JP3147099B2 - Liquid crystal panel manufacturing method - Google Patents

Liquid crystal panel manufacturing method

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JP3147099B2
JP3147099B2 JP24960198A JP24960198A JP3147099B2 JP 3147099 B2 JP3147099 B2 JP 3147099B2 JP 24960198 A JP24960198 A JP 24960198A JP 24960198 A JP24960198 A JP 24960198A JP 3147099 B2 JP3147099 B2 JP 3147099B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、一対の基板をシ
ール剤を挟んで加圧・接着する液晶パネルの製造方法に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal panel in which a pair of substrates is pressed and bonded with a sealant interposed therebetween.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶パネルの製造方法を図4およ
び図5を用いて説明する。図4において、1は上治具、
2は液晶基板、3はシール剤、6は下治具、8はパッキ
ン、9,9は真空穴、12はテフロンシートである。テ
フロンシート12は、平面状とされ、上治具1に取り付
けられている。液晶基板2は、TFT基板(下基板)2
−1と対向基板(上基板)2−2とから構成され、下基
板2−1と上基板2−2との間にシール剤3が所定の平
面パターン(シールパターン)PAとして形成されてい
る。パッキン8は下治具6に設けられている。真空穴
9,9は下治具6に形成されている。上治具1と下治具
6とでシール焼成治具が構成されている。
2. Description of the Related Art A conventional method for manufacturing a liquid crystal panel will be described with reference to FIGS. In FIG. 4, 1 is an upper jig,
2 is a liquid crystal substrate, 3 is a sealant, 6 is a lower jig, 8 is packing, 9 and 9 are vacuum holes, and 12 is a Teflon sheet. The Teflon sheet 12 has a planar shape and is attached to the upper jig 1. The liquid crystal substrate 2 is a TFT substrate (lower substrate) 2
-1 and an opposite substrate (upper substrate) 2-2, and a sealant 3 is formed as a predetermined plane pattern (seal pattern) PA between the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2-2. . The packing 8 is provided on the lower jig 6. The vacuum holes 9 are formed in the lower jig 6. The upper jig 1 and the lower jig 6 constitute a seal firing jig.

【0003】この液晶パネルの製造工程(シール焼成工
程)では、液晶基板2を下治具6の中央部にセットし、
上治具1を被せる。これにより、下治具6のパッキン8
と上治具1とが接触し、上治具1と下治具6との間にテ
フロンシート12をその構成要素とする密封空間13が
作られ(図5参照)、この密封空間13内に液晶基板2
が位置する。このような状態から、下治具6の真空穴
9,9を通して、密封空間13を真空減圧する。これに
より、テフロンシート12が液晶基板2の上基板2−2
の外側表面に密着し、テフロンシート12および下治具
6を介在して液晶基板2が均一に大気圧加圧される。こ
の大気圧加圧は下基板2−1と上基板2−2との間のギ
ャップを均一にすることを目的として行われる。この
後、高温環境として、シール剤3を硬化させ、下基板2
−1と上基板2−2とを接着する。
In the liquid crystal panel manufacturing process (seal baking process), the liquid crystal substrate 2 is set at the center of the lower jig 6 and
Put the upper jig 1 on. Thereby, the packing 8 of the lower jig 6 is
The upper jig 1 comes into contact with the upper jig 1 to form a sealed space 13 having the Teflon sheet 12 as a component between the upper jig 1 and the lower jig 6 (see FIG. 5). Liquid crystal substrate 2
Is located. From such a state, the vacuum of the sealed space 13 is reduced through the vacuum holes 9 of the lower jig 6. As a result, the Teflon sheet 12 becomes the upper substrate 2-2 of the liquid crystal substrate 2.
And the liquid crystal substrate 2 is uniformly pressurized with the atmospheric pressure through the Teflon sheet 12 and the lower jig 6. This atmospheric pressure is applied for the purpose of making the gap between the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2-2 uniform. Thereafter, in a high-temperature environment, the sealant 3 is cured and the lower substrate 2 is cured.
-1 and the upper substrate 2-2.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の液晶パネルの製造方法によると、密封空間1
3の真空減圧時にシールパターンPAと対向していない
テフロンシート12のエリア(特に表示部)が、図5に
破線で示すように凹状態になる傾向があり、下基板2−
1と上基板2−2との間のギャップが不均一となる要因
となっている。これは、真空減圧時に密封空間13の空
気が減圧される時に、シールパターンPAと対向するエ
リアと対向しないエリアとでは、対向しないエリアの方
がシール剤3による反発力がないため、比較的つぶれや
すいからである。
However, according to such a conventional method of manufacturing a liquid crystal panel, the sealed space 1 is not provided.
The area of the Teflon sheet 12 that is not opposed to the seal pattern PA (particularly, the display section) during the vacuum depressurization of 3 tends to be in a concave state as shown by a broken line in FIG.
This causes the gap between the first substrate 1 and the upper substrate 2-2 to be non-uniform. This is because when the air in the sealed space 13 is depressurized at the time of vacuum decompression, the area facing the seal pattern PA and the area not facing the seal pattern PA are relatively crushed because there is no repulsive force by the sealant 3 in the area not facing the seal pattern PA. Because it is easy.

【0005】なお、特開平9−15612号公報では、
テフロンシート12に代えてエンボスシート(表面に微
細な凹凸形状を均一に有するシート)を用いる技術につ
いて示されている。このエンボスシートを用いると、密
封空間13の真空減圧時にエンボスシートと上基板2−
2の外側表面との隙間に存在する空気が残留することな
く、速やかに排気される。しかしながら、このようなエ
ンボスシートを用いたとしても、テフロンシート12と
同様、密封空間13の真空減圧時にシールパターンPA
と対向していないエンボスシートのエリアが凹状態にな
る傾向があり、下基板2−1と上基板2−2との間のギ
ャップが不均一となる要因となることには変わりがな
い。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-15612,
A technique using an embossed sheet (a sheet having fine irregularities uniformly on the surface) instead of the Teflon sheet 12 is shown. When this embossed sheet is used, the embossed sheet and the upper substrate 2-
The air existing in the gap with the outer surface of the second 2 is quickly exhausted without remaining. However, even if such an embossed sheet is used, the seal pattern PA is used when the pressure in the sealed space 13 is reduced by vacuum as in the case of the Teflon sheet 12.
The area of the embossed sheet that is not opposed to the above tends to be in a concave state, which still causes the gap between the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2-2 to be non-uniform.

【0006】また、特開平10−48644号公報で
は、テフロンシート12の下面側に緩衝材を挿入する技
術について示されている。この場合、緩衝材としてケン
ト紙,合成紙,ラシャ紙といった紙材を使用し、シール
パターンPA以外の領域に対応する部分をナイフその他
の切断装置によって削除したパターン形状を有するもの
とする。この緩衝材を用いると、上基板2−2の外側表
面のうちシールパターンPAに対応した適正な位置だけ
加圧することにより、下基板2−1と上基板2−2との
間のギャップを均一にすることが可能となる。また、単
位面積当たりの加重が少なくて済み、真空減圧力の低減
が可能となる。
Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 10-48644 discloses a technique for inserting a cushioning material on the lower surface side of the Teflon sheet 12. In this case, it is assumed that a paper material such as Kent paper, synthetic paper, and rasha paper is used as the cushioning material, and that a pattern corresponding to an area other than the seal pattern PA is deleted by a knife or other cutting device. When this buffer material is used, the gap between the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2-2 can be made uniform by pressing only the appropriate position corresponding to the seal pattern PA on the outer surface of the upper substrate 2-2. It becomes possible to. Further, the load per unit area can be reduced, and the vacuum decompression force can be reduced.

【0007】しかしながら、このような緩衝材を用いた
場合、次のような問題がある。 緩衝材の材質としてケント紙,合成紙,ラシャ紙とい
った紙材を使用しているため、緩衝材の板厚の条件(増
減)に制限があることから、緩衝効果が期待できない。
すなわち、緩衝効果に応じて緩衝材の板厚を自由に変更
することができず、期待する緩衝効果を得ることができ
ない。 緩衝材として紙材を使用していることから、複雑な形
状のシールパターンや複雑な面取り数の液晶基板への対
応が困難である。すなわち、図4に示した液晶基板2は
2面取りであり、最終的には切り分けて2つの液晶基板
を得る。図4では、2面取りの場合を示しているが、実
際にはさらに複雑な面取り数となり、面取り数が多くな
るほど緩衝材の製作が困難となる。また、図2ではシー
ルパターンPAとして単純な形状のものを示している
が、複雑な形状のシールパターンとなるほど緩衝材の製
作が困難となる。 複雑な形状のシールパターンや多面取りの品種に対応
する場合には、複雑な切り欠きが必要となることから、
緩衝材自体の強度に不安がある。また、シールパターン
との位置合わせ精度も確保できなくなる。
However, when such a cushioning material is used, there are the following problems. Since a paper material such as Kent paper, synthetic paper, and rasha paper is used as the material of the buffer material, the buffer effect is not expected because the conditions (increase or decrease) of the thickness of the buffer material are limited.
That is, the thickness of the buffer material cannot be freely changed according to the buffer effect, and the expected buffer effect cannot be obtained. Since a paper material is used as the cushioning material, it is difficult to cope with a liquid crystal substrate having a complicated shape of a seal pattern or a complicated number of chamfers. That is, the liquid crystal substrate 2 shown in FIG. 4 has two chamfers, and is finally cut to obtain two liquid crystal substrates. Although FIG. 4 shows the case of two chamfers, the number of chamfers is actually more complicated, and it becomes more difficult to manufacture the cushioning material as the number of chamfers increases. FIG. 2 shows a simple seal pattern PA, but the more complicated the seal pattern, the more difficult it is to manufacture a cushioning material. In order to support complicated shapes of seal patterns and multi-faceted products, complicated notches are required.
I am worried about the strength of the cushioning material itself. In addition, the alignment accuracy with the seal pattern cannot be ensured.

【0008】本発明はこのような課題を解決するために
なされたもので、その目的とするところは、液晶パネル
の製造に際して、上基板と下基板との間の均一なギャッ
プ形成と真空減圧力の低減を可能とすると共に、期待す
る緩衝効果を得ることができ、かつ複雑な形状のシール
パターンや複雑な面取り数の品種にも対応可能な液晶パ
ネルの製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and it is an object of the present invention to form a uniform gap between an upper substrate and a lower substrate and to reduce a vacuum pressure when manufacturing a liquid crystal panel. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal panel which can reduce the size of a liquid crystal panel, can obtain an expected buffer effect, and can cope with a variety of products having complicated shapes of seal patterns and complicated numbers of chamfers.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、上述した液晶パネルの製造方法に
おいて、シール剤の平面パターンとほゞ同一の平面パタ
ーンの突起をフォトリソグラフィーによって光硬化性樹
脂よりなる緩衝シートに形成し、この緩衝シートをその
突起の平面パターンとシール剤の平面パターンとを一致
させた状態で一対の基板のいずれか一方、又は両方の
側表面に配置し、この外側表面に配置した緩衝シートを
介在させて一対の基板を加圧するようにしたものであ
る。この発明によれば、緩衝シートにフォトリソグラフ
ィーによって形成された突起の平面パターンが、一対の
基板間に挟まれたシール剤の平面パターンを局部的に加
圧する。
In order to achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a liquid crystal panel as described above, wherein a projection having a substantially same planar pattern as that of a sealant is formed by photolithography. Light-curing tree
Formed on a buffer sheet made of oil, and the buffer sheet is formed on one or both outer surfaces of a pair of substrates in a state where the planar pattern of the projections and the planar pattern of the sealant are matched. It is arranged, and a pair of substrates is pressed by interposing a buffer sheet arranged on the outer surface. According to the present invention, the planar pattern of the projections formed on the buffer sheet by photolithography locally presses the planar pattern of the sealant sandwiched between the pair of substrates.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施の形態に基づ
き詳細に説明する。 〔実施の形態1〕本発明に係る液晶パネルの製造方法
(実施の形態1)を図1および図2を用いて説明する。
図1および図2において、図4および図5と同一符号は
同一或いは同等構成要素を示す。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments. [Embodiment 1] A method of manufacturing a liquid crystal panel (Embodiment 1) according to the present invention will be described with reference to FIGS.
1 and 2, the same reference numerals as those in FIGS. 4 and 5 indicate the same or equivalent components.

【0011】この実施の形態では、図4に示したテフロ
ンシート12に代えて、上治具1に光硬化性樹脂よりな
る緩衝シート(光硬化性樹脂シート)5を取り付けてい
る。光硬化性樹脂シート5には、フォトリソグラフィー
によって、シールパターンPAとほゞ同一の平面パター
ンPBの突起4を形成している。すなわち、光硬化性樹
脂シート5には、液晶基板2の下基板2−1と上基板2
−2との間に挟まれたシール剤3のシールパターンPA
と同一の位置に、フォトリソグラフィーによって、シー
ルパターンPAと同一形状の突起4が形成されている。
なお、光硬化性樹脂シート5の材質としては、エポキシ
系の樹脂の他、フッ素系,Si系等の樹脂を使用しても
よい。
In this embodiment, a buffer sheet (photocurable resin sheet) 5 made of photocurable resin is attached to the upper jig 1 instead of the Teflon sheet 12 shown in FIG. On the photocurable resin sheet 5, the projections 4 of the same planar pattern PB as the seal pattern PA are formed by photolithography. That is, the photocurable resin sheet 5 includes the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2 of the liquid crystal substrate 2.
-2 Seal pattern PA of sealant 3 sandwiched between
At the same position as above, a projection 4 having the same shape as the seal pattern PA is formed by photolithography.
In addition, as a material of the photocurable resin sheet 5, a fluorine-based resin, a Si-based resin, or the like may be used in addition to the epoxy-based resin.

【0012】また、下治具6には、液晶基板2を下治具
6にセットする際の位置ずれ防止構造として、基板位置
決めピン7,7が四隅に設けられている。また、下治具
6および上治具1には、上治具1を下治具6にセットす
る際の位置ずれ防止構造として、治具位置決めピン1
0,10および基準穴11,11が設けられている。上
治具1と下治具6とでシール焼成治具が構成されてい
る。
Further, the lower jig 6 is provided with substrate positioning pins 7, 7 at four corners as a structure for preventing displacement when the liquid crystal substrate 2 is set on the lower jig 6. The lower jig 6 and the upper jig 1 each have a jig positioning pin 1 as a structure for preventing displacement when the upper jig 1 is set on the lower jig 6.
0, 10 and reference holes 11, 11 are provided. The upper jig 1 and the lower jig 6 constitute a seal firing jig.

【0013】この液晶パネルの製造工程(シール焼成工
程)では、下治具6に設置された四隅の基準位置決めピ
ン7,7を基準とし、液晶基板2を位置合わせしながら
下治具6にセットする。次に、下治具6に設置されてい
る治具位置決めピン10,10に上治具1の基準穴1
1,11を挿入しながら、上治具1を被せる。これによ
り、下治具6のパッキン8と上治具1とが接触し、上治
具1と下治具6との間に光硬化性樹脂シート5をその構
成要素とする密封空間13が作られ(図2参照)、この
密封空間13内に液晶基板2が位置する。
In the liquid crystal panel manufacturing process (seal baking process), the liquid crystal substrate 2 is set on the lower jig 6 while being aligned with reference to the four reference positioning pins 7, 7 provided on the lower jig 6. I do. Next, the reference holes 1 of the upper jig 1 are inserted into the jig positioning pins 10 and 10 installed on the lower jig 6.
The upper jig 1 is put on while inserting 1,1. As a result, the packing 8 of the lower jig 6 and the upper jig 1 come into contact with each other, and a sealed space 13 including the photocurable resin sheet 5 as a component is formed between the upper jig 1 and the lower jig 6. The liquid crystal substrate 2 is located in the sealed space 13 (see FIG. 2).

【0014】このような状態から、下治具6の真空穴
9,9を通して、密封空間13を真空減圧する。これに
より、光硬化性樹脂シート5が液晶基板2の上基板2−
2の外側表面に密着し、光硬化性樹脂シート5および下
治具6を介在して液晶基板2が均一に大気圧加圧され
る。この後、高温環境として、シール剤3を硬化させ、
下基板2−1と上基板2−2とを接着する。
From such a state, the vacuum of the sealed space 13 is reduced through the vacuum holes 9 and 9 of the lower jig 6. As a result, the photocurable resin sheet 5 is moved to the upper substrate 2-2 of the liquid crystal substrate 2.
The liquid crystal substrate 2 is uniformly pressurized with the atmospheric pressure through the photocurable resin sheet 5 and the lower jig 6 while being in close contact with the outer surface of the liquid crystal substrate 2. Thereafter, the sealing agent 3 is cured in a high temperature environment,
The lower substrate 2-1 and the upper substrate 2-2 are bonded.

【0015】この実施の形態では、光硬化性樹脂シート
5にフォトリソグラフィーによって形成された突起4の
平面パターンPBが、下基板2−1と上基板2−2との
間に挟まれたシール剤3のシールパターンPAを局部的
に加圧することになるので、下基板2−1と上基板2−
2との間の均一なギャップ形成が可能となる。
In this embodiment, the planar pattern PB of the projections 4 formed on the photocurable resin sheet 5 by photolithography is a sealant sandwiched between the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2-2. 3 is locally pressurized, so that the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2-
2 can be formed uniformly.

【0016】また、この実施の形態では、加圧エリアを
シールパターンPAのみに限定することにより、図4お
よび図5を用いて説明した従来の基板全面を加圧する方
法に比べ、単位面積当たりの加重が少なくて済む。具体
的には、真空減圧力を半分以下にすることができ、最大
真空度760mmHg(1kg/cm2 )内で対応可能
となる。これにより、大型基板への対応力を増すことが
できる。
Further, in this embodiment, the pressing area is limited to only the seal pattern PA, so that the pressure per unit area is smaller than the conventional method of pressing the entire surface of the substrate described with reference to FIGS. Less weight is required. Specifically, the vacuum depressurizing force can be reduced to half or less, and can be handled within the maximum vacuum degree of 760 mmHg (1 kg / cm 2 ). As a result, the ability to handle large substrates can be increased.

【0017】また、この実施の形態では、光硬化性樹脂
よりなる緩衝シート5を用いているので、ケント紙,合
成紙,ラシャ紙といった紙材を用いるときのような板厚
の制限がなく、緩衝効果に応じて緩衝シート5の板厚を
自由に変更することが可能であり、期待する緩衝効果を
得ることができる。
Further, in this embodiment, since the buffer sheet 5 made of a photo-curable resin is used, there is no restriction on the plate thickness as when using a paper material such as Kent paper, synthetic paper, and rasha paper. The thickness of the buffer sheet 5 can be freely changed according to the effect, and an expected buffer effect can be obtained.

【0018】また、この実施の形態では、光硬化性樹脂
よりなる緩衝シート5にフォトリソグラフィーで突起4
を形成するので、複雑な形状のシールパターンにも容易
に対応することができる。また、突起4の平面パターン
PBとして±0.1mmの位置精度を確保することがで
き、複雑な面取り数の品種にも問題なく対応することが
可能となる。
In this embodiment, the projections 4 are formed on the buffer sheet 5 made of a photocurable resin by photolithography.
Is formed, it is possible to easily cope with a seal pattern having a complicated shape. Further, a positional accuracy of ± 0.1 mm can be ensured as the planar pattern PB of the projection 4, and it is possible to cope with a variety of products having a complicated number of chamfers without any problem.

【0019】なお、この実施の形態では、光硬化性樹脂
シート5の突起4の平面パターンPBとシール剤3のシ
ールパターンPAとの位置合わせ精度(±0.5mm
位)が必要となるが、下治具6の四隅に設けれられた基
板位置決めピン7,7による位置ずれ防止構造、下治具
6に設けられた治具位置決めピン10,10および上治
具1に設けられた基準穴11,11による位置ずれ防止
構造によって、その位置合わせ精度が確保される。
In this embodiment, the alignment accuracy (± 0.5 mm) between the flat pattern PB of the projection 4 of the photocurable resin sheet 5 and the seal pattern PA of the sealant 3 is used.
Position), but a structure for preventing displacement by the board positioning pins 7, 7 provided at the four corners of the lower jig 6, the jig positioning pins 10, 10 provided on the lower jig 6, and the upper jig The alignment accuracy is ensured by the misalignment preventing structure provided by the reference holes 11 provided in 1.

【0020】〔実施の形態2〕実施の形態1では上治具
1に光硬化性樹脂シート5を設けた。これに対し、実施
の形態2では、図3に示すように、下治具6にシールパ
ターンPAとほゞ同一の平面パターンPBの突起4をフ
ォトリソグラフィーによって形成した光硬化性樹脂シー
ト14を取り付けておき、その上に液晶基板2を四隅の
基板位置決めピン7,7を基準に位置合わせしながらセ
ットする。
[Second Embodiment] In the first embodiment, the photocurable resin sheet 5 is provided on the upper jig 1. On the other hand, in the second embodiment, as shown in FIG. 3, the photocurable resin sheet 14 in which the projections 4 of the same planar pattern PB as the seal pattern PA are formed by photolithography is attached to the lower jig 6. In advance, the liquid crystal substrate 2 is set while positioning the liquid crystal substrate 2 on the basis of the substrate positioning pins 7 at the four corners.

【0021】次に、下治具6に設置されている治具位置
決めピン10,10に、テフロンシート12が取り付け
られた上治具1の基準穴11,11を挿入しながら、上
治具1を被せる。これにより、下治具6のパッキン8と
上治具1とが接触し、上治具1と下治具6との間に光硬
化性樹脂シート14をその構成要素とする密封空間15
が作られ、この密封空間15内に液晶基板2が位置す
る。
Next, while inserting the reference holes 11, 11 of the upper jig 1 on which the Teflon sheet 12 is attached, into the jig positioning pins 10, 10 installed on the lower jig 6, Put on. As a result, the packing 8 of the lower jig 6 comes into contact with the upper jig 1, and a sealed space 15 having the photocurable resin sheet 14 as a component between the upper jig 1 and the lower jig 6.
Is formed, and the liquid crystal substrate 2 is located in the sealed space 15.

【0022】このような状態から、下治具6の真空穴
9,9を通して、密封空間15を真空減圧する。これに
より、光硬化性樹脂シート14が液晶基板2の下基板2
−1の外側表面に密着し、光硬化性樹脂シート14およ
びテフロンシート12を介在して液晶基板2が均一に大
気圧加圧される。この後、高温環境として、シール剤3
を硬化させ、下基板2−1と上基板2−2とを接着す
る。
In this state, the pressure in the sealed space 15 is reduced through the vacuum holes 9 and 9 of the lower jig 6. As a result, the photocurable resin sheet 14 is moved to the lower substrate 2 of the liquid crystal substrate 2.
-1, the liquid crystal substrate 2 is evenly pressurized to atmospheric pressure with the photocurable resin sheet 14 and the Teflon sheet 12 interposed therebetween. Then, as a high temperature environment, the sealant 3
Is cured, and the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2-2 are bonded.

【0023】この実施の形態では、光硬化性樹脂シート
14にフォトリソグラフィーによって形成された突起4
の平面パターンPBが、下基板2−1と上基板2−2と
の間に挟まれたシール剤3のシールパターンPAを局部
的に加圧することになるので、下基板2−1と上基板2
−2との間の均一なギャップ形成が可能となる。
In this embodiment, the projections 4 formed on the photocurable resin sheet 14 by photolithography are used.
Is to locally press the seal pattern PA of the sealant 3 sandwiched between the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2-2, so that the lower substrate 2-1 and the upper substrate 2
-2 can be formed uniformly.

【0024】なお、上述した実施の形態1では光硬化性
樹脂シート5を上治具1に、実施の形態2では光硬化性
樹脂シート14を下治具6に取り付けるようにしたが、
上治具1および下治具6の両方に光硬化性樹脂シート5
および14を取り付けるようにしてもよい。また、上述
した実施の形態1や2では、高温環境としてシール剤3
を硬化させるようにしたが、紫外線を照射する等してシ
ール剤を硬化させるようにしてもよい。
In the first embodiment, the photocurable resin sheet 5 is attached to the upper jig 1, and in the second embodiment, the photocurable resin sheet 14 is attached to the lower jig 6.
A photo-curable resin sheet 5 is provided on both the upper jig 1 and the lower jig 6.
And 14 may be attached. In Embodiments 1 and 2 described above, the sealant 3
Is cured, but the sealant may be cured by irradiating ultraviolet rays or the like.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように本
発明によれば、緩衝シートに形成された突起の平面パタ
ーンが、一対の基板間に挟まれたシール剤の平面パター
ンを局部的に加圧するものとなり、液晶パネルの製造に
際して、上基板と下基板との間の均一なギャップ形成と
真空減圧力の低減が可能となる。また、光硬化性樹脂よ
りなる緩衝シートを用いているので、ケント紙,合成
紙,ラシャ紙といった紙材を用いるときのような板厚の
制限がなく、緩衝効果に応じて緩衝シートの板厚を自由
に変更することが可能であり、期待する緩衝効果を得る
ことができる。また、光硬化性樹脂よりなる緩衝シート
にフォトリソグラフィーで突起を形成するので、複雑な
形状のシールパターンにも容易に対応することができ
る。また、突起の平面パターンの位置を高精度で確保す
ることができ、複雑な面取り数の品種にも問題なく対応
することが可能となる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the plane pattern of the projections formed on the buffer sheet is locally added to the plane pattern of the sealant sandwiched between a pair of substrates. Thus, in manufacturing a liquid crystal panel, it is possible to form a uniform gap between the upper substrate and the lower substrate and reduce the vacuum pressure reduction force. In addition, since a buffer sheet made of a photo-curable resin is used, there is no limitation on the thickness of the sheet as when using paper materials such as Kent paper, synthetic paper, and rasha paper. It can be changed freely, and the expected buffer effect can be obtained. Further, since projections are formed by photolithography on a buffer sheet made of a photocurable resin, it is possible to easily cope with a seal pattern having a complicated shape. In addition, the position of the planar pattern of the projection can be secured with high accuracy, and it is possible to cope with a variety of products having a complicated number of chamfers without any problem.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る液晶パネルの製造方法(実施の
形態1)を説明するための斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view for explaining a liquid crystal panel manufacturing method (Embodiment 1) according to the present invention.

【図2】 本発明に係る液晶パネルの製造方法(実施
の形態1)を説明するための断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing a liquid crystal panel (Embodiment 1) according to the present invention.

【図3】 本発明に係る液晶パネルの製造方法(実施の
形態2)を説明するための斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view for explaining a method for manufacturing a liquid crystal panel (Embodiment 2) according to the present invention.

【図4】 従来の液晶パネルの製造方法を説明するため
の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view for explaining a conventional method for manufacturing a liquid crystal panel.

【図5】 従来の液晶パネルの製造方法を説明するため
の断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a conventional method for manufacturing a liquid crystal panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…上治具、2…液晶基板、2−1…TFT基板(下基
板)、2−2…対向基板(上基板)、3…シール剤、4
…突起、5…緩衝シート(光硬化性樹脂シート)、6…
下治具、7…基板位置決めピン、8…パッキン、9…真
空穴、10…治具位置決めピン、11…基準穴、12…
テフロンシート、13…密封空間、14…緩衝シート
(光硬化性樹脂シート)、15…密封空間、PA…シー
ル剤3の平面パターン(シールパターン)、PB…突起
4の平面パターン。
REFERENCE SIGNS LIST 1 upper jig 2 liquid crystal substrate 2-1 TFT substrate (lower substrate) 2-2 counter substrate (upper substrate) 3 sealant 4
... projections, 5 ... buffer sheets (photo-curable resin sheets), 6 ...
Lower jig, 7: board positioning pin, 8: packing, 9: vacuum hole, 10: jig positioning pin, 11: reference hole, 12 ...
Teflon sheet, 13: sealed space, 14: buffer sheet (photocurable resin sheet), 15: sealed space, PA: plane pattern of sealant 3 (seal pattern), PB: plane pattern of protrusion 4.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一対の基板をシール剤を挟んで加圧・圧
着する液晶パネルの製造方法において、 前記シール剤の平面パターンとほゞ同一の平面パターン
の突起をフォトリソグラフィーによって光硬化性樹脂よ
りなる緩衝シートに形成する工程と、 この緩衝シートをその突起の平面パターンと前記シール
剤の平面パターンとを一致させた状態で前記一対の基板
いずれか一方、又は両方の外側表面に配置する工程
と、 この工程によって外側表面に配置された緩衝シートを介
在させて前記一対の基板を加圧する工程と を有する こと
を特徴とする液晶パネルの製造方法。
In a method for manufacturing a liquid crystal panel, a pair of substrates is pressurized and pressure-bonded with a sealant interposed therebetween, wherein a projection having a flat pattern substantially the same as the flat pattern of the sealant is formed by photolithography using a photocurable resin.
And forming the buffer sheet on one or both of the outer surfaces of the pair of substrates in a state where the planar pattern of the protrusions and the planar pattern of the sealant are matched. Process
When, through the buffer sheet disposed on the outer surface by this process
Method of manufacturing a liquid crystal panel; and a Zaisa allowed step of pressing the pair of substrates.
【請求項2】 一対の基板をシール剤を挟んで加圧・圧
着する液晶パネルの製造方法において、 前記シール剤の平面パターンとほゞ同一の平面パターン
の突起をフォトリソグラフィーによって光硬化性樹脂よ
りなる緩衝シートに形成する工程と、 前記シール剤が挟まれた一対の基板を下治具に位置合わ
せして載置する工程と、 位置決めピンに基準穴を挿入しながら前記一対の基板が
設置された下治具に前記緩衝シートが取り付けられた上
治具を被せることによって、前記緩衝シートの突起の平
面パターンと前記シール剤の平面パターンとを位置合わ
せする工程と、 この工程によって下治具と上治具との間
に位置している前記一対の基板を前記緩衝シートを介在
させて加圧する工程と を有する ことを特徴とする液晶パ
ネルの製造方法。
2. A pressure / pressure system comprising a pair of substrates sandwiched by a sealant.
In the method of manufacturing a liquid crystal panel to be attached, a planar pattern substantially the same as the planar pattern of the sealant is provided.
Of the photo-curing resin by photolithography
Forming a pair of substrates sandwiching the sealant with a lower jig.
And placing the pair of substrates while inserting the reference holes into the positioning pins.
The buffer sheet is attached to the lower jig
By covering the jig, the protrusion of the buffer sheet
Align the surface pattern with the planar pattern of the sealant
Between the lower jig and the upper jig
The pair of substrates located at the interposition of the buffer sheet
Method of manufacturing a liquid crystal panel; and a step of pressing by.
【請求項3】 一対の基板をシール剤を挟んで加圧・圧
着する液晶パネルの製造方法において、 前記シール剤の平面パターンとほゞ同一の平面パターン
の突起をフォトリソグラフィーによって光硬化性樹脂よ
りなる緩衝シートに形成する工程と、 前記突起が形成された緩衝シートを下治具に取り付けて
おき、その上にシール剤が挟まれた前記一対の基板を基
板位置決めピンを基準にセットすることにより 、前記緩
衝シートの突起の平面パターンと前記シール剤の平面パ
ターンとを位置合わせする工程と、 位置決めピンに基準穴を挿入しながら前記一対の基板が
セットされた下治具に上治具を被せる工程と、 この工程によって下治具と上治具との間に位置している
前記一対の基板を前記緩衝シートを介在させて加圧する
工程と を有する ことを特徴とする液晶パネルの製造方
法。
3. A pair of substrates is pressed and pressed with a sealant interposed therebetween.
In the method of manufacturing a liquid crystal panel to be attached, a planar pattern substantially the same as the planar pattern of the sealant is provided.
Of the photo-curing resin by photolithography
And forming the buffer sheet having the protrusions on a lower jig.
And a pair of substrates on which a sealant is sandwiched.
By setting the plate positioning pin to the reference, the slow
The planar pattern of projections on the opposing sheet and the planar pattern of the sealant
A step of aligning the turn with the pair of substrates while inserting a reference hole into a positioning pin.
A step of putting the upper jig on the set lower jig, and the step is located between the lower jig and the upper jig by this step.
Pressing the pair of substrates with the buffer sheet interposed
And a method for manufacturing a liquid crystal panel.
【請求項4】 請求項1において、前記緩衝シートを
の構成要素として前記一対の基板が位置する空間を密封
し、この密封空間を真空減圧することによって前記緩衝
シートを介在させて前記一対の基板を大気圧加圧する
とを特徴とする液晶パネルの製造方法。
4. The method of claim 1, said buffer sheet their
Seals the space where the pair of substrates is located as a component of
Then, the buffer space is reduced by depressurizing the sealed space.
A method for manufacturing a liquid crystal panel, wherein the pair of substrates is pressurized at atmospheric pressure with a sheet interposed therebetween .
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