JP3142031U - 生体利用できる安全性の高い小型強力磁石。 - Google Patents
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Abstract
【課題】Nd−Fe−B磁石の表面処理として従来利用されているNiやCuなどのアレルギーや毒性の問題となる金属を排除し、生体適合性・耐食性に優れる金属で表面処理を行うことにより、安全性を著しく高めた生体利用できる強力磁石を提供する。
【解決手段】成型焼結させたNd−Fe−B磁石表面に対し密着性が高く、かつ生体適合性・耐食性の高い純金あるいは純白金で被覆する。さらにその外層を、純金あるいは純白金に対し密着性が高く、かつ生体適合性・耐食性の非常に高いTi系金属で被覆することを特徴とする。Ti系金属による被覆は、イオンプレーティング法等の気相成膜法により行われるが、電極接点上の被覆されない部分の発生を防止するために、磁石金属自体に最小限の貫通孔を設け、ワイヤー状などの電極が十分に接触かつ移動可能なようにする。
【選択図】図1
【解決手段】成型焼結させたNd−Fe−B磁石表面に対し密着性が高く、かつ生体適合性・耐食性の高い純金あるいは純白金で被覆する。さらにその外層を、純金あるいは純白金に対し密着性が高く、かつ生体適合性・耐食性の非常に高いTi系金属で被覆することを特徴とする。Ti系金属による被覆は、イオンプレーティング法等の気相成膜法により行われるが、電極接点上の被覆されない部分の発生を防止するために、磁石金属自体に最小限の貫通孔を設け、ワイヤー状などの電極が十分に接触かつ移動可能なようにする。
【選択図】図1
Description
本願考案は、生体内外で利用できる生体適合性・耐食性の高いNd−Fe−B磁石に関する。
最近、医学分野において、磁性ナノ粒子を用いた薬物送達法の開発が行われており、磁気による薬物の病巣部への運搬が期待されている。その状況の中で、出願人は先に、大幅な省工程が可能な磁性ナノ粒子の製造方法を提案した(特願2007−198104)。
しかしながら、体外からの磁気照射では磁性ナノ粒子の磁気送達が困難であるため、生体内部への留置により、患部へ直接強力な磁気を照射できる効率の高い安全な小型磁石の開発が望まれているが、現在までに開発されていない。
現在、磁力の最も強い磁石としてNd−Fe−B磁石が知られているが、容易に酸化し磁気の損失を引き起こすため、その防止策として、通常、NiやCuなどによるめっきが施されている。しかし、該金属は、その強い毒性や強い金属アレルギーなどが問題となるため、該金属でめっきされたNd−Fe−B磁石の生体内部への留置は不可能である。
一方、Tiは金属アレルギーなどを起こさない、生体内部で利用できる無害な医用金属材料として、人工関節、人工歯根などとして今日広範に利用されている。そのため、NiめっきやCuめっきを有さないNd−Fe−B磁石の表面を該Ti系材料で、強固に完全に被覆できれば生体内部で利用できる安全性の高い小型強力磁石となりうる。
ところが、Nd−Fe−B磁石表面とTiの密着性は悪く、Nd−Fe−B磁石を直接、Tiめっきすることは困難である。さらに、通常の湿式めっきでは、Tiによる金属材料表面の被覆は実現困難である。
一方、真空中で、Tiを高周波プラズマなどの方法で蒸発させ、目的の金属材料に陰性荷電を負荷することにより、該金属材料表面をTiで強固に被覆する気相成膜法のうち、スルーホールやピンホールのほとんど発生しないイオンプレーティング法が公知となっている。さらに、イオンプレーティング法において、Tiの耐摩耗性を格段に高めることを目的に、真空と窒素などの併用によりTiNによる被覆が、また、真空とアセチレンガスなどの併用によりTiCによる被覆が可能となることが既に公知となっている(特開平6−349619)。しかしながら、イオンプレーティング法では、陰性電極の接地部分の被覆ができないという技術課題が存在する(特開平5−299281)。
本願考案の課題は、強い毒性や金属アレルギーが問題となるNiやCuなどを使用せず、かつ磁石の最外層を生体適合性の高いTi系金属材料で完全に被覆することにより、生体内で利用できる安全性の高い強力磁石を提供することにある。
前述した課題の解決のため、Nd−Fe−B磁石のめっきを発がん性などの強い毒性や金属アレルギーなどが問題となる従来のNiやCuに代わり、生体適合性および耐食性が高く、かつ該磁石表面およびTi系金属への密着性に優れる純金あるいは純白金などで行い、さらに、その外層を生体適合性が非常に高く、かつ耐食性に優れるTi系金属で完全に被覆することにより、磁石に由来する毒性やアレルギーなどの発現を阻止することを特徴とする安全性および耐食性の高いNd−Fe−B磁石を提供する。特に、Ti系金属による被覆は、気相成膜法のうち、ピンホールやスルーホールの発生の最も少ないイオンプレーティング法により行うため、磁石の一部に通電のための電極を設ける必要がある。従来法による電極部分が被覆されないといった問題を解決するため、磁石に貫通孔、あるいは貫通空間を付与する。その際、該貫通孔あるいは該貫通空間の体積の増大による磁石の磁力低下を極力防ぐため、イオンプレーティング時に、磁石に十分接触可能、かつ磁石を十分保持可能な電極が、該小孔内部あるいは該開口空間内部を自由に移動できる範囲内で、該小孔体積あるいは該空間体積を最小限とするNd−Fe−B磁石を提供する。
本願考案の生体内外で利用できる生体適合性・耐食性の高いNd−Fe−B磁石を用いた場合、生体内に留置した該磁石の磁場により、磁性ナノ粒子を患部に効率良く安全に集積させることが可能になるので、遺伝子、抗癌剤、光感受性物質などの各種薬剤の送達システムとして用いることができる。また、該磁石は、肩こりなどの自覚症状を緩和させる健康医療用器具として、現在一般的に使用されている従来のフェライト系磁石を大幅に上回る同一体積あたりの磁力を発揮させることが可能となるため、治療効果の向上および磁石の小型化が可能となる。
本願考案の生体内外で利用できる安全性の高い小型強力磁石は、Nd−Fe−B磁石のめっきを発がん性などの強い毒性や金属アレルギーなどが問題となる従来のNiやCuに代わり、生体適合性および耐食性が高く、かつ該磁石表面およびTi系金属への密着性に優れる純金あるいは純白金などで行い、さらに、該めっき磁石の外層を生体適合性が非常に高く、かつ耐食性に優れるTi系金属で完全に被覆することにより、磁石に由来する毒性やアレルギーなどの発現を阻止することを特徴とする。特に、Ti系金属による被覆は、気相成膜法のうち、ピンホールやスルーホールの発生の最も少ないイオンプレーティング法により行うため、磁石の一部に通電のための電極を設ける必要がある。従来法による電極部分が被覆されないといった問題を回避するため、磁石に貫通孔、あるいは貫通空間を付与する。その際、該貫通孔あるいは該貫通空間の体積の増大による磁石の磁力低下を極力防ぐため、イオンプレーティング時に、磁石に十分接触可能、かつ磁石を十分保持可能な電極が、該小孔内部あるいは該開口空間内部を自由に移動できる範囲内で、該小孔体積あるいは該空間体積を最小限とする。
図1は、本願考案の生体内外で利用できる安全性の高い小型強力磁石の概略図および断面図を示したものである。図1に示すように、本願考案の生体内外で利用できる安全性の高い小型強力磁石は、イオンプレーティングの際に、磁石に十分接触可能、かつ磁石を十分保持可能な電極が自由に移動するための、最小限の貫通する小孔あるいは開口空間を有することを特徴とし、そのためTi系金属による完全な被覆を可能とする。Ne−Fe−B磁石を純金あるいは純白金にてめっきを施し、さらに、その外層をTi、TiN、TiCなど生体適合性が高く、かつ耐食性に優れるTi系材料で完全に被覆する構造を有する。
先ず、本願考案においてTi系金属で被覆される金属磁石の種類については、例えば、Ne−Fe−B合金、及びサマリウム−コバルト合金等特に限定されず、Ti系金属により最外層を被覆できるものは全て用いることができるが、強力な磁力を要する場合、Ne−Fe−B合金の使用が好ましい。
本願考案において用いられる磁石へのめっきの種類としては、磁石表面への密着性が高く、かつTi系金属材料への密着性の高い金属材料は全て用いることができるが、生体適合性を考慮した場合、純金、純白金の使用が好ましい。純金、純白金によるめっきは公知の方法を用いることができる。
本願考案において用いられる気相成膜法の種類としては、真空蒸着法、イオンスパッタリング法、イオンプレーティング法、イオン蒸着薄膜形成法、プラズマ蒸着薄膜形成法などが使用できるが、被膜の緻密性、均一性、膜形成速度などの理由から、イオンプレーティング法を用いるのが好ましい。
生体適合性、耐食性、密着性、磁気特性、製造コストなどを考慮すると、本願考案における磁石体表面の純金めっき層あるいは純白金めっき層の厚さは、0.1〜50μmが好ましく、より好ましくは1〜30μm、さらに好ましくは5〜25μmである。また、Ti系金属による被覆層の厚さは、0.1〜10μmが好ましく、より好ましくは0.5〜7.5μm、さらに好ましくは2.5〜5μmである。
本願考案の磁石を用いた磁性ナノ粒子の磁気誘導による送達を目的とする物質は、特に限定されるものではなく、例えば、核酸(例えば、DNA、RNA、またはこれらの類似体又は誘導体(例えば、ペプチド核酸、ホスホロチオエートDNA等)、ペプチド、タンパク質、薬物(例えば、抗癌剤、光感受性物質、造影剤等)、糖、これらの複合体等が挙げられる。尚、該核酸の形態は特に限定されるものではなく、一本鎖又は二本鎖、線状又は環状等が挙げられる。
送達を目的とする物質が核酸である場合、陰性荷電をもつ核酸と磁性ナノ粒子を構成するカチオン性脂質の静電的相互作用を介して、磁性ナノ粒子−核酸複合体を形成し、該複合体の磁気誘導による標的への送達が可能となる。但し、目的物質が送達可能であれば、磁性ナノ粒子に目的物質を結合する方法については、特に限定されることなく利用することが可能である。
本願考案の磁石を使用できる生物種は、例えば、動物、植物、微生物等、特に限定されることはないが、動物であることが好ましく、例えば、ヒト、サル、ウシ、ヒツジ、ヤギ、ウマ、ブタ、ウサギ、イヌ、ネコ、マウス、ラット、モルモット等、哺乳動物であることがより好ましいが、特に限定されるものではない。
本願考案の磁石は、生体内、生体外のいずれにおいても使用することができる。生体内で使用する場合、磁石の留置部位としては、例えば、静脈内、実質臓器内(例えば、脳、目、甲状腺、乳腺、心臓、肺、肝臓、膵臓、腎臓、副腎、卵巣、精巣等)、管腔臓器の管腔内(例えば、食道、胃、十二指腸、空腸、回腸、大腸、胆嚢、尿管、膀胱内等)、脳脊髄腔内、胸腔内、腹腔内、筋肉内、関節内、皮下、皮内等、特に限定されるものではない。
以下、本願考案を実施例により更に詳細に説明する。なお本願考案の範囲は、かかる実施例に限定されないことはいうまでもない。
公知の鋳造インゴットを粉砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理後に、Ne15%、Fe77%、B8%(原子%)の組成の外径5mm×内径1mm×厚み2mm寸法のNe−Fe−B磁石を作製した。さらに、公知の方法(特開平7−062588など)に従い、シアン化第1金カリウム10g/l、クエン酸3カリウム100g/l、リン酸2水素カリウム20g/l、ホウ酸5g/l、硫酸アンモニウム50g/l、エチレンジアミン四酢酸2アンモニウム5g/l、pH6.0(アンモニア水にて調整)、めっき温度65℃、陰極電流密度0.3A/dm2、めっき時間60分の条件にて、マグネティックスターラーを使用した攪拌のもと、該Ne−Fe−B磁石に対して純金めっきを行った。
続いて、イオンプレーティング装置の径0.5mmのワイヤー状陰性電極を、得られた純金めっきNe−Fe−B磁石の小孔を通すことにより、該磁石を装置に保持後に、公知の方法(特開平6−349619など)に従い、真空容器内を1×10−3pa以下になるように真空排気し、アルゴン(Ar)ガス圧10pa、−500Vで20分間、表面スパッターを行って、該磁石表面を清浄化した。さらに、Arガス圧0.1pa、バイアス電圧−80V、アーク電流100A、該磁石温度を400℃にて、ターゲットとしてTiをアークイオンプレーティング法にて、該磁石表面に0.1μm厚のTi被覆層を形成した。引き続き、バイアス電圧−100V、アーク電流100A、該磁石温度400℃で、Ar:窒素(N2)=9:1の混合ガス1paを導入し、混合ガスの比率をAr:N2=9:1→7:3→5:5→3:7→0:10と連続的に変えることにより、30分でTi被膜表面に膜厚0.3μmの窒素拡散層(組成TiNx)を形成した。最後に、N2ガス1pa、バイアス電圧−100V、アーク電流100Aでアークイオンプレーティングを行い、5時間でTiN被膜を5μm形成し、放冷後、目的の生体内外で利用できる生体適合性および耐食性の高いNd−Fe−B磁石を得た。
得られた生体内外で利用できる生体適合性および耐食性の高いNd−Fe−B磁石のエポキシ樹脂包埋処理および薄切処理後の走査型電子顕微鏡写真を図2に示す。図2に示すように、本願考案により得られた該磁石は約25μmの純金めっきで被覆され、さらにその外層を約5μmのTi層で被覆される構造を有していた。
以上説明したように、本願考案の生体利用できる安全性の高い小型強力磁石は、磁性ナノ粒子などの磁性体を介した遺伝子・薬物の患部への送達による疾患治療、磁石を使用した外科的手術、あるいは、筋肉の凝りなどの治療用健康医療器具などとして利用可能である。
A:Ne−Fe−B磁石
B:純金あるいは純白金めっき層
C:Ti被覆層
a:生体利用できる安全性の高い小型強力磁石の外径
b:生体利用できる安全性の高い小型強力磁石の内径
c:生体利用できる安全性の高い小型強力磁石の高さ
d:純金あるいは純白金めっき層の厚さ
e:Ti被覆層の厚さ
B:純金あるいは純白金めっき層
C:Ti被覆層
a:生体利用できる安全性の高い小型強力磁石の外径
b:生体利用できる安全性の高い小型強力磁石の内径
c:生体利用できる安全性の高い小型強力磁石の高さ
d:純金あるいは純白金めっき層の厚さ
e:Ti被覆層の厚さ
Claims (2)
- Nd(ネオジム)−Fe(鉄)−B(ボロン)磁石のめっきを発がん性などの強い毒性や金属アレルギーなどが問題となる従来のNi(ニッケル)やCu(銅)に代わり、生体適合性が比較的高く、かつ該磁石表面およびTi(チタン)系金属への密着性に優れる純金あるいは純白金などで行い、その外層を生体適合性が非常に高く、かつ耐食性に優れるTi、TiN(窒化チタン)、TiC(炭化チタン)などTi系材料で被覆することにより、磁石に由来する毒性やアレルギーなどの発現を阻止することを特徴とする生体利用できる高安全・高耐食性Nd−Fe−B磁石。
- 該Ti系金属による被覆は、気相成膜法のうち、ピンホールやスルーホールの発生の最も少ないイオンプレーティング法などにより行うため、磁石の一部に通電のための電極を設ける必要がある。従来法による電極部分が被覆されないといった技術課題を解決するため、Nd−Fe−B磁石に貫通小孔、あるいは貫通空間を付与する。特に、磁力低下を極力防ぐため、イオンプレーティング法施行の際、磁石金属に十分接触可能かつ磁石金属を十分保持可能な電極が、該小孔内部あるいは該開口空間内部を自由に移動できる範囲で、該小孔あるいは該空間は最小限とすることを特徴とする生体利用できる高安全・高耐食性Nd−Fe−B磁石。
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