JP3129091B2 - Method for manufacturing resist paint for partial plating and resin product subjected to partial plating - Google Patents

Method for manufacturing resist paint for partial plating and resin product subjected to partial plating

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JP3129091B2
JP3129091B2 JP06182656A JP18265694A JP3129091B2 JP 3129091 B2 JP3129091 B2 JP 3129091B2 JP 06182656 A JP06182656 A JP 06182656A JP 18265694 A JP18265694 A JP 18265694A JP 3129091 B2 JP3129091 B2 JP 3129091B2
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resist
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、樹脂製の基材の表面の
うち、めっきを必要とする部分にのみめっき層が形成さ
れてなる部分めっきの施された樹脂製品の製造方法に係
る。さらには、その樹脂製品を得るに際して用いられる
部分めっき用レジスト塗料に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a partially plated resin product in which a plating layer is formed only on a portion of the surface of a resin base material which requires plating. Further, the present invention relates to a resist coating for partial plating used in obtaining the resin product.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、めっきを必要とする部分にの
みめっき層が形成されてなる樹脂製品として、車両用の
フロントグリルやマークプレート等の外装用装飾品があ
る。例えば、フロントグリルにおいては、当該グリルの
前面(意匠面)の所定部分にめっき層が形成されている
とともに、それ以外の部分(但し、意匠面)の一部又は
全部に塗膜層が形成されている。このように、部分的に
めっき層を有するフロントグリルは例えば次のようにし
て製造される。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a resin product in which a plating layer is formed only on a portion requiring plating, there are decorative articles for exterior use such as a front grill and a mark plate for a vehicle. For example, in a front grill, a plating layer is formed on a predetermined portion of a front surface (design surface) of the grill, and a coating layer is formed on part or all of the other portions (however, the design surface). ing. Thus, a front grill partially having a plating layer is manufactured, for example, as follows.

【0003】すなわち、まず、ABS樹脂製のグリル本
体のうち、めっきの必要な部分を電鋳マスク又は簡易マ
スクで被覆する。そして、その状態でレジスト塗料をス
プレー塗布する。すると、めっきの不必要な部分にはレ
ジスト層が形成される。その後、レジスト層の形成され
たグリル本体をエッチング及び無電解めっきに供する。
すると、グリル本体表面のレジスト層の形成されていな
い部分には、無電解めっき層が形成される。次に、複数
工程よりなる電気めっき工程に供する。すると、無電解
めっき層上には電気めっき層が形成される。すなわち、
めっきの必要な部分にのみ、無電解めっき層及び電気め
っき層よりなるめっき層が形成される。
[0003] First, a portion of an ABS resin grill body that requires plating is covered with an electroformed mask or a simple mask. Then, a resist paint is applied by spraying in this state. Then, a resist layer is formed in a portion where plating is unnecessary. Thereafter, the grill main body on which the resist layer is formed is subjected to etching and electroless plating.
Then, an electroless plating layer is formed on a portion of the grill main body surface where the resist layer is not formed. Next, it is subjected to an electroplating process including a plurality of processes. Then, an electroplating layer is formed on the electroless plating layer. That is,
A plating layer composed of an electroless plating layer and an electroplating layer is formed only in a portion requiring plating.

【0004】そして、塗装を施さない部分に電鋳マスク
を被覆するとともに、それ以外の部分、すなわち、主と
してレジスト層上に所定の塗料を塗布する(いわゆるオ
ーバーコートを施す)。すると、所望の箇所に塗膜層が
形成される。
[0004] An uncoated portion is covered with an electroformed mask, and a predetermined paint is applied to the other portion, that is, mainly on the resist layer (so-called overcoat is applied). Then, a coating layer is formed at a desired location.

【0005】しかしながら、従来では、エッチング工程
或いは無電解めっき工程の際に、レジスト層が、強酸性
のエッチング溶液或いはめっき溶液中に溶け出してしま
うおそれがあった。そのため、これらの溶液が著しく汚
染されてしまう場合があった。また、これらの工程中に
レジスト層が完全に溶け出してしまったのでは、所望の
箇所に電気めっき層を形成することはできない。従っ
て、従来では、レジスト層の膜厚を十分(例えば「15
μm」)に確保しておき、上記溶出に備えておく必要が
あった。
[0005] However, conventionally, during the etching step or the electroless plating step, there is a risk that the resist layer may be dissolved in the strongly acidic etching solution or plating solution. For this reason, these solutions may be significantly contaminated. Further, if the resist layer completely melts out during these steps, the electroplating layer cannot be formed at a desired location. Therefore, conventionally, the thickness of the resist layer is sufficient (for example, “15
μm ”) to prepare for the above-mentioned elution.

【0006】これに対し、上記の不具合を解消するため
の方法として、特公昭48−16987号公報に開示さ
れたものが知られている。この技術では、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン等の酸に侵されにくい高分子
が、上記のいわゆるレジスト塗料中に主成分として配合
される。従って、レジスト層が酸性のエッチング溶液或
いはめっき溶液中に溶け出してしまうのがある程度防止
されうる。その結果、上記の不具合の発生を多少なりと
も防止することができる。
On the other hand, a method disclosed in Japanese Patent Publication No. 48-16987 is known as a method for solving the above problem. In this technique, a polymer which is hardly attacked by acids such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride is blended as a main component in the above-mentioned resist coating. Therefore, the resist layer can be prevented from being dissolved in the acidic etching solution or plating solution to some extent. As a result, the occurrence of the above-mentioned inconvenience can be prevented at all.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記技術に
おけるレジスト塗料は、ある程度の耐酸性(レジスト
性)があるものの、未だ十分なものとはいい難かった。
However, although the resist paints in the above-mentioned techniques have some acid resistance (resist properties), they are still not satisfactory.

【0008】また、上記塗料では、塗料塗布時の塗装性
を含む塗膜性状が良好とはいえず、作業性の悪化を招来
していた。さらには、レジスト層上に塗膜層を形成した
場合には、当該塗膜層との密着性が悪いものとなってし
まっていた。そのため、塗膜層を有する樹脂製品を水に
晒した場合には、ブリスターが発生してしまうおそれが
あった。すなわち、レジスト層上に形成された塗膜層の
耐水性が乏しいものとなってしまっていた。
[0008] Further, with the above-mentioned paint, the properties of the coating film including the paintability at the time of application of the paint cannot be said to be good, resulting in deterioration of workability. Further, when a coating layer is formed on the resist layer, the adhesion to the coating layer is poor. Therefore, when the resin product having the coating film layer is exposed to water, blisters may be generated. That is, the water resistance of the coating layer formed on the resist layer has been poor.

【0009】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、樹脂製の基材の表面の
うち、めっきを必要とする部分にのみめっき層が形成さ
れてなる樹脂製品を得るに際し、酸性溶液中に溶解して
しまうのを防止し、塗装性及び耐水性の向上を図ること
の可能な部分めっき用レジスト塗料及び部分めっきの施
された樹脂製品の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to form a plating layer only on a portion of a surface of a resin base material which requires plating. In obtaining a resin product, a method of manufacturing a resist coating for partial plating and a method of manufacturing a resin product that has been subjected to partial plating, which can be prevented from being dissolved in an acidic solution and can improve coatability and water resistance. To provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明においては、樹脂製の基材表
面のうち、めっきを必要としない部分全面に又はめっき
を必要としない部分を囲むようにして環状若しくは環状
の一部をなすように塗布される部分めっき用レジスト塗
料であって、当該レジスト塗料は、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体と、アクリル−スチレン共重合体との50
〜95重量%:50〜5重量%混合物を主成分としてい
ることをその要旨としている。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a portion of the surface of a resin substrate that does not require plating or a portion that does not require plating is provided. Is a resist coating for partial plating that is applied so as to form a ring or a part of a ring so as to surround the resin, wherein the resist coating is formed of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and an acrylic-styrene copolymer.
95% by weight: 50 to 5% by weight as a main component.

【0011】なお、上記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体と、アクリル−スチレン共重合体との配合比は、70
〜85重量%:30〜15重量%であることがより望ま
しい。
The mixing ratio of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and the acrylic-styrene copolymer is 70
8585% by weight: more preferably 30 to 15% by weight.

【0012】また、請求項2に記載の発明においては、
樹脂製の基材を成形する工程と、前記基材表面のうち、
めっきを必要としない部分全面に又はめっきを必要とし
ない部分を囲むようにして環状若しくは環状の一部をな
すように請求項1に記載のレジスト塗料を塗布し、レジ
スト層を形成する工程と、前記基材表面の前記レジスト
層以外の部分に無電解めっき層を形成する工程と、前記
無電解めっき工程を経た前記基材に形成された前記無電
解めっき層のうち、めっきの必要な部位を電気的に導通
させて、前記無電解めっき層上のめっきの必要な部分に
電気めっき層を形成する工程とを備えたことを特徴とす
る部分めっきの施された樹脂製品の製造方法をその要旨
としている。
Further, in the invention according to claim 2,
Step of molding a resin base material, of the base material surface,
A step of applying the resist paint according to claim 1 so as to form a ring or a part of a ring so as to form a resist layer over the entire surface not requiring plating or surrounding the portion not requiring plating; A step of forming an electroless plating layer on a portion other than the resist layer on the surface of the material, and, among the electroless plating layers formed on the base material that have undergone the electroless plating step, electrically necessary portions of the electroless plating layer Forming an electroplating layer on a portion of the electroless plating layer that requires plating, and a method for producing a partially plated resin product. .

【0013】さらに、請求項3に記載の発明において
は、請求項2に記載の製造方法によって製造された樹脂
製品に対し、さらに、前記レジスト層の上面又は前記レ
ジスト層の内周側に上塗り塗料を塗布することにより、
上塗り塗膜層を形成する工程を設けたことを特徴とする
部分めっきの施された樹脂製品の製造方法をその要旨と
している。
Further, in the invention according to the third aspect, the resin product produced by the production method according to the second aspect is further coated on the upper surface of the resist layer or on the inner peripheral side of the resist layer. By applying
The gist of the present invention is a method of manufacturing a resin product having a partial plating, which includes a step of forming a top coat layer.

【0014】併せて、請求項4に記載の発明において
は、樹脂製の基材を成形する工程と、前記基材表面のう
ち、めっきを必要としない部分に塗料を塗布することに
より塗膜層を形成する工程と、前記塗膜層の上面に、請
求項1に記載のレジスト塗料を塗布することによりレジ
スト層を形成する工程と、前記基材表面の前記レジスト
層以外の部分に無電解めっき層を形成する工程と、前記
無電解めっき工程を経た前記基材に形成された前記無電
解めっき層のうち、めっきの必要な部位を電気的に導通
させて、前記無電解めっき層上のめっきの必要な部分に
電気めっき層を形成する工程とを備えたことを特徴とす
る部分めっきの施された樹脂製品の製造方法をその要旨
としている。
In addition, in the invention according to the fourth aspect, the step of forming a resin base material and the step of applying a coating material to a portion of the base material surface which does not require plating to form a coating film layer. Forming a resist layer by applying the resist paint according to claim 1 on the upper surface of the coating film layer, and electroless plating on a portion of the base material surface other than the resist layer. A step of forming a layer, of the electroless plating layer formed on the base material that has undergone the electroless plating step, by electrically conducting a portion of the electroless plating layer that requires plating, and plating on the electroless plating layer. And a step of forming an electroplating layer on a necessary portion of the resin product.

【0015】[0015]

【作用及び効果】上記請求項1に記載の発明によれば、
樹脂製の基材表面のうち、めっきを必要としない部分全
面に又はめっきを必要としない部分を囲むようにして環
状若しくは環状の一部をなすようにレジスト塗料が塗布
され、レジスト層が形成される。このとき、レジスト塗
料は塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体と、アクリル−ス
チレン共重合体との50〜95重量%:50〜5重量%
混合物を主成分としている。このため、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体が耐薬品性に優れていることから、め
っきの際には、当該塗料は酸性溶液中に晒されても溶出
しない。また、当該塗料は、アクリル−スチレン共重合
体が添加されていることから、塗装性にも優れる。
According to the first aspect of the present invention,
A resist paint is applied so as to form a ring or a part of a ring on the entire surface of a resin base material that does not require plating or around a portion that does not require plating, thereby forming a resist layer. At this time, the resist coating was 50 to 95% by weight of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and the acrylic-styrene copolymer: 50 to 5% by weight.
The mixture is the main component. For this reason, since the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer has excellent chemical resistance, the coating does not elute when exposed to an acidic solution during plating. In addition, the paint has excellent coatability because the acrylic-styrene copolymer is added.

【0016】さらには、形成されたレジスト層は基材
や、場合によってはレジスト層上に形成された上塗り塗
膜層と強固に密着するので、水に晒された場合でも、ブ
リスターが発生することはない。従って、上記レジスト
塗料によれば、酸性溶液中に溶解してしまうのを防止す
ることができ、しかも、従来に比べ塗装性及び耐水性の
向上を図ることができるという優れた効果を奏する。
Furthermore, since the formed resist layer is firmly adhered to the base material and, in some cases, the overcoat layer formed on the resist layer, blisters may be generated even when exposed to water. There is no. Therefore, according to the resist coating, it is possible to prevent the resist coating from being dissolved in an acidic solution, and to achieve an excellent effect of improving the coating property and the water resistance as compared with the related art.

【0017】一方、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体の
配合比が50重量%未満の場合には、耐薬品性の乏しい
アクリル−スチレン共重合体が多くなってしまうので、
耐酸性が低下してしまう。また、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体の配合比が95重量%を超える場合には、塗
料がすぐに乾燥してしまい、塗料のレベリング性が低下
し、塗装性が低下する。従って、塗料の層を形成するこ
とが困難となり、耐酸性が悪くなる。また、基材との付
着性をもたすためのアクリル−スチレン共重合体が少な
くなるため、耐水性が低下する。
On the other hand, when the mixing ratio of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer is less than 50% by weight, the amount of the acryl-styrene copolymer having poor chemical resistance is increased.
Acid resistance decreases. On the other hand, when the mixing ratio of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer exceeds 95% by weight, the paint is dried immediately, and the leveling property of the paint is reduced and the paintability is reduced. Therefore, it is difficult to form a paint layer, and the acid resistance is poor. In addition, the amount of the acryl-styrene copolymer for providing adhesion to the base material is reduced, so that the water resistance is reduced.

【0018】また、請求項2に記載の発明によれば、樹
脂製の基材が成形され、その表面のうち、めっきを必要
としない部分全面に又はめっきを必要としない部分を囲
むようにして環状若しくは環状の一部をなすように、請
求項1に記載のレジスト塗料が塗布されることにより、
レジスト層が形成される。そして、基材表面のめっきの
必要な部分には、無電解めっき層が形成される。このと
き、レジスト層上には無電解めっきは施されない。その
後、無電解めっき層のうち、めっきの必要な部位が電気
的に導通されて、無電解めっき層上のめっきの必要な部
分に電気めっき層が形成される。また、電気的に導通さ
れていない箇所に形成されていた無電解めっき層は電気
めっき用のめっき液中に溶け消失する。このようにし
て、めっきを必要とする部分にのみめっき層の形成され
た樹脂製品が得られる。
According to the second aspect of the present invention, a resin base material is formed, and the surface of the base material is formed in an annular or circular shape so as to cover the entire surface of the portion not requiring plating or the portion not requiring plating. The resist paint according to claim 1 is applied so as to form a part of a ring,
A resist layer is formed. Then, an electroless plating layer is formed on a portion of the substrate surface that requires plating. At this time, no electroless plating is performed on the resist layer. Thereafter, portions of the electroless plating layer that require plating are electrically conducted, and an electroplating layer is formed on the portion of the electroless plating layer that requires plating. In addition, the electroless plating layer formed at a place where electrical conduction is not made is dissolved and disappears in a plating solution for electroplating. In this way, a resin product in which a plating layer is formed only on a portion requiring plating can be obtained.

【0019】本発明においても、レジスト塗料が塗布さ
れる際には、上述した優れた塗装性を発揮する。また、
レジスト層は、めっき用の酸性溶液にはレジスト塗料が
溶出しない。
Also in the present invention, when a resist paint is applied, the above-described excellent coatability is exhibited. Also,
In the resist layer, the resist paint does not elute in the acidic solution for plating.

【0020】さらに、請求項3に記載の発明によれば、
請求項2において記載した作用効果の外、さらに、前記
レジスト層の上面又は前記レジスト層の内周側に上塗り
塗膜層が形成される。ここで、レジスト層は上塗り塗膜
層と強固に密着するので、水に晒された場合でもブリス
ターが発生することはなく、耐水性の向上が図られう
る。
Further, according to the third aspect of the present invention,
In addition to the functions and effects described in claim 2, an overcoat layer is formed on the upper surface of the resist layer or on the inner peripheral side of the resist layer. Here, since the resist layer is firmly adhered to the top coat layer, no blister is generated even when exposed to water, and the water resistance can be improved.

【0021】併せて、請求項4に記載の発明によれば、
樹脂製の基材が成形され、その表面のうち、めっきを必
要としない部分に塗料が塗布されることにより塗膜層が
形成される。次に、塗膜層の上面に、請求項1に記載の
レジスト塗料が塗布されることによりレジスト層が形成
される。基材表面の前記レジスト層以外の部分に無電解
めっき層が形成される。このとき、レジスト層上には無
電解めっきは施されない。そして、無電解めっき工程を
経た基材に形成された無電解めっき層のうち、めっきの
必要な部位が電気的に導通されて、前記無電解めっき層
上のめっきの必要な部分に電気めっき層が形成される。
また、電気的に導通されていない箇所に形成されていた
無電解めっき層は電気めっき用のめっき液中に溶け消失
する。このようにして、めっきを必要とする部分にのみ
めっき層の形成された樹脂製品が得られる。ここで、レ
ジスト層が透明であれば、その下に形成された塗膜層が
レジスト層で保護された状態で認識されうる。
In addition, according to the invention described in claim 4,
A base material made of resin is formed, and a coating material is applied to a portion of the surface that does not require plating to form a coating layer. Next, a resist layer is formed by applying the resist paint according to claim 1 on the upper surface of the coating layer. An electroless plating layer is formed on the surface of the substrate other than the resist layer. At this time, no electroless plating is performed on the resist layer. Then, of the electroless plating layer formed on the base material that has undergone the electroless plating step, a portion requiring plating is electrically conducted, and an electroplating layer is formed on the portion of the electroless plating layer that requires plating. Is formed.
In addition, the electroless plating layer formed at a place where electrical conduction is not made is dissolved and disappears in a plating solution for electroplating. In this way, a resin product in which a plating layer is formed only on a portion requiring plating can be obtained. Here, if the resist layer is transparent, the coating layer formed thereunder can be recognized in a state protected by the resist layer.

【0022】本発明においても、レジスト塗料が塗布さ
れる際には、上述した優れた塗装性を発揮する。また、
レジスト層は、めっき用の酸性溶液にはレジスト塗料が
溶出しない。
Also in the present invention, when the resist paint is applied, the above-mentioned excellent paintability is exhibited. Also,
In the resist layer, the resist paint does not elute in the acidic solution for plating.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

(第1実施例:塗料)以下、本発明のレジスト塗料を具
体化した第1実施例について説明する。
(First Embodiment: Paint) Hereinafter, a first embodiment of the resist paint of the present invention will be described.

【0024】本実施例のレジスト塗料は、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体と、アクリル−スチレン共重合体と
の50〜95重量%:50〜5重量%混合物を主成分と
している。また、塗料の組成としては、上記ポリマー1
7重量%、溶剤83重量%よりなる主剤に対し、同重量
のシンナーを配合して塗料とした。塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体については電気化学株式会社製 商品名:
デンカビニール♯1000AKT(塩化ビニル86重量
%/酢酸ビニル14重量%)を用いた。また、アクリル
−スチレン共重合体については大日本インキ株式会社製
商品名:アクリディックA−165(スチレン50重
量%/MMA50重量%)を用いた。さらに、溶剤とし
てはトルエン38重量%、メチルイソブチルケトン(M
IBK)5重量%、酢酸エチル35重量%及びシクロヘ
キサノン22重量%よりなるものを用いた。併せて、シ
ンナーとしては、メチルエチルケトン(MEK)49重
量%、トルエン29重量%、酢酸ブチル11重量%、M
IBK6重量%、セロソルブアセテート5重量%よりな
るものを用いた。
The resist coating composition of this embodiment is made of vinyl chloride
The main component is a 50 to 95% by weight: 50 to 5% by weight mixture of a vinyl acetate copolymer and an acrylic-styrene copolymer. Further, the composition of the coating material is as follows.
A paint was prepared by blending the same weight of thinner with a base material consisting of 7% by weight and a solvent of 83% by weight. About vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, manufactured by Denki Kagaku Co., Ltd.
Denka Vinyl # 1000 AKT (vinyl chloride 86% by weight / vinyl acetate 14% by weight) was used. As the acrylic-styrene copolymer, Acrydic A-165 (styrene 50% by weight / MMA 50% by weight) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. was used. Further, as a solvent, 38% by weight of toluene and methyl isobutyl ketone (M
IBK) 5 wt%, ethyl acetate 35 wt% and cyclohexanone 22 wt% were used. In addition, as a thinner, methyl ethyl ketone (MEK) 49% by weight, toluene 29% by weight, butyl acetate 11% by weight, M
A material composed of 6% by weight of IBK and 5% by weight of cellosolve acetate was used.

【0025】そして、上記塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体及びアクリル−スチレン共重合体の配合比を種々変
更させて塗料を作製した。その作製した塗料について以
下の評価を行った。その結果を表1に示す。
Then, paints were prepared by changing the mixing ratio of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and the acrylic-styrene copolymer in various ways. The following evaluation was performed about the produced paint. Table 1 shows the results.

【0026】なお、表中レジスト性(耐酸性)について
は、めっきを施した後、酸で処理した後、目視により外
観を評価した。また、見切り外観及び変色のなさについ
ては、めっきを施した後、目視により評価した。さら
に、塗装性については、塗装時に目視により評価した。
併せて、耐水性については、めっき耐水試験を施した後
ゴバン目剥離試験により評価した。
The resist properties (acid resistance) in the table were evaluated by visual observation after plating and treatment with an acid. The appearance of the parting and the absence of discoloration were visually evaluated after plating. Further, the paintability was visually evaluated at the time of painting.
At the same time, the water resistance was evaluated by a Goban peel test after performing a plating water resistance test.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】上記表1からも明らかなように、本実施例
のレジスト塗料を用いた場合には、優れたレジスト性、
塗装性及び耐水性が得られることがわかる。また、隣接
するめっき層との見切り外観についても、ギザギザ状に
はならず、良好なものが得られる。さらに、本実施例の
組成によれば、経時的な変色の度合いも少ないことがわ
かる。
As is clear from Table 1 above, when the resist coating composition of this embodiment was used, excellent resist properties were obtained.
It can be seen that paintability and water resistance can be obtained. In addition, the appearance of the parting with the adjacent plating layer is not jagged, but a good appearance is obtained. Furthermore, according to the composition of this example, it is understood that the degree of discoloration with time is small.

【0029】これに対し、本実施例から外れる組成の塗
料(比較例)については、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体の割合が多すぎた場合には、塗料がすぐに乾燥して
しまうため、塗装性が非常に悪かった。このため、塗膜
層がうまく形成されず、結果としてレジスト性がやや劣
ったものとなってしまった。また、レジスト層上に上塗
り塗膜層を形成し、水に晒した場合には、ブリスターが
発生してしまい、耐水性に劣ったものとなってしまっ
た。
On the other hand, in the case of a paint having a composition deviating from this example (comparative example), if the proportion of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer is too large, the paint is dried immediately. The paintability was very poor. For this reason, the coating layer was not formed well, and as a result, the resist properties were slightly inferior. Further, when a top coat layer was formed on the resist layer and exposed to water, blisters were generated, resulting in poor water resistance.

【0030】(第2実施例:樹脂製品)以下、本発明
を、上記組成を有するレジスト塗料を用いた樹脂製品の
製造方法に具体化した第2実施例について説明する。な
お、本実施例におけるレジスト塗料については、上記第
1実施例の実施例2のサンプル(塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体及びアクリル−スチレン共重合体の配合比が
82:18のもの)を採用した。
(Second Embodiment: Resin Product) Hereinafter, a second embodiment in which the present invention is embodied in a method of manufacturing a resin product using a resist paint having the above composition will be described. As the resist paint in this example, the sample of Example 2 of the above-described first example (with a mixing ratio of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and acrylic-styrene copolymer of 82:18) was used. did.

【0031】図1,2に示すように、例えば自動車の所
定箇所には、樹脂製品としてのマークプレート2が装着
されるようになっている。マークプレート2の表面に
は、「T」の文字をかたどったマーク1が形成されてい
る。マークプレート2は、略円盤形状をなしており、A
BS樹脂製の基材としてのマークプレート本体3と、部
分的に形成されためっき層4(図2の網目模様の部分)
とから構成されている。すなわち、前記マークプレート
本体3の表面には、「T」の文字を形成すべく、環状
で、断面略U字状の溝5が形成されている。この溝5に
より囲まれた部分(図2の網目模様以外の部分)にはマ
ークプレート本体3が露出した格好となっている。
As shown in FIGS. 1 and 2, for example, a mark plate 2 as a resin product is mounted at a predetermined position of an automobile. On the surface of the mark plate 2, a mark 1 shaped like a letter "T" is formed. The mark plate 2 has a substantially disk shape.
Mark plate body 3 as a base material made of BS resin, and partially formed plating layer 4 (the portion of the mesh pattern in FIG. 2)
It is composed of That is, an annular groove 5 having a substantially U-shaped cross section is formed on the surface of the mark plate body 3 so as to form a letter “T”. The portion surrounded by the groove 5 (the portion other than the mesh pattern in FIG. 2) has a shape in which the mark plate main body 3 is exposed.

【0032】また、前記めっき層4は無電解めっき層6
と、電気めっき層7とからなっている。本実施例におい
て、無電解めっき層6はニッケルにより、厚さ「0.3
〜0.4μm」程度に形成されている。また、電気めっ
き層7は、銅、ニッケル及びクロムの3種類の金属によ
り厚さ「20〜50μm」程度に形成され、多層構造を
なしている。
The plating layer 4 is formed of an electroless plating layer 6
And an electroplating layer 7. In this embodiment, the electroless plating layer 6 is made of nickel and has a thickness of “0.3
.About.0.4 .mu.m ". The electroplating layer 7 is formed of three kinds of metals, copper, nickel and chromium, to a thickness of about 20 to 50 μm, and has a multilayer structure.

【0033】さらに、前記溝5に沿って、つまり、めっ
き層4の形成されていない部分を囲むようにして、環状
にレジスト層8が形成されている。次に、上記のマーク
プレート2の製造方法及び製造時等の作用効果について
説明する。
Further, a resist layer 8 is formed annularly along the groove 5, that is, so as to surround a portion where the plating layer 4 is not formed. Next, a description will be given of a method of manufacturing the above-described mark plate 2 and the effects of the manufacturing process.

【0034】まず、図3に示すように、公知の金型成形
法により、前述したような溝5を有するマークプレート
本体3を成形する。なお、このとき、マークプレート本
体3の裏面側(図の下側)には、めっき脚用の突起9を
一体的に形成しておく。
First, as shown in FIG. 3, the mark plate main body 3 having the above-described groove 5 is formed by a known molding method. At this time, the projections 9 for the plating legs are integrally formed on the back side (the lower side in the figure) of the mark plate body 3.

【0035】次に、図4に示すように、前記溝5の内周
側に沿って前記レジスト塗料を環状に塗布する。する
と、同図に示すようなレジスト層8が形成される。そし
て、図5に示すように、このマークプレート本体3を無
電解めっき溶液中に浸漬し、無電解めっきを施す。この
とき、レジスト層8上には無電解めっきが施されず、そ
れ以外のマークプレート本体3表面には、無電解めっき
層6が形成される。また、無電解めっき用のめっき溶液
は酸性であるが、上記第1実施例の特性より、レジスト
層8は該めっき溶液中にも溶け出すことはない。
Next, as shown in FIG. 4, the resist paint is annularly applied along the inner peripheral side of the groove 5. Then, a resist layer 8 as shown in FIG. Then, as shown in FIG. 5, the mark plate body 3 is immersed in an electroless plating solution to perform electroless plating. At this time, the electroless plating is not performed on the resist layer 8, and the electroless plating layer 6 is formed on the other surface of the mark plate body 3. Although the plating solution for electroless plating is acidic, the resist layer 8 does not dissolve into the plating solution due to the characteristics of the first embodiment.

【0036】続いて、図6に示すように、無電解めっき
層6の形成されたマークプレート本体3を電気めっきに
供する。すなわち、同本体3を所定の電気めっき溶液に
複数回浸漬するとともに、めっきを必要とする部分を電
気的に導通させる。本実施例においては、前記突起9に
対し、わに口クリップ11を噛ませて電流を流す。する
と、めっきを必要としない部分(溝5の内側)に形成さ
れた無電解めっき層6は、レジスト層8により遮断さ
れ、電気的に導通されないため、酸性の電気めっき液に
よって溶解される。また、めっきを必要とする部分にお
いては、無電解めっき層6の表面に、前述した多層構造
をなす電気めっき層7が形成される。このようにして、
「T」字をかたどった周りの部分にのみ無電解めっき層
6及び電気めっき層7の形成されたマークプレート2が
形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 6, the mark plate body 3 on which the electroless plating layer 6 is formed is subjected to electroplating. That is, the main body 3 is immersed in a predetermined electroplating solution a plurality of times, and a portion requiring plating is electrically connected. In the present embodiment, an alligator clip 11 is engaged with the projection 9 to flow an electric current. Then, the electroless plating layer 6 formed in the portion that does not require plating (the inside of the groove 5) is blocked by the resist layer 8 and is not electrically conducted, so that it is dissolved by the acidic electroplating solution. In a portion requiring plating, the electroplating layer 7 having the above-mentioned multilayer structure is formed on the surface of the electroless plating layer 6. In this way,
The mark plate 2 on which the electroless plating layer 6 and the electroplating layer 7 are formed is formed only in a portion around the shape of the letter "T".

【0037】本実施例によれば、上述したように、特に
優れたレジスト性が得られる。また、隣接するめっき層
との見切り外観についても、ギザギザ状にはならず、良
好なものが得られる。さらに、本実施例では、レジスト
層8が一部露出しているが、このレジスト層8の経時的
な変色の度合いも少なくて済む。
According to this embodiment, as described above, particularly excellent resist properties can be obtained. In addition, the appearance of the parting with the adjacent plating layer is not jagged, but a good appearance is obtained. Further, in the present embodiment, although the resist layer 8 is partially exposed, the degree of discoloration of the resist layer 8 with time can be reduced.

【0038】(第3実施例:樹脂製品)以下、本発明
を、同じく樹脂製品の製造方法に具体化した第3実施例
について説明する。なお、本実施例におけるレジスト塗
料についても、上記第1実施例の実施例2のサンプルを
採用した。また、本実施例においても、上記第2実施例
と同様のマークプレート本体3を用いた。
(Third Embodiment: Resin Product) Hereinafter, a third embodiment in which the present invention is embodied in a method for manufacturing a resin product will be described. Note that the sample of Example 2 of the above-described first example was also used as the resist paint in this example. Also in this embodiment, the same mark plate body 3 as in the second embodiment was used.

【0039】図7に示すように、本実施例においては、
樹脂製品としてのマークプレート12は、マークプレー
ト本体3と、同本体3の表面に部分的に形成されためっ
き層4と、その内側に形成されたレジスト層13及び上
塗り塗膜層14とから構成されている。すなわち、前記
マークプレート本体3の表面において形成された溝5に
より囲まれた部分には、レジスト層13が全面に塗布形
成されている。さらに、その上面には、上塗り塗膜層1
4が塗布形成されている。また、その周りに形成された
前記めっき層4は、前記第2実施例と同様、無電解めっ
き層6と、電気めっき層7とからなっている。
As shown in FIG. 7, in this embodiment,
The mark plate 12 as a resin product is composed of a mark plate main body 3, a plating layer 4 partially formed on the surface of the main body 3, a resist layer 13 and a top coat layer 14 formed inside the plating layer 4. Have been. That is, the resist layer 13 is applied and formed on the entire surface of the portion surrounded by the groove 5 formed on the surface of the mark plate body 3. Further, on the upper surface, a top coat layer 1
4 is applied and formed. Further, the plating layer 4 formed therearound comprises an electroless plating layer 6 and an electroplating layer 7, as in the second embodiment.

【0040】次に、上記のマークプレート12の製造方
法及び製造時等の作用効果について説明する。まず、図
8に示すように、公知の金型成形法により、前述したよ
うな溝5を有するマークプレート本体3を成形し、前記
溝5の内側の全面に対し前記レジスト塗料を塗布する。
すると、同図に示すようなレジスト層13が形成され
る。このとき、良好な塗装性が得られる。すなわち、均
一でむらのない塗膜が容易に得られる。
Next, a description will be given of a method of manufacturing the above-described mark plate 12, and the operational effects at the time of manufacturing and the like. First, as shown in FIG. 8, the mark plate body 3 having the groove 5 as described above is formed by a known mold forming method, and the resist paint is applied to the entire inner surface of the groove 5.
Then, a resist layer 13 as shown in FIG. At this time, good paintability is obtained. That is, a uniform and even coating film can be easily obtained.

【0041】そして、図9に示すように、このマークプ
レート本体3を無電解めっき溶液中に浸漬し、無電解め
っきを施す。このとき、レジスト層13上には無電解め
っきが施されず、それ以外のマークプレート本体3表面
には、無電解めっき層6が形成される。また、無電解め
っき用のめっき溶液は酸性であるが、上記第1実施例の
特性より、レジスト層13は該めっき溶液中にも溶け出
すことはない。
Then, as shown in FIG. 9, the mark plate main body 3 is immersed in an electroless plating solution to perform electroless plating. At this time, the electroless plating is not performed on the resist layer 13, and the electroless plating layer 6 is formed on the other surface of the mark plate body 3. Although the plating solution for electroless plating is acidic, the resist layer 13 does not dissolve into the plating solution due to the characteristics of the first embodiment.

【0042】続いて、図10に示すように、無電解めっ
き層6の形成されたマークプレート本体3を第2実施例
と同様に電気めっきに供する。このとき、めっきを必要
としない部分に形成されているレジスト層13は、酸性
の電解めっき液によっては溶解されない。また、レジス
ト層13は、電気的に導通されないため、この上には電
気めっき層7が形成されない。一方、めっきを必要とす
る部分においては、無電解めっき層6の表面に、前述し
た多層構造をなす電気めっき層7が形成される。このよ
うにして、「T」の字をかたどった周りの部分にのみ無
電解めっき層6及び電気めっき層7が形成され、その内
側には、レジスト層13の形成されたものが得られる。
Subsequently, as shown in FIG. 10, the mark plate body 3 on which the electroless plating layer 6 is formed is subjected to electroplating in the same manner as in the second embodiment. At this time, the resist layer 13 formed in a portion that does not require plating is not dissolved by the acidic electrolytic plating solution. Further, since the resist layer 13 is not electrically conducted, the electroplating layer 7 is not formed thereon. On the other hand, the electroplating layer 7 having the above-described multilayer structure is formed on the surface of the electroless plating layer 6 in a portion requiring plating. In this way, the electroless plating layer 6 and the electroplating layer 7 are formed only in the area around the shape of the letter "T", and the inside with the resist layer 13 is obtained.

【0043】次に、図11に示すように、前記めっき層
4の部分を電鋳マスク15で被覆する。この電鋳マスク
15は、厚さ「数mm」の金属製の板であって、マーク
プレート12に則した形状をなしている。また、電鋳マ
スク15には上塗り塗膜層14を形成するのに必要な部
分だけ開口したT字状の開口部が適宜形成されている。
この電鋳マスク15の被覆により、開口部からは上塗り
塗膜層14を形成するのに必要な部分が露出する。そし
て、該露出部分に向けて、スプレー塗装を施す。この塗
装により、塗膜の必要な箇所には上塗り塗膜層14が形
成される。
Next, as shown in FIG. 11, the plating layer 4 is covered with an electroformed mask 15. The electroformed mask 15 is a metal plate having a thickness of “several mm” and has a shape conforming to the mark plate 12. Further, the electroformed mask 15 is appropriately formed with a T-shaped opening which is opened only at a portion necessary for forming the overcoat layer 14.
By the coating of the electroformed mask 15, a portion necessary for forming the overcoat layer 14 is exposed from the opening. Then, spray coating is performed on the exposed portion. By this coating, a top coat layer 14 is formed at a necessary portion of the coat.

【0044】そして、図7に示すように、上塗り塗膜層
14が形成された後、電鋳マスク15の被覆を解除する
ことにより、上記のマークプレート12が得られる。本
実施例では、上記第2実施例で述べた外に以下の効果を
奏する。すなわち、レジスト層13は、溝5で囲まれた
内側の前面に塗布形成されるのであるが、このとき、良
好な塗装性を得ることができる。また、レジスト層13
上には、上塗り塗膜層14が形成されるのであるが、本
実施例では当該レジスト層13と上塗り塗膜層14とが
強固に密着する。このため、マークプレート12が水に
晒された場合でもブリスターが発生することがない。す
なわち、耐水性に優れたマークプレート12を得ること
ができる。
Then, as shown in FIG. 7, after the top coat layer 14 is formed, the coating of the electroformed mask 15 is released to obtain the mark plate 12 described above. The present embodiment has the following effects in addition to the effects described in the second embodiment. That is, the resist layer 13 is applied and formed on the inner front surface surrounded by the groove 5, and at this time, good paintability can be obtained. In addition, the resist layer 13
An overcoat layer 14 is formed on the top, and in this embodiment, the resist layer 13 and the overcoat layer 14 are firmly adhered to each other. Therefore, even when the mark plate 12 is exposed to water, no blister is generated. That is, the mark plate 12 having excellent water resistance can be obtained.

【0045】(第4実施例:樹脂製品)以下、本発明
を、同じく樹脂製品の製造方法に具体化した第4実施例
について説明する。なお、本実施例におけるレジスト塗
料についても、上記第1実施例の実施例2のサンプルを
採用し、上記第2、第3実施例と同様のマークプレート
本体3を用いた。
(Fourth Embodiment: Resin Product) A fourth embodiment in which the present invention is embodied in a method for manufacturing a resin product will be described below. Note that the resist paint in this embodiment also used the sample of the second embodiment of the first embodiment, and used the same mark plate body 3 as the second and third embodiments.

【0046】図12に示すように、本実施例において
は、樹脂製品としてのマークプレート22は、マークプ
レート本体3と、同本体表面に部分的に形成されためっ
き層4と、その内側に形成された塗膜層23及びレジス
ト層24とから構成されている。すなわち、前記マーク
プレート本体3の表面に形成された溝5により囲まれた
部分には塗膜層23が全面に塗布形成されている。さら
に、その上面には、透明なレジスト層24が塗布形成さ
れている。また、その周りに形成された前記めっき層4
は、前記第2、第3実施例と同様、無電解めっき層6
と、電気めっき層7とからなっている。
As shown in FIG. 12, in this embodiment, the mark plate 22 as a resin product has a mark plate main body 3, a plating layer 4 partially formed on the surface of the main body, and a plating layer 4 formed on the inside thereof. And a resist layer 24. That is, a coating layer 23 is applied to the entire surface of the portion surrounded by the groove 5 formed on the surface of the mark plate body 3. Further, a transparent resist layer 24 is formed on the upper surface by coating. Further, the plating layer 4 formed therearound.
Is the same as in the second and third embodiments.
And an electroplating layer 7.

【0047】次に、上記のマークプレート22の製造方
法及び製造時等の作用効果について説明する。まず、図
13に示すように、公知の金型成形法により、前述した
ような溝5を有するマークプレート本体3を成形し、め
っきの必要な部分を電鋳マスク15で被覆するととも
に、開口部分(前記溝5の内側の全面)に対し上塗り用
塗料を塗布する。すると、同図に示すような塗膜層23
が形成される。
Next, a description will be given of a method of manufacturing the above-described mark plate 22 and the operational effects at the time of manufacturing and the like. First, as shown in FIG. 13, the mark plate main body 3 having the groove 5 as described above is formed by a known mold forming method, and a portion required for plating is covered with an electroforming mask 15 and an opening portion is formed. (Overall inner surface of the groove 5) is coated with an overcoating paint. Then, the coating layer 23 as shown in FIG.
Is formed.

【0048】続いて、図14に示すように、前記塗膜層
23上に、レジスト塗料を塗布し、レジスト層24を形
成する。そして、図15に示すように、このマークプレ
ート本体3を無電解めっき溶液中に浸漬し無電解めっき
を施し、その後、電気めっきを施す。このとき、レジス
ト層24上には無電解めっき、電気めっきが施されず、
それ以外のマークプレート本体3表面には、無電解めっ
き層6及び電気めっき層7よりなるめっき層4が形成さ
れる。また、各めっき溶液は酸性であるが、上記第1実
施例の特性より、レジスト層24は該めっき溶液中にも
溶け出すことはない。もちろん、塗膜層23はレジスト
層24で被覆されているので、これも溶け出すことはな
い。このようにして、「T」の字をかたどった周りの部
分にのみ無電解めっき層6及び電気めっき層7が形成さ
れ、その内側には、塗膜層23及びレジスト層24の形
成されたマークプレート22が得られる。
Subsequently, as shown in FIG. 14, a resist paint is applied on the coating layer 23 to form a resist layer 24. Then, as shown in FIG. 15, the mark plate body 3 is immersed in an electroless plating solution to perform electroless plating, and then to perform electroplating. At this time, electroless plating and electroplating are not performed on the resist layer 24,
On the other surface of the mark plate main body 3, a plating layer 4 including an electroless plating layer 6 and an electroplating layer 7 is formed. Although each plating solution is acidic, the resist layer 24 does not dissolve into the plating solution due to the characteristics of the first embodiment. Of course, since the coating layer 23 is covered with the resist layer 24, it does not dissolve. In this way, the electroless plating layer 6 and the electroplating layer 7 are formed only in the area around the shape of the letter "T", and inside the mark, the coating layer 23 and the resist layer 24 are formed. A plate 22 is obtained.

【0049】本実施例においては、既に述べた効果の
外、塗装工程(塗膜層23、レジスト層24を形成する
工程)が連続的に行うことができる。従って、両工程同
士が離れた設けられていた第2、第3実施例に比べて、
作業性の向上を図ることができる。また、塗膜層23が
ちょうど透明なレジスト層24でカバーされたような格
好となり、意匠性の向上を図ることができる。
In this embodiment, in addition to the effects described above, the coating step (the step of forming the coating layer 23 and the resist layer 24) can be continuously performed. Therefore, compared to the second and third embodiments in which both steps are provided apart from each other,
Workability can be improved. Further, the coating film layer 23 becomes just as if it were covered with the transparent resist layer 24, and the design can be improved.

【0050】尚、本発明は上記実施例に限定されず、例
えば次の如く構成してもよい。 (1)前記第2実施例では、環状に塗布形成したレジス
ト層8の内側は、マークプレート本体3が露出する工程
となっていたが、図16に示すように、該部分に上塗り
塗膜層25を形成するようにしてもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment, and may be configured as follows, for example. (1) In the second embodiment, the mark plate body 3 is exposed inside the resist layer 8 formed in a ring shape. However, as shown in FIG. 25 may be formed.

【0051】(2)前記第1実施例の溶剤等の組成は何
ら限定されるものではない。 (3)前記第2〜第4実施例では、いずれも断面略U字
状の溝5を環状に形成するようにしたが、溝5の断面形
状は何ら限定されるものでなく、例えば断面略V字状の
溝を形成するようにしてもよい。かかる場合には、溝の
底部に無電解めっき層6が形成されにくいため、見切り
外観のさらなる向上を図ることができる。また、溝を一
切設けないような構成としても差し支えない。
(2) The composition of the solvent and the like in the first embodiment is not limited at all. (3) In each of the second to fourth embodiments, the groove 5 having a substantially U-shaped cross section is formed in a ring shape. However, the cross-sectional shape of the groove 5 is not limited at all. A V-shaped groove may be formed. In such a case, since the electroless plating layer 6 is hardly formed at the bottom of the groove, the appearance of parting can be further improved. Further, a configuration in which no groove is provided may be employed.

【0052】(4)前記第2〜第4実施例においては、
前記溝5や、レジスト層8,13,24等は、いずれも
意匠面側においてのみ形成されていたが、必ずしもそう
でなくてもよい。すなわち、例えば意匠面側における溝
と非意匠面における溝によって1つの閉曲線を形成する
ようにしてもよい。この場合、溝や、レジスト層は、環
状の一部をなすこととなる。
(4) In the second to fourth embodiments,
Although the groove 5 and the resist layers 8, 13, 24, etc. are all formed only on the design surface side, they are not necessarily required. That is, for example, one closed curve may be formed by the groove on the design surface side and the groove on the non-design surface. In this case, the groove and the resist layer form a part of an annular shape.

【0053】(5)前記第2〜第4実施例では本発明を
車両用のマークプレート2,12,22に具体化した
が、その外にも例えば車両用のフロントグリル、ドアミ
ラーブラケット用アウタカバー、車両用のバックパネ
ル、車両用のルーバ、車両用のピラーガーニッシュ、車
両用のクォータベント等にも具体化してもよい。また、
上記の樹脂製品に限定されるものではなく、部分めっき
の施されたその他の樹脂製品に本発明を具体化してもよ
い。
(5) In the second to fourth embodiments, the present invention is embodied in the mark plates 2, 12, and 22 for a vehicle. However, other than the above, for example, a front grill for a vehicle, an outer cover for a door mirror bracket, The present invention may be embodied as a vehicle back panel, a vehicle louver, a vehicle pillar garnish, a vehicle quarter vent, or the like. Also,
The present invention is not limited to the above resin products, and the present invention may be embodied in other resin products that have been subjected to partial plating.

【0054】(6)前記各実施例では、基材を構成する
樹脂素材をいずれもABS樹脂により構成するようにし
たが、その外にも例えばポリプロピレン、ポリフェニレ
ンオキサイド、ポリアミド、ポリスルフォン、ポリエス
テル等の各種樹脂素材を用いてもよい。
(6) In each of the above embodiments, the resin material constituting the base material is made of ABS resin. However, other than that, for example, polypropylene, polyphenylene oxide, polyamide, polysulfone, polyester, etc. Various resin materials may be used.

【0055】(8)前記各実施例では、無電解めっき層
6をニッケルにより形成したが、その外にも銅等により
形成してもよい。また、前記各実施例及び別例では、電
気めっき層7を、銅、ニッケル及びクロムの3種類の金
属により、多層構造をなすように形成したが、これら以
外の金属を用いてもよいし、また、多層構造としない場
合に具体化してもよい。
(8) In each of the above embodiments, the electroless plating layer 6 is formed of nickel, but may be formed of copper or the like. Further, in each of the above-described embodiments and other examples, the electroplating layer 7 is formed to have a multilayer structure by using three kinds of metals of copper, nickel and chromium, but other metals may be used. Further, the present invention may be embodied in a case where a multilayer structure is not used.

【0056】特許請求の範囲の各請求項に記載されない
ものであって、上記実施例から把握できる技術的思想に
ついて以下にその効果とともに記載する。 (a)請求項1に記載の部分めっき用レジスト塗料にお
いて、前記レジスト塗料は、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体と、アクリル−スチレン共重合体との70〜85
重量%:30〜15重量%混合物を主成分としているこ
とを特徴とする。上記の構成とすることにより、耐酸
性、塗装性及び耐水性のさらなる向上を図ることができ
る。
The technical ideas which are not described in each claim of the claims but can be grasped from the above embodiment are described below together with their effects. (A) The resist coating for partial plating according to claim 1, wherein the resist coating comprises 70 to 85 of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and an acryl-styrene copolymer.
% By weight: 30 to 15% by weight as a main component. With the above configuration, acid resistance, paintability and water resistance can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明を具体化した第2実施例におけるマー
クプレートを示す図2のA−A線断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 2, showing a mark plate according to a second embodiment of the present invention.

【図2】 第2実施例におけるマークプレートを模式的
に示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view schematically showing a mark plate in a second embodiment.

【図3】 第2実施例において、マークプレートを製造
する際のマークプレート本体を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a mark plate main body when a mark plate is manufactured in a second embodiment.

【図4】 第2実施例において、マークプレートを製造
する際のマークプレート本体にレジスト層を形成した状
態を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a resist layer is formed on a mark plate body when a mark plate is manufactured in the second embodiment.

【図5】 第2実施例において、マークプレートを製造
する際のマークプレート本体に無電解めっき層を形成し
た状態を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which an electroless plating layer is formed on a mark plate body when a mark plate is manufactured in a second embodiment.

【図6】 第2実施例において、マークプレートを製造
する際の無電解めっき層上に電気めっき層を形成した状
態を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which an electroplating layer is formed on an electroless plating layer when a mark plate is manufactured in the second embodiment.

【図7】 本発明を具体化した第3実施例におけるマー
クプレートを示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing a mark plate according to a third embodiment of the invention.

【図8】 第3実施例において、マークプレートを製造
する際のマークプレート本体にレジスト層を形成した状
態を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a state in which a resist layer is formed on a mark plate body when a mark plate is manufactured in the third embodiment.

【図9】 第3実施例において、マークプレートを製造
する際のマークプレート本体に無電解めっき層を形成し
た状態を示す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which an electroless plating layer is formed on a mark plate body when a mark plate is manufactured in a third embodiment.

【図10】 第3実施例において、マークプレートを製
造する際の無電解めっき層上に電気めっき層を形成した
状態を示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view showing a state in which an electroplating layer is formed on an electroless plating layer when a mark plate is manufactured in the third embodiment.

【図11】 第3実施例において、マークプレートを製
造する際のレジスト層上に上塗り塗膜層を形成した状態
を示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state in which a top coat layer is formed on a resist layer when a mark plate is manufactured in the third embodiment.

【図12】 本発明を具体化した第4実施例におけるマ
ークプレートを示す断面図である。
FIG. 12 is a sectional view showing a mark plate according to a fourth embodiment of the present invention.

【図13】 第4実施例において、マークプレートを製
造する際のマークプレート本体に塗膜層を形成した状態
を示す断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which a coating layer is formed on a mark plate body when a mark plate is manufactured in the fourth embodiment.

【図14】 第4実施例において、マークプレートを製
造する際の塗膜層上上にレジスト層を形成した状態を示
す断面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state where a resist layer is formed on a coating layer when a mark plate is manufactured in a fourth embodiment.

【図15】 第4実施例において、マークプレートを製
造する際のマークプレート本体にめっき層を形成した状
態を示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state where a plating layer is formed on a mark plate main body when a mark plate is manufactured in the fourth embodiment.

【図16】 本発明を具体化した別の実施例におけるマ
ークプレートを示す断面図である。
FIG. 16 is a sectional view showing a mark plate according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2,12,22…樹脂製品としてのマークプレート、3
…基材としてのマークプレート本体、6…無電解めっき
層、7…電気めっき層、8,13,24…レジスト層、
14,25…上塗り塗膜層、23…塗膜層。
2, 12, 22 ... Mark plate as resin product, 3
... mark plate body as base material, 6 ... electroless plating layer, 7 ... electroplating layer, 8, 13, 24 ... resist layer,
14, 25: overcoat layer, 23: coating layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−17181(JP,A) 特開 平7−168357(JP,A) 特開 昭58−217692(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09D 127/06 B05D 3/10 C09D 125/00 C25D 5/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-58-17181 (JP, A) JP-A-7-168357 (JP, A) JP-A-58-217692 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) C09D 127/06 B05D 3/10 C09D 125/00 C25D 5/02

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 樹脂製の基材(3)表面のうち、めっき
を必要としない部分全面に又はめっきを必要としない部
分を囲むようにして環状若しくは環状の一部をなすよう
に塗布される部分めっき用レジスト塗料であって、 当該レジスト塗料は、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
と、アクリル−スチレン共重合体との50〜95重量
%:50〜5重量%混合物を主成分としていることを特
徴とする部分めっき用レジスト塗料。
1. Partial plating applied to form an annular shape or a part of an annular shape so as to cover the entire surface of a portion of a resin substrate (3) that does not require plating or to surround a portion that does not require plating. A resist coating composition for use as a coating composition, wherein the resist coating composition contains, as a main component, a mixture of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and an acrylic-styrene copolymer at 50 to 95% by weight: 50 to 5% by weight. Resist coating for partial plating.
【請求項2】 樹脂製の基材(3)を成形する工程と、 前記基材(3)表面のうち、めっきを必要としない部分
全面に又はめっきを必要としない部分を囲むようにして
環状若しくは環状の一部をなすように請求項1に記載の
レジスト塗料を塗布し、レジスト層(8,13)を形成
する工程と、 前記基材(3)表面の前記レジスト層(8,13)以外
の部分に無電解めっき層(6)を形成する工程と、 前記無電解めっき工程を経た前記基材(3)に形成され
た前記無電解めっき層(6)のうち、めっきの必要な部
位を電気的に導通させて、前記無電解めっき層(6)上
のめっきの必要な部分に電気めっき層(7)を形成する
工程とを備えたことを特徴とする部分めっきの施された
樹脂製品の製造方法。
2. A step of forming a resin base material (3); and forming a ring or a ring on the entire surface of the base material (3) not requiring plating or surrounding the portion not requiring plating. Applying the resist paint according to claim 1 to form a part of the resist layer, and forming a resist layer (8, 13); and a step other than the resist layer (8, 13) on the surface of the base material (3). A step of forming an electroless plating layer (6) on a portion; and, of the electroless plating layer (6) formed on the base material (3) that has undergone the electroless plating step, electrically converting a portion requiring plating to an electroless plating layer. Forming an electroplating layer (7) on a portion of the electroless plating layer (6) where plating is required by electrically conducting the resin product. Production method.
【請求項3】 請求項2に記載の製造方法によって製造
された樹脂製品に対し、 さらに、前記レジスト層(13)の上面又は前記レジス
ト層(8)の内周側に上塗り塗料を塗布することによ
り、上塗り塗膜層(14,25)を形成する工程を設け
たことを特徴とする部分めっきの施された樹脂製品の製
造方法。
3. A top coat is further applied to the resin product manufactured by the manufacturing method according to claim 2 on the upper surface of the resist layer (13) or the inner peripheral side of the resist layer (8). Forming a top coat layer (14, 25).
【請求項4】 樹脂製の基材(3)を成形する工程と、 前記基材(3)表面のうち、めっきを必要としない部分
に塗料を塗布することにより塗膜層(23)を形成する
工程と、 前記塗膜層(23)の上面に、請求項1に記載のレジス
ト塗料を塗布することによりレジスト層(24)を形成
する工程と、 前記基材(3)表面の前記レジスト層(24)以外の部
分に無電解めっき層(6)を形成する工程と、 前記無電解めっき工程を経た前記基材(3)に形成され
た前記無電解めっき層(6)のうち、めっきの必要な部
位を電気的に導通させて、前記無電解めっき層(6)上
のめっきの必要な部分に電気めっき層(7)を形成する
工程とを備えたことを特徴とする部分めっきの施された
樹脂製品の製造方法。
4. A step of forming a resin base material (3), and forming a coating film layer (23) by applying a paint to a portion of the surface of the base material (3) that does not require plating. Forming a resist layer (24) by applying the resist paint according to claim 1 on the upper surface of the coating layer (23); and forming the resist layer (24) on the surface of the substrate (3). (24) a step of forming an electroless plating layer (6) in a portion other than the above; and, of the electroless plating layer (6) formed on the base material (3) after the electroless plating step, Forming an electroplating layer (7) on a portion of the electroless plating layer (6) where plating is required by electrically conducting necessary portions. Manufacturing method of manufactured resin products.
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