JP3138515B2 - プラズマトーチによる加工品の表面処理装置 - Google Patents

プラズマトーチによる加工品の表面処理装置

Info

Publication number
JP3138515B2
JP3138515B2 JP03305724A JP30572491A JP3138515B2 JP 3138515 B2 JP3138515 B2 JP 3138515B2 JP 03305724 A JP03305724 A JP 03305724A JP 30572491 A JP30572491 A JP 30572491A JP 3138515 B2 JP3138515 B2 JP 3138515B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cooling
cooling medium
circuit
workpiece
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP03305724A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04331245A (ja
Inventor
ベルナール・ハンス
シルバノ・ケラー
Original Assignee
プラスマ−テヒニツク・アー・ゲー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by プラスマ−テヒニツク・アー・ゲー filed Critical プラスマ−テヒニツク・アー・ゲー
Publication of JPH04331245A publication Critical patent/JPH04331245A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3138515B2 publication Critical patent/JP3138515B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/002Cooling arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/2001Maintaining constant desired temperature

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Arc Welding In General (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマトーチによる
加工品の表面処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】このような処理は、不活性操作ガス雰囲
気中で実施され、処理されるべき加工品は、実質的に感
熱性材料である。従来技術による本発明の装置は、プラ
ズマガン部材と処理されるべき加工品を受け取るための
装置とを有するワークステーションを含んでなる。気密
容器は、前記ワークステーションを包囲して備えられて
いる。さらに、処理されるべき加工品の表面を冷却する
ための冷却装置も具備されている。冷却装置は、処理さ
れるべき加工品の表面に対して向けられた流体冷却媒体
を包含する。
【0003】加工品の表面、例えば、プラスチック材料
のように感熱性材料からなる加工品の表面でさえも、プ
ラズマトーチにより処理され得る。この処理は、加工品
の表面にコーティングを付与したり、またはこのような
コーティングを調整することを含み得る。しかしなが
ら、処理されたばかりであり、それによってプラズマト
ーチにより加熱された加工品の表面部分が、プラズマト
ーチによる処理後に、迅速に(例えば、加工品の表面に
向けられた冷却ガス流によって)冷却されることが重要
なのである。このように、加工品の表面温度を安全限界
内に保持することが可能であり、加工品の材料の構造は
変化せず且つ加工品は破壊されない。
【0004】米国特許第4,675,205号は、その
中心軸に対し対称な加工品の処理に好適な方法及び装置
について開示している。この装置は、処理されるべき加
工品の表面に対して向けられたプラズマ流を生み出す可
動性のプラズマガンを備えている。プラズマガンにより
ちようど処理された加工品の表面を冷却するために、加
工品の表面に対して向けられた冷却媒体流を生み出す冷
却部材が備えられている。この冷却部材は、冷却媒体流
の加工品の表面上の操作領域が、加工品の表面上のプラ
ズマトーチの操作領域を迅速に追随するように、プラズ
マガンと冷却部材との動作が整合されることによって、
十分に可動性であるように据え付けられている。
【0005】冷却部材の可動領域と同様にプラズマガン
の可動領域は、プラズマガン及び冷却部材へ導く接続パ
イプとケーブルにより、予め決定した範囲に実際に各々
制限されるので、処理されるべき加工品は、プラズマガ
ンと冷却部材の可動路が各々、加工品の回転軸を含む平
面のみを走査する間中は回転される。
【0006】従来技術のこの装置では、その飽和温度に
近い温度を有する冷却液体が提供される。例えば、ヘリ
ウム、窒素またはアルゴンなどの液化ガスが、冷却液体
として使用されるのが好ましい。
【0007】米国特許第4,675,205号の開示に
よる装置では、液化ガスの温度が非常に低くても且つ加
工品の比較的小さな表面積しか冷却されなくても、処理
されるべき加工品を効果的に冷却するためには、かなり
の出力の冷却媒体が必要とされるやり方が示された。そ
れに関して可動式冷却部材は、液化ガス用の出口ノズル
をたった1本しか備えていない。このデザインの欠点
は、高価な冷却媒体を非常に多く消費してしまうこと
と、冷却部材の可動部の制御(即ち、プラズマガンの通
路を常に追随する制御)用の構成上の寸法が非常に過重
な要求をするということである。かくして、このような
装置の操作コスト及びこの種の冷却装置の製造コスト
は、非常に高くなってしまう。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的の一つ
は、従来技術の上述した欠点を回避するプラズマトーチ
による加工品の表面処理装置を提供することである。
【0009】本発明のもう一つの目的は、デザインがず
っと簡単で且つ移動される必要のないプラズマトーチに
よって処理されるべき加工品用の冷却部材を備える、プ
ラズマトーチによる加工品の表面処理装置を提供するこ
とである。
【0010】本発明のさらにもう一つの目的は、新しい
冷却媒体を連続供給する必要が無く且つ運転が非常に廉
価なプラズマトーチによって処理されるべき加工品用の
冷却部材を備える、プラズマトーチによる加工品の表面
処理装置を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明のこれら及び他の
目的を達成するために、本発明は、処理が不活性操作ガ
ス雰囲気中で実施され、処理されるべき加工品が実質的
に感熱性材料である、プラズマトーチによる加工品の表
面処理装置を提供する。
【0012】本発明の装置は、プラズマガンとこれによ
って処理されるベき加工品を受け取るための装置とを有
するワークステーションを含んでなり、気密容器は、前
記ワークステーションを包囲して備えられている。さら
に本装置は、処理されるべき加工品の表面を冷却するた
めの固定の冷却部材を備えており、前記冷却部材は、処
理されるべき加工品の表面に対して向けられた流体の冷
却媒体を包含し、前記流体冷却媒体は、前記容器に含ま
れる前記不活性操作ガス雰囲気の一部である。冷却部材
はさらに、容器の内部に固定された冷却媒体出口部材
と、その中で不活性操作ガスの一部が循環する密閉すな
わち閉鎖あるいは閉じた冷却媒体循環回路とを備える。
冷却媒体回路は流入側では容器の出口部材に接続され、
出口側では冷却媒体の出口部材に接続されている。
【0013】閉じた冷却媒体循環回路は、高価な冷却媒
体が連続して失われずに、循環して再利用し得るという
長所を有する。さらに、プラズマガンによる処理にかけ
られた加工品の表面を効果的に冷却するためには、冷却
媒体の消費を増大させることなく、冷却ガスの出力を増
加させることによってより高温が相殺され得るため、従
来技術の様な極低温のガスまたは液化冷却媒体がなくて
も冷却操作が可能である。
【0014】冷却ガスの出力が高いと、容器内に配置さ
れた冷却部材を、従来技術に対しより簡単に、特に固定
するように設計し得る。このようにその操作領域、即ち
冷却媒体が冷却部材から流出する領域を、冷却部材を動
かす必要なく、プラズマガンの全操作領域を包含するよ
うに冷却部材を設計し得る。このような冷却部材は冷却
媒体用の複数の出力ノズルを備え、容器内に固定され得
る。従って、冷却部材の可動部を動かし且つ制御する総
ての部材が不必要となる。
【0015】容器内部には不活性ガス雰囲気を保持する
のに役立つ操作ガス用の第2の密閉すなわち閉鎖循環回
路が備えられており、前記第2の閉鎖循環回路は冷却媒
体用の循環回路に結合されている。操作ガス用の第2の
閉鎖循環回路と冷却媒体用の循環回路が前記回路内で循
環する気体の媒体を精製するための装置を包含する場
合、内部のガス雰囲気は連続して更新される。
【0016】例えば、漏れによる損失を補償するため
に、操作ガス用の第2の閉鎖循環回路と冷却媒体用の循
環回路とは、操作ガスの媒体源に永続的または断続的に
接続されている。
【0017】双方の循環回路は、冷却媒体回路内の出力
が操作ガス回路内よりも高いということにより本質的に
異なる。必要な出力を得るために、少なくとも冷却媒体
用の循環回路は循環ポンプを備える。さらに冷却媒体用
循環回路は、流体冷却媒体の温度を所望の値に下げるた
めの熱交換装置を備えると都合がよい。
【0018】
【実施例】以下に、本発明の装置の一態様が、装置の図
式が示されている付記図面を参照して説明される。
【0019】図中に示される本装置の主要部分は、気密
容器1である。容器1の内部には、不活性ガス雰囲気が
作り出され、少なくとも1回の操作サイクルの期間、即
ちその内部で加工品がプラズマトーチにより処理される
べき時間だけ保持される。しかしながら、加工品の処理
の種類に依存して、反応性ガスを不活性ガスまたは不活
性ガス混合物に混合することも可能である。
【0020】回転可能なソケット2が、容器1の内部に
備えられている。駆動モータ3も容器1の内部に備えら
れ、ソケット2に操作できるように結合されており、所
望の回転速度でソケットを回転させるように適合されて
いる。処理されるべき加工品4は、ここには示されてい
ないが、当業界では公知の固定装置によってソケット2
に固定されている。
【0021】本態様に於いて、加工品4は、加工品4、
ソケット2及びモータ3に共通の軸5の回りにモータ3
によって回転される、その垂直な縦の中心軸に対して対
称である。
【0022】加工品4のジャケット表面6は、プラズマ
トーチにより処理されるべきであると仮定する。この目
的のために、そのプラズマ流が加工品4のジャケット表
面6に対して向けられたプラズマガン部材7が備えられ
ている。プラズマガン部材7は、半径方向並びに軸方向
に於いて、回転軸5に関して可動性である。このように
プラズマガン部材7は、加工品4のジャケット表面6か
ら一定の距離で、加工品4のジャケット表面のラインの
形に対応する通路に沿って配置され得る。この目的のた
めに、プラズマガン部材7は、固定ソケット10に固定
された駆動ユニット9に操作できるように接続されてい
るレバーアセンブリ8の自由端上に据え付けられてい
る。このようなロボット様のデザインは、好適な制御装
置(ここには示されていない)によって制御され、且つ
当業界で公知であるため、このデザインをさらに説明す
る必要はない。
【0023】加工品4の中心軸5に対してプラズマガン
部材7の反対側には、容器1に対して固着されている冷
却部材11が備えられている。冷却部材11は、以後詳細が
記載されるように、冷却ガスと共に操作される。冷却部
材11は、一つ一つが上下に当距離に配備されている冷却
媒体出口部材としての複数の冷却ノズル12を備える。こ
れによって、加工品4の全体の高さにわたって軸5の方
向に伸長する冷却ガス流が作り出される。このように、
冷却部材11は、プラズマガン部材7により処理されるべ
き加工品4の面積全体を含む操作領域を有する。
【0024】本実施例の、本発明の装置の操作に必要な
不活性ガス(例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム若しく
は同様のガス、若しくはこれらと同様のガスとの混合
物、またはこれらと他のガスとの混合物)は、2つの目
的にかなう。第1に、ガス及びガス混合物は各々、気密
容器1の内部に所定のガス雰囲気環境を作り出し且つ保
持するために、容器1に充填される操作ガスとなること
である。第2に、プラスマガン部材7によって処理され
るべき加工品4用のガス冷却媒体としても役立つことで
ある。
【0025】操作ガス及び冷却ガスの両方は、両方の循
環回路が共通の排出管13により各々結合されている循
環回路内で各々循環する。言い換えれば、ガス及びガス
混合物は各々、容器1から排出管13を通って流出し、
次いでフィルタ14へと導かれ、そこでガス及びガス混
合物は各々精製される。
【0026】第1の循環回路では、精製されたガス及び
ガス混合物の一部、即ち、冷却ガス及びガス混合物の一
部は、その温度が下げられる熱交換器16へと導管15
を通って供給される。冷却されたガス及びガス混合物は
各々、ポンプ17を経てから容器1内に合体する導管1
8を通って冷却部材11に供給される。所望されるだけ
冷却部材11に供給される冷却ガスの量を計るために、
ポンプは制御回路(ここには、示されていない)に接続
されていることが理解されよう。
【0027】第2の循環回路では、精製されたガス及び
ガス混合物のもう一部は各々、導管19を通ってコレク
ションチャンバ20に供給され、そこから第2のフィル
タ21を通って、次いでさらに導管22を通って容器1
に供給される。
【0028】装置を充填するために必要な、または損失
を補償するために必要な、ガス及びガス混合物は各々、
矢印Pによって記号化されている源(ここには、示され
ていない)から取り出され、ポンプ23を介してコレク
ションチャンバ20に供給される。
【0029】容器1の内部へのガス流と、容器1の外部
へのガス流とを制御するために、バルブ24が導管18
に備えられ、バルブ25が導管22に備えられ、且つバ
ルブ26が導管13に備えられている。さらに、導管2
2及び18に各々供給される、ガス及びガス混合物の量
を各々制御するために、バルブ27及び28がコレクシ
ョンチャンバに接続されている。
【0030】実際には、装置はさらに、完成した加工品
4が容器外へ取り出される前に、容器1内に含まれるガ
ス及びガス混合物を各々吸い込んだりまたは収集する装
置と、操作が中断する間に、これによって空の容器1が
精製した空気で清浄化される装置とを備える。これらの
装置は総て当業界で公知であり、本発明にとって重要で
はないので、これらの装置は総ては図面に示されていな
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一態様を示す配置図である。
【符号の説明】
1 容器 2 回転可能なソケット 3 駆動モータ 4 加工品 5 回転軸 6 ジャケット表面 7 プラズマガン部材 8 レバーアセンブリ 9 駆動ユニット 10 固定ソケット 11 冷却部材 12 冷却ノズル 13 排出導管 14 フィルタ 15,18,19,22 導管 16 熱交換器 17,23 ポンプ 20 コレクションチャンバ 21 第2のフィルタ 24,25,26,27,28 バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08J 7/00 - 7/18 B23K 10/00 C23C 14/34 H05H 1/26

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 不活性の操作ガス雰囲気中で処理され、
    処理されるべき加工品は実質的に感熱性材料である、プ
    ラズマトーチによる加工品の表面処理装置であって、前
    記装置は、 プラズマガン装置と処理されるべき加工品を受け取るた
    めの装置とを有するワークステーションと、 前記ワークステーションを包囲する気密容器と、 処理されるべき前記加工品の表面に対して向けられ
    体冷却媒体を包含する、処理されるべき加工品の表面を
    冷却する冷却装置とを備えており、 前記流体冷却媒体は前記容器に含まれる前記不活性の操
    作ガス雰囲気の一部であり、前記冷却装置は前記容器内
    部に固定された冷却媒体出口部材も備えており、さらに
    前記不活性の操作ガス雰囲気の一部が循環する閉じた
    却媒体循環回路が備えられ、冷却媒体回路が流入側では
    前記容器の出口部材へと、出口側では前記冷却媒体出口
    部材へと接続されていることを特徴とする該装置。
  2. 【請求項2】 前記容器内部に不活性ガス雰囲気を保持
    するのに役立つ操作ガス用の第2の閉鎖循環回路が備え
    られており、前記第2の閉鎖循環回路が冷却媒体用の前
    記循環回路に結合されていることを特徴とする請求項1
    に記載の装置。
  3. 【請求項3】 操作ガス用の前記第2の閉鎖循環回路と
    冷却媒体用の前記循環回路とが、前記回路内を循環する
    ガス媒体を精製するための装置を包含することを特徴と
    する請求項2に記載の装置。
  4. 【請求項4】 操作ガス用の前記第2の閉鎖循環回路と
    冷却媒体用の前記循環回路とが、操作ガス媒体源に永続
    的に接続されていることを特徴とする請求項2に記載の
    装置。
  5. 【請求項5】 操作ガス用の前記第2の閉鎖循環回路と
    冷却媒体用の前記循環回路とが、操作ガス媒体源に断続
    的に接続されていることを特徴とする請求項2に記載の
    装置。
  6. 【請求項6】 冷却媒体用の前記循環回路が、循環ポン
    プを備えていることを特徴とする請求項1に記載の装
    置。
  7. 【請求項7】 冷却媒体用の前記循環回路が、流体冷却
    媒体の温度を下げるための熱交換器を備えていることを
    特徴とする請求項1に記載の装置。
  8. 【請求項8】 前記冷却流を作り出している前記冷却媒
    体出口部材が、処理されるべき加工品の全寸法を包含す
    る操作領域を有することを特徴とする請求項1に記載の
    装置。
JP03305724A 1990-09-07 1991-09-06 プラズマトーチによる加工品の表面処理装置 Expired - Lifetime JP3138515B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4028482 1990-09-07
DE4028482.4 1990-09-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04331245A JPH04331245A (ja) 1992-11-19
JP3138515B2 true JP3138515B2 (ja) 2001-02-26

Family

ID=6413848

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03305724A Expired - Lifetime JP3138515B2 (ja) 1990-09-07 1991-09-06 プラズマトーチによる加工品の表面処理装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5250780A (ja)
EP (1) EP0474604B1 (ja)
JP (1) JP3138515B2 (ja)
AT (1) ATE160055T1 (ja)
CA (1) CA2050857C (ja)
DE (1) DE59108883D1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101984323B1 (ko) * 2011-05-26 2019-05-30 엠발라헤스 캅사, 에스.엘. 보관 및 선적 박스

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5436426A (en) * 1993-04-19 1995-07-25 Sulzer Metco (Us), Inc. Fixture and method for cooling tubular substrate during thermal spraying
US5620754A (en) 1994-01-21 1997-04-15 Qqc, Inc. Method of treating and coating substrates
US5554415A (en) 1994-01-18 1996-09-10 Qqc, Inc. Substrate coating techniques, including fabricating materials on a surface of a substrate
US5731046A (en) 1994-01-18 1998-03-24 Qqc, Inc. Fabrication of diamond and diamond-like carbon coatings
FR2762667B1 (fr) * 1997-04-28 1999-05-28 Air Liquide Dispositif et procede de traitement thermique
US6392190B1 (en) 1998-01-23 2002-05-21 Smith International Automated hardfacing system
GB2373749A (en) * 2001-03-27 2002-10-02 Rolls Royce Plc Apparatus and method for forming a body
US7112758B2 (en) * 2003-01-10 2006-09-26 The University Of Connecticut Apparatus and method for solution plasma spraying
WO2005017226A1 (en) * 2003-01-10 2005-02-24 University Of Connecticut Coatings, materials, articles, and methods of making thereof
DE102004031528B4 (de) * 2004-06-29 2007-05-03 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Vorrichtung zur Bereitstellung einer Sonderatmosphäre mit einem Medienanschluss
GB0417936D0 (en) 2004-08-12 2004-09-15 Rolls Royce Plc Method and apparatus for recycling inert gas
US20070010166A1 (en) * 2005-07-08 2007-01-11 Diana Gidish Chocolate products containing amorphous solids and methods of producing same
JP2009518854A (ja) * 2005-12-07 2009-05-07 アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド 基板損失のない表面層除去のための中圧プラズマシステム
KR101186761B1 (ko) * 2006-08-28 2012-10-08 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 극저온 액체 분사용 분사 장치 및 이 장치와 관련된 분사 방법
US20100175926A1 (en) * 2009-01-15 2010-07-15 Baker Hughes Incorporated Roller cones having non-integral cutting structures, drill bits including such cones, and methods of forming same
FR3013360B1 (fr) * 2013-11-19 2015-12-04 Snecma Procede integre de frittage pour microfissuration et tenue a l'erosion des barrieres thermiques
EP3321005B1 (en) * 2016-11-14 2021-09-01 SLM Solutions Group AG Apparatus for producing a three-dimensional work piece with process temperature control
EP3684960B1 (en) * 2017-09-18 2021-07-28 Lincotek Trento S.p.A. Plasma spray apparatus and method

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2545007B1 (fr) * 1983-04-29 1986-12-26 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif pour le revetement d'une piece par projection de plasma
WO1985004121A1 (fr) * 1984-03-12 1985-09-26 Commissariat A L'energie Atomique Traitement de surface d'une piece et utilisation de ce traitement pour ameliorer l'adherence d'un revetement depose ensuite sur la piece, notamment par projection a chaud
JPS60197877A (ja) * 1984-03-21 1985-10-07 Canon Inc 冷却装置
US4845334A (en) * 1988-01-26 1989-07-04 Oregon Metallurgical Corporation Plasma furnace inert gas recycling system and process
JPH0286129A (ja) * 1988-09-22 1990-03-27 Sumitomo Metal Ind Ltd プラズマ装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101984323B1 (ko) * 2011-05-26 2019-05-30 엠발라헤스 캅사, 에스.엘. 보관 및 선적 박스

Also Published As

Publication number Publication date
EP0474604A2 (de) 1992-03-11
DE59108883D1 (de) 1997-12-11
CA2050857C (en) 1995-01-03
US5250780A (en) 1993-10-05
CA2050857A1 (en) 1992-03-08
EP0474604B1 (de) 1997-11-05
ATE160055T1 (de) 1997-11-15
JPH04331245A (ja) 1992-11-19
EP0474604A3 (en) 1992-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3138515B2 (ja) プラズマトーチによる加工品の表面処理装置
KR102623916B1 (ko) 워크피스들을 처리하는 처리 시설 및 방법
US6910614B2 (en) Vacuum compression brazing furnace and method of using same
US3412573A (en) Cryogenic quick freezing apparatus
US9321087B2 (en) Apparatus and method for scanning an object through a fluid spray
US20120067078A1 (en) Cryogenic cooling system
CN108277334B (zh) 一种深冷处理设备及方法
US5366156A (en) Nozzle apparatus for producing aerosol
JPS59113119A (ja) 連続熱処理真空炉中で、高圧下に被加工物をガス冷却する方法および装置
US7288155B2 (en) Method for the rapid thermal control of a work piece in liquid or supercritical fluid
US20200376786A1 (en) Treatment processes and systems for additively formed components
JP6867328B2 (ja) 機械工具のための熱コンセプト
US4769092A (en) Variable cooling device for turbo engine wall parts
JP3982298B2 (ja) 加工機械の温度制御方法及び装置
KR100359339B1 (ko) 반도체 장비 세정 장치 및 방법
JP2007185770A (ja) 加工機械の温度制御装置
KR950030745A (ko) 저압 플라즈마 용사 피막제조 시스템
CN1646250A (zh) 真空加压钎焊炉及其使用方法
JPS6145152B2 (ja)
JPH03253512A (ja) 高温高圧ガス冷却によるオーステンパ処理方法
JPS6182833A (ja) オ−トクレ−ブ
CN213901884U (zh) 一种网带式电阻炉降温冷却装置
RU1770385C (ru) Установка дл термообработки изделий
JPS60152616A (ja) 熱処理装置
JP2001196321A (ja) ガス冷却式縦型ウェーハ処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071208

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081208

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081208

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

Year of fee payment: 11