
リーニング要素の拭き取り動作と協調して鏡の第１表面
から汚染物質を機械的に洗い落とすことを特徴とする露
点測定用の冷却鏡湿度測定器のための装置。 - 【請求項２】請求項１に記載の装置において、ワイパー
組立品がヘッド（20）とアクチュエータ（16、18、19）
とから成り、 ヘッド（20）がワイパーブレード（21）を有し、ワイパ
ーブレードが鏡の第１表面に対して予め定められた角度
に位置され、ワイパーブレードの下端が第１表面に載り
かつ第１表面に横断して渡って伸長するように配置さ
れ、そして、 前記ヘッドを前記第１表面を渡って制御可能に動かすた
めに、アクチュエータ（16、18、19）がエアーチャンバ
ー及びヘッドに結合されているので、ワイパーブレード
が第１表面上を、それぞれ第１側面と第２側面の近傍に
位置する最初の位置と伸長した位置の間を渡って滑動可
能に横断する露点測定用の冷却鏡湿度測定器のための装
置。 - 【請求項３】請求項２に記載の装置において、ドライブ
組立品がアクチュエータを操作するためのアクチュエー
タ操作手段（12、13、23）から成り、そのためワイパー
ブレードを最初の位置と伸長した位置との間を第１表面
上を渡って周期的に動かし、そのため鏡の清掃がなされ
る露点測定用の冷却鏡湿度測定器のための装置。 - 【請求項４】請求項３に記載の装置において、予め定め
られた角度が鏡の第１表面に対して実質的に45度である
露点測定用の冷却鏡湿度測定器のための装置。 - 【請求項５】請求項３に記載の装置において、ワイパー
ブレードがゴムから形成された露点測定用の冷却鏡湿度
測定器のための装置。 - 【請求項６】請求項５に記載の装置において、予め定め
られた角度が鏡の第１表面に対して実質的に45度である
露点測定用の冷却鏡湿度測定器のための装置。 - 【請求項７】請求項３に記載の装置において、アクチュ
エータが、空気圧シリンダー（16）ともどりばね（17）
から成り、 空気圧シリンダー（16）がピストン（18）とピストンロ
ッド（19）を有し、ピストンロッドが末端と基部端を有
し、ピストンが基部端に配置され、末端がヘッドに接続
され、 もどりばね（17）がピストンロッドの回りにこれと同心
に、かつ空気圧シリンダーの内部に配置されているの
で、空気圧シリンダーがピストンロッドを膨張させるの
に十分な予め定められた圧力に加圧されたときに、もど
りばねが圧縮され、空気圧シリンダーが十分に減圧され
たときに、もどりばねにより与えられる戻り力がピスト
ンロッドを逆に空気圧シリンダーの中へ引っ込ませる露
点測定用の冷却鏡湿度測定器のための装置。 - 【請求項８】請求項７に記載の装置において、アクチュ
エータ操作手段が、空気圧ポンプ（12）と空気圧ポンプ
制御手段（13、23）から成り、 空気圧ポンプ（12）が空気圧シリンダーの加圧を変化さ
せるために、空気圧シリンダーに接続され、そして、 凝縮液の形成の前に空気圧シリンダーの加圧を増大させ
て最初の位置から伸長した位置までワイパーブレードを
動かすようにするため、そして次に、凝縮液の形成の後
に圧力を減少させてワイパーブレードを逆に最初の位置
に引っ込ませるようにしてワイパーの運動のサイクルを
形成するようにするため、制御可能に空気圧ポンプを運
転し、このために空気圧ポンプ制御手段（13、23）が空
気圧ポンプに接続された露点測定用の冷却鏡湿度測定器
のための装置。 - 【請求項９】請求項８に記載の装置において、予め定め
られた角度が鏡の第１表面に対して実質的に45度である
露点測定用の冷却鏡湿度測定器のための装置。 - 【請求項１０】請求項８に記載の装置において、ワイパ
ーブレードがゴムから形成された露点測定用の冷却鏡湿
度測定器のための装置。 - 【請求項１１】請求項３に記載の装置において、ヒート
ポンプ組立品がペルチェ熱電ヒートポンプ（45）とサポ
ート（49）から成り、 ペルチェ熱電ヒートポンプ（45）が上面と下面を有し、
この上面が端から端までの長さに沿って鏡の第２表面と
隣接して熱的に連絡する接触状態にあり、そして、 サポート（49）が上面と下面を有し、ペルチェ熱電ヒー
トポンプの下面がサポートの上面に固定して接続され、
サポートの下面がエアーチャンバーの内面に固定して接
続され、そして、ペルチェ熱電ヒートポンプとサポート
が互いに一直線上に配置された露点測定用の冷却鏡湿度
測定装置のための装置。 - 【請求項１２】請求項11に記載の装置において、アクチ
ュエータ操作手段が、空気圧ポンプ（12）と空気圧ポン
プ制御手段（13、23）から成り、 空気圧ポンプ（12）が空気圧シリンダーの加圧を変化さ
せるために、空気圧シリンダーに接続され、そして、 凝縮液の形成の前に空気圧シリンダーの加圧を増大させ
て最初の位置から伸長した位置までワイパーブレードを
動かすようにするため、そして次に、凝縮液の形成の後
に圧力を減少させてワイパーブレードを逆に最初の位置
に引っ込ませるようにしてワイパーの運動のサイクルを
形成するようにするため、制御可能に空気圧ポンプを運
転し、このために空気圧ポンプ制御手段（13、23）が空
気圧ポンプに接続された露点測定用の冷却鏡湿度測定器
のための装置。 - 【請求項１３】請求項12に記載の装置において、予め定
められた角度が鏡の第１表面に対して実質的に45度であ
る露点測定用の冷却鏡湿度測定器のための装置。 - 【請求項１４】請求項12に記載の装置において、ワイパ
ーブレードがゴムから形成された露点測定用の冷却鏡湿
度測定器のための装置。 - 【請求項１５】請求項12に記載の装置において、エアー
チャンバーが円筒形状をしヒートポンプ組立品がエアー
チャンバー内部の床の上に配置されている露点測定用の
冷却鏡湿度測定器のための装置。 - 【請求項１６】請求項15に記載の装置において、大気中
に存在する予め定められた大きさの汚染粒子物質が鏡の
第１表面に到達するのを防ぐように、実質的にエアーチ
ャンバーの上から下までの高さに渡って広がり、かつヒ
ートポンプ組立品を包囲する円柱形上のフィルター（4
6）を、エアーチャンバーがさらに圧縮する露点測定用
の冷却鏡湿度測定器のための装置。
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