JP3144182B2 - プラズマ溶射装置 - Google Patents
プラズマ溶射装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、固体素地表面に溶融
した粉末を噴射させ皮膜を形成させる装置に関する。
した粉末を噴射させ皮膜を形成させる装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマ溶射装置は、粉末状のセラミッ
クス、または金属、プラスチックなどの溶射材料をプラ
ズマで加熱、溶融させて液状微粒子とし、この液状微粒
子をプラズマジェットで固体素地材の表面に高速で衝突
させ（溶射させ）、固体素地に皮膜を形成させるための
ものである。固体素地を被覆することによって耐環性や
耐摩耗性、電気的絶縁性などを向上させる。
クス、または金属、プラスチックなどの溶射材料をプラ
ズマで加熱、溶融させて液状微粒子とし、この液状微粒
子をプラズマジェットで固体素地材の表面に高速で衝突
させ（溶射させ）、固体素地に皮膜を形成させるための
ものである。固体素地を被覆することによって耐環性や
耐摩耗性、電気的絶縁性などを向上させる。
【０００３】図６は従来のプラズマ溶射装置の構成を示
す系統図である。プラズマトーチ１によって、液状微粒
子の混入するプラズマジェット４を成膜させたい固体素
地２の表面に向けて射出させる。プラズマチート１の陽
極端子２０Ａおよび陰極端子２２Ａには配線１３を介し
てパルス電源１８が接続されている。また、ガス吹付部
１５が、ガスボンベ９から配管１２Ａを介してプラズマ
トーチ１に設けられたガス吹付口１５Ａに配管接続され
ている。さらに、粉末投入部１４が、原料粉末５を収納
した粉末容器７から配管１２Ｂを介してプラズマトーチ
１に設けられた粉末投入口１４Ａに配管接続されてい
る。また、配管１２Ｂにはガスボンベ８が配管接続され
ている。
す系統図である。プラズマトーチ１によって、液状微粒
子の混入するプラズマジェット４を成膜させたい固体素
地２の表面に向けて射出させる。プラズマチート１の陽
極端子２０Ａおよび陰極端子２２Ａには配線１３を介し
てパルス電源１８が接続されている。また、ガス吹付部
１５が、ガスボンベ９から配管１２Ａを介してプラズマ
トーチ１に設けられたガス吹付口１５Ａに配管接続され
ている。さらに、粉末投入部１４が、原料粉末５を収納
した粉末容器７から配管１２Ｂを介してプラズマトーチ
１に設けられた粉末投入口１４Ａに配管接続されてい
る。また、配管１２Ｂにはガスボンベ８が配管接続され
ている。
【０００４】図７は、図６のプラズマトーチ１の内部構
成を示す断面図である。プラズマトーチ１には陰極端子
２２Ａを備えた陰電極２２が軸中心に設けられている。
陰電極２２の外周に絶縁体２１を介して陽電極２０が配
されている。陽電極２０は陽電極２０Ａを備えるととも
に、ノズル部２４を形成している。前述のように、プラ
ズマトーチ１にはガス吹付口１５Ａが設けられてあり、
作動ガス１０が陰電極２２の先端部２２Ｂに吹き付けら
れる。また、プラズマトーチ１には粉末投入口１４Ａが
設けられてあり、原料粉末５がプラズマジェット４中に
投入される。
成を示す断面図である。プラズマトーチ１には陰極端子
２２Ａを備えた陰電極２２が軸中心に設けられている。
陰電極２２の外周に絶縁体２１を介して陽電極２０が配
されている。陽電極２０は陽電極２０Ａを備えるととも
に、ノズル部２４を形成している。前述のように、プラ
ズマトーチ１にはガス吹付口１５Ａが設けられてあり、
作動ガス１０が陰電極２２の先端部２２Ｂに吹き付けら
れる。また、プラズマトーチ１には粉末投入口１４Ａが
設けられてあり、原料粉末５がプラズマジェット４中に
投入される。
【０００５】図７において、陽電極２０と陰電極２２と
の間に電圧を印加して、陰電極２２の先端部２２Ｂにプ
ラズマアークを発生させる。このプラズマアークに作動
ガス１０、例えばアルゴンガスを吹き付け、矢印２５方
向にプラズマジェット４を射出させる。そのとき、プラ
ズマジェット４中には原料粉末５が投入され、原料粉末
５はプラズマ熱によって溶融し液体微粒子になる。プラ
ズマジェット４は液体微粒子とともにノズル部２４から
外部に射出される。
の間に電圧を印加して、陰電極２２の先端部２２Ｂにプ
ラズマアークを発生させる。このプラズマアークに作動
ガス１０、例えばアルゴンガスを吹き付け、矢印２５方
向にプラズマジェット４を射出させる。そのとき、プラ
ズマジェット４中には原料粉末５が投入され、原料粉末
５はプラズマ熱によって溶融し液体微粒子になる。プラ
ズマジェット４は液体微粒子とともにノズル部２４から
外部に射出される。
【０００６】図６に戻り、パルス電源１８は電極間を絶
縁破壊させるとともに、電極間に大電流を流し高温のプ
ラズマを発生させる。ガスボンベ９には、作動ガス１０
が充填されている。また、ガスボンベ８にはキャリアガ
ス６、例えばアルゴンガスが充填されている。キャリア
ガス６は、その風圧で原料粉末５を粉末投入口１４Ａへ
送り、プラズマジェット４中に投入させるためのもので
ある。
縁破壊させるとともに、電極間に大電流を流し高温のプ
ラズマを発生させる。ガスボンベ９には、作動ガス１０
が充填されている。また、ガスボンベ８にはキャリアガ
ス６、例えばアルゴンガスが充填されている。キャリア
ガス６は、その風圧で原料粉末５を粉末投入口１４Ａへ
送り、プラズマジェット４中に投入させるためのもので
ある。
【０００７】図６において、プラズマトーチ１にギャッ
プ長Ｇを介して固体素地２が対向して配されている。プ
ラズマジェット４はギャップ長Ｇを進むとともに半径方
向にも広がりを見せ、固体素地２の表面に直径Ｄの範囲
の円形溶射皮膜１７を形成を形成する。原料粉末５とし
て、例えば、溶融温度が２３００°Ｋのアルミナ粉末を
用いた場合、数万°Ｋのプラズマジェット４を発生さ
せ、アルミナ粉末を固体素地２に溶射させる。
プ長Ｇを介して固体素地２が対向して配されている。プ
ラズマジェット４はギャップ長Ｇを進むとともに半径方
向にも広がりを見せ、固体素地２の表面に直径Ｄの範囲
の円形溶射皮膜１７を形成を形成する。原料粉末５とし
て、例えば、溶融温度が２３００°Ｋのアルミナ粉末を
用いた場合、数万°Ｋのプラズマジェット４を発生さ
せ、アルミナ粉末を固体素地２に溶射させる。
【０００８】また、図６の装置は、電流源としてパルス
電源１８が用いられるとともに、ギャップ長Ｇは数ｃｍ
程度になっている。従来の異なる装置例として、電流源
を直流電源とし、ギャップ長Ｇを１０ｃｍ程度にしてい
るものがある。しかし、ギャップ長Ｇをあまり大きくす
ると、数μｍ厚さの薄い溶射皮膜１７を均一に成膜する
ことができず、場所によって不均一になる。溶射皮膜１
７の中央部分が数百μｍと、かなり厚く盛り上がる。ギ
ャップ長Ｇを数ｃｍ以下に縮めておけば、薄い溶射皮膜
１７が均一に形成される。ギャップ長Ｇを小さくする
と、プラズマジェット４の熱で固体素地２自体が損傷を
受ける可能性がある。そこで、電流源をパルス電源１８
とし、極く短い間だけプラズマジェット４を射出するこ
とによって固体素地２自体の温度上昇を抑える方法が同
一出願人によって既に特許出願されている。パルス電源
１８を用いたプラズマ溶射によって、厚さが均一で、か
つ薄い（数μｍ厚さ）溶射皮膜１７が、形成されるとと
もに、固体素地２との密着性が直流電源によるものより
はるかに優れた溶射皮膜１７が得られる。
電源１８が用いられるとともに、ギャップ長Ｇは数ｃｍ
程度になっている。従来の異なる装置例として、電流源
を直流電源とし、ギャップ長Ｇを１０ｃｍ程度にしてい
るものがある。しかし、ギャップ長Ｇをあまり大きくす
ると、数μｍ厚さの薄い溶射皮膜１７を均一に成膜する
ことができず、場所によって不均一になる。溶射皮膜１
７の中央部分が数百μｍと、かなり厚く盛り上がる。ギ
ャップ長Ｇを数ｃｍ以下に縮めておけば、薄い溶射皮膜
１７が均一に形成される。ギャップ長Ｇを小さくする
と、プラズマジェット４の熱で固体素地２自体が損傷を
受ける可能性がある。そこで、電流源をパルス電源１８
とし、極く短い間だけプラズマジェット４を射出するこ
とによって固体素地２自体の温度上昇を抑える方法が同
一出願人によって既に特許出願されている。パルス電源
１８を用いたプラズマ溶射によって、厚さが均一で、か
つ薄い（数μｍ厚さ）溶射皮膜１７が、形成されるとと
もに、固体素地２との密着性が直流電源によるものより
はるかに優れた溶射皮膜１７が得られる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような従来の装置は、溶射皮膜の複合層化作業が煩雑
であるという問題があった。すなわち、異なる原料粉末
を溶射することによって溶射皮膜を複数層形成したい場
合、従来は、粉末投入部における配管１２Ｂ内を清掃す
るとともに、粉末容器内の原料粉末を異なるものに交換
する作業が必要であった。そのために、複数層の層数が
多いほど多大な手間を必要とし、プラズマ溶射のための
準備時間も多大であった。
たような従来の装置は、溶射皮膜の複合層化作業が煩雑
であるという問題があった。すなわち、異なる原料粉末
を溶射することによって溶射皮膜を複数層形成したい場
合、従来は、粉末投入部における配管１２Ｂ内を清掃す
るとともに、粉末容器内の原料粉末を異なるものに交換
する作業が必要であった。そのために、複数層の層数が
多いほど多大な手間を必要とし、プラズマ溶射のための
準備時間も多大であった。
【００１０】この発明の目的は、溶射皮膜の複合層化作
業を容易にすることにある。
業を容易にすることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明によれば、プラズマを発生させる電極対
と、この電極対に接続される電源と、プラズマに作動ガ
スを吹き付けプラズマジェットを形成させるガス吹付部
と、プラズマジェットに原料粉末を投入する粉末投入部
と、プラズマ熱によって溶融した原料粉末をプラズマジ
ェットとともに射出させるノズル部とにより構成された
プラズマ溶射装置において、前記電源としてパルス電圧
を出力するパルス電源が用いられるとともに、前記粉末
投入部が複数設けられたものがよい。
に、この発明によれば、プラズマを発生させる電極対
と、この電極対に接続される電源と、プラズマに作動ガ
スを吹き付けプラズマジェットを形成させるガス吹付部
と、プラズマジェットに原料粉末を投入する粉末投入部
と、プラズマ熱によって溶融した原料粉末をプラズマジ
ェットとともに射出させるノズル部とにより構成された
プラズマ溶射装置において、前記電源としてパルス電圧
を出力するパルス電源が用いられるとともに、前記粉末
投入部が複数設けられたものがよい。
【００１２】また、かかる構成において、複数の粉末投
入部がそれぞれ互いに異なる原料粉末をプラズマジェッ
トに投入可能であるものがよい。また、かかる構成にお
いて、複数の電源が設けられ、この電源のそれぞれと電
極対との接続を切り換えることのできる切換器が備えら
れたものがよい。
入部がそれぞれ互いに異なる原料粉末をプラズマジェッ
トに投入可能であるものがよい。また、かかる構成にお
いて、複数の電源が設けられ、この電源のそれぞれと電
極対との接続を切り換えることのできる切換器が備えら
れたものがよい。
【００１３】
【作用】この発明の構成によれば、粉末投入部が複数設
けられた。それぞれの粉末投入部から異なる粉末原料を
順次ノズル部内のプラズマジェットに投入することによ
り、溶射皮膜を複合層化する場合でも粉末原料の交換が
不用になり溶射作業が容易になる。また、それぞれの粉
末投入部から同一の粉末原料を同時にノズル部内のプラ
ズマジェットに投入することにより、溶射皮膜の厚さを
容易に制御することもできる。また、それぞれの粉末投
入部から異なる原料粉末を同時にノズル部内のプラズマ
ジェットに投入することにより、異種材料が混合した溶
射皮膜を形成することもできる。
けられた。それぞれの粉末投入部から異なる粉末原料を
順次ノズル部内のプラズマジェットに投入することによ
り、溶射皮膜を複合層化する場合でも粉末原料の交換が
不用になり溶射作業が容易になる。また、それぞれの粉
末投入部から同一の粉末原料を同時にノズル部内のプラ
ズマジェットに投入することにより、溶射皮膜の厚さを
容易に制御することもできる。また、それぞれの粉末投
入部から異なる原料粉末を同時にノズル部内のプラズマ
ジェットに投入することにより、異種材料が混合した溶
射皮膜を形成することもできる。
【００１４】また、かかる構成において、複数の電源が
設けられ、この電源のそれぞれと電極対との接続を切換
えることのできる切換器が備えられた。これにより、各
粉末投入部から投入される原料粉末を溶融させるための
注入エネルギーを切換器の操作だけによって制御するこ
とができる。そのために、電源の結線換えや調整作業が
不用になり、溶射作業が容易になる。
設けられ、この電源のそれぞれと電極対との接続を切換
えることのできる切換器が備えられた。これにより、各
粉末投入部から投入される原料粉末を溶融させるための
注入エネルギーを切換器の操作だけによって制御するこ
とができる。そのために、電源の結線換えや調整作業が
不用になり、溶射作業が容易になる。
【００１５】
【実施例】以下、この発明を実施例に基づいて説明す
る。図１はこの発明の実施例にかかるプラズマ溶射装置
の構成を示す系統図である。もう一つの粉末投入部１４
０が原料粉末５０を収納した粉末容器７０から配管１２
０Ｂを介し、プラズマトーチ１００に設けられた粉末投
入口１４０Ａに配管接続されている。また、配管１２０
Ｂには、ガスボンベ８０が配管接続されている。
る。図１はこの発明の実施例にかかるプラズマ溶射装置
の構成を示す系統図である。もう一つの粉末投入部１４
０が原料粉末５０を収納した粉末容器７０から配管１２
０Ｂを介し、プラズマトーチ１００に設けられた粉末投
入口１４０Ａに配管接続されている。また、配管１２０
Ｂには、ガスボンベ８０が配管接続されている。
【００１６】図２は、図１のプラズマトーチ１００の内
部構成を示す断面図である。プラズマトーチ１００にも
う一つの粉末投入口１４０Ａが設けられてあり、原料粉
末５０がプラズマジェット４中に投入される。図１、図
２のその他は、従来の装置である図６、図７の構成と同
じである。同じ部分には同一参照符号を用いることによ
り詳細な説明は省略する。図１において、粉末容器７と
７０とにはそれぞれ互いに異なる原料粉末５と５０とを
収納しておけば、例えば、溶射皮膜１７０を複合層化し
たい場合にその溶射作業を非常に容易に、かつ短時間で
実施することができる。すなわち、まず、粉末投入部１
４を動作させて原料粉末５をプラズマジェット４中に投
入し溶射皮膜１７０の第一層目を形成する。次に、粉末
投入部１４の動作を停止させた後、粉末投入部１４０を
動作させ、原料粉末５０をプラズマジェット４中に投入
する。これによって、溶射皮膜１７０は２層重ねられた
皮膜に形成される。その後、粉末投入部１４と１４０と
を繰り返し動作させることによって、幾層にも重ねられ
た溶射皮膜１７０を形成することもできる。
部構成を示す断面図である。プラズマトーチ１００にも
う一つの粉末投入口１４０Ａが設けられてあり、原料粉
末５０がプラズマジェット４中に投入される。図１、図
２のその他は、従来の装置である図６、図７の構成と同
じである。同じ部分には同一参照符号を用いることによ
り詳細な説明は省略する。図１において、粉末容器７と
７０とにはそれぞれ互いに異なる原料粉末５と５０とを
収納しておけば、例えば、溶射皮膜１７０を複合層化し
たい場合にその溶射作業を非常に容易に、かつ短時間で
実施することができる。すなわち、まず、粉末投入部１
４を動作させて原料粉末５をプラズマジェット４中に投
入し溶射皮膜１７０の第一層目を形成する。次に、粉末
投入部１４の動作を停止させた後、粉末投入部１４０を
動作させ、原料粉末５０をプラズマジェット４中に投入
する。これによって、溶射皮膜１７０は２層重ねられた
皮膜に形成される。その後、粉末投入部１４と１４０と
を繰り返し動作させることによって、幾層にも重ねられ
た溶射皮膜１７０を形成することもできる。
【００１７】図３は、この発明の異なる実施例にかかる
プラズマ溶射装置の構成を示す系統図である。粉末投入
部１４と１４０とが共通の粉末投入口１４Ｃを備え、開
閉弁１６を介してプラズマトーチ１０１に配管接続され
ている。図４は、図３のプラズマトーチ１０１の内部構
成を示す断面図である。プラズマトーチ１０１が２股に
分かれた粉末投入口１４Ｃを備えている。
プラズマ溶射装置の構成を示す系統図である。粉末投入
部１４と１４０とが共通の粉末投入口１４Ｃを備え、開
閉弁１６を介してプラズマトーチ１０１に配管接続され
ている。図４は、図３のプラズマトーチ１０１の内部構
成を示す断面図である。プラズマトーチ１０１が２股に
分かれた粉末投入口１４Ｃを備えている。
【００１８】図３、図４のその他はそれぞれ、図１、図
２の構成と同じである。原料粉末５と５０のいずれが送
られて来ても、それをプラズマジェット４中に投入する
ことができ、溶射皮膜１７０を容易に複合層化すること
ができる。図１または図３の構成は粉末投入部がいずれ
も２つの場合であるが、３個以上、一般には収納された
原料粉末が異なる複数の粉末投入部を設けることによっ
て、３層以上、複数層の溶射皮膜を容易に形成すること
ができる。また、複数の粉末投入部の原料粉末を同種の
ものにすることによって、原料粉末のプラズマジェット
内への投入量を調整することができ、溶射皮膜の成膜厚
を容易に制御することができる。
２の構成と同じである。原料粉末５と５０のいずれが送
られて来ても、それをプラズマジェット４中に投入する
ことができ、溶射皮膜１７０を容易に複合層化すること
ができる。図１または図３の構成は粉末投入部がいずれ
も２つの場合であるが、３個以上、一般には収納された
原料粉末が異なる複数の粉末投入部を設けることによっ
て、３層以上、複数層の溶射皮膜を容易に形成すること
ができる。また、複数の粉末投入部の原料粉末を同種の
ものにすることによって、原料粉末のプラズマジェット
内への投入量を調整することができ、溶射皮膜の成膜厚
を容易に制御することができる。
【００１９】また、図１または図３の構成において、粉
末投入部１４、１４０を同時に動作させることによっ
て、原料粉末５と５０とが任意の割合で混合した溶射皮
膜１７０を形成することもできる。図５は、この発明の
さらに異なる実施例にかかるプラズマ溶射装置の構成を
示す系統図である。もう一つのパルス電源１８０が設け
られ、切換器１９を介してプラズマトーチ１００に接続
されている。その他は、図１の構成と同じである。
末投入部１４、１４０を同時に動作させることによっ
て、原料粉末５と５０とが任意の割合で混合した溶射皮
膜１７０を形成することもできる。図５は、この発明の
さらに異なる実施例にかかるプラズマ溶射装置の構成を
示す系統図である。もう一つのパルス電源１８０が設け
られ、切換器１９を介してプラズマトーチ１００に接続
されている。その他は、図１の構成と同じである。
【００２０】図５において、切換器１９は動作している
側の粉末投入部１４、１４０に合わせてパルス電源１
８，１８０を切り換えることができる。これによって、
原料粉末５、５０の溶融温度が例え異なっていても、容
易に溶射作業ができる。原料粉末５、５０の溶融温度
は、一般にはまちまちであり、例えば、酸化ニッケルの
場合は１，９９８℃、酸化ジルコニウムの場合は２，７
００℃である。これらを用いて複合層化された溶射皮膜
１７０を形成したいとき、それぞれのパルス電源１８、
１８０からそれに見合ったエネルギー注入ができるよう
にしておけば、溶射作業が非常に容易になる。とくに、
１台のパルス電源によってその出力エネルギーを変えよ
うとすると、充電電圧や出力電流、パルス幅などを変え
るために、その内部回路の変更が必要となり多大の手間
と時間が要求される。
側の粉末投入部１４、１４０に合わせてパルス電源１
８，１８０を切り換えることができる。これによって、
原料粉末５、５０の溶融温度が例え異なっていても、容
易に溶射作業ができる。原料粉末５、５０の溶融温度
は、一般にはまちまちであり、例えば、酸化ニッケルの
場合は１，９９８℃、酸化ジルコニウムの場合は２，７
００℃である。これらを用いて複合層化された溶射皮膜
１７０を形成したいとき、それぞれのパルス電源１８、
１８０からそれに見合ったエネルギー注入ができるよう
にしておけば、溶射作業が非常に容易になる。とくに、
１台のパルス電源によってその出力エネルギーを変えよ
うとすると、充電電圧や出力電流、パルス幅などを変え
るために、その内部回路の変更が必要となり多大の手間
と時間が要求される。
【００２１】なお、図５におけるパルス電源１８、１８
０は、図３の装置に設けてもよく、上述と同じ効果が得
られる。また、前述したように、３個以上、複数の粉末
投入部が備えられている場合、それぞれの粉末投入部に
対応させて複数のパルス電源を設けてもよい。
０は、図３の装置に設けてもよく、上述と同じ効果が得
られる。また、前述したように、３個以上、複数の粉末
投入部が備えられている場合、それぞれの粉末投入部に
対応させて複数のパルス電源を設けてもよい。
【００２２】
【発明の効果】この発明は前述のように、粉末投入部が
複数設けられたことによって、溶射皮膜の複合層化作業
が非常に容易になり、かつ、その作業時間も大幅に短縮
される。また、この発明の装置によれば、溶射皮膜の厚
さ制御も容易にできるし、異種材料が混合した溶射皮膜
も容易に形成可能である。
複数設けられたことによって、溶射皮膜の複合層化作業
が非常に容易になり、かつ、その作業時間も大幅に短縮
される。また、この発明の装置によれば、溶射皮膜の厚
さ制御も容易にできるし、異種材料が混合した溶射皮膜
も容易に形成可能である。
【００２３】さらにまた、切換器によって切換接続可能
な複数の電源を設けたことにより、電源の結線換えや調
整作業が不用になり溶射作業がさらに容易になり、その
作業時間もさらに短縮される。
な複数の電源を設けたことにより、電源の結線換えや調
整作業が不用になり溶射作業がさらに容易になり、その
作業時間もさらに短縮される。
【図１】この発明の実施例にかかるプラズマ溶射装置の
構成を示す系統図
構成を示す系統図
【図２】図１のプラズマトーチの内部構成を示す断面図
【図３】この発明の異なる実施例にかかるプラズマ溶射
装置の構成を示す系統図
装置の構成を示す系統図
【図４】図３のプラズマトーチの内部構成を示す断面図
【図５】この発明のさらに異なる実施例にかかるプラズ
マ溶射装置の構成を示す系統図
マ溶射装置の構成を示す系統図
【図６】従来のプラズマ溶射装置の構成を示す系統図
【図７】図６のプラズマトーチの内部構成を示す断面図
１００，１０１：プラズマトーチ、２：固体素地、４：
プラズマジェット、５，５０：原料粉末、６：キャリア
ガス、７，７０：粉末容器、８，８０，９：ガスボン
ベ、１０：作動ガス、１２Ａ，１２Ｂ，１２０Ｂ：配
管、１３：配線、１４，１４０：粉末投入部、１４Ａ，
１４０Ａ，１４Ｃ：粉末投入口、１５：ガス吹付部、１
５：ガス吹付口、１６：開閉弁、１７０：溶射皮膜、１
８，１８０：パルス電源、１９：切換器、２０：陽電
極、２０Ａ：陽極端子、２１：絶縁体、２２：陰電極、
２２Ａ：陰極端子、２２Ｂ：先端部、２４：射出口
プラズマジェット、５，５０：原料粉末、６：キャリア
ガス、７，７０：粉末容器、８，８０，９：ガスボン
ベ、１０：作動ガス、１２Ａ，１２Ｂ，１２０Ｂ：配
管、１３：配線、１４，１４０：粉末投入部、１４Ａ，
１４０Ａ，１４Ｃ：粉末投入口、１５：ガス吹付部、１
５：ガス吹付口、１６：開閉弁、１７０：溶射皮膜、１
８，１８０：パルス電源、１９：切換器、２０：陽電
極、２０Ａ：陽極端子、２１：絶縁体、２２：陰電極、
２２Ａ：陰極端子、２２Ｂ：先端部、２４：射出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05H 1/42 H05H 1/44 C23C 4/12
Claims (3)
- 【請求項１】プラズマを発生させる電極対と、この電極
対に接続される電源と、プラズマに作動ガスを吹き付け
プラズマジェットを形成させるガス吹付部と、プラズマ
ジェットに原料粉末を投入する粉末投入部と、プラズマ
熱によって溶融した原料粉末をプラズマジェットととも
に射出させるノズル部とにより構成されたプラズマ溶射
装置において、前記電源としてパルス電圧を出力するパ
ルス電源が用いられるとともに、前記粉末投入部が複数
設けられたことを特徴とするプラズマ溶射装置。 - 【請求項２】請求項１に記載のプラズマ溶射装置におい
て、複数の粉末投入部がそれぞれ互いに異なる原料粉末
をプラズマジェットに投入可能であることを特徴とする
プラズマ溶射装置。 - 【請求項３】請求項１または２に記載のプラズマ溶射装
置において、複数の電源が設けられ、この電源のそれぞ
れと電極対との接続を切り換えることのできる切換器が
備えられたことを特徴とするプラズマ溶射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28154593A JP3144182B2 (ja) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | プラズマ溶射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28154593A JP3144182B2 (ja) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | プラズマ溶射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07135092A JPH07135092A (ja) | 1995-05-23 |
| JP3144182B2 true JP3144182B2 (ja) | 2001-03-12 |
Family
ID=17640675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28154593A Expired - Fee Related JP3144182B2 (ja) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | プラズマ溶射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3144182B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008103141A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Tohoku Univ | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
| KR101242641B1 (ko) * | 2010-03-09 | 2013-03-19 | 한양대학교 산학협력단 | 열차폐 코팅층 미세구조 제어장치 및 이를 이용한 열차폐 코팅층 미세구조 제어방법 |
-
1993
- 1993-11-11 JP JP28154593A patent/JP3144182B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07135092A (ja) | 1995-05-23 |
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