JP3107025B2 - Semiconductor integrated circuit and test method thereof - Google Patents

Semiconductor integrated circuit and test method thereof

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JP3107025B2 JP09350313A JP35031397A JP3107025B2 JP 3107025 B2 JP3107025 B2 JP 3107025B2 JP 09350313 A JP09350313 A JP 09350313A JP 35031397 A JP35031397 A JP 35031397A JP 3107025 B2 JP3107025 B2 JP 3107025B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路及び
その試験方法に関し、特に大規模マクロとそのテスト回
路を内蔵する半導体集積回路及びその試験方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit and a test method therefor, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a large-scale macro and a test circuit built therein and a test method therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】昨今の半導体集積回路の大規模化につれ
て、アナログ回路やメモリ回路も一つのマクロとして半
導体集積回路に内蔵することは一般的となり、さらに近
年のDRAM混載技術の確立やIP(intellec
tual property)と呼ばれるマクロコアが
ビジネスとしても流通するようになったことを背景に、
システムLSIはさらに複雑な大規模マクロを内蔵する
ようになった。これらの大規模マクロを内蔵するシステ
ムLSIの試験方法として、大規模マクロ間にテスト回
路を設定し、システムLSIの外側からこれらの大規模
マクロに対して、他の回路や大規模マクロを介さずに直
接信号を入力したり、あるいは試験対象の大規模マクロ
の出力信号を他の回路や大規模マクロを介さずに直接外
部へ出力できるようにし、あたかも単体で試験できるよ
うにしたマクロの分離試験方法は公知の技術としてかな
り普及している。
2. Description of the Related Art With the recent increase in the scale of semiconductor integrated circuits, it has become common to incorporate analog circuits and memory circuits as one macro in a semiconductor integrated circuit.
Against the background that the macro core called “tual property” has been distributed as a business,
System LSIs have come to incorporate more complex large-scale macros. As a test method for a system LSI incorporating these large-scale macros, a test circuit is set between the large-scale macros, and these large-scale macros can be accessed from outside the system LSI without passing through other circuits or large-scale macros. Separation test of macros by directly inputting signals to the macro or by directly outputting the output signals of the large macro to be tested to the outside without passing through other circuits or large macros The method is quite popular as a known technique.

【0003】実際の大規模マクロを内蔵した半導体集積
回路の一例として、DRAMコアを内蔵したDRAM−
ASICが近年注目を浴びている。Semicondu
ctor World,1997年8月号,P76−P
103には、上記内蔵DRAMコアの試験方法として、
DRAM試験専用の入出力端子を設定し、この端子から
ダイレクトにDRAMコアへのアクセスを可能とする試
験法の提案を、各社が発表している。従来の第1の一般
的なマクロ分離試験回路を内蔵するこの種の半導体集積
回路の基本構成をブロックで示す図4を参照すると、こ
の従来の第1の半導体集積回路は、2つの大規模マクロ
8,9と、これら大規模マクロ8,9間に設定されたテ
スト回路11とを備える。
An example of an actual semiconductor integrated circuit having a large-scale macro built therein is a DRAM-
ASICs have received attention in recent years. Semicondu
ctor World, August 1997, P76-P
103 shows a test method for the above-mentioned built-in DRAM core,
Each company has announced a test method in which an input / output terminal dedicated to DRAM testing is set and a DRAM core can be directly accessed from this terminal. Referring to FIG. 4, which is a block diagram showing the basic configuration of a semiconductor integrated circuit of this type incorporating a first conventional macro separation test circuit, the first conventional semiconductor integrated circuit has two large-scale macro circuits. 8 and 9 and a test circuit 11 set between these large-scale macros 8 and 9.

【0004】次に、図4を参照して、従来の第1の半導
体集積回路の動作について説明すると、まず、通常の動
作モードの時は、テスト回路11は、入力選択端子TT
から供給を受ける選択制御信号Tのレベルを’0’と
し、テスト回路11は選択制御信号Tのレベル’0’に
応答してこの前段の大規模マクロ8の出力信号Aを入力
として選択し、次段の大規模マクロ9に供給する。
Next, the operation of the first conventional semiconductor integrated circuit will be described with reference to FIG. 4. First, in a normal operation mode, the test circuit 11 is connected to an input selection terminal TT.
The level of the selection control signal T supplied from is set to '0', and the test circuit 11 selects the output signal A of the preceding large-scale macro 8 as an input in response to the level '0' of the selection control signal T, It is supplied to the next large-scale macro 9.

【0005】これに対しテスト時には、選択制御信号T
のレベルを’1’とし、テスト回路11は選択制御信号
Tのレベル’1’に応答してテスト用入力端子TBを介
して供給されるテスト信号Bを入力として選択し、次段
の大規模マクロ9に供給する。この時、テスト回路11
の手前の大規模マクロ8は入力端子TI1,TI2,出
力端子TO3,テスト用出力端子TTSにより単体試験
が可能になり、テスト回路11の後段の大規模マクロ9
はテスト入力端子TB,入力端子TI3,出力端子TO
1,TO2により単体試験が可能となる。
On the other hand, during the test, the selection control signal T
Is set to “1”, the test circuit 11 selects the test signal B supplied via the test input terminal TB as an input in response to the level “1” of the selection control signal T, and Supply to Macro 9. At this time, the test circuit 11
Of the large-scale macro 8 in front of the test circuit 11 can be unit-tested by the input terminals TI1, TI2, the output terminal TO3, and the test output terminal TTS.
Is the test input terminal TB, the input terminal TI3, and the output terminal TO
1 and TO2 enable a unit test.

【0006】以上が一般的な従来の第1のマクロ分離試
験の基本概念である。
The above is the basic concept of the general first conventional macro separation test.

【0007】また、これに改良を加える方法については
様々な提案がなされている。その一例として特開平4−
2115081号公報記載の従来の第2の半導体集積回
路がある。
[0007] Various proposals have been made for a method of improving this. As an example, Japanese Patent Laid-Open No.
There is a second conventional semiconductor integrated circuit described in Japanese Patent No. 2115081.

【0008】マクロ分離試験方法を適用する従来の第2
の半導体集積回路を図4と共通の構成要素には共通の参
照文字/数字を付して同様にブロックで示す図5を参照
すると、この従来の第2の半導体集積回路の前述の第1
の半導体集積回路との相違点は、第2,第3のテスト回
路12,13をさらに備え、大規模マクロ8,9の各々
とテスト回路11,12の各々とをグループ化してそれ
ぞれ1つの大規模マクロブロック100,101を形成
した上で、大規模マクロブロック100,101間にさ
らにもう一段のテスト回路13を追加することである。
The second conventional method applying the macro separation test method
FIG. 5 is a block diagram of the semiconductor integrated circuit of FIG. 5 in which components common to those of FIG. 4 are denoted by common reference characters / numbers.
The difference from this semiconductor integrated circuit is that it further includes second and third test circuits 12 and 13, and that each of the large-scale macros 8 and 9 and each of the test circuits 11 and 12 are grouped into one large circuit. After forming the large-scale macroblocks 100 and 101, another test circuit 13 is further added between the large-scale macroblocks 100 and 101.

【0009】これにより、大規模マクロを動作させるた
めの複雑なテストパターンを必要とすることなしに、大
規模マクロ間の配線の接続試験を行うものである。ま
た、特開平4−49637号公報記載の従来の第3の半
導体集積回路を図5と共通の構成要素には共通の参照文
字/数字を付して同様にブロックで示す図6を参照する
と、この従来の第3の半導体集積回路の前述の第2の半
導体集積回路との相違点は、大規模マクロをメガマクロ
108とユーザマクロ109に分類したうえで、従来ユ
ーザマクロ109側だけに設定されていたテスト回路を
メガマクロ108の周辺にも配置し、メガマクロ108
とテスト回路11をメガマクロブロック100Aとして
グループ化し、一方でユーザマクロ109もテスト回路
12,14をユーザーマクロブロック101Aとしてグ
ループ化することである。これにより、マクロ間配線数
を減らし、かつ信号配線経路を最適化することで配線遅
延を削減することを意図としている。
Thus, a connection test of wiring between large-scale macros is performed without requiring a complicated test pattern for operating a large-scale macro. FIG. 6 shows a third conventional semiconductor integrated circuit disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-49637, in which constituent elements common to those in FIG. The difference between the third conventional semiconductor integrated circuit and the second semiconductor integrated circuit is that large-scale macros are classified into mega macros 108 and user macros 109, and are set only on the conventional user macro 109 side. The test circuit is placed around the mega macro 108,
And the test circuit 11 are grouped as a mega macro block 100A, while the user macro 109 is also grouped with the test circuits 12, 14 as a user macro block 101A. This is intended to reduce the number of wirings between macros and to reduce wiring delays by optimizing signal wiring paths.

【0010】しかしながら、上述の第1,第2及び第3
の従来の半導体集積回路は、次段の大規模マクロを駆動
する場合と出力をそのまま端子からLSIの外部に引き
出し、例えばLSIテスタのコンパレータ回路等の検出
回路で信号検出する場合とで同一の出力回路を使用する
ことになる。図4及び図5のテスト出力端子TTSに関
わる信号経路がこれに該当する。
However, the first, second, and third above-mentioned
In the conventional semiconductor integrated circuit, the same output is obtained when a large-scale macro of the next stage is driven and when the output is directly extracted from a terminal to the outside of the LSI and a signal is detected by a detection circuit such as a comparator circuit of an LSI tester. Circuit will be used. The signal path related to the test output terminal TTS in FIGS. 4 and 5 corresponds to this.

【0011】一般的にCMOS型のLSIで考えた場
合、LSI内部の次段回路の所要駆動電流はμAオーダ
だが、LSIの外側に接続される50Ω系の伝送路やそ
の先の検出回路を駆動するにはmAオーダの駆動電流が
必要となる。
In general, when a CMOS type LSI is considered, the required driving current of the next stage circuit inside the LSI is on the order of μA, but a 50Ω transmission line connected outside the LSI and a detection circuit thereabove are driven. To do so, a drive current on the order of mA is required.

【0012】従来の第1の半導体集積回路の基本構成か
ら明らかなように、LSIに内蔵された大規模マクロ
8,9の出力をLSIの外から観測及び検出するために
は、通常機能の周辺バッファと同等の駆動能力、すなわ
ちmAオーダの駆動電流の出力回路を準備する必要があ
る。
As is apparent from the basic configuration of the first conventional semiconductor integrated circuit, in order to observe and detect the outputs of the large-scale macros 8 and 9 built in the LSI from outside the LSI, the peripheral functions of the normal functions are required. It is necessary to prepare an output circuit for driving current equivalent to a buffer, that is, a driving current on the order of mA.

【0013】ここで問題なのは通常モードでLSIが動
作する場合、次段の大規模マクロを動作させるために、
μAオーダの電流で十分であるのに、常に大電流を駆動
する出力回路が動作し、CMOS回路の消費電力の大き
な要因となる貫通電流を流すことになることである。言
い換えれば、このマクロの分離試験方法を採用した従来
の半導体集積回路は通常モードで動作する時も消費電力
が増大するという問題点を内包している。また、このよ
うな大電流を駆動できる出力回路で負荷の軽い後段回路
を駆動することになると、オーバシュート、アンダーシ
ュートのような波形の歪みが出やすくなる。このような
波形の歪みは、後段回路が組み合わせ回路であれば問題
も少ないが、順序回路のクロック信号やリセット信号の
ような制御系の信号である場合、後段回路を誤動作させ
る要因となる。つまり、通常モードでの動作に対し、動
作を不安定にさせるおそれがある。この課題を解決する
アプローチとして考えられる図7に示す従来の第4の半
導体集積回路及びその試験方法は、大規模マクロ9とテ
スト回路11をグループ化した大規模マクロブロック1
00Bを入力端子TIから出力端子TOまでチェイン接
続し、試験対象となる大規模マクロの検出対象出力信号
をテスト回路11を何段も経由させ、最終的に通常モー
ドで使用する出力端子TOにまで到達させ、ここで観測
する。
The problem here is that when the LSI operates in the normal mode, in order to operate the next large-scale macro,
Although a current on the order of μA is sufficient, an output circuit that always drives a large current operates, and a through current, which is a major factor in power consumption of a CMOS circuit, flows. In other words, the conventional semiconductor integrated circuit employing the macro isolation test method has a problem that power consumption increases even when operating in the normal mode. Also, if an output circuit capable of driving such a large current drives a light-stage subsequent circuit, waveform distortion such as overshoot and undershoot is likely to occur. Such waveform distortion has few problems if the subsequent circuit is a combinational circuit. However, when the signal is a control system signal such as a clock signal or a reset signal of a sequential circuit, it causes a malfunction of the subsequent circuit. That is, the operation may be unstable with respect to the operation in the normal mode. A fourth conventional semiconductor integrated circuit and a test method thereof shown in FIG.
00B is chain-connected from the input terminal TI to the output terminal TO, and the detection target output signal of the large-scale macro to be tested is passed through the test circuit 11 in several stages and finally to the output terminal TO used in the normal mode. Let it reach and observe here.

【0014】しかし、この従来の第4の半導体集積回路
及びその試験方法には2つの問題点がある。1つは冗長
な信号経路を伝搬するため、配線遅延が増加するという
ことである。この問題は単に遅延時間の大きさの問題だ
けでなく、アドレスやデータといったバス信号について
は、その同一属性の信号相互の遅延時間のばらつきを大
きくさせる問題もあり、場合によっては大規模マクロの
出力端では正常なタイミングで信号出力していても、最
終段の出力端子を受け取った信号検出側では、その遅延
時間の増加や信号相互間の遅延時間のばらつきから、異
常と判定される可能性もある。
However, the conventional fourth semiconductor integrated circuit and its test method have two problems. One is that the wiring delay increases because the signal propagates through a redundant signal path. This problem is not only a problem of the size of the delay time, but also of bus signals such as addresses and data, there is a problem that the delay time between signals of the same attribute is greatly varied. Even if the signal is output at the normal timing at the end, the signal detection side receiving the output terminal of the final stage may determine that the signal is abnormal due to the increase in the delay time or the variation in the delay time between the signals. is there.

【0015】また、もう1つの問題は、外部に取り出し
たい大規模マクロの出力信号の数に対し、中継のための
他の大規模マクロ周辺のテスト回路の数や、最終的な端
子の数が必ずしも一致あるいは十分ではない場合がある
ことである。この問題を回避するためには既知のテスト
回路11以外にも多重・分配回路を経由させで調整する
方法が考えられるが、これは1番目の問題をさらに増幅
させ、またその制御も複雑化することになる。
Another problem is that the number of test circuits around other large-scale macros for relaying and the number of final terminals are larger than the number of output signals of the large-scale macro to be taken out. It is not always consistent or sufficient. In order to avoid this problem, it is conceivable to make adjustments via a multiplexing / distributing circuit other than the known test circuit 11, but this further amplifies the first problem and complicates its control. Will be.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の第1,
第2及び第3の半導体集積回路及びその試験方法は、次
段の大規模マクロを駆動する場合と出力をそのままLS
Iの外部に引き出し外部の検出回路で信号検出する場合
とで同一の出力回路を使用しているため、この出力回路
は上記外部回路の駆動能力を必要とすることから通常動
作では駆動能力が過剰となり、貫通電流による消費電力
の増大要因となるという欠点があった。
SUMMARY OF THE INVENTION The above-mentioned first and second prior arts are known.
The second and third semiconductor integrated circuits and the test method thereof are different in the case where the next-stage large-scale macro is driven and the case where the output is LS
Since the same output circuit is used in the case where the signal is extracted to the outside of I and the signal is detected by the external detection circuit, this output circuit requires the driving capability of the external circuit. Therefore, there is a disadvantage that the through current causes an increase in power consumption.

【0017】また、このような大電流駆動能力を有する
出力回路で負荷の軽い後段回路を駆動すると、オーバシ
ュート、アンダーシュートなどの波形歪みが生じ易くな
り、このような波形歪みは、順序回路のクロック信号や
リセット信号等の制御系の信号である場合は後段回路の
誤動作要因となることにより、通常モードでの動作を不
安定にさせるおそれがあるという欠点があった。
When the output circuit having such a large current driving capability drives a light-stage subsequent circuit, waveform distortion such as overshoot and undershoot is likely to occur. A control signal such as a clock signal or a reset signal causes a malfunction of a subsequent circuit, thereby causing a problem that the operation in the normal mode may be unstable.

【0018】上記欠点の解決を図った従来の第4の半導
体回路及びその試験方法は、冗長な信号経路を伝搬する
ため配線遅延が増加することと、外部出力対象の大規模
マクロの出力信号の数に対し、中継用の他の大規模マク
ロ周辺のテスト回路の数や最終的な端子の数が必ずしも
一致あるいは十分ではない場合があることとから、実用
化が困難であるという欠点があった。
The fourth conventional semiconductor circuit and the test method therefor which solve the above-mentioned drawbacks have the disadvantage that the wiring delay increases due to the propagation of the redundant signal path and that the output signal of the large-scale macro to be externally output is increased. The number of test circuits around the other large-scale macros for relaying and the number of final terminals may not always match or be sufficient with respect to the number. .

【0019】本発明の目的は、大規模マクロを内蔵する
LSIに対し、マクロの分離試験方法を適用することで
試験の容易化を実現しながら、かつ、通常モードでの動
作時には、貫通電流による消費電力の増大を抑制し、か
つ安定な動作を実現する半導体集積回路及びその試験方
法を提供することにある。
An object of the present invention is to realize an easy test by applying a macro separation test method to an LSI having a large-scale macro built therein, and at the time of operation in a normal mode, to realize a through current. An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit which suppresses an increase in power consumption and realizes a stable operation, and a test method therefor.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、少なくとも1個の大規模マクロと、テスト選択制御
信号の供給に応答して前記大規模マクロの出力信号と外
部から供給される所定のテスト信号とのいずれか一方を
次段の内部回路とテスト用の外部出力端子とに出力する
テスト回路とを備える半導体集積回路において、前記テ
スト回路が、前記テスト選択制御信号の供給に応答して
前記大規模マクロの出力信号と前記テスト信号とのいず
れか一方を選択して選択信号として出力する選択機能
路と、前記選択機能回路の後段に接続され前記選択信号
出力用に駆動能力制御信号のレベルに応じて駆動能力が
変化する可変駆動能力の出力バッファ回路を内蔵し、
記外部出力端子にテスト装置が接続されていない通常動
作時には前記選択信号を前記内部回路のみに供給するた
め前記出力バッファ回路の駆動能力を小さくし、テスト
時に前記選択信号を前記外部出力端子に接続した前記テ
スト装置に出力するときは前記出力バッファ回路の駆動
能力を大きくするよう制御する駆動能力調整機能回路
を備えて構成されている。
According to the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit comprising at least one large-scale macro, an output signal of the large-scale macro in response to the supply of a test selection control signal, and a predetermined externally supplied signal. And a test circuit that outputs one of the test signals to the next-stage internal circuit and an external output terminal for testing, wherein the test circuit responds to the supply of the test selection control signal. wherein the selection function times <br/> circuit for outputting a selection signal by selecting either the output signal and the test signal of a large macro, the selection signal is connected downstream of the selecting function circuit Te
Driving capacity depends on the level of the driving capacity control signal for output.
An output buffer circuit having a variable driving capability that changes is built in, and in a normal operation in which a test device is not connected to the external output terminal, the selection signal is supplied only to the internal circuit so that the driving capability of the output buffer circuit is reduced. And a driving capability adjusting function circuit for controlling the output buffer circuit to increase the driving capability when outputting the selection signal to the test device connected to the external output terminal during a test.

【0021】本発明の半導体集積回路の試験方法は、少
なくとも1個の大規模マクロと、テスト選択制御信号の
供給に応答して前記大規模マクロの出力信号と外部から
供給される所定のテスト信号とのいずれか一方を選択し
て選択信号として次段の内部回路とテスト用の外部出力
端子とに出力する選択機能回路及びこの選択機能回路の
後段に接続され前記選択信号出力用に駆動能力の制御に
応じて駆動能力が変化する可変駆動能力の出力バッファ
回路を内蔵する駆動能力調整機能回路を有するテスト回
路とを備える半導体集積回路の試験方法において、前記
大規模マクロの出力を前記選択信号として前記外部出力
端子に接続したテスト装置に出力する分離テストの実行
時に、この大規模マクロのテスト対象の出力端子に対応
する前記テスト回路内蔵の前記出力バッファ回路の前記
駆動能力を大きくするよう制御した状態でテストを実行
し、それ以外の場合には前記駆動能力を小さくするよう
制御することにより、余剰な貫通電流の発生を抑制する
ことを特徴とするものである。
According to the method for testing a semiconductor integrated circuit of the present invention, at least one large-scale macro, an output signal of the large-scale macro in response to supply of a test selection control signal, and a predetermined test signal supplied from the outside. And a selection function circuit for selecting either one of the above and outputting as a selection signal to the internal circuit of the next stage and an external output terminal for testing .
Connected to the subsequent stage to control the driving capability for the selection signal output
Variable output capacity output buffer with variable drive capacity
A method of testing a semiconductor integrated circuit and a test circuit having a driving capability adjusting function circuit having a built-in circuit, the
Execution of a separation test for outputting an output of a large-scale macro as the selection signal to a test device connected to the external output terminal
Occasionally corresponds to the output terminal under test of this large-scale macro
Run the test in a state where the control was to be increased the <br/> driving capability of the output buffer circuit of the test circuit built for
In other cases, the driving capability is reduced.
By controlling, the generation of an excessive through current is suppressed .

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】次に、本発明の第1の実施の形態
を特徴付けるテスト回路1をブロックで示す図1を参照
すると、この図に示す本実施の形態のテスト回路1は、
信号選択端子TTからの選択制御信号Tの供給に応答し
て入力端子TAからの前段の通常動作での大規模マクロ
からの信号Aの供給及び入力端子TBからの試験動作モ
ード信号Bのいずれか一方を選択的し選択信号Yを出力
する選択機能部2と、制御端子TCからの出力先によっ
て駆動能力を制御する制御信号Cの供給に応答して駆動
能力を調整した選択信号Y対応の出力信号Sを出力端子
TSに出力する調整機能部3とを備える。
FIG. 1 is a block diagram showing a test circuit 1 which characterizes a first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the test circuit 1 of this embodiment shown in FIG.
In response to the supply of the selection control signal T from the signal selection terminal TT, one of the supply of the signal A from the large-scale macro in the preceding normal operation from the input terminal TA and the test operation mode signal B from the input terminal TB A selection function unit 2 for selectively outputting one and outputting a selection signal Y; and an output corresponding to the selection signal Y in which the driving capability is adjusted in response to the supply of a control signal C for controlling the driving capability in accordance with the output destination from the control terminal TC. An adjustment function unit 3 that outputs the signal S to the output terminal TS.

【0023】次に、図1を参照して本実施の形態のテス
ト回路1の動作について説明すると、まず、選択機能部
2は、従来のテスト回路11と同様に、選択制御信号T
が’0’の時、大規模マクロからの信号Aを入力として
選択し、選択制御信号Tが’1’の時は試験動作モード
信号Bを選択し、選択信号Yを出力し、次段の駆動調整
機能部3に供給する。駆動調整機能部3は、通常駆動能
力動作と外部駆動用の高駆動能力動作とを切り換える可
変バッフアを有し、制御信号Cが’0’ならば、内部の
次段回路を駆動対象とし、内部回路を駆動するよう通常
駆動能力動作となる。
Next, the operation of the test circuit 1 of the present embodiment will be described with reference to FIG. 1. First, the selection function unit 2 selects the selection control signal T like the conventional test circuit 11.
Is "0", the signal A from the large-scale macro is selected as an input. When the selection control signal T is "1", the test operation mode signal B is selected, and the selection signal Y is output. It is supplied to the drive adjustment function unit 3. The drive adjustment function unit 3 has a variable buffer for switching between a normal drive capability operation and a high drive capability operation for external drive. If the control signal C is “0”, the internal next-stage circuit is driven, and Normal driving capability operation is performed to drive the circuit.

【0024】一方、テスト用外部端子を経由して大規模
マクロの出力信号を観測する場合は、駆動対象の負荷は
通常動作より大きくなるので、制御信号Cを’1’と
し、それに適した駆動能力を有する高駆動能力動作とな
るよう制御を行う。
On the other hand, when observing the output signal of the large-scale macro via the test external terminal, the load to be driven becomes larger than in the normal operation. The control is performed so as to achieve the high driving capability operation having the capability.

【0025】次に、本実施の形態のテスト回路1の駆動
調整機能部3をCMOS回路で構成した具体回路例を回
路図で示す図2を参照すると、この図に示す駆動調整機
能部3は、PMOSトランジスタP33とNMOSトラ
ンジスタN33とから構成される出力回路31と、通常
駆動能力用のPMOSトランジスタP31と、高駆動能
力用のゲート幅Wすなわちサイズを大きくしたPMOS
トランジスタP32と、通常駆動能力用のNMOSトラ
ンジスタN31と、高駆動能力用のゲート幅Wを大きく
したNMOSトランジスタN32と、制御信号Cを反転
し反転制御信号CBを出力するインバータI31とを備
える。
Next, referring to FIG. 2 which is a circuit diagram showing a specific circuit example in which the drive adjustment function unit 3 of the test circuit 1 of the present embodiment is formed by a CMOS circuit, the drive adjustment function unit 3 shown in FIG. Output circuit 31 composed of a PMOS transistor P33 and an NMOS transistor N33, a PMOS transistor P31 for normal driving capability, and a PMOS having a large gate width W, that is, a large size for high driving capability.
It includes a transistor P32, an NMOS transistor N31 for normal drive capability, an NMOS transistor N32 with a large gate width W for high drive capability, and an inverter I31 that inverts the control signal C and outputs an inverted control signal CB.

【0026】次に、図2を参照して、駆動調整機能部3
の動作について説明すると、まず、入力選択部2で選択
した選択信号Yは、駆動調整機能部3の出力回路31に
供給される。まず、出力先が次段の内部回路である通常
動作の場合は、制御信号Cのレベルは’0’であり、こ
の制御信号Cの’0’,及びその反転信号CBの’1’
に応答して通常動作対応の小サイズのトランジスタP3
1,N31の各々を導通させ、大サイズのトランジスタ
P32,N32を遮断する。したがって、出力回路31
の電源はトランジスタP31,N31を経由して供給さ
れ、電流値はこれらトランジスタP31,N31で決定
され、スイッチング時に大きな貫通電流は流れない。こ
れにより、通常動作時の消費電力の不要な増大を抑圧で
きる。
Next, referring to FIG.
First, the selection signal Y selected by the input selection unit 2 is supplied to the output circuit 31 of the drive adjustment function unit 3. First, in the case of a normal operation in which the output destination is the internal circuit of the next stage, the level of the control signal C is “0”, and “0” of the control signal C and “1” of the inverted signal CB thereof.
, A small-sized transistor P3 for normal operation
1 and N31 are turned on, and the large-sized transistors P32 and N32 are cut off. Therefore, the output circuit 31
Is supplied via the transistors P31 and N31, the current value is determined by the transistors P31 and N31, and no large through current flows during switching. Thus, unnecessary increase in power consumption during normal operation can be suppressed.

【0027】次に、駆動調整機能部3の出力先が試験端
子TTSを経由した外部の試験回路であるテスト動作の
場合は、制御信号Cのレベルは’1’であり、この制御
信号Cの’1’,及びその反転信号CBの’0’に応答
して高駆動能力動作対応の大サイズのトランジスタP3
2,N32の各々を導通させ、小サイズのトランジスタ
P31,N31を遮断する。したがって、出力回路31
の電源はトランジスタP32,N32を経由して供給さ
れ、電流値はこれらトランジスタP32,N32で決定
され、十分な負荷駆動能力を得ることができる。
Next, in the case of a test operation in which the output destination of the drive adjustment function unit 3 is an external test circuit via the test terminal TTS, the level of the control signal C is "1". In response to "1" and its inverted signal "CB" of "0", a large-sized transistor P3 corresponding to a high driving capability operation.
2 and N32 are turned on, and the small-sized transistors P31 and N31 are cut off. Therefore, the output circuit 31
Is supplied via the transistors P32 and N32, and the current value is determined by the transistors P32 and N32, so that a sufficient load driving capability can be obtained.

【0028】本実施の形態のテスト回路1を大規模マク
ロを内蔵した本発明の第2の実施の形態の半導体集積回
路を図5と共通の構成要素には共通の参照文字/数字を
付して同様にブロックで示す図3を参照すると、この図
に示す本実施の形態の半導体集積回路は、従来と共通の
大規模マクロ8,9に加えて、テスト回路11の代わり
にこれら大規模マクロ8,9間に設定された第1の実施
の形態のテスト回路1を備える。
A semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention in which a test circuit 1 according to the present embodiment incorporates a large-scale macro is provided with common reference characters / numerals for components common to those in FIG. Referring to FIG. 3 which is also shown by blocks, the semiconductor integrated circuit of the present embodiment shown in FIG. The test circuit 1 of the first embodiment set between 8 and 9 is provided.

【0029】次に、図3を参照して本実施の形態の動作
について説明すると、まず通常の動作モードの時は、入
力選択端子TTから供給を受ける選択制御信号T及び制
御端子TCから供給を受ける制御信号Cの各々のレベル
を’0’に設定する。テスト回路1の選択機能部2は、
選択制御信号Tのレベル’0’に応答してこの前段の大
規模マクロ8の出力信号Aを入力として選択し、選択信
号Yとして駆動調整機能部3に供給する。駆動調整機能
部3は制御信号Cのレベル’0’に応答して通常駆動能
力動作となり、選択信号Y対応の出力信号Sを次段の大
規模マクロ9に供給する。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIG. 3. First, in the normal operation mode, the selection control signal T supplied from the input selection terminal TT and the supply from the control terminal TC are supplied. The level of each of the received control signals C is set to '0'. The selection function unit 2 of the test circuit 1
In response to the level “0” of the selection control signal T, the output signal A of the preceding large-scale macro 8 is selected as an input and supplied to the drive adjustment function unit 3 as the selection signal Y. Driving adjusting function unit 3 becomes normal driving capacity operation in response to the level "0" of the control signal C, and supplies an output signal S of the selection signal Y corresponding to the next stage of large-scale macro 9.

【0030】次に、試験対象となる大規模マクロ8を分
離試験する場合は、選択制御信号Tのレベルを’0’
に、制御信号Cのレベルを’1’にそれぞれ設定する。
テスト回路1の選択機能部2は、選択制御信号Tのレベ
ル’0’に応答してこの前段の大規模マクロ8の出力信
号Aを入力として選択し、選択信号Yを出力する。駆動
調整機能部3は制御信号Cのレベル’1’に応答して高
駆動能力動作となり、選択信号Y対応の高駆動電流の出
力信号Sをテスト用の出力端子TTSに供給する。
Next, when the large-scale macro 8 to be tested is to be separated and tested, the level of the selection control signal T is set to "0".
, The level of the control signal C is set to '1'.
The selection function unit 2 of the test circuit 1 selects the output signal A of the preceding large-scale macro 8 as an input in response to the level “0” of the selection control signal T, and outputs the selection signal Y. Driving adjusting function unit 3 becomes high driving performance operation in response to the level '1' of the control signal C, to the output terminal TTS for testing an output signal S of the selection signal Y corresponding high drive currents.

【0031】次に、試験対象となる大規模マクロ9を分
離試験する場合は、選択制御信号Tのレベルを’1’
に、制御信号Cのレベルを’0’にそれぞれ設定する。
テスト回路1の選択機能部2は、選択制御信号Tのレベ
ル’1’に応答して入力端子TBから供給を受ける試験
動作モード信号Bを選択し、この信号B対応の選択信号
Yを出力する。駆動調整機能部3は制御信号Cのレベ
ル’0’に応答して通常駆動能力動作となり、選択信号
Y対応の出力信号Sを次段の大規模マクロ9に供給す
る。
Next, when the large-scale macro 9 to be tested is subjected to the isolation test, the level of the selection control signal T is set to "1".
And the level of the control signal C is set to '0'.
The selection function unit 2 of the test circuit 1 selects the test operation mode signal B supplied from the input terminal TB in response to the level “1” of the selection control signal T, and outputs a selection signal Y corresponding to the signal B. . Driving adjusting function unit 3 becomes normal driving capacity operation in response to the level "0" of the control signal C, and supplies an output signal S of the selection signal Y corresponding to the next stage of large-scale macro 9.

【0032】以上の3つの動作モードを使用することに
より、通常動作での消費電力を増大させることなく、マ
クロ分離試験用のテスト回路を内蔵した半導体集積回路
を実現できる。
By using the above three operation modes, a semiconductor integrated circuit having a built-in test circuit for a macro separation test can be realized without increasing power consumption in normal operation.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路及びその試験方法は、テスト回路が、選択信号を
内部回路のみに供給するときは駆動能力を小さくし外部
出力端子に出力するときは駆動能力を大きくするよう制
御する駆動能力調整手段を備えることにより、試験の容
易性を犠牲にすることなく、通常の動作モード時には余
剰な貫通電流の増大を抑圧できるので、消費電力の増加
を抑制できるという効果がある。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit and the test method of the present invention, when the test circuit supplies the selection signal to only the internal circuit, the drive capability is reduced and the test signal is output to the external output terminal. Has a driving capability adjusting means for controlling the driving capability to be increased, so that it is possible to suppress an excessive increase in the through current in the normal operation mode without sacrificing the easiness of the test. There is an effect that it can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を特徴付けるテスト
回路の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a test circuit that characterizes a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の駆動調整機能部3の具体的構成を示す回
路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a drive adjustment function unit 3 of FIG.

【図3】本発明の第2の実施の形態の半導体集積回路の
構成を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来の第1の半導体集積回路の一例を示すブロ
ック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing an example of a conventional first semiconductor integrated circuit.

【図5】従来の第2の半導体集積回路の一例を示すブロ
ック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing an example of a second conventional semiconductor integrated circuit.

【図6】従来の第1の半導体集積回路の一例を示すブロ
ック図である。
FIG. 6 is a block diagram illustrating an example of a conventional first semiconductor integrated circuit.

【図7】従来の第2の半導体集積回路の一例を示すブロ
ック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing an example of a second conventional semiconductor integrated circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11,12,13 テスト回路 2 選択機能部 3 駆動調整機能部 8,9 大規模マクロ 31 出力回路 100,101,100A,101A,100B 大
規模マクロブロック 108 メガマクロ 109 ユーザマクロ N31〜N33,P31〜P33 トランジスタ I31 インバータ
1, 11, 12, 13 Test circuit 2 Selection function unit 3 Drive adjustment function unit 8, 9 Large-scale macro 31 Output circuit 100, 101, 100A, 101A, 100B Large-scale macro block 108 Mega macro 109 User macro N31 to N33, P31 ~ P33 Transistor I31 Inverter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01R 31/28 - 31/3193 H01L 21/822 H01L 27/04 H03K 19/00 H03K 19/0175 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G01R 31/28-31/3193 H01L 21/822 H01L 27/04 H03K 19/00 H03K 19/0175

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくとも1個の大規模マクロと、テス
ト選択制御信号の供給に応答して前記大規模マクロの出
力信号と外部から供給される所定のテスト信号とのいず
れか一方を次段の内部回路とテスト用の外部出力端子と
に出力するテスト回路とを備える半導体集積回路におい
て、 前記テスト回路が、前記テスト選択制御信号の供給に応
答して前記大規模マクロの出力信号と前記テスト信号と
のいずれか一方を選択して選択信号として出力する選択
機能回路と、前記選択機能回路の後段に接続され前記選択信号出力用
に駆動能力制御信号のレベルに応じて駆動能力が変化す
る可変駆動能力の出力バッファ回路を内蔵し、 前記外部
出力端子にテスト装置が接続されていない通常動作時に
は前記選択信号を前記内部回路のみに供給するため前記
出力バッファ回路の駆動能力を小さくし、テスト時に前
記選択信号を前記外部出力端子に接続した前記テスト装
置に出力するときは前記出力バッファ回路の駆動能力を
大きくするよう制御する駆動能力調整機能回路とを備え
ることを特徴とする半導体集積回路。
An output signal of at least one large-scale macro and one of an output signal of the large-scale macro and a predetermined test signal supplied from the outside in response to supply of a test selection control signal are transmitted to a next stage. A semiconductor integrated circuit comprising: an internal circuit; and a test circuit that outputs to an external output terminal for testing, wherein the test circuit responds to the supply of the test selection control signal and outputs an output signal of the large-scale macro and the test signal. Select one of the two to output as a selection signal
A function circuit , connected to a subsequent stage of the selection function circuit, for outputting the selection signal.
The driving capability changes according to the level of the driving capability control signal.
An output buffer circuit having a variable driving capability, and reducing the driving capability of the output buffer circuit to supply the selection signal only to the internal circuit during a normal operation in which a test device is not connected to the external output terminal; A semiconductor integrated circuit comprising: a driving capability adjusting function circuit for controlling to increase the driving capability of the output buffer circuit when outputting the selection signal to the test device connected to the external output terminal during a test. .
【請求項2】 前記内部回路が、第1の大規模マクロで
ある前段の前記大規模マクロの次段に配置した第2の大
規模マクロであることを特徴とする請求項1記載の半導
体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the internal circuit is a second large-scale macro arranged next to the preceding large-scale macro that is the first large-scale macro. circuit.
【請求項3】 前記駆動能力調整機能回路、前記駆動
能力制御信号のレベルに応答して前記出力バッフア回路
への供給電流容量の大小を選択的に切り換える電流容量
切換手段を備えることを特徴とする請求項1記載の半導
体集積回路。
Wherein the driving capability adjustment function circuit, and further comprising a current capacity switching means for switching selectively the magnitude of the supply current capacity to the output buffer circuit in response to the level of the drivability control signal The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
【請求項4】 前記電流容量切換手段が、一端を電源に
接続し他端を前記出力バッフア回路の電源供給端子に接
続した電流能力の小さい小サイズのMOSトランジスタ
と、 前記小サイズのMOSトランジスタと並列接続した電流
能力の大きい大サイズのMOSトランジスタとを備え、
各々のゲートを前記駆動能力制御信号で制御することに
より電流供給容量を切り換えることを特徴とする請求項
記載の半導体集積回路。
4. A small-sized MOS transistor having a small current capacity, one end of which is connected to a power supply and the other end of which is connected to a power supply terminal of the output buffer circuit. A large-sized MOS transistor having a large current capability connected in parallel;
The current supply capacity is switched by controlling each gate with the driving capability control signal.
3. The semiconductor integrated circuit according to item 3 .
【請求項5】 前記出力バッフア回路が、ゲート同士を
共通接続し前記選択信号の供給を受けドレイン同士を共
通接続し前記バッフア出力信号を出力する第1の導電型
の第1のMOSトランジスタと第2の導電型の第2のM
OSトランジスタとを備え、 前記電流容量切換手段が、ソースを第1の電源にドレイ
ンを前記第1のMOSトランジスタのソースにそれぞれ
接続しゲートに前記駆動能力制御信号の供給を受ける電
流能力の小さい小サイズ第1の導電型の第3のMOSト
ランジスタと、 ソースを第2の電源にドレインを前記第2のMOSトラ
ンジスタのソースにそれぞれ接続しゲートに前記駆動能
力制御信号を反転した反転駆動能力制御信号の供給を受
ける前記小サイズの第2の導電型の第4のMOSトラン
ジスタと、 ソースを第1の電源にドレインを前記第1のMOSトラ
ンジスタのソースにそれぞれ接続しゲートに前記反転駆
動能力制御信号の供給を受ける電流能力の大きい大サイ
ズ第1の導電型の第5のMOSトランジスタと、 ソースを第2の電源にドレインを前記第2のMOSトラ
ンジスタのソースにそれぞれ接続しゲートに前記駆動能
力制御信号の供給を受ける前記大サイズ第2の導電型の
第6のMOSトランジスタとを備えることを特徴とする
請求項記載の半導体集積回路。
5. An output buffer circuit comprising: a first conductivity type first MOS transistor for connecting the gates in common, receiving the selection signal, connecting the drains in common, and outputting the buffer output signal; A second M of conductivity type 2
An OS transistor; wherein the current capacity switching means has a small current capacity having a source connected to the first power supply, a drain connected to the source of the first MOS transistor, and a gate supplied with the drive capability control signal. A third MOS transistor of a first conductivity type, an inverted driving capability control signal obtained by connecting a source to a second power source, a drain to a source of the second MOS transistor, and inverting the driving capability control signal to a gate; A fourth MOS transistor of the second conductivity type having a small size, a source connected to a first power supply, a drain connected to a source of the first MOS transistor, and a gate connected to the inversion drive capability control signal. Large-sized fifth MOS transistor of the first conductivity type having a large current capacity to receive power supply, and a source connected to the second power supply Claim, characterized by comprising said sixth MOS transistor of the large size second conductivity type supplied with drain said second respectively connected said drivability control signal to the gate to the source of the MOS transistor 3 A semiconductor integrated circuit as described in the above.
【請求項6】 前記駆動能力制御信号を反転し前記反転
駆動能力制御信号を生成するインバータを備えることを
特徴とする請求項記載の半導体集積回路。
6. A semiconductor integrated circuit according to claim 5, characterized in that it comprises an inverter for generating the inversion drivability control signal by inverting said drivability control signal.
【請求項7】 少なくとも1個の大規模マクロと、テス
ト選択制御信号の供給に応答して前記大規模マクロの出
力信号と外部から供給される所定のテスト信号とのいず
れか一方を選択して選択信号として次段の内部回路とテ
スト用の外部出力端子とに出力する選択機能回路及びこ
の選択機能回路の後段に接続され前記選択信号出力用に
駆動能力の制御に応じて駆動能力が変化する可変駆動能
力の出力バッファ回路を内蔵する駆動能力調整機能回路
を有するテスト回路とを備える半導体集積回路の試験方
法において、前記大規模マクロの出力を前記 選択信号として前記外部
出力端子に接続したテスト装置に出力する分離テストの
実行時に、この大規模マクロのテスト対象の出力端子に
対応する前記テスト回路内蔵の前記出力バッファ回路の
前記駆動能力を大きくするよう制御した状態でテストを
実行し、それ以外の場合には前記駆動能力を小さくする
よう制御することにより、余剰な貫通電流の発生を抑制
することを特徴とする半導体集積回路の試験方法。
7. A method for selecting at least one large-scale macro and one of an output signal of the large-scale macro and a predetermined test signal supplied from outside in response to a supply of a test selection control signal. A selection function circuit that outputs a selection signal to the next-stage internal circuit and an external output terminal for testing;
Connected to the subsequent stage of the selection function circuit for outputting the selection signal.
Variable drivability in which the drivability changes according to the drivability control
Driving capability adjustment function circuit with built-in output buffer circuit
A test method for a semiconductor integrated circuit, comprising: a test circuit having a large scale macro output to the test apparatus connected to the external output terminal as the selection signal .
During execution, the output terminal to be tested for this large macro
Of the corresponding output buffer circuit with the built-in test circuit
The test with controls to increase the driving capability
Execute, otherwise reduce the drive capacity
A test method for a semiconductor integrated circuit, characterized in that the control is performed in such a manner as to suppress generation of an excessive through current .
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