JP3103021U - アイマスク - Google Patents
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Abstract
【課題】 顔面に存在する目の疲れに対応する経穴を専用に、しかも手指を使うことなく刺激する用具が現在無いことであり、加えてその刺激によって生じる副作用、悪影響も無いものとすることである。
【解決手段】 裏面側の経穴対応位置にその経穴の刺激体を固着させてあることとし、前記した刺激体は先端を尖らせた錐状に形成されていることとし、前記した刺激体は酸化チタンの外表面をシリコン薄膜で被覆もしくはゲルマニウムで成形された半導体としたこととし、また、刺激体は遠赤外線を発するセラミックとしたこととし、前記した刺激体はトルマリンによって成形もしくは含有されていることとし、前記した刺激体は永久磁石によって成形されていることとし、眼球対応位置に開閉自在とした可視用貫通孔を形成してあることとする。
【選択図】 図1
【解決手段】 裏面側の経穴対応位置にその経穴の刺激体を固着させてあることとし、前記した刺激体は先端を尖らせた錐状に形成されていることとし、前記した刺激体は酸化チタンの外表面をシリコン薄膜で被覆もしくはゲルマニウムで成形された半導体としたこととし、また、刺激体は遠赤外線を発するセラミックとしたこととし、前記した刺激体はトルマリンによって成形もしくは含有されていることとし、前記した刺激体は永久磁石によって成形されていることとし、眼球対応位置に開閉自在とした可視用貫通孔を形成してあることとする。
【選択図】 図1
Description
本考案はアイマスク、主として昼夜いつでも睡眠のため外光を遮断するため両目を覆うのに用いるアイマスクの改良に関する。
一般的に目を酷使することの多い現代にあって目の疲れは日常的に生じる。この目の疲れが生じると目の周囲の血液循環が悪くなり、目に関わる神経や筋肉も疲労し、見えにくくなり、目の奥が痛み眉間や頭が重苦しく、頭脳の働きも低下し、判断力の鈍りや気力の衰えも生じてしまう。
こうした目の疲れが生じると人は無意識にこめかみや目頭を指先で押す動作をする。しかしながら、この指圧作業は目の疲れに対応する経穴に対して行なうことでより一層の効果を発揮する。この経穴として、いくつか知られているが顔面に存在するものとして両眉上にある目窓、両眉頭にある攅竹、こめかみ付近の太陽、両眼下にある四白がある。
しかし、かかる経穴の指圧作業も時として強すぎて刺激による影響が大きすぎたり、指先への負担も大きく長時間に亘り行なうことは困難である。
本願考案に関する先行技術を出願人において調査したが格別に近似すると思われる文献は発見できなかった。
本考案が解決しようとする問題点は顔面に存在する目の疲れに対応する経穴を専用に、しかも手指を使うことなく刺激する用具が現在無いことであり、加えてその刺激によって生じる副作用、悪影響も無いものとすることである。
本考案は係る問題点を解消するために、裏面側の経穴対応位置にその経穴の刺激体を固着させてあることを特徴とし、前記した刺激体は先端を尖らせた錐状に形成されていることを特徴とし、前記した刺激体は酸化チタンの外表面をシリコン薄膜で被覆もしくはゲルマニウムで成形された半導体としたことを特徴としている。
また、本考案は前記した刺激体は遠赤外線を発するセラミックとしたことを特徴とし、前記した刺激体はトルマリンによって成形もしくは含有されていることを特徴とし、前記した刺激体は永久磁石によって成形されていることを特徴とし、眼球対応位置に開閉自在とした可視用貫通孔を形成してあることを特徴としている。
上記した構成としたことによって、本考案に係るアイマスクを装着することで目の疲れに対応する顔面の経穴を適度に押圧刺激することができる。しかもこの刺激は複数存在する経穴を同時に刺激することができるため、相乗的に効果を得られ、かつ、装着時に眠ることも可能で、その刺激を長時間に亘って持続させることもできることとなる。
また、刺激体として酸化チタンの外表面をシリコン薄膜で被覆したものやゲルマニウムで成形したもの等の半導体を用いることで磁石と比較して磁場による悪影響(例えば心臓やペースメーカ等)もなく無毒安全で、かつ筋肉活性化によるポンピング作用による血流増加を行ない、α波を増加することで自律神経の改善もなされることとなる。さらに、可視のため貫通孔を設けることは、読書や仕事時にあって視力を絞って向上させると共に集中力を増す効果が得られる。
アイマスクの裏面で顔面に存在する目の疲れに対応する複数の経穴と当接する位置に錐状に先端を尖らせた半導体構造の刺激体を固着することとして実現した。
次に、本考案の好ましい実施の例を図面を参照して説明する。図1は本考案を実施したアイマスクの斜視図、図2は同じく代表的な刺激体を示す断面図、図3は装着時に皮膚との電子の流れを示す図、図4は半導体における電子の流れを示す図、図5は同じく表皮、真皮における状態を示す図、図6は人体の顔面に存する目の疲れに対応する経穴位置を示す図である。
これらの図にあって1はアイマスク本体を示している。このアイマスク本体1はスポンジゴムやコットン等の多層構造とされ圧迫感なくフィットし、明るさを遮断するようになっている。2・2は掛け紐を示しており、その中間の長さ調整部3の作用によって自在に長さを調整することができるものとしている。
このアイマスク本体1の裏面には図6として示す目の疲れに対応する経穴である目窓4・4、攅竹5・5、太陽6・6及び四白7・7と各々当接する位置に刺激体8・8‥が接着剤等の固着手段により固着されている。
この刺激体8は実施例にあって酸化チタンの燒結体(セラミック)9を円錐状に先端を尖らせて成形してあり、その外表面をシリコン薄膜(P-型半導体薄膜)10で被覆したもので全体として半導体の構造としたものである。そして、この刺激体8は基端側に陽電子を外表面側に陰電子を帯電した構成となる。
かかる構成としたことで刺激体8・8‥は経穴4・5・6・7に対して先端による押圧刺激作用のほか、半導体としてマイナス電位作用、即ち生体電流の乱れを整え、セラミックとして遠赤外線による加温作用がなされ、これらを複合して相乗効果を得られる。マイナス電位作用は、人体は通常表皮がマイナス、真皮がプラスに帯電され調和されているが、それが乱れると電位が変動するが、その際に表皮の電位変動を抑えてマイナス電位に戻す作用である。
この半導体としての作用効果は刺激体8をゲルマニウムで成形することによっても得られ、これら半導体としての刺激体8は酸化、即ち錆が生じることもなく、金属アレルギーのおそれもない。
また、刺激体8は半導体のほか遠赤外線による加温効果と押圧刺激を加味してセラミックで成形することもでき、血流作用を考えれば血管を拡大させる永久磁石によって成形することも可能となる。加えて眼球と対応する位置に比較的小径とした貫通孔を穿設し、外面からこの貫通孔を開閉することとすることもできる。この開閉はカバー体をループ式ファスナーやホック等で着脱すること等でなされることとなる。
本実施例は目の疲れに対する対応としてアイマスクに刺激体を固着することとしているが、体の他の部位における凝りや痛みに対応させるならば、下着や靴下、あるいはスカーフ、アスコットタイ等の内面に実施例における刺激体を固着させることで実施可能となる。
1 アイマスク本体
2 掛け紐
3 長さ調整部
4 目窓
5 攅竹
6 太陽
7 四白
8 刺激体
9 酸化チタン燒結体
10 シリコン薄膜
2 掛け紐
3 長さ調整部
4 目窓
5 攅竹
6 太陽
7 四白
8 刺激体
9 酸化チタン燒結体
10 シリコン薄膜
Claims (7)
- 裏面側の経穴対応位置にその経穴の刺激体を固着させてあることを特徴とするアイマスク。
- 前記した刺激体は先端を尖らせた錐状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のアイマスク。
- 前記した刺激体は酸化チタンの外表面をシリコン薄膜で被覆もしくはゲルマニウムで成形された半導体としたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のアイマスク。
- 前記した刺激体は遠赤外線を発するセラミックとしたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のアイマスク。
- 前記した刺激体はトルマリンによって成形もしくは含有されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のアイマスク。
- 前記した刺激体は永久磁石によって成形されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のアイマスク。
- 眼球対応位置に開閉自在とした可視用貫通孔を形成してあることを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5または請求項6に記載のアイマスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004000282U JP3103021U (ja) | 2004-01-27 | 2004-01-27 | アイマスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004000282U JP3103021U (ja) | 2004-01-27 | 2004-01-27 | アイマスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3103021U true JP3103021U (ja) | 2004-07-22 |
Family
ID=43256517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004000282U Expired - Fee Related JP3103021U (ja) | 2004-01-27 | 2004-01-27 | アイマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3103021U (ja) |
-
2004
- 2004-01-27 JP JP2004000282U patent/JP3103021U/ja not_active Expired - Fee Related
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