JP3095324B2 - 基板の洗浄装置 - Google Patents
基板の洗浄装置Info
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- JP3095324B2 JP3095324B2 JP06173314A JP17331494A JP3095324B2 JP 3095324 B2 JP3095324 B2 JP 3095324B2 JP 06173314 A JP06173314 A JP 06173314A JP 17331494 A JP17331494 A JP 17331494A JP 3095324 B2 JP3095324 B2 JP 3095324B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハ、液晶
表示装置（ＬＣＤ）用ガラス基板、フォトマスク用ガラ
ス基板等の基板の表面に純水等の洗浄液を高圧で吹き付
けて基板表面を洗浄する基板の洗浄装置に関する。
表示装置（ＬＣＤ）用ガラス基板、フォトマスク用ガラ
ス基板等の基板の表面に純水等の洗浄液を高圧で吹き付
けて基板表面を洗浄する基板の洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ、ＬＣＤ用ガラス基板、マ
スク基板等の基板の表面に高圧の洗浄液、例えば高圧純
水を吹き付けて基板表面を洗浄処理する装置では、高圧
純水の吐出圧力又は吐出流量の管理を行なう必要があ
る。
スク基板等の基板の表面に高圧の洗浄液、例えば高圧純
水を吹き付けて基板表面を洗浄処理する装置では、高圧
純水の吐出圧力又は吐出流量の管理を行なう必要があ
る。
【０００３】図３は、従来の基板洗浄装置の構成の１例
を示す概略図である。図において、半導体ウエハ等の基
板Ｗは、回転保持機構の保持台１に吸着保持され、水平
面内において鉛直軸回りに回転させられるようになって
いる。そして、保持台１に水平姿勢で保持された基板Ｗ
の上面に、孔径が例えば０．１mm程度である吐出口を有
するノズルチップ３が対向するように吐出ノズル２が配
設されており、吐出ノズル２は、供給配管４を介して洗
浄液、例えば純水の供給源５に流路接続している。供給
配管４には、設定した圧力の高圧純水を発生させるため
の高圧圧縮ポンプ６及びフィルタ７が介挿されている。
そして、フィルタ７の出口側に圧力計８が介設されてお
り、その圧力計８の指示値により高圧純水の吐出圧力の
管理を行なうようにしていた。
を示す概略図である。図において、半導体ウエハ等の基
板Ｗは、回転保持機構の保持台１に吸着保持され、水平
面内において鉛直軸回りに回転させられるようになって
いる。そして、保持台１に水平姿勢で保持された基板Ｗ
の上面に、孔径が例えば０．１mm程度である吐出口を有
するノズルチップ３が対向するように吐出ノズル２が配
設されており、吐出ノズル２は、供給配管４を介して洗
浄液、例えば純水の供給源５に流路接続している。供給
配管４には、設定した圧力の高圧純水を発生させるため
の高圧圧縮ポンプ６及びフィルタ７が介挿されている。
そして、フィルタ７の出口側に圧力計８が介設されてお
り、その圧力計８の指示値により高圧純水の吐出圧力の
管理を行なうようにしていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
の装置では、吐出ノズル２から吐出され基板Ｗの表面に
吹き付けられる高圧純水の実際の吐出圧力又は吐出流量
を測定するのではなく、供給配管４の、高圧圧縮ポンプ
６と吐出ノズル２との間に取り付けられた圧力計８の指
示値により、高圧純水の吐出圧力又は吐出流量を管理す
るようにしていた。このため、フィルタ７に目詰りが生
じたり、吐出ノズル２のノズルチップ３が摩耗したり、
供給配管４の一部に折れが生じたりした時などには、そ
の異常状態を即座に検知することができない。そして、
圧力計８の指示値から高圧純水の吐出圧力又は吐出流量
の変化を感知して、洗浄処理を中止するまでの間に、設
定圧力と異なる吐出圧力で何枚かの基板が洗浄処理され
ることになる。この結果、それらの基板について品質不
良の問題が生じ、製品歩留りが低下する、という問題点
があった。
の装置では、吐出ノズル２から吐出され基板Ｗの表面に
吹き付けられる高圧純水の実際の吐出圧力又は吐出流量
を測定するのではなく、供給配管４の、高圧圧縮ポンプ
６と吐出ノズル２との間に取り付けられた圧力計８の指
示値により、高圧純水の吐出圧力又は吐出流量を管理す
るようにしていた。このため、フィルタ７に目詰りが生
じたり、吐出ノズル２のノズルチップ３が摩耗したり、
供給配管４の一部に折れが生じたりした時などには、そ
の異常状態を即座に検知することができない。そして、
圧力計８の指示値から高圧純水の吐出圧力又は吐出流量
の変化を感知して、洗浄処理を中止するまでの間に、設
定圧力と異なる吐出圧力で何枚かの基板が洗浄処理され
ることになる。この結果、それらの基板について品質不
良の問題が生じ、製品歩留りが低下する、という問題点
があった。
【０００５】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、吐出ノズルから吐出される高圧洗浄
液の実際の吐出圧力又は吐出流量を管理することができ
る基板の洗浄装置を提供することを技術的課題とし、も
って、製品歩留りの向上を図ることを目的とする。
されたものであり、吐出ノズルから吐出される高圧洗浄
液の実際の吐出圧力又は吐出流量を管理することができ
る基板の洗浄装置を提供することを技術的課題とし、も
って、製品歩留りの向上を図ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明では、吐出ノズ
ルから吐出された洗浄液の吐出圧力又は吐出流量を測定
する計測手段を設けるようにした。この場合、計測手段
を基板の保持位置の外方に配置し、吐出ノズルを計測手
段と対向する位置へ移動させることができるように構成
することができる。
ルから吐出された洗浄液の吐出圧力又は吐出流量を測定
する計測手段を設けるようにした。この場合、計測手段
を基板の保持位置の外方に配置し、吐出ノズルを計測手
段と対向する位置へ移動させることができるように構成
することができる。
【０００７】上記計測手段の具体的構成例としては、管
状をなし、上端開口が吐出ノズルの吐出口と対向し、吐
出ノズルから吐出される洗浄液を管内に集めて下端開口
から流出させる集液管と、一端が開口し他端が閉塞され
た管状をなし、一端開口が前記集液管の下端開口に対向
しかつ一端開口側が上方に位置して他端閉塞側が下方に
位置した第１の傾斜姿勢及び他端閉塞側が上方に位置し
て一端開口側が下方に位置した第２の傾斜姿勢をとるよ
うに中央部を支点として鉛直面内で揺動可能に支持さ
れ、前記第１の傾斜姿勢において集液管の下端開口から
流出する洗浄液を一端開口から管内へ流入させ、管内が
洗浄液で満たされた時点で第１の傾斜姿勢から前記第２
の傾斜姿勢へ移行して一端開口を通し管外へ洗浄液を流
出させ、管内が空になった時点で第２の傾斜姿勢から再
び第１の傾斜姿勢へ移行する計量管と、この計量管の前
記第１の傾斜姿勢を検知する位置確認センサと、この位
置確認センサからの信号に基づいて、前記計量管内に洗
浄液が満たされるまでの時間を検出し、その検出された
時間により吐出ノズルからの洗浄液の吐出流量を算出す
る演算回路とから計測手段を構成する。また、計測手段
を、吐出ノズルの吐出口に対向して配設され吐出ノズル
からの洗浄液の吐出圧力を検知する歪みゲージにより構
成してもよい。
状をなし、上端開口が吐出ノズルの吐出口と対向し、吐
出ノズルから吐出される洗浄液を管内に集めて下端開口
から流出させる集液管と、一端が開口し他端が閉塞され
た管状をなし、一端開口が前記集液管の下端開口に対向
しかつ一端開口側が上方に位置して他端閉塞側が下方に
位置した第１の傾斜姿勢及び他端閉塞側が上方に位置し
て一端開口側が下方に位置した第２の傾斜姿勢をとるよ
うに中央部を支点として鉛直面内で揺動可能に支持さ
れ、前記第１の傾斜姿勢において集液管の下端開口から
流出する洗浄液を一端開口から管内へ流入させ、管内が
洗浄液で満たされた時点で第１の傾斜姿勢から前記第２
の傾斜姿勢へ移行して一端開口を通し管外へ洗浄液を流
出させ、管内が空になった時点で第２の傾斜姿勢から再
び第１の傾斜姿勢へ移行する計量管と、この計量管の前
記第１の傾斜姿勢を検知する位置確認センサと、この位
置確認センサからの信号に基づいて、前記計量管内に洗
浄液が満たされるまでの時間を検出し、その検出された
時間により吐出ノズルからの洗浄液の吐出流量を算出す
る演算回路とから計測手段を構成する。また、計測手段
を、吐出ノズルの吐出口に対向して配設され吐出ノズル
からの洗浄液の吐出圧力を検知する歪みゲージにより構
成してもよい。
【０００８】
【作用】上記構成を有する基板の洗浄装置では、吐出ノ
ズルから吐出される高圧洗浄液の実際の吐出圧力又は吐
出流量を管理することができる。従って、フィルタに目
詰りが生じたり、吐出ノズルのノズルチップが摩耗した
り、供給配管の一部に折れが生じたりした時などには、
吐出ノズルから吐出される高圧洗浄液の吐出圧力又は吐
出流量の変化を検出して、異常状態を即座に検知するこ
とができる。
ズルから吐出される高圧洗浄液の実際の吐出圧力又は吐
出流量を管理することができる。従って、フィルタに目
詰りが生じたり、吐出ノズルのノズルチップが摩耗した
り、供給配管の一部に折れが生じたりした時などには、
吐出ノズルから吐出される高圧洗浄液の吐出圧力又は吐
出流量の変化を検出して、異常状態を即座に検知するこ
とができる。
【０００９】計測手段を基板の保持位置の外方に配置
し、吐出ノズルを計測手段と対向する位置へ移動可能に
構成したときは、複数枚の基板を順次洗浄処理する場合
において、必要に応じて随時、吐出ノズルを基板に対向
した位置から計測手段に対向する位置へ移動させて、洗
浄液の吐出圧力又は吐出流量を測定することができる。
し、吐出ノズルを計測手段と対向する位置へ移動可能に
構成したときは、複数枚の基板を順次洗浄処理する場合
において、必要に応じて随時、吐出ノズルを基板に対向
した位置から計測手段に対向する位置へ移動させて、洗
浄液の吐出圧力又は吐出流量を測定することができる。
【００１０】また、計測手段が上記したように集液管、
計量管、位置確認センサー及び演算回路から構成された
装置では、吐出ノズルから吐出された洗浄液が集液管内
に集められ、その集められた洗浄液が集液管の下端開口
から流出して空の計量管内へ流入する。この時、計量管
は、一端開口側が上方に位置して他端閉塞側が下方に位
置した第１の傾斜姿勢で停止している。そして、計量管
内に洗浄液が満たされると、その時点で洗浄液の重みに
より、計量管はその中央部を支点として鉛直面内で揺動
し、一端開口側が下がり他端閉塞側が上がった第２の傾
斜姿勢へ移行する。そして、一端開口側が下向きになる
ことにより、計量管内から洗浄液が流出し、計量管内が
空になった時点で、計量管は、再び第１の傾斜姿勢へ移
行して停止し、同様の動作が繰り返される。この一連の
動作において、位置確認センサは、計量管が第１の傾斜
姿勢にあることを検知し、その検知信号に基づいて演算
回路では、計量管が第１の傾斜姿勢になった時点から第
２の傾斜姿勢を経て再び第１の傾斜姿勢に復帰するまで
の時間、従って計量管内が洗浄液で満杯になるのに要す
る時間が検出され、その検出された時間と計量管の容積
とから、吐出ノズルからの洗浄液の吐出流量が算出され
る。このようにして、従来は耐圧性を持った流量計が無
かったために困難であった吐出流量自体の測定が、上記
構成の計測手段を使用すれば可能になる。尚、吐出流量
を測定すれば、それから吐出圧力を算出することも可能
である。
計量管、位置確認センサー及び演算回路から構成された
装置では、吐出ノズルから吐出された洗浄液が集液管内
に集められ、その集められた洗浄液が集液管の下端開口
から流出して空の計量管内へ流入する。この時、計量管
は、一端開口側が上方に位置して他端閉塞側が下方に位
置した第１の傾斜姿勢で停止している。そして、計量管
内に洗浄液が満たされると、その時点で洗浄液の重みに
より、計量管はその中央部を支点として鉛直面内で揺動
し、一端開口側が下がり他端閉塞側が上がった第２の傾
斜姿勢へ移行する。そして、一端開口側が下向きになる
ことにより、計量管内から洗浄液が流出し、計量管内が
空になった時点で、計量管は、再び第１の傾斜姿勢へ移
行して停止し、同様の動作が繰り返される。この一連の
動作において、位置確認センサは、計量管が第１の傾斜
姿勢にあることを検知し、その検知信号に基づいて演算
回路では、計量管が第１の傾斜姿勢になった時点から第
２の傾斜姿勢を経て再び第１の傾斜姿勢に復帰するまで
の時間、従って計量管内が洗浄液で満杯になるのに要す
る時間が検出され、その検出された時間と計量管の容積
とから、吐出ノズルからの洗浄液の吐出流量が算出され
る。このようにして、従来は耐圧性を持った流量計が無
かったために困難であった吐出流量自体の測定が、上記
構成の計測手段を使用すれば可能になる。尚、吐出流量
を測定すれば、それから吐出圧力を算出することも可能
である。
【００１１】また、計測手段を歪みゲージとしたとき
は、吐出ノズルから吐出される洗浄液が歪みゲージに吹
き付けられることにより、洗浄液の吐出圧力が直接的に
測定される。
は、吐出ノズルから吐出される洗浄液が歪みゲージに吹
き付けられることにより、洗浄液の吐出圧力が直接的に
測定される。
【００１２】
【実施例】以下、この発明の好適な実施例について図面
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
【００１３】図１は、この発明の１実施例を示す基板の
洗浄装置の概略構成図であって、一部を断面で示してい
る。この図１並びに後述する図２において、図３におい
て使用した符号と同一符号を付したものは、上記した説
明と同一部材を示しており、その説明を省略する。
洗浄装置の概略構成図であって、一部を断面で示してい
る。この図１並びに後述する図２において、図３におい
て使用した符号と同一符号を付したものは、上記した説
明と同一部材を示しており、その説明を省略する。
【００１４】図１に示した基板の洗浄装置には、吐出ノ
ズル２から吐出される純水の吐出流量を測定する流量計
測器10が設けられている。流量計測器10は、基板Ｗの保
持位置の外方に配設されており、両端が開口した管状を
なす集液管12、及び、一端が開口し他端が閉塞された有
底の管状をなす計量管14を備えている。集液管12は、起
立姿勢に保持され、上端開口16が吐出ノズル２のノズル
チップ３と対向するように配置固定されている。また、
計量管14は、その中央部の支点20を中心として鉛直面内
で揺動可能に支持され、常時は、実線で示すように、一
端開口22の側が上方に位置して他端の閉塞側が下方に位
置した第１の傾斜姿勢に停止しており、この際に、軸線
に対し斜めに切断した端面形状をなす一端開口22が集液
管12の下端開口18に対向するように、配置されている。
計量管14は、その管内一杯に純水が満たされた時に、そ
の純水の重みで支点20を中心として回動し、二点鎖線で
示すように、他端閉塞側が上方に位置して一端開口22の
側が下方に位置した第２の傾斜姿勢へ移行する。そし
て、計量管14は、その一端開口22を通って純水が流出し
管内が空になると、再び第１の傾斜姿勢へ移行して停止
するように構成されている。また、計量管14が実線で示
した第１の傾斜姿勢にあるときに他端閉塞側に対向する
ように、位置確認センサ24が配設されている。この位置
確認センサ24は、計量管14が第１の傾斜姿勢にあること
を検知する。位置確認センサ24は、接触式や光学式な
ど、どのような方式のものであってもよい。位置確認セ
ンサ24からの信号は、演算回路26へ送られ、演算回路26
において吐出ノズル２からの純水の吐出流量が算出され
るように構成されている。また、この基板洗浄装置で
は、吐出ノズル２が流量計測器10の集液管12の上端開口
16と対向する位置へ移動可能に支持されている。
ズル２から吐出される純水の吐出流量を測定する流量計
測器10が設けられている。流量計測器10は、基板Ｗの保
持位置の外方に配設されており、両端が開口した管状を
なす集液管12、及び、一端が開口し他端が閉塞された有
底の管状をなす計量管14を備えている。集液管12は、起
立姿勢に保持され、上端開口16が吐出ノズル２のノズル
チップ３と対向するように配置固定されている。また、
計量管14は、その中央部の支点20を中心として鉛直面内
で揺動可能に支持され、常時は、実線で示すように、一
端開口22の側が上方に位置して他端の閉塞側が下方に位
置した第１の傾斜姿勢に停止しており、この際に、軸線
に対し斜めに切断した端面形状をなす一端開口22が集液
管12の下端開口18に対向するように、配置されている。
計量管14は、その管内一杯に純水が満たされた時に、そ
の純水の重みで支点20を中心として回動し、二点鎖線で
示すように、他端閉塞側が上方に位置して一端開口22の
側が下方に位置した第２の傾斜姿勢へ移行する。そし
て、計量管14は、その一端開口22を通って純水が流出し
管内が空になると、再び第１の傾斜姿勢へ移行して停止
するように構成されている。また、計量管14が実線で示
した第１の傾斜姿勢にあるときに他端閉塞側に対向する
ように、位置確認センサ24が配設されている。この位置
確認センサ24は、計量管14が第１の傾斜姿勢にあること
を検知する。位置確認センサ24は、接触式や光学式な
ど、どのような方式のものであってもよい。位置確認セ
ンサ24からの信号は、演算回路26へ送られ、演算回路26
において吐出ノズル２からの純水の吐出流量が算出され
るように構成されている。また、この基板洗浄装置で
は、吐出ノズル２が流量計測器10の集液管12の上端開口
16と対向する位置へ移動可能に支持されている。
【００１５】次に、図１に示した基板洗浄装置における
高圧純水の吐出流量の測定動作について説明する。
高圧純水の吐出流量の測定動作について説明する。
【００１６】吐出ノズル２から吐出された高圧純水の吐
出流量を測定しようとするときは、吐出ノズル２を、そ
の吐出口が基板Ｗと対向した位置から図１に示したよう
に流量計測器10の集液管12の上端開口16と対向した位置
へ移動させる。この状態で、吐出ノズル２から高圧純水
を吐出すると、吐出された純水は、集液管12の上端開口
16から管内へ流入して集められ、その集められた純水
は、集液管12の管内を通って下端開口18から流出する。
集液管12の下端開口18から流出した純水は、図１に実線
で示したように一端開口22の側が上方に位置して他端閉
塞側が下方に位置した第１の傾斜姿勢で停止している空
の計量管14内へ流入する。純水が計量管14内へ流入して
計量管14内が純水で満たされると、計量管14は、支点20
を中心として鉛直面内で回動し、図１に二点鎖線で示し
たように一端開口22の側が下がり他端閉塞側が上がった
第２の傾斜姿勢へ移行する。その姿勢の変化に伴って、
下向きになった一端開口22から純水が一気に流出し、計
量管14内が空になった時点で、計量管14は再び第１の傾
斜姿勢へ移行して停止し、同様の動作が繰り返される。
この一連の動作において、位置確認センサ24により、計
量管14が第１の傾斜姿勢にあることが検知される。その
検知信号が位置確認センサ24から演算回路26へ送られ、
演算回路26において、位置確認センサ24からの検知信号
に基づいて計量管14が第１の傾斜姿勢になった時点から
第２の傾斜姿勢を経て再び第１の傾斜姿勢に復帰するま
での時間の間隔が検出され、計量管14内が純水で満杯に
なるのに要する時間が検出される。そして、演算回路26
では、計量管14内が純水で満杯になるのに要する時間と
計量管14の容積とから、吐出ノズル２からの純水の吐出
流量が算出される。また、必要に応じ、予め吐出流量と
吐出圧力との相関データを取っておくことにより、純水
の吐出流量から吐出圧力が算出される。
出流量を測定しようとするときは、吐出ノズル２を、そ
の吐出口が基板Ｗと対向した位置から図１に示したよう
に流量計測器10の集液管12の上端開口16と対向した位置
へ移動させる。この状態で、吐出ノズル２から高圧純水
を吐出すると、吐出された純水は、集液管12の上端開口
16から管内へ流入して集められ、その集められた純水
は、集液管12の管内を通って下端開口18から流出する。
集液管12の下端開口18から流出した純水は、図１に実線
で示したように一端開口22の側が上方に位置して他端閉
塞側が下方に位置した第１の傾斜姿勢で停止している空
の計量管14内へ流入する。純水が計量管14内へ流入して
計量管14内が純水で満たされると、計量管14は、支点20
を中心として鉛直面内で回動し、図１に二点鎖線で示し
たように一端開口22の側が下がり他端閉塞側が上がった
第２の傾斜姿勢へ移行する。その姿勢の変化に伴って、
下向きになった一端開口22から純水が一気に流出し、計
量管14内が空になった時点で、計量管14は再び第１の傾
斜姿勢へ移行して停止し、同様の動作が繰り返される。
この一連の動作において、位置確認センサ24により、計
量管14が第１の傾斜姿勢にあることが検知される。その
検知信号が位置確認センサ24から演算回路26へ送られ、
演算回路26において、位置確認センサ24からの検知信号
に基づいて計量管14が第１の傾斜姿勢になった時点から
第２の傾斜姿勢を経て再び第１の傾斜姿勢に復帰するま
での時間の間隔が検出され、計量管14内が純水で満杯に
なるのに要する時間が検出される。そして、演算回路26
では、計量管14内が純水で満杯になるのに要する時間と
計量管14の容積とから、吐出ノズル２からの純水の吐出
流量が算出される。また、必要に応じ、予め吐出流量と
吐出圧力との相関データを取っておくことにより、純水
の吐出流量から吐出圧力が算出される。
【００１７】図２は、この発明の別の実施例を示す概略
構成図である。この基板洗浄装置には、基板Ｗの保持位
置の外方に歪みゲージ28が配設されており、吐出ノズル
２は、その吐出口が基板Ｗの上面に対向した位置から歪
みゲージ28に対向した位置へ移動することができるよう
に支持されている。そして、この装置では、吐出ノズル
２から吐出される純水が歪みゲージ28に吹き付けられる
ことにより、純水の吐出圧力が直接的に測定される。
構成図である。この基板洗浄装置には、基板Ｗの保持位
置の外方に歪みゲージ28が配設されており、吐出ノズル
２は、その吐出口が基板Ｗの上面に対向した位置から歪
みゲージ28に対向した位置へ移動することができるよう
に支持されている。そして、この装置では、吐出ノズル
２から吐出される純水が歪みゲージ28に吹き付けられる
ことにより、純水の吐出圧力が直接的に測定される。
【００１８】この発明に係る基板の洗浄装置は上記した
通りの構成を有しているが、この発明の範囲は、上記説
明並びに図面の内容によって限定されず、要旨を逸脱し
ない範囲で種々の変形例を包含し得る。例えば、上記実
施例では、流量計測器10や歪みゲージ28を基板Ｗの保持
位置の外方に配設するとともに吐出ノズル２を流量計測
器10や歪みゲージ28に対向した位置へ移動させることが
できるように支持しているが、基板Ｗを吸着保持する保
持台１の上面側中央部に歪みゲージ等の計測手段を埋設
しておき、複数枚、例えば２５枚の基板を洗浄処理する
ごとに、保持台１に基板を保持していない状態で、吐出
ノズル２から保持台１の上面側中央部へ高圧純水を吹き
付けて吐出圧力等を測定するような構成であってもよ
い。
通りの構成を有しているが、この発明の範囲は、上記説
明並びに図面の内容によって限定されず、要旨を逸脱し
ない範囲で種々の変形例を包含し得る。例えば、上記実
施例では、流量計測器10や歪みゲージ28を基板Ｗの保持
位置の外方に配設するとともに吐出ノズル２を流量計測
器10や歪みゲージ28に対向した位置へ移動させることが
できるように支持しているが、基板Ｗを吸着保持する保
持台１の上面側中央部に歪みゲージ等の計測手段を埋設
しておき、複数枚、例えば２５枚の基板を洗浄処理する
ごとに、保持台１に基板を保持していない状態で、吐出
ノズル２から保持台１の上面側中央部へ高圧純水を吹き
付けて吐出圧力等を測定するような構成であってもよ
い。
【００１９】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
かつ作用するので、この発明に係る基板の洗浄装置で
は、吐出ノズルから吐出される高圧洗浄液の実際の吐出
圧力又は吐出流量を管理することができる。このため、
フィルタの目詰りや吐出ノズルのノズルチップの摩耗や
供給配管の折れなどが生じたりしたときに、その異常状
態を即座に検知することができ、設定圧力と異なる吐出
圧力で基板が洗浄処理されて品質不良を発生する、とい
った事態を避けることができ、製品歩留りの向上を図る
ことができる。
かつ作用するので、この発明に係る基板の洗浄装置で
は、吐出ノズルから吐出される高圧洗浄液の実際の吐出
圧力又は吐出流量を管理することができる。このため、
フィルタの目詰りや吐出ノズルのノズルチップの摩耗や
供給配管の折れなどが生じたりしたときに、その異常状
態を即座に検知することができ、設定圧力と異なる吐出
圧力で基板が洗浄処理されて品質不良を発生する、とい
った事態を避けることができ、製品歩留りの向上を図る
ことができる。
【図１】この発明の１実施例を示し、基板の洗浄装置の
概略構成を一部断面で示した模式図である。
概略構成を一部断面で示した模式図である。
【図２】この発明の別の実施例を示す基板の洗浄装置の
概略構成図である。
概略構成図である。
【図３】従来の基板洗浄装置の構成の１例を示す概略図
である。
である。
１ 基板の保持台 ２ 吐出ノズル ４ 供給配管 ５ 純水の供給源 ６ 高圧圧縮ポンプ 10 流量計測器 12 集液管 14 計量管 16 集液管の上端開口 18 集液管の下端開口 20 計量管の揺動支点 22 計量管の一端開口 24 位置確認センサ 26 演算回路 28 歪みゲージ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−352417（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−163499（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−153671（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−89150（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 648 H01L 21/304 643 B08B 3/00 - 3/04
Claims (4)
- 【請求項１】 洗浄液を吐出ノズルへ供給しその吐出ノ
ズルから基板の表面へ高圧で吐出して基板表面を洗浄す
るようにした基板の洗浄装置において、 前記吐出ノズルから吐出された洗浄液の吐出圧力又は吐
出流量を測定する計測手段を設けたことを特徴とする基
板の洗浄装置。 - 【請求項２】 計測手段が基板の保持位置の外方に配置
され、吐出ノズルが前記計測手段と対向する位置へ移動
可能とされた請求項１記載の基板の洗浄装置。 - 【請求項３】 計測手段が、 管状をなし、上端開口が吐出ノズルの吐出口と対向し、
吐出ノズルから吐出される洗浄液を管内に集めて下端開
口から流出させる集液管と、 一端が開口し他端が閉塞された管状をなし、一端開口が
前記集液管の下端開口に対向しかつ一端開口側が上方に
位置して他端閉塞側が下方に位置した第１の傾斜姿勢及
び他端閉塞側が上方に位置して一端開口側が下方に位置
した第２の傾斜姿勢をとるように中央部を支点として鉛
直面内で揺動可能に支持され、前記第１の傾斜姿勢にお
いて集液管の下端開口から流出する洗浄液を一端開口か
ら管内へ流入させ、管内が洗浄液で満たされた時点で第
１の傾斜姿勢から前記第２の傾斜姿勢へ移行して一端開
口を通し管外へ洗浄液を流出させ、管内が空になった時
点で第２の傾斜姿勢から再び第１の傾斜姿勢へ移行する
計量管と、 この計量管の前記第１の傾斜姿勢を検知する位置確認セ
ンサと、 この位置確認センサからの信号に基づいて、前記計量管
内に洗浄液が満たされるまでの時間を検出し、その検出
された時間により吐出ノズルからの洗浄液の吐出流量を
算出する演算回路とから構成された請求項１又は請求項
２記載の基板の洗浄装置。 - 【請求項４】 計測手段が、吐出ノズルの吐出口に対向
して配設され、吐出ノズルからの洗浄液の吐出圧力を検
知する歪みゲージである請求項１又は請求項２記載の基
板の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06173314A JP3095324B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 基板の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06173314A JP3095324B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 基板の洗浄装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0817780A JPH0817780A (ja) | 1996-01-19 |
| JP3095324B2 true JP3095324B2 (ja) | 2000-10-03 |
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ID=15958151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06173314A Expired - Fee Related JP3095324B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 基板の洗浄装置 |
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| JP (1) | JP3095324B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180092006A (ko) * | 2017-02-07 | 2018-08-17 | 세메스 주식회사 | 타력 측정 유닛 및 그를 포함하는 기판 처리 장치 |
| KR20200122690A (ko) * | 2019-04-18 | 2020-10-28 | 세메스 주식회사 | 토출 확인 지그 및 이를 이용한 토출 확인 방법 |
| KR20200145388A (ko) * | 2019-06-21 | 2020-12-30 | 세메스 주식회사 | 유체 분사량 산출 장치 및 이를 구비하는 스토커 시스템 |
-
1994
- 1994-06-30 JP JP06173314A patent/JP3095324B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| KR20180092006A (ko) * | 2017-02-07 | 2018-08-17 | 세메스 주식회사 | 타력 측정 유닛 및 그를 포함하는 기판 처리 장치 |
| KR101949407B1 (ko) * | 2017-02-07 | 2019-03-05 | 세메스 주식회사 | 타력 측정 유닛 및 그를 포함하는 기판 처리 장치 |
| KR20200122690A (ko) * | 2019-04-18 | 2020-10-28 | 세메스 주식회사 | 토출 확인 지그 및 이를 이용한 토출 확인 방법 |
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| KR102252038B1 (ko) | 2019-06-21 | 2021-05-14 | 세메스 주식회사 | 유체 분사량 산출 장치 및 이를 구비하는 스토커 시스템 |
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|---|---|
| JPH0817780A (ja) | 1996-01-19 |
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