JP3121898B2 - クロム水和酸化物被覆銅材料の製造方法 - Google Patents
クロム水和酸化物被覆銅材料の製造方法Info
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- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
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- H05K3/282—Applying non-metallic protective coatings for inhibiting the corrosion of the circuit, e.g. for preserving the solderability
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クロム水和酸化物被覆
銅材料の製造方法に関する。
銅材料の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】銅箔や、銅又は銅合金からなる条又は線
等の銅材料は、一般的に表面被覆金属の拡散、均質化処
理、焼鈍処理、ひずみ取り、時効析出処理等を目的とし
て、加熱処理されている。
等の銅材料は、一般的に表面被覆金属の拡散、均質化処
理、焼鈍処理、ひずみ取り、時効析出処理等を目的とし
て、加熱処理されている。
【０００３】加熱処理に使用する熱処理炉は、バッチ炉
と連続炉に分けることができ、バッチ炉は多品種の銅材
料を同時に処理する場合や、銅材料を少量処理する場合
に適する。また連続炉は銅材料を大量処理する場合や、
品質に均一性が要求される場合に適するので、近年、品
質に均一性の要求が強い銅材料の加熱処理に多く用いら
れるようになってきている。
と連続炉に分けることができ、バッチ炉は多品種の銅材
料を同時に処理する場合や、銅材料を少量処理する場合
に適する。また連続炉は銅材料を大量処理する場合や、
品質に均一性が要求される場合に適するので、近年、品
質に均一性の要求が強い銅材料の加熱処理に多く用いら
れるようになってきている。
【０００４】従来、銅材料を加熱処理するときには、銅
材料が酸化するのを防止するために、窒素、アルゴン等
の不活性ガスや、都市ガス、プロパンガス、ブタン、ケ
ロシン、アンモニウム等を燃焼又は分解し、これを精製
したガスが使用されている。
材料が酸化するのを防止するために、窒素、アルゴン等
の不活性ガスや、都市ガス、プロパンガス、ブタン、ケ
ロシン、アンモニウム等を燃焼又は分解し、これを精製
したガスが使用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、銅材料
の耐食性を高めるために銅材料の表面にクロム水和酸化
物皮膜を形成した銅材料は、上記ガス中で加熱処理する
と、銅材料の酸化は防止できても、クロム水和酸化物の
水和が破壊されるため、皮膜表面にクッラクが入って耐
食性が低下し、本来のクロム水和酸化物皮膜としての役
割を果たさなくなる。
の耐食性を高めるために銅材料の表面にクロム水和酸化
物皮膜を形成した銅材料は、上記ガス中で加熱処理する
と、銅材料の酸化は防止できても、クロム水和酸化物の
水和が破壊されるため、皮膜表面にクッラクが入って耐
食性が低下し、本来のクロム水和酸化物皮膜としての役
割を果たさなくなる。
【０００６】また、銅材料が箔であり、上記皮膜を形成
させた銅箔をプリント配線板用銅箔として用いる場合に
は、該銅箔を上記ガス中で加熱処理すると、クロム水和
酸化物皮膜が変質し、耐食性が低下するとともに、クロ
ム残を生じるという問題点がある。このクロム残とは、
皮膜を形成させた銅箔を樹脂基板と接合して積層板とし
た後、これをエッチング処理したときに、該銅箔表面の
クロム水和酸化物皮膜が、エッチングした部分の樹脂基
板上に転写されて残る現象をいい、このクロム残が多い
場合には、電食が発生して回路間が短絡するという問題
点がある。
させた銅箔をプリント配線板用銅箔として用いる場合に
は、該銅箔を上記ガス中で加熱処理すると、クロム水和
酸化物皮膜が変質し、耐食性が低下するとともに、クロ
ム残を生じるという問題点がある。このクロム残とは、
皮膜を形成させた銅箔を樹脂基板と接合して積層板とし
た後、これをエッチング処理したときに、該銅箔表面の
クロム水和酸化物皮膜が、エッチングした部分の樹脂基
板上に転写されて残る現象をいい、このクロム残が多い
場合には、電食が発生して回路間が短絡するという問題
点がある。
【０００７】したがって、クロム水和酸化物被覆銅材料
を直接加熱処理することはできないため、従来は、予め
加熱処理した銅材料に、クロム水和酸化物処理を行わざ
るを得なかった。このことは、クロム水和酸化物被覆銅
材料の製造上、工程が煩雑になるとともに、きわめて不
経済であった。
を直接加熱処理することはできないため、従来は、予め
加熱処理した銅材料に、クロム水和酸化物処理を行わざ
るを得なかった。このことは、クロム水和酸化物被覆銅
材料の製造上、工程が煩雑になるとともに、きわめて不
経済であった。
【０００８】本発明の目的は、銅材料の表面にクロム水
和酸化物皮膜を形成させた後、該皮膜を変質させること
なく加熱処理することができ、クロム水和酸化物被覆銅
材料の製造工程を簡便化できる製造方法を提供すること
にある。
和酸化物皮膜を形成させた後、該皮膜を変質させること
なく加熱処理することができ、クロム水和酸化物被覆銅
材料の製造工程を簡便化できる製造方法を提供すること
にある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、銅又は
銅合金材料の表面にクロム水和酸化物皮膜を形成させた
後、これを水蒸気の存在下に加熱することを特徴とする
クロム水和酸化物被覆銅材料の製造方法である。
銅合金材料の表面にクロム水和酸化物皮膜を形成させた
後、これを水蒸気の存在下に加熱することを特徴とする
クロム水和酸化物被覆銅材料の製造方法である。
【００１０】本発明の第二は、銅又は銅合金材料の表面
に亜鉛、亜鉛合金、スズ又はスズ合金からなる中間層を
形成させ、該中間層の上にクロム水和酸化物皮膜を形成
させた後、これを水蒸気の存在下に加熱することを特徴
とするクロム水和酸化物被覆銅材料の製造方法である。
に亜鉛、亜鉛合金、スズ又はスズ合金からなる中間層を
形成させ、該中間層の上にクロム水和酸化物皮膜を形成
させた後、これを水蒸気の存在下に加熱することを特徴
とするクロム水和酸化物被覆銅材料の製造方法である。
【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
用いる銅又は銅合金材料（以下、銅材料という）として
は、例えば、箔、条、線材等を挙げることができる。銅
又は銅合金材料の表面にクロム水和酸化物皮膜を形成さ
せる方法としては、公知の方法を採用することができ、
例えば、銅材料をクロム水和酸化物処理液に浸漬する方
法、クロム水和酸化物処理液中で銅材料を陰極にして通
電する電解法等を採用することができる。
用いる銅又は銅合金材料（以下、銅材料という）として
は、例えば、箔、条、線材等を挙げることができる。銅
又は銅合金材料の表面にクロム水和酸化物皮膜を形成さ
せる方法としては、公知の方法を採用することができ、
例えば、銅材料をクロム水和酸化物処理液に浸漬する方
法、クロム水和酸化物処理液中で銅材料を陰極にして通
電する電解法等を採用することができる。
【００１２】クロム水和酸化物処理液としては、例えば
六価のクロムイオンを含む水溶液を挙げることができ、
具体例としては、三酸化クロム、重クロム酸ナトリウム
等を含有する水溶液を挙げることができる。クロム水和
酸化物処理液には、六価のクロムイオンのほか、亜鉛イ
オン等の金属イオン、ＳＯ4 2- 、ＰＯ4 3- 、ＣＨ3 ＣＯ
Ｏ- 等のアニオンを含んでいてもよい。
六価のクロムイオンを含む水溶液を挙げることができ、
具体例としては、三酸化クロム、重クロム酸ナトリウム
等を含有する水溶液を挙げることができる。クロム水和
酸化物処理液には、六価のクロムイオンのほか、亜鉛イ
オン等の金属イオン、ＳＯ4 2- 、ＰＯ4 3- 、ＣＨ3 ＣＯ
Ｏ- 等のアニオンを含んでいてもよい。
【００１３】本発明においては、銅材料の表面に亜鉛、
亜鉛合金、スズ又はスズ合金からなる中間層を介して上
記クロム水和酸化物皮膜を形成させるのが好ましい。
亜鉛合金、スズ又はスズ合金からなる中間層を介して上
記クロム水和酸化物皮膜を形成させるのが好ましい。
【００１４】本発明に用いる亜鉛合金としては、Ｚｎ−
Ｃｕ、Ｚｎ−Ｗ、Ｚｎ−Ｖ、Ｚｎ−Ｔｌ、Ｚｎ−Ｓｎ、
Ｚｎ−Ｓｎ、Ｚｎ−Ｓｅ、Ｚｎ−Ｓｂ、Ｚｎ−Ｐｂ、Ｚ
ｎ−Ｎｉ、Ｚｎ−Ｍｏ、Ｚｎ−Ｍｎ、Ｚｎ−Ｉｎ、Ｚｎ
−Ｆｅ、Ｚｎ−Ｇｅ、Ｚｎ−Ｇａ、Ｚｎ−Ｃｏ、Ｚｎ−
Ｃｄ、Ｚｎ−Ａｕ、Ｚｎ−Ａｇ等を挙げることができ
る。
Ｃｕ、Ｚｎ−Ｗ、Ｚｎ−Ｖ、Ｚｎ−Ｔｌ、Ｚｎ−Ｓｎ、
Ｚｎ−Ｓｎ、Ｚｎ−Ｓｅ、Ｚｎ−Ｓｂ、Ｚｎ−Ｐｂ、Ｚ
ｎ−Ｎｉ、Ｚｎ−Ｍｏ、Ｚｎ−Ｍｎ、Ｚｎ−Ｉｎ、Ｚｎ
−Ｆｅ、Ｚｎ−Ｇｅ、Ｚｎ−Ｇａ、Ｚｎ−Ｃｏ、Ｚｎ−
Ｃｄ、Ｚｎ−Ａｕ、Ｚｎ−Ａｇ等を挙げることができ
る。
【００１５】本発明に用いるスズ合金としては、Ｓｎ−
Ｓｂ、Ｓｎ−Ｐｂ、Ｓｎ−Ｎｉ、Ｓｎ−Ｍｏ、Ｓｎ−Ｉ
ｎ、Ｓｎ−Ｆｅ、Ｓｎ−Ｇｅ、Ｓｎ−Ｃｕ、Ｓｎ−Ｃ
ｒ、Ｓｎ−Ｃｏ、Ｓｎ−Ｂｉ、Ｓｎ−Ａｕ、Ｓｎ−Ａｇ
等を挙げることができる。
Ｓｂ、Ｓｎ−Ｐｂ、Ｓｎ−Ｎｉ、Ｓｎ−Ｍｏ、Ｓｎ−Ｉ
ｎ、Ｓｎ−Ｆｅ、Ｓｎ−Ｇｅ、Ｓｎ−Ｃｕ、Ｓｎ−Ｃ
ｒ、Ｓｎ−Ｃｏ、Ｓｎ−Ｂｉ、Ｓｎ−Ａｕ、Ｓｎ−Ａｇ
等を挙げることができる。
【００１６】亜鉛、亜鉛合金、スズ又はスズ合金からな
る中間層を銅材料の表面に形成させる方法としては、公
知の方法でよく、例えば、亜鉛化合物又はスズ化合物、
さらには合金元素化合物を含有するめっき液を用いた電
解法で形成させることができる。
る中間層を銅材料の表面に形成させる方法としては、公
知の方法でよく、例えば、亜鉛化合物又はスズ化合物、
さらには合金元素化合物を含有するめっき液を用いた電
解法で形成させることができる。
【００１７】めっき液に用いる亜鉛化合物としては、硫
酸亜鉛、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、炭酸亜鉛等を挙げるこ
とができる。スズ化合物としては、スズ酸ナトリウム、
スズ酸カリウム、硫酸第一スズ、ホウフッ化第一スズ等
を挙げることができる。
酸亜鉛、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、炭酸亜鉛等を挙げるこ
とができる。スズ化合物としては、スズ酸ナトリウム、
スズ酸カリウム、硫酸第一スズ、ホウフッ化第一スズ等
を挙げることができる。
【００１８】中間層を形成させる電解条件としては、公
知の条件でよく、例えば、特開昭５５−１４５３９６号
公報に示される条件を採用することができる。このよう
な中間層を有する銅材料を、後述する条件で加熱処理す
ることにより、銅箔の耐食性をさらに向上させることが
でき、また他の品質特性、特に、加熱処理時の耐変色性
等を向上させることができる。
知の条件でよく、例えば、特開昭５５−１４５３９６号
公報に示される条件を採用することができる。このよう
な中間層を有する銅材料を、後述する条件で加熱処理す
ることにより、銅箔の耐食性をさらに向上させることが
でき、また他の品質特性、特に、加熱処理時の耐変色性
等を向上させることができる。
【００１９】本発明は、このようにして銅材料の表面に
クロム水和酸化物皮膜を形成させ、又は上記中間層を介
してクロム水和酸化物皮膜を形成させた後、水蒸気の存
在下に加熱する。
クロム水和酸化物皮膜を形成させ、又は上記中間層を介
してクロム水和酸化物皮膜を形成させた後、水蒸気の存
在下に加熱する。
【００２０】加熱温度は、銅材料に付与する特性により
一概に決定できないが、例えば付与する特性が焼鈍の場
合には、４００〜６００℃が好ましく、また上記中間層
の亜鉛又はスズを拡散させるための加熱処理は、２５０
〜３５０℃が好ましい。
一概に決定できないが、例えば付与する特性が焼鈍の場
合には、４００〜６００℃が好ましく、また上記中間層
の亜鉛又はスズを拡散させるための加熱処理は、２５０
〜３５０℃が好ましい。
【００２１】加熱雰囲気の水蒸気の濃度は、３ vol％以
上、好ましくは１０ vol％以上である。水蒸気の濃度
が、３ vol％未満のときには、クロム水和酸化物の水和
が破壊され、クロム水和酸化物皮膜が変質する場合があ
る。
上、好ましくは１０ vol％以上である。水蒸気の濃度
が、３ vol％未満のときには、クロム水和酸化物の水和
が破壊され、クロム水和酸化物皮膜が変質する場合があ
る。
【００２２】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的
に説明する。 実施例１ 厚さ３５μm の電解銅箔の粗面に、室温の下記電解液１
を用いて、電流密度０．２A/dm2 で５秒間めっきした。
に説明する。 実施例１ 厚さ３５μm の電解銅箔の粗面に、室温の下記電解液１
を用いて、電流密度０．２A/dm2 で５秒間めっきした。
【００２３】電解液１ ＮｉＳＯ4 ・６Ｈ2 Ｏ ２４０g/l ＮｉＣｌ2 ・６Ｈ2 Ｏ ４５g/l Ｈ3 ＢＯ3 ３０g/l ＮａＨ2 ＰＯ4 ５g/l
【００２４】次いで、電解銅箔の粗面側に、下記電解液
Ａを使用して、電流密度４．５A/dm2 で５秒間めっき
し、同時に該電解銅箔の光沢面上に電流密度０．４A/dm
2 で２秒間めっきした。
Ａを使用して、電流密度４．５A/dm2 で５秒間めっき
し、同時に該電解銅箔の光沢面上に電流密度０．４A/dm
2 で２秒間めっきした。
【００２５】電解液Ａ ＺｎＳＯ4 ・７Ｈ2 Ｏ ２５g/l ＮａＯＨ ７０g/l
【００２６】粗面の見かけ面積あたりのニッケル−リン
電着量は、０．１mg／dm2 であり、リン含有量は約６重
量％であった。また粗面の亜鉛電着量は、３．１mg／dm
2 であり、光沢面の亜鉛電着量は、０．３mg／dm2 であ
った。
電着量は、０．１mg／dm2 であり、リン含有量は約６重
量％であった。また粗面の亜鉛電着量は、３．１mg／dm
2 であり、光沢面の亜鉛電着量は、０．３mg／dm2 であ
った。
【００２７】次に、これを水洗後、ＣｒＯ3 ２g/l 含有
する常温の電解液を使用して、銅箔の粗面に、電流密度
２A/dm2 で１秒間陰極処理し、クロム水和酸化物層を形
成した。粗面側の見かけ面積あたりのクロム電着量は、
０．０５mg／dm2 であった。また光沢面については、Ｃ
ｒＯ3 ５g/l 及びＮａＯＨ１０g/l を含有する常温の電
解液を使用して、電流密度０．２A/dm2 で２秒間陰極処
理し、クロム水和酸化物層を形成した。光沢面側のクロ
ム電着量は、０．０２mg／dm2 であった。
する常温の電解液を使用して、銅箔の粗面に、電流密度
２A/dm2 で１秒間陰極処理し、クロム水和酸化物層を形
成した。粗面側の見かけ面積あたりのクロム電着量は、
０．０５mg／dm2 であった。また光沢面については、Ｃ
ｒＯ3 ５g/l 及びＮａＯＨ１０g/l を含有する常温の電
解液を使用して、電流密度０．２A/dm2 で２秒間陰極処
理し、クロム水和酸化物層を形成した。光沢面側のクロ
ム電着量は、０．０２mg／dm2 であった。
【００２８】次に、このようにクロム水和酸化物層を形
成した銅箔を、炉内の条件を温度３５０℃、水蒸気量１
５％に制御した６ｍ加熱炉中を１２０ m／分で走行させ
て加熱処理し（炉内滞留時間：３秒）、両面に被覆した
亜鉛の拡散を行って、表面処理銅箔を作製した。
成した銅箔を、炉内の条件を温度３５０℃、水蒸気量１
５％に制御した６ｍ加熱炉中を１２０ m／分で走行させ
て加熱処理し（炉内滞留時間：３秒）、両面に被覆した
亜鉛の拡散を行って、表面処理銅箔を作製した。
【００２９】得られた表面処理銅箔について、以下に示
す耐食性試験、クロム残の測定、半田濡れ性について評
価した。
す耐食性試験、クロム残の測定、半田濡れ性について評
価した。
【００３０】耐食性 表面処理銅箔（Ａ４サイズ）を、４０℃、相対湿度９０
％に設定した恒温恒湿槽内に９６時間設置し、銅箔の粗
面側及び光沢面側の変化を目視で観察し、下記の基準で
耐食性を評価した。
％に設定した恒温恒湿槽内に９６時間設置し、銅箔の粗
面側及び光沢面側の変化を目視で観察し、下記の基準で
耐食性を評価した。
【００３１】 ○ 銅箔の粗面側及び光沢面側に黒点変色が１０個未満 △ 銅箔の粗面側及び光沢面側に黒点変色が１０個以上
３０個未満 × 銅箔の粗面側及び光沢面側に黒点変色が３０個以上
３０個未満 × 銅箔の粗面側及び光沢面側に黒点変色が３０個以上
【００３２】半田濡れ性 表面処理銅箔を２．５×５cm大のテストピースに切断
し、これを３％の塩酸に５秒間浸漬した（他に半田濡れ
性の差を出すために１％の塩酸でも行った）。水洗乾燥
後、フラックス（ＷＷロジン／イソプロピルアルコール
＝３／９）を塗布し、次いで、２６０℃共晶半田に３秒
間浸漬して、テストピースの表面の濡れの程度を観察
し、下記の標準で半田濡れ性を評価した。
し、これを３％の塩酸に５秒間浸漬した（他に半田濡れ
性の差を出すために１％の塩酸でも行った）。水洗乾燥
後、フラックス（ＷＷロジン／イソプロピルアルコール
＝３／９）を塗布し、次いで、２６０℃共晶半田に３秒
間浸漬して、テストピースの表面の濡れの程度を観察
し、下記の標準で半田濡れ性を評価した。
【００３３】５ 濡れ面積が１００％ ４ 濡れ面積が８０％以上１００未満。 ３ 濡れ面積が５０％以上８０未満。 ２ 濡れ面積が３０％以上５０未満。 １ 濡れ面積が３０未満。
【００３４】クロム残 表面処理銅箔と加熱処理前の元箔（比較）とにそれぞれ
ＦＲー４基板をプレスして積層し、これらをエッチング
して５分間水洗した後、８０℃で５分乾燥した。これら
の基板をＥＳＣＡで測定し、５７０〜５９０ｅＶの結合
エネルギーの光電子の単位時間あたりのカウント数を求
め、基板に残ったクロムを定量した。耐食性、半田濡れ
性及びクロム残の評価結果を表１に示す。
ＦＲー４基板をプレスして積層し、これらをエッチング
して５分間水洗した後、８０℃で５分乾燥した。これら
の基板をＥＳＣＡで測定し、５７０〜５９０ｅＶの結合
エネルギーの光電子の単位時間あたりのカウント数を求
め、基板に残ったクロムを定量した。耐食性、半田濡れ
性及びクロム残の評価結果を表１に示す。
【００３５】実施例２ 上記電解液Ａを使用し、電解銅箔の粗面に、亜鉛を３．
１mg／dm2 、光沢面に０．３mg／dm2 それぞれ電着し
た。これを水洗後、ＣｒＯ3 ２g/l 含有する常温の電解
液を使用して、銅箔の粗面に、陰極処理して、クロム水
和酸化物層を形成した。粗面側の見かけあたりのクロム
電着量は、０．０５mg／dm2 であった。光沢面は、Ｃｒ
Ｏ3 ５g/l 及びＮａＯＨ１０g/l を含有する常温の電解
液を使用して陰極処理し、クロム水和酸化物層を形成し
た。光沢面側のクロム電着量は、０．０２mg／dm2 であ
った。
１mg／dm2 、光沢面に０．３mg／dm2 それぞれ電着し
た。これを水洗後、ＣｒＯ3 ２g/l 含有する常温の電解
液を使用して、銅箔の粗面に、陰極処理して、クロム水
和酸化物層を形成した。粗面側の見かけあたりのクロム
電着量は、０．０５mg／dm2 であった。光沢面は、Ｃｒ
Ｏ3 ５g/l 及びＮａＯＨ１０g/l を含有する常温の電解
液を使用して陰極処理し、クロム水和酸化物層を形成し
た。光沢面側のクロム電着量は、０．０２mg／dm2 であ
った。
【００３６】次に、このようにクロム水和酸化物層を形
成した銅箔を、炉内の条件を温度３００℃、水蒸気量７
０％に制御した６ｍ加熱炉中を１２ m／分で走行させて
加熱処理し（炉内滞留時間：３０秒）、両面に被覆した
亜鉛の拡散を行って、表面処理銅箔を作製した。得られ
た表面処理銅箔について、実施例１と同様にして耐食
性、半田濡れ性及びクロム残を評価した。結果を表１に
示す。
成した銅箔を、炉内の条件を温度３００℃、水蒸気量７
０％に制御した６ｍ加熱炉中を１２ m／分で走行させて
加熱処理し（炉内滞留時間：３０秒）、両面に被覆した
亜鉛の拡散を行って、表面処理銅箔を作製した。得られ
た表面処理銅箔について、実施例１と同様にして耐食
性、半田濡れ性及びクロム残を評価した。結果を表１に
示す。
【００３７】実施例３ 上記電解液Ａを使用し、電解銅箔の粗面に、亜鉛を３．
１mg／dm2 、光沢面に０．３mg／dm2 電着した。これを
水洗後、ＣｒＯ3 ５g/l 及びＮａＯＨ１０g/lを含有す
る常温の電解液を使用し、銅箔の粗面及び光沢面側に、
電流密度０．２A/dm2 で２秒間陰極処理を行い、クロム
水和酸化物層を形成した。粗面側の見かけあたりのクロ
ム電着量は、０．０５mg／dm2 であり、光沢面のクロム
電着量は、０．０２mg／dm2 であった。
１mg／dm2 、光沢面に０．３mg／dm2 電着した。これを
水洗後、ＣｒＯ3 ５g/l 及びＮａＯＨ１０g/lを含有す
る常温の電解液を使用し、銅箔の粗面及び光沢面側に、
電流密度０．２A/dm2 で２秒間陰極処理を行い、クロム
水和酸化物層を形成した。粗面側の見かけあたりのクロ
ム電着量は、０．０５mg／dm2 であり、光沢面のクロム
電着量は、０．０２mg／dm2 であった。
【００３８】次に、このようにクロム水和酸化物層を形
成した銅箔を、炉内の条件を温度３００℃、水蒸気量９
０％に制御した６ｍ加熱炉中を１２ m／分で走行させて
加熱処理し（炉内滞留時間：３０秒）、両面に被覆した
亜鉛の拡散を行って、表面処理銅箔を作製した。得られ
た表面処理銅箔について、実施例１と同様にして耐食
性、半田濡れ性及びクロム残を評価した。結果を表１に
示す。
成した銅箔を、炉内の条件を温度３００℃、水蒸気量９
０％に制御した６ｍ加熱炉中を１２ m／分で走行させて
加熱処理し（炉内滞留時間：３０秒）、両面に被覆した
亜鉛の拡散を行って、表面処理銅箔を作製した。得られ
た表面処理銅箔について、実施例１と同様にして耐食
性、半田濡れ性及びクロム残を評価した。結果を表１に
示す。
【００３９】実施例４ 電解銅箔の粗面に、ＣｒＯ3 ５g/l 及びＮａＯＨ１０g/
l を含有する常温の電解液を使用し、銅箔の粗面及び光
沢面側に、陰極処理を行いクロム水和酸化物層を形成し
た。粗面側の見かけ面積あたりのクロム電着量は、０．
０５mg／dm2 であり、光沢面側のクロム電着量は、０．
０２mg／dm2 であった。
l を含有する常温の電解液を使用し、銅箔の粗面及び光
沢面側に、陰極処理を行いクロム水和酸化物層を形成し
た。粗面側の見かけ面積あたりのクロム電着量は、０．
０５mg／dm2 であり、光沢面側のクロム電着量は、０．
０２mg／dm2 であった。
【００４０】次に、このようにクロム水和酸化物層を形
成した銅箔を、炉内の条件を温度４００℃、水蒸気量９
０％に制御した６ｍ加熱炉中を３６ m／分で走行させて
加熱処理し（炉内滞留時間：１０秒）、該銅箔を焼鈍し
た。
成した銅箔を、炉内の条件を温度４００℃、水蒸気量９
０％に制御した６ｍ加熱炉中を３６ m／分で走行させて
加熱処理し（炉内滞留時間：１０秒）、該銅箔を焼鈍し
た。
【００４１】焼鈍後の銅箔は、抗張力（以下、ＴＳと略
す）が２５．５kg／mm2 、伸び（以下、ｅと略す）が２
０．７％であった。（焼鈍前は、ＴＳ＝３２．０kg／mm
2 、ｅ＝１２．４％）得られた表面処理銅箔について、
実施例１と同様にして耐食性、半田濡れ性及びクロム残
を評価した。結果を表１に示す。
す）が２５．５kg／mm2 、伸び（以下、ｅと略す）が２
０．７％であった。（焼鈍前は、ＴＳ＝３２．０kg／mm
2 、ｅ＝１２．４％）得られた表面処理銅箔について、
実施例１と同様にして耐食性、半田濡れ性及びクロム残
を評価した。結果を表１に示す。
【００４２】比較例１ 実施例１と同様にして、電解銅箔の粗面にニッケル−リ
ン０．１mg／dm2 及び亜鉛３．１mg／dm2 を電着し、光
沢面に亜鉛０．３mg／dm2 を電着した。次いで、これを
水洗後、実施例１と同様にして、銅箔の粗面及び光沢面
側に、クロム水和酸化物層を形成した。粗面側のクロム
電着量は、クロム量換算で０．０５mg／dm2 であり、光
沢面側は、０．０２mg／dm2 であった。
ン０．１mg／dm2 及び亜鉛３．１mg／dm2 を電着し、光
沢面に亜鉛０．３mg／dm2 を電着した。次いで、これを
水洗後、実施例１と同様にして、銅箔の粗面及び光沢面
側に、クロム水和酸化物層を形成した。粗面側のクロム
電着量は、クロム量換算で０．０５mg／dm2 であり、光
沢面側は、０．０２mg／dm2 であった。
【００４３】次に、このようにクロム水和酸化物層を形
成した銅箔を、炉内の条件を温度３５０℃に制御した６
ｍの窒素ガス雰囲気加熱炉中（酸素１．５％）を１２０
m／分で走行させて加熱処理し（炉内滞留時間：３
秒）、両面に被覆した亜鉛の拡散を行って、表面処理銅
箔を作製した。得られた表面処理銅箔について、実施例
１と同様にして耐食性、半田濡れ性及びクロム残を評価
した。結果を表１に示す。
成した銅箔を、炉内の条件を温度３５０℃に制御した６
ｍの窒素ガス雰囲気加熱炉中（酸素１．５％）を１２０
m／分で走行させて加熱処理し（炉内滞留時間：３
秒）、両面に被覆した亜鉛の拡散を行って、表面処理銅
箔を作製した。得られた表面処理銅箔について、実施例
１と同様にして耐食性、半田濡れ性及びクロム残を評価
した。結果を表１に示す。
【００４４】比較例２ 実施例２と同様にして、電解銅箔の粗面に、亜鉛３．１
mg／dm2 を、光沢面に亜鉛０．３mg／dm2 を電着した。
これを水洗後、実施例２と同様にして、銅箔の粗面及び
光沢面側に、クロム水和酸化物層を形成した。粗面側の
見かけ面積あたりのクロム電着量は、０．０５mg／dm2
であり、光沢面側のクロム電着量は、０．０２mg／dm2
であった。
mg／dm2 を、光沢面に亜鉛０．３mg／dm2 を電着した。
これを水洗後、実施例２と同様にして、銅箔の粗面及び
光沢面側に、クロム水和酸化物層を形成した。粗面側の
見かけ面積あたりのクロム電着量は、０．０５mg／dm2
であり、光沢面側のクロム電着量は、０．０２mg／dm2
であった。
【００４５】次に、このようにクロム水和酸化物層を形
成した銅箔を、炉内の条件を温度３００℃に制御した６
ｍの窒素ガス雰囲気加熱炉中（酸素１．５％）を１２ m
／分で走行させて加熱処理し（炉内滞留時間：３０
秒）、両面に被覆した亜鉛の拡散を行って、表面処理銅
箔を作製した。得られた表面処理銅箔について、実施例
１と同様にして耐食性、半田濡れ性及びクロム残を評価
した。結果を表１に示す。
成した銅箔を、炉内の条件を温度３００℃に制御した６
ｍの窒素ガス雰囲気加熱炉中（酸素１．５％）を１２ m
／分で走行させて加熱処理し（炉内滞留時間：３０
秒）、両面に被覆した亜鉛の拡散を行って、表面処理銅
箔を作製した。得られた表面処理銅箔について、実施例
１と同様にして耐食性、半田濡れ性及びクロム残を評価
した。結果を表１に示す。
【００４６】比較例３ 実施例３と同様にして、電解銅箔の粗面に、亜鉛３．１
mg／dm2 を、光沢面に０．３mg／dm2 を電着した。これ
を水洗後、実施例３と同様にして、銅箔の粗面及び光沢
面側に、クロム水和酸化物層を形成した。粗面側の見か
け面積あたりのクロム電着量は、０．０５mg／dm2 であ
り、光沢面側のクロム電着量は、０．０２mg／dm2 であ
った。
mg／dm2 を、光沢面に０．３mg／dm2 を電着した。これ
を水洗後、実施例３と同様にして、銅箔の粗面及び光沢
面側に、クロム水和酸化物層を形成した。粗面側の見か
け面積あたりのクロム電着量は、０．０５mg／dm2 であ
り、光沢面側のクロム電着量は、０．０２mg／dm2 であ
った。
【００４７】次に、このようにクロム水和酸化物層を形
成した銅箔を、炉内の条件を温度３００℃に制御した６
ｍの窒素ガス雰囲気加熱炉中（酸素１．５％）を１２ m
／分で走行させて加熱処理し（炉内滞留時間：３０
秒）、両面に被覆した亜鉛の拡散を行って、表面処理銅
箔を作製した。得られた表面処理銅箔について、実施例
１と同様にして耐食性、半田濡れ性及びクロム残を評価
した。結果を表１に示す。
成した銅箔を、炉内の条件を温度３００℃に制御した６
ｍの窒素ガス雰囲気加熱炉中（酸素１．５％）を１２ m
／分で走行させて加熱処理し（炉内滞留時間：３０
秒）、両面に被覆した亜鉛の拡散を行って、表面処理銅
箔を作製した。得られた表面処理銅箔について、実施例
１と同様にして耐食性、半田濡れ性及びクロム残を評価
した。結果を表１に示す。
【００４８】 比較例４電解銅箔の粗面に、ＣｒＯ3 ５g/l 及びＮａＯ
Ｈ１０g/l を含有する常温の電解液を使用し、銅箔の粗
面及び光沢面側を陰極処理してクロム水和酸化物層を形
成した。粗面側の見かけ面積あたりのクロム電着量は、
０．０５mg／dm2 であり、光沢面側のクロム電着量は、
０．０２mg／dm2 であった。
Ｈ１０g/l を含有する常温の電解液を使用し、銅箔の粗
面及び光沢面側を陰極処理してクロム水和酸化物層を形
成した。粗面側の見かけ面積あたりのクロム電着量は、
０．０５mg／dm2 であり、光沢面側のクロム電着量は、
０．０２mg／dm2 であった。
【００４９】次に、このようにクロム水和酸化物層を形
成した銅箔を、炉内の条件を温度４００℃に制御した６
ｍ窒素ガス雰囲気加熱炉（酸素１．５％）中を３６ m／
分で走行させて加熱処理し（炉内滞留時間：１０秒）、
該銅箔を焼鈍した。
成した銅箔を、炉内の条件を温度４００℃に制御した６
ｍ窒素ガス雰囲気加熱炉（酸素１．５％）中を３６ m／
分で走行させて加熱処理し（炉内滞留時間：１０秒）、
該銅箔を焼鈍した。
【００５０】焼鈍後の銅箔は、ＴＳ＝２５．０kg／mm
2 、ｅ＝２０．９％であった。（焼鈍前は、ＴＳ＝３
２．０kg／mm2 、ｅ＝１２．４％）得られた表面処理銅
箔について、実施例１と同様にして耐食性、半田濡れ性
及びクロム残を評価した。結果を表１に示す。
2 、ｅ＝２０．９％であった。（焼鈍前は、ＴＳ＝３
２．０kg／mm2 、ｅ＝１２．４％）得られた表面処理銅
箔について、実施例１と同様にして耐食性、半田濡れ性
及びクロム残を評価した。結果を表１に示す。
【００５１】
【表１】
【００５２】表１から明らかなように、本発明の方法に
より加熱処理した銅箔は、窒素中で加熱処理を行った銅
箔に比べ、耐食性、半田濡れ性及びクロム残の点で、は
るかに優れている。これは、加熱処理によっても、クロ
ム水和酸化物の水和が破壊されず、皮膜に変質、クラッ
クが起こらないことによる。
より加熱処理した銅箔は、窒素中で加熱処理を行った銅
箔に比べ、耐食性、半田濡れ性及びクロム残の点で、は
るかに優れている。これは、加熱処理によっても、クロ
ム水和酸化物の水和が破壊されず、皮膜に変質、クラッ
クが起こらないことによる。
【００５３】
【発明の効果】本発明によると、銅材料にクロム水和酸
化物皮膜を形成させた後に、加熱処理を行うことができ
るので、従来の方法のように銅材料を加熱処理した後に
クロム水和酸化物皮膜を形成させるという煩雑な工程を
必要とせず、処理工程が簡略化することができ、工業的
に、能率、製造コストの点で、非常に効果の大きい方法
である。また耐食性及びクロム残の点で、従来の方法で
得られた表面処理銅箔と全く遜色は見られない。
化物皮膜を形成させた後に、加熱処理を行うことができ
るので、従来の方法のように銅材料を加熱処理した後に
クロム水和酸化物皮膜を形成させるという煩雑な工程を
必要とせず、処理工程が簡略化することができ、工業的
に、能率、製造コストの点で、非常に効果の大きい方法
である。また耐食性及びクロム残の点で、従来の方法で
得られた表面処理銅箔と全く遜色は見られない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 勤 栃木県今市市荊沢601番地の２ 古河サ ーキットフォイル株式会社 今市事業所 内 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25D 11/38
Claims (2)
- 【請求項１】 銅又は銅合金材料の表面にクロム水和酸
化物皮膜を形成させた後、これを水蒸気の存在下に加熱
することを特徴とするクロム水和酸化物被覆銅材料の製
造方法。 - 【請求項２】 銅又は銅合金材料の表面に亜鉛、亜鉛合
金、スズ又はスズ合金からなる中間層を形成させ、該中
間層の上にクロム水和酸化物皮膜を形成させた後、これ
を水蒸気の存在下に加熱することを特徴とするクロム水
和酸化物被覆銅材料の製造方法。 【請求項２】 水蒸気濃度が３ vol％以上である請求項
１又は２記載のクロム水和酸化物被覆銅材料の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04026468A JP3121898B2 (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | クロム水和酸化物被覆銅材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04026468A JP3121898B2 (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | クロム水和酸化物被覆銅材料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05222586A JPH05222586A (ja) | 1993-08-31 |
| JP3121898B2 true JP3121898B2 (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=12194354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04026468A Expired - Fee Related JP3121898B2 (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | クロム水和酸化物被覆銅材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3121898B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4825124A (en) * | 1984-05-07 | 1989-04-25 | Gte Laboratories Incorporated | Phosphor particle, fluorescent lamp, and manufacturing method |
-
1992
- 1992-02-13 JP JP04026468A patent/JP3121898B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05222586A (ja) | 1993-08-31 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |