JP3146666B2 - 木材防腐剤 - Google Patents

木材防腐剤

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JP3146666B2 JP23924292A JP23924292A JP3146666B2 JP 3146666 B2 JP3146666 B2 JP 3146666B2 JP 23924292 A JP23924292 A JP 23924292A JP 23924292 A JP23924292 A JP 23924292A JP 3146666 B2 JP3146666 B2 JP 3146666B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は木材防腐剤に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】木材
防腐剤のうち、特に表面処理用としては従来から有機ヨ
ード系化合物が広範に使用されている。しかしながら、
該化合物は光や熱で容易に分解し、淡黄色ないし黄褐色
に変色するという問題があった。
【0003】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、木
材防腐力が高く、かつ熱や光による変色のない木材防腐
剤を開発すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に至っ
た。即ち、本発明は一般式 化2
【化2】 〔式中、Xは塩素原子または水素原子を表わす。〕で示
されるスチリルトリアゾール誘導体(以下、化合物
〔I〕と記す。)を有効成分として含有する木材防腐剤
に関するものである。化合物〔I〕の例として (1)(−)−(E)−1−(2,4−ジクロロフェニ
ル)−4,4−ジメチル−2−(1, 2, 4−トリアゾール
−1−イル)−1−ペンテン−3−オール (2)(−)−(E)−1−(4−クロロフェニル)−
4,4−ジメチル−2−(1, 2, 4−トリアゾール−1−
イル)−1−ペンテン−3−オール (3)(±)−(E)−1−(2,4−ジクロロフェニ
ル)−4,4−ジメチル−2−(1, 2, 4−トリアゾール
−1−イル)−1−ペンテン−3−オール (4)(±)−(E)−1−(4−クロロフェニル)−
4,4−ジメチル−2−(1, 2, 4−トリアゾール−1−
イル)−1−ペンテン−3−オール があげられる。化合物〔I〕は、特開昭55−124771号公
報または特開昭和57-99575号公報の記載に準じて製造す
ることができる。本発明の木材防腐剤の施用にあたっ
て、他の何等の成分も加えず化合物〔I〕をそのまま用
いても良いが、通常は、固体担体、液体担体またはガス
状担体と混合し、必要あれば界面活性剤、その他の製剤
用補助剤を添加して、油剤、乳剤、水和剤、水中懸濁剤
・水中乳濁剤等のフロアブル剤、粉剤、エアゾール等に
製剤して用いる。これらの製剤には、有効成分として、
化合物〔I〕を重量比で通常0.01〜95%、好ましくは
0.2〜60%含有する。製剤化の際に用いられる固体担
体としては、たとえば粘土類(カオリンクレー、珪藻
土、合成含水酸化珪素、ベントナイト、フバサミクレ
ー、酸性白土等)、タルク類、セラミック、その他の無
機鉱物(セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシ
ウム、水和シリカ等)、等の微粉末あるいは粒状物など
があげられ、液体担体としては、たとえば水、アルコー
ル類(エタノール、イソプロパノール、3−メチル−3
−メトキシブタノール、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール等のグリコール類等)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン等)、芳香族炭化水素
類(ベンゼン、トルエン、キシレン、アルキルベンゼ
ン、メチルナフタレン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサ
ン、シクロヘキサン、灯油、軽油等)、エステル類(酢
酸エチル、酢酸ブチル、イソプロピル ミリステート等
の高級脂肪族エステル類、3−メチル−3−メトキシブ
チルアセテート等)、ニトリル類(アセトニトリル、イ
ソブチロニトリル等)、エーテル類(ジイソプロピルエ
ーテル、ジオキサン等)、酸アミド類(N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、
ハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン、トリクロロエ
タン、四塩化炭素等)、ジメチルスルホキシド、大豆
油、綿実油等の植物油等(これらは混合して用いること
もできる)があげられ、ガス状担体、すなわち噴射剤と
しては、たとえばフロンガス、ブタンガス、LPG(液
化石油ガス)、ジメチルエーテル、炭酸ガス等があげら
れる。界面活性剤としては、たとえばアルキル硫酸エス
テル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスル
ホン酸塩、アルキルアリールエーテル類およびそのポリ
オキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル
類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等
があげられる。固着剤や分散剤等の製剤用補助剤として
は、たとえばカゼイン、ゼラチン、多糖類(でんぷん
粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸
等)、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶
性高分子(ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、ポリアクリル酸類等)があげられ、安定剤として
は、たとえばPAP(酸性リン酸イソプロピル)、BH
T(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノー
ル)、BHT(2−tert−ブチル−4−メトキシフェノ
ールと3−tert−ブチル−4−メトキシフェノールとの
混合物)、植物油、鉱物油、界面活性剤、脂肪酸または
そのエステル等があげられる。フロアブル剤(水中懸濁
剤または水中乳濁剤)の製剤は、一般に1〜75%(重
量比)の化合物を0.5〜15%(重量比)の分散剤、0.
1〜10%(重量比)の懸濁助剤(たとえば、保護コロ
イドやチクソトロピー性を付与する化合物)、0〜10
%(重量比)の適当な補助剤(たとえば、消泡剤、防錆
剤、安定化剤、展着剤、浸透助剤、凍結防止剤、防菌
剤、防黴剤等)を含む水中で微小に分散させることによ
って得られる。水の代わりに化合物がほとんど溶解しな
い油を用いて油中懸濁剤とすることも可能である。保護
コロイドとしては、たとえばゲラニン、カゼイン、ガム
類、セルロースエーテル、ポリビニルアルコール等が用
いられる。チクソトロピー性を付与する化合物として
は、たとえばベントナイト、アルミニウムマグネシウム
シリケート、キサンタンガム、ポリアクリル酸等があげ
られる。このようにして得られる製剤は、そのままであ
るいは水等で希釈して用いる。また、他の木材防腐剤、
殺虫剤、殺ダニ剤、殺蟻剤(シロアリ防除剤)、殺菌
剤、共力剤と混合して、または混合せずに同時に用いる
こともできる。用いられる殺蟻剤としては、たとえば、
クロルピリフォス、フォキシム、フェニトロチオン、フ
ェノブカーブ、ペルメトリン、トラロメトリン、サイパ
ーメトリン、デルタメトリン、サイフルスリン、フェン
バレレートが挙げられる。油剤、粉剤、粒剤、エアゾー
ル等についてはそのまま施用し、乳剤、水和剤、フロア
ブル剤等は水で0.01〜10%(重量比)、好ましくは0.
05〜5%(重量比)に希釈して施用する。これらの施用
量、施用濃度は、いずれも製剤の種類、施用時期、施用
場所、施用方法、木材腐朽菌の種類、被害程度等の状況
によって異なり、上記の範囲にかかわることなく増加さ
せたり、減少させたりすることができる。本発明の木材
防腐剤は、浸漬、吹付け、塗布等の表面処理あるいは加
圧注入、真空注入の手段によって木材(竹材を含む)等
に処理するか、または、合板接着剤に添加することによ
り、特に、建築材料に適用し、木材腐朽菌の防除剤とし
て用いることができる。防除対象となる木材としては例
えばブナなどのFagaceae、スギなどのTaxodiaceae 、ア
カマツなどのPinaceae等があげられる。また、合板接着
剤としては例えばフェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリ
ア樹脂等があげられる。本発明の木材防腐剤により防除
できる木材腐朽菌としては例えばカワラタケ(Coriolus
versicolor)、オオウズラタケ(Tyromyces palustri
s)、ナミダタケ(Serpula lacrymans)、イチョウタケ
(Paxillus panuoides)、イドタケ(Coniophora putea
na)、キカイガラタケ(Gloeophyllum sepiarium)、キ
チリメンタケ(Gloeophyllum trabeum)、チョークアナ
タケ(Antrodia xantha)、マツオオジ(Lentinus lepid
eus)、ワタグサレタケ(Antrodia sinuosa)、スエヒロ
タケ(Schiozophyllum commune)、ヒイロタケ(Pycnop
orus coccineus)があげられる。本発明の木材防腐剤は
木材の表面処理剤として用いるのが好ましく、その場
合、通常、製剤形態として油剤を用い、該油剤を木材1
2 あたり通常50〜200g、有効成分量として木材
1m2 あたり通常0.1〜10g使用する。
【0004】
【発明の効果】本発明の木材防腐剤は従来から使用され
ている耐光性がやや小さい有機ヨード系化合物に比べて
防腐効力は維持され、耐光性は著しく向上し、光照射の
ある条件下でも変色の心配なく安定した防腐効力が得ら
れる。
【0005】
【実施例】以下に本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
い。まず製剤例を示す。 製剤例1 油剤 化合物(1)または(2)1部、(3−フェノキシフェ
ニル)メチル 3−(2,2−ジクロロエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート(一
般名ペルメトリン)0.2部、ビス−(2,3,3,3−
テトラクロロプロピル)エーテル(S−421)1.5
部、3−メチル−3−メトキシブタノール(ソルフィッ
ト:クラレ株式会社製)10部、灯油87.3部を混合し
て、1%油剤を調製した。 製剤例2 乳剤 化合物(1)または(2)2部、キシレン88部、ソル
ポールSM200(東邦化学株式会社製)10部を混合
して、2%乳剤を調製した。
【0006】次に試験例を示す。比較に用いた化合物
(いずれも市販)は表1の化合物記号で示す。
【表1】 試験例1 製剤例1に準じて供試化合物の1%油剤を調製した。該
油剤を直径5.5cmのろ紙に油剤量で100ml/m2 とな
るように塗布し風乾した。このようにして調製したろ紙
を6000〜7000ルクスの光照射下に5分間置いた後、ろ紙
を取り出して、ろ紙面の変色(着色)の度合を観察し
た。変色(着色)の度合は以下の基準で判定した。 変 色(着色)なし − 軽い変色(着色)あり + 顕著な変色(着色)あり ++ 結果を表2に示す。
【表2】 試験例2 供試化合物の1%(W/V)のジメチルスルホキシド溶
液を作成した。該薬剤の所定量を滅菌(湿熱滅菌器使
用)直後のポテトデキストロース寒天培地に混合し、直
径9cmシャーレ内に約20cc注ぎ込み室温に放置した。
培地が固まった後、予め培養しておいたカワラタケ、オ
オウズラタケの菌叢から、菌糸を直径5mmのコルクポー
ラーで培地ごと繰り抜き、試験培地の中心に接種した。
接種後4日目に接種源から広がった菌叢の直径を測定
し、次式によって菌の発育阻害率を求めた。 発育阻害率(%)={(コントロール区の菌叢の直径−
試験区の菌叢の直径)/コントロール区の菌叢の直径}
×100 結果を表3および表4に示す。
【表3】
【表4】 試験例3 製剤例1に準じて供試化合物の油剤を調製し、日本木材
保存協会で定められた試験法に従って試験した。試験の
概要は次の通りである。ブナおよびスギの木片(厚さ5
mm、幅20mm、長さ40mmで40×20mmの面が柾目
面)の木口面をエポキシ樹脂でシールし、前記油剤を浸
漬(110±10g/m2 表面積)した後、20日間風
乾し試験体とした。試験体は25±3℃の静水(水:木
片=10:1(容積比))に5時間浸漬した後、40±
2℃で19時間揮散する耐候操作を30回繰り返した。
耐候操作を終えた試験体は60±2℃で48時間乾燥し
た後、約30分間デシケーター中に放置してその重量W
3 を測定した(以上9反復)。試験体は滅菌後、腐朽菌
(カワラタケ/ブナ、オオウズラタケ/スギ)を培養し
ている培養瓶中に入れ、26±2℃、湿度80%の条件
下で8週間培養した。8週間経過後、試験体を培養瓶か
ら取り出し、菌糸その他の付着物を除去した後、60±
2℃で48時間乾燥し、約30分間デシケーター中に放
置してその重量W4 を測定した。重量減少率は次の式に
よって算出した。 ただし、W3 :抗菌操作前の木片重量 W4 :抗菌操作後の木片重量 結果を表5に示す。
【表5】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−99575(JP,A) 特開 昭61−40269(JP,A) 特開 平5−132405(JP,A) 特開 昭62−53901(JP,A) 特開 平6−24915(JP,A) 特表 平7−500118(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) A01N 43/653 CA(STN)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 化1 【化1】 〔式中、Xは塩素原子または水素原子を表わす。〕で示
    されるスチリルトリアゾール誘導体を有効成分として含
    有することを特徴とする木材防腐剤。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8138103B2 (en) 2006-05-31 2012-03-20 Tokyo Electron Limited Plasma CVD method, method for forming silicon nitride film and method for manufacturing semiconductor device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8138103B2 (en) 2006-05-31 2012-03-20 Tokyo Electron Limited Plasma CVD method, method for forming silicon nitride film and method for manufacturing semiconductor device

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