JP3147561B2 - ３次元光導波路及びその製作方法 - Google Patents
３次元光導波路及びその製作方法Info
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- JP3147561B2 JP3147561B2 JP701093A JP701093A JP3147561B2 JP 3147561 B2 JP3147561 B2 JP 3147561B2 JP 701093 A JP701093 A JP 701093A JP 701093 A JP701093 A JP 701093A JP 3147561 B2 JP3147561 B2 JP 3147561B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光伝送装置に用いられ
る３次元光導波路及びその製作方法に関するものであ
る。
る３次元光導波路及びその製作方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】導波路材料として求められる基本性質と
しては、 伝送光波長域での透明性 屈折率の精密制御性 製作の容易性 低複屈折 を上げることが出来る。このうち３次元光導波路材料は
基本性質〜を満たしていても、複屈折が大きい場合
には一般に３次元光導波路材料としては用いられない。
しては、 伝送光波長域での透明性 屈折率の精密制御性 製作の容易性 低複屈折 を上げることが出来る。このうち３次元光導波路材料は
基本性質〜を満たしていても、複屈折が大きい場合
には一般に３次元光導波路材料としては用いられない。
【０００３】この理由を図５の従来の埋め込み型３次元
光導波路を例にとり説明する。図に示すように従来の３
次元光導波路は基板５３上にクラッド５２が形成されて
おり、その内部に光伝送部分であるコア５１が埋めこま
れる構成である。本構造に於いて光伝送を行うためには
屈折率分布としてコア屈折率ｎc ＞クラッド屈折率ｎr
を満たさなければならない。
光導波路を例にとり説明する。図に示すように従来の３
次元光導波路は基板５３上にクラッド５２が形成されて
おり、その内部に光伝送部分であるコア５１が埋めこま
れる構成である。本構造に於いて光伝送を行うためには
屈折率分布としてコア屈折率ｎc ＞クラッド屈折率ｎr
を満たさなければならない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、コアの複屈折
が大きく、例えばＴＥモードについてｎc te＜ｎr の関
係が生じた場合、ＴＥモードは放射モードとなり、大き
な伝送損失となるため、３次元光導波路として用いるこ
とはできない。そこで、複屈折の大きい材料を用いて従
来型３次元光導波路を作製する場合にはＴＥ，ＴＭ両偏
波のコア屈折率よりも低いクラッド材を用いて３次元光
導波路を作製する手法も考えられるが、この場合につい
ては、クラッド材選定に大きな制約をもたらすととも
に、偏波方向によっては、屈折率差が大きくなることか
ら３次元光導波路のＮＡ（NumericalAperture) が大き
くなり、シングルモード光ファイバ等のＮＡ光部品と組
み合わせる際に光結合損失が大きくなる等の問題点があ
った。
が大きく、例えばＴＥモードについてｎc te＜ｎr の関
係が生じた場合、ＴＥモードは放射モードとなり、大き
な伝送損失となるため、３次元光導波路として用いるこ
とはできない。そこで、複屈折の大きい材料を用いて従
来型３次元光導波路を作製する場合にはＴＥ，ＴＭ両偏
波のコア屈折率よりも低いクラッド材を用いて３次元光
導波路を作製する手法も考えられるが、この場合につい
ては、クラッド材選定に大きな制約をもたらすととも
に、偏波方向によっては、屈折率差が大きくなることか
ら３次元光導波路のＮＡ（NumericalAperture) が大き
くなり、シングルモード光ファイバ等のＮＡ光部品と組
み合わせる際に光結合損失が大きくなる等の問題点があ
った。
【０００５】本発明の目的は、上記問題点を解決するた
めに複屈折の大きな材料でも３次元光導波路を実現し、
３次元光導波路材料選定幅を拡げるとともに、本材料系
で製作した３次元光導波路の伝搬損失を偏波方向に依存
せず低減することにある。
めに複屈折の大きな材料でも３次元光導波路を実現し、
３次元光導波路材料選定幅を拡げるとともに、本材料系
で製作した３次元光導波路の伝搬損失を偏波方向に依存
せず低減することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の目的を達成する
ため請求項１では、中心部のコアが複屈折材料により構
成され、コアの周囲をコアよりもＴＥ偏波については屈
折率が低く、ＴＭ偏波については屈折率が高い材料で構
成された第１のクラッドで被覆し、第１のクラッドより
もＴＭ偏波については、低い屈折率を有する材料で構成
された第２のクラッドで第１のクラッドを被覆した。ま
た請求項２では、中心部のコアが複屈折材料により構成
され、コアの周囲をコアよりもＴＭ偏波については屈折
率が低く、ＴＥ偏波については屈折率が高い材料で構成
された第１のクラッドで被覆し、第１のクラッドよりも
ＴＥ偏波については、低い屈折率を有する材料で構成さ
れた第２のクラッドで第１のクラッドを被覆した。また
請求項３では、誘電体基板上において第２のクラッド材
を成膜し、この第２のクラッド材をパタニングおよびエ
ッチングを行うことにより第２のクラッド下地を形成す
る工程と、第２のクラッド下地上に第１のクラッド材を
成膜し、パタニング及びエッチングを行うことにより、
第２のクラッド下地上に第１のクラッド下地を形成する
工程と、第１のクラッド下地上にコア材を成膜し、この
コア材をパタニングおよびエッチングを行うことによ
り、コアを形成する工程と、形成したコア、第１のクラ
ッド下地、第２のクラッド下地上に第１のクラッド材を
成膜し、成膜した第１のクラッド材をパタニングおよび
エッチングを行うことによりコアと、第１のクラッド下
地を被覆する工程と、コアと第１のクラッド下地を第２
のクラッド材により被覆する工程を少なくとも含むよう
にした。
ため請求項１では、中心部のコアが複屈折材料により構
成され、コアの周囲をコアよりもＴＥ偏波については屈
折率が低く、ＴＭ偏波については屈折率が高い材料で構
成された第１のクラッドで被覆し、第１のクラッドより
もＴＭ偏波については、低い屈折率を有する材料で構成
された第２のクラッドで第１のクラッドを被覆した。ま
た請求項２では、中心部のコアが複屈折材料により構成
され、コアの周囲をコアよりもＴＭ偏波については屈折
率が低く、ＴＥ偏波については屈折率が高い材料で構成
された第１のクラッドで被覆し、第１のクラッドよりも
ＴＥ偏波については、低い屈折率を有する材料で構成さ
れた第２のクラッドで第１のクラッドを被覆した。また
請求項３では、誘電体基板上において第２のクラッド材
を成膜し、この第２のクラッド材をパタニングおよびエ
ッチングを行うことにより第２のクラッド下地を形成す
る工程と、第２のクラッド下地上に第１のクラッド材を
成膜し、パタニング及びエッチングを行うことにより、
第２のクラッド下地上に第１のクラッド下地を形成する
工程と、第１のクラッド下地上にコア材を成膜し、この
コア材をパタニングおよびエッチングを行うことによ
り、コアを形成する工程と、形成したコア、第１のクラ
ッド下地、第２のクラッド下地上に第１のクラッド材を
成膜し、成膜した第１のクラッド材をパタニングおよび
エッチングを行うことによりコアと、第１のクラッド下
地を被覆する工程と、コアと第１のクラッド下地を第２
のクラッド材により被覆する工程を少なくとも含むよう
にした。
【０００７】
【作用】本発明による３次元光導波路構造及びその製作
方法によれば、複屈折が大きい材料を用いても、ＮＡを
大きくすることなく、ＴＥモードとＴＭモードの双方の
モードを伝送可能にし、しかも第１あるいは第２のクラ
ッド材の条件として、ＴＥ，ＴＭ両偏波方向の屈折率を
第１のコアあるいは第１のクラッドの屈折率に比べて小
さくする必要はなく、３次元光導波路材料の選定条件を
緩和できる。
方法によれば、複屈折が大きい材料を用いても、ＮＡを
大きくすることなく、ＴＥモードとＴＭモードの双方の
モードを伝送可能にし、しかも第１あるいは第２のクラ
ッド材の条件として、ＴＥ，ＴＭ両偏波方向の屈折率を
第１のコアあるいは第１のクラッドの屈折率に比べて小
さくする必要はなく、３次元光導波路材料の選定条件を
緩和できる。
【０００８】
【実施例】図１は本発明の基本構造を説明する図であっ
て、１はコア、２は第１のクラッド、３は第２のクラッ
ド、４は基板である。
て、１はコア、２は第１のクラッド、３は第２のクラッ
ド、４は基板である。
【０００９】本発明の３次元光導波路は本図に示すよう
に大きな複屈折を有するコア１の周辺を、コア１の屈折
率に比べてＴＥモードもしくはＴＭモードについては低
く、ＴＭモードもしくはＴＥモードについては高い屈折
率を有する透明材料からなる第１のクラッド２で被覆
し、さらに、ＴＭモードもしくはＴＥモードについては
第１のクラッド２よりも低い屈折率を有する材料からな
る第２のクラッド３でコア１及びクラッド２を被覆した
構成をとる。
に大きな複屈折を有するコア１の周辺を、コア１の屈折
率に比べてＴＥモードもしくはＴＭモードについては低
く、ＴＭモードもしくはＴＥモードについては高い屈折
率を有する透明材料からなる第１のクラッド２で被覆
し、さらに、ＴＭモードもしくはＴＥモードについては
第１のクラッド２よりも低い屈折率を有する材料からな
る第２のクラッド３でコア１及びクラッド２を被覆した
構成をとる。
【００１０】図２は本発明の第１の実施例として本構造
を形成したときの各偏波面における光伝搬機構をビーム
伝搬法（Beam Propagatin Method) による伝搬解析結果
をもとに説明する図であって、図中、１はコア、２は第
１のクラッド、３は第２のクラッドであり、図中(a) に
はＴＥモードの屈折率構成と本発明による３次元光導波
路の光波伝搬軸平行断面を示しており、図中(b) にはＴ
Ｍモードの屈折率構成と本発明による３次元光導波路の
光波伝搬軸平行断面を示している。なお、本実施例では
３次元光導波路材として例えば複屈折の大きなフッ素化
ポリイミドを用いている。コア及び第２のクラッド材と
して例えばＴＥ，ＴＭの屈折率の値が、1.6482,1.5114
のものを、第１のクラッド材としては例えばＴＥ，ＴＭ
の屈折率の値が、1.6264,1.5178 の値のものである。ま
た３次元光導波路寸法としては第１のコアとして例えば
５μｍ×５μｍ、第１のクラッドとして例えば10μｍ×
10μｍ、第２のクラッドとして例えば40μｍ×40μｍと
している。
を形成したときの各偏波面における光伝搬機構をビーム
伝搬法（Beam Propagatin Method) による伝搬解析結果
をもとに説明する図であって、図中、１はコア、２は第
１のクラッド、３は第２のクラッドであり、図中(a) に
はＴＥモードの屈折率構成と本発明による３次元光導波
路の光波伝搬軸平行断面を示しており、図中(b) にはＴ
Ｍモードの屈折率構成と本発明による３次元光導波路の
光波伝搬軸平行断面を示している。なお、本実施例では
３次元光導波路材として例えば複屈折の大きなフッ素化
ポリイミドを用いている。コア及び第２のクラッド材と
して例えばＴＥ，ＴＭの屈折率の値が、1.6482,1.5114
のものを、第１のクラッド材としては例えばＴＥ，ＴＭ
の屈折率の値が、1.6264,1.5178 の値のものである。ま
た３次元光導波路寸法としては第１のコアとして例えば
５μｍ×５μｍ、第１のクラッドとして例えば10μｍ×
10μｍ、第２のクラッドとして例えば40μｍ×40μｍと
している。
【００１１】本構造におけるＴＥモードでは、コア１及
び第１のクラッド２の屈折率が高くなり、屈折率分布は
図２(a) に示すように屈折率分布は凸構造となり、光波
はコア１内を伝搬することとなる。一方、ＴＭモードに
ついては屈折率分布は逆転し、図２(b) に示すように凹
形となり、入力された光波は２分して第１のクラッド２
間にパワーを授受しながら伝送していくこととなる。従
って、本構成では、コア１及び第１のクラッド２内で両
偏波面ともに光伝送が可能となる。
び第１のクラッド２の屈折率が高くなり、屈折率分布は
図２(a) に示すように屈折率分布は凸構造となり、光波
はコア１内を伝搬することとなる。一方、ＴＭモードに
ついては屈折率分布は逆転し、図２(b) に示すように凹
形となり、入力された光波は２分して第１のクラッド２
間にパワーを授受しながら伝送していくこととなる。従
って、本構成では、コア１及び第１のクラッド２内で両
偏波面ともに光伝送が可能となる。
【００１２】図３は本発明の第２の実施例として本構造
を形成したときの各偏波面における光伝搬機構をビーム
伝搬法(Beam Propagation Method) による伝搬解析結果
をもとに説明する図であって、図中、１はコア、２は第
１のクラッド、３は第２のクラッドであり、図中(a) に
はＴＥモードの屈折率構成と本発明による光導波路の光
波伝搬軸平行断面を示しており、図中（b)にはＴＭモー
ドの屈折率構成と本発明による光導波路の光波伝搬軸平
行断面を示している。なお、本実施例では光導波路材と
して例えば複屈折の大きなフッ素化ポリイミドを用いて
いる。コア及び第２のクラッド材として例えばＴＥ，Ｔ
Ｍの屈折率の値が、1.6264,1.5178 のものを、第１のク
ラッド材としては例えばＴＥ，ＴＭの屈折率の値が1.64
82,1.5114 の値のものである。また導波路寸法としては
第１のコアとして例えば５μｍ×５μｍ、第１のクラッ
ドとして例えば10μｍ×10μｍ、第２のクラッドとして
例えば40μｍ×40μｍとしている。
を形成したときの各偏波面における光伝搬機構をビーム
伝搬法(Beam Propagation Method) による伝搬解析結果
をもとに説明する図であって、図中、１はコア、２は第
１のクラッド、３は第２のクラッドであり、図中(a) に
はＴＥモードの屈折率構成と本発明による光導波路の光
波伝搬軸平行断面を示しており、図中（b)にはＴＭモー
ドの屈折率構成と本発明による光導波路の光波伝搬軸平
行断面を示している。なお、本実施例では光導波路材と
して例えば複屈折の大きなフッ素化ポリイミドを用いて
いる。コア及び第２のクラッド材として例えばＴＥ，Ｔ
Ｍの屈折率の値が、1.6264,1.5178 のものを、第１のク
ラッド材としては例えばＴＥ，ＴＭの屈折率の値が1.64
82,1.5114 の値のものである。また導波路寸法としては
第１のコアとして例えば５μｍ×５μｍ、第１のクラッ
ドとして例えば10μｍ×10μｍ、第２のクラッドとして
例えば40μｍ×40μｍとしている。
【００１３】本構造におけるＴＥモードではコア１及び
第１のクラッド２の屈折率が低くなり、屈折率分布は図
３中(a）に示すように屈折率分布は凹構造となり、入力
された光波は２分して第１のクラッド２間にパワーを授
受しながら伝送していくこととなる。一方、ＴＭモード
については屈折率分布は逆転し、光波はコア内を伝搬す
ることとなる。図３(b) に示すように凸形となり、従っ
て本構成では、コア１及び第１のクラッド２内で両偏波
面ともに光伝送が可能となる。
第１のクラッド２の屈折率が低くなり、屈折率分布は図
３中(a）に示すように屈折率分布は凹構造となり、入力
された光波は２分して第１のクラッド２間にパワーを授
受しながら伝送していくこととなる。一方、ＴＭモード
については屈折率分布は逆転し、光波はコア内を伝搬す
ることとなる。図３(b) に示すように凸形となり、従っ
て本構成では、コア１及び第１のクラッド２内で両偏波
面ともに光伝送が可能となる。
【００１４】図４は本３次元光導波路の製作方法につい
て説明した図であって、１はコア、２は第１のクラッ
ド、３は第２のクラッド、４は基板である。
て説明した図であって、１はコア、２は第１のクラッ
ド、３は第２のクラッド、４は基板である。
【００１５】フッ素化ポリイミド材料を一例として本３
次元の光導波路の製作方法を説明する。
次元の光導波路の製作方法を説明する。
【００１６】Si基板４上に第２のクラッド材３ａとして
例えば、ＴＥ，ＴＭの屈折率が1.6482,1.5114 の材料を
例えば40μｍ厚で成膜する（図４(a) 参照）。成膜した
第２のクラッド材３ａをパタニング及びエッチング工程
を経て、例えば40μｍの第２のクラッド下地３ａ´を形
成する（同図(b) 参照）。該クラッド下地３ａ´の形成
後、第１のクラッド材２ａとして例えば、ＴＥ，ＴＭの
屈折率の値が1.6264,1.5178 の材料を例えば10μｍを成
膜し（同図(c) 参照）、これを上記と同様のプロセスを
経て、第２のクラッド下地３ａ´上に、該クラッド下地
３ａ´幅よりも小さく例えば10μｍ厚の第１のクラッド
下地２ａ´を形成する（同図(d) 参照）。この後、コア
材として例えばＴＥ，ＴＭの屈折率の値が1.6482,1.511
4 の材料を上記プロセスと同様の工程を経て、第１のク
ラッド下地２ａ´上にコア１を例えば５μｍ形成する
（同図(e) 参照）。この後、第１のクラッド材２ｂを基
板４上に例えば10μｍ成膜し（同図(f) 参照）、第１の
クラッド下地２ａ´と同一幅となるように、パタニング
およびエッチングを行って、同様のクラッド下地２ｂ´
を形成する（同図(g) 参照）。最後に、第２のクラッド
材３ｂを例えば40μｍ成膜し（同図(h) 参照）、第２の
クラッド下地３ａ´と同一幅になるようにパタニング・
エッチングを行うことにより（同図(i) 参照）、本発明
の３次元光導波路を形成する。
例えば、ＴＥ，ＴＭの屈折率が1.6482,1.5114 の材料を
例えば40μｍ厚で成膜する（図４(a) 参照）。成膜した
第２のクラッド材３ａをパタニング及びエッチング工程
を経て、例えば40μｍの第２のクラッド下地３ａ´を形
成する（同図(b) 参照）。該クラッド下地３ａ´の形成
後、第１のクラッド材２ａとして例えば、ＴＥ，ＴＭの
屈折率の値が1.6264,1.5178 の材料を例えば10μｍを成
膜し（同図(c) 参照）、これを上記と同様のプロセスを
経て、第２のクラッド下地３ａ´上に、該クラッド下地
３ａ´幅よりも小さく例えば10μｍ厚の第１のクラッド
下地２ａ´を形成する（同図(d) 参照）。この後、コア
材として例えばＴＥ，ＴＭの屈折率の値が1.6482,1.511
4 の材料を上記プロセスと同様の工程を経て、第１のク
ラッド下地２ａ´上にコア１を例えば５μｍ形成する
（同図(e) 参照）。この後、第１のクラッド材２ｂを基
板４上に例えば10μｍ成膜し（同図(f) 参照）、第１の
クラッド下地２ａ´と同一幅となるように、パタニング
およびエッチングを行って、同様のクラッド下地２ｂ´
を形成する（同図(g) 参照）。最後に、第２のクラッド
材３ｂを例えば40μｍ成膜し（同図(h) 参照）、第２の
クラッド下地３ａ´と同一幅になるようにパタニング・
エッチングを行うことにより（同図(i) 参照）、本発明
の３次元光導波路を形成する。
【００１７】なお、ここでは本発明の第１の実施例の材
料構成により製作方法について説明を行ったが、本発明
の第２の実施例記載の材料構成でも、本方法により製作
可能であるのは言うまでもない。
料構成により製作方法について説明を行ったが、本発明
の第２の実施例記載の材料構成でも、本方法により製作
可能であるのは言うまでもない。
【００１８】以上、本発明を前記実施例に基づいて具体
的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更
可能であることはもちろんである。
的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更
可能であることはもちろんである。
【００１９】例えば、前記実施例ではコアと第２のクラ
ッドとを同一屈折率を有する材料を用いたが、第１のク
ラッドよりもある偏波面について低い屈折率を有する材
料を使用すればよいのであって、コア材と異なった材料
であってもよいのは言うまでもない。
ッドとを同一屈折率を有する材料を用いたが、第１のク
ラッドよりもある偏波面について低い屈折率を有する材
料を使用すればよいのであって、コア材と異なった材料
であってもよいのは言うまでもない。
【００２０】また、ここでは被覆クラッド構成として２
層としたが、さらに多層にしてもよいことは言うまでも
ない。
層としたが、さらに多層にしてもよいことは言うまでも
ない。
【００２１】
【発明の効果】以上説明した如く、本発明による３次元
光導波路によれば、複屈折が大きい材料を用いてもＮＡ
を大きくすることなく、ＴＥモードとＴＭモードの双方
のモードを伝送可能にし、しかも第１あるいは第２のク
ラッド材の条件として、ＴＥ，ＴＭ両偏波方向の屈折率
を第１のコアあるいは第１のクラッドの屈折率に比べて
小さくする必要なく３次元光導波路材料の選定条件を緩
和できる。また、本発明方法によれば、前述した３次元
光導波路を簡易かつ的確に製造できる。
光導波路によれば、複屈折が大きい材料を用いてもＮＡ
を大きくすることなく、ＴＥモードとＴＭモードの双方
のモードを伝送可能にし、しかも第１あるいは第２のク
ラッド材の条件として、ＴＥ，ＴＭ両偏波方向の屈折率
を第１のコアあるいは第１のクラッドの屈折率に比べて
小さくする必要なく３次元光導波路材料の選定条件を緩
和できる。また、本発明方法によれば、前述した３次元
光導波路を簡易かつ的確に製造できる。
【図１】本発明の３次元光導波路構造断面を示す図
【図２】本発明の第１の実施例の３次元光導波路伝搬方
向の断面を示しており、光波の伝搬機構を説明する図
向の断面を示しており、光波の伝搬機構を説明する図
【図３】本発明の第２の実施例の３次元光導波路伝搬方
向の断面を示しており、光波の伝搬機構を説明する図
向の断面を示しており、光波の伝搬機構を説明する図
【図４】本発明の３次元光導波路の製作方法について説
明する図
明する図
【図５】従来の埋め込み型３次元光導波路を示す図
１…コア、２…第１のクラッド、３…第２のクラッド、
４…基板。
４…基板。
Claims (3)
- 【請求項１】 中心部のコアが複屈折材料により構成さ
れ、 コアの周囲をコアよりもＴＥ偏波については屈折率が低
く、ＴＭ偏波については屈折率が高い材料で構成された
第１のクラッドで被覆し、 第１のクラッドよりもＴＭ偏波については、低い屈折率
を有する材料で構成された第２のクラッドで第１のクラ
ッドを被覆したことを特徴とする３次元光導波路。 - 【請求項２】 中心部のコアが複屈折材料により構成さ
れ、 コアの周囲をコアよりもＴＭ偏波については屈折率が低
く、ＴＥ偏波については屈折率が高い材料で構成された
第１のクラッドで被覆し、 第１のクラッドよりもＴＥ偏波については、低い屈折率
を有する材料で構成された第２のクラッドで第１のクラ
ッドを被覆したことを特徴とする３次元光導波路。 - 【請求項３】 誘電体基板上において第２のクラッド材
を成膜し、この第２のクラッド材をパタニングおよびエ
ッチングを行うことにより第２のクラッド下地を形成す
る工程と、 第２のクラッド下地上に第１のクラッド材を成膜し、パ
タニング及びエッチングを行うことにより、第２のクラ
ッド下地上に第１のクラッド下地を形成する工程と、 第１のクラッド下地上にコア材を成膜し、このコア材を
パタニングおよびエッチングを行うことにより、コアを
形成する工程と、 形成したコア、第１のクラッド下地、第２のクラッド下
地上に第１のクラッド材を成膜し、成膜した第１のクラ
ッド材をパタニングおよびエッチングを行うことにより
コアと、第１のクラッド下地を被覆する工程と、 コアと第１のクラッド下地を第２のクラッド材により被
覆する工程を少なくとも含むことを特徴とする請求項１
または２記載の３次元光導波路の製作方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP701093A JP3147561B2 (ja) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | ３次元光導波路及びその製作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP701093A JP3147561B2 (ja) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | ３次元光導波路及びその製作方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06214130A JPH06214130A (ja) | 1994-08-05 |
| JP3147561B2 true JP3147561B2 (ja) | 2001-03-19 |
Family
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1993
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