JP3091590U

JP3091590U - シリコンウェハの研磨用定位リングの構造

Info

Publication number: JP3091590U
Application number: JP2002004541U
Authority: JP
Inventors: 水源陳; 水生陳; 添丁陳
Original assignee: 水源陳; 水生陳; 添丁陳
Priority date: 2002-07-23
Filing date: 2002-07-23
Publication date: 2003-02-07
Anticipated expiration: 2008-07-23

Abstract

(57)【要約】【課題】接触の効果を向上することが可能なシリコン
ウェハの研磨に用いる定位リングの構造を提供する。【解決手段】リング本体は長期の使用と研磨または化
学薬品による腐食に耐えうるプラスチック結晶体で作ら
れている正円形のリングであり、内径が研磨するウェハ
の外径に対応し、ウェハをはめ込んでその同心軸を中心
として旋回するものである。リング外壁にそった上部に
は同材質の適当な幅と高さを持つ突出部があり、突出部
には等間隔で複数の開口部６がある。それぞれの開口部
６にねじ受けソケット５がはめ込まれている。排水口３
はリング本体の外壁を貫くように等間隔で複数設けられ
ている。リング本体の底部は外周から内周方向に向かっ
て上向きの傾斜を持っているため、接触の効果を向上す
ることが可能である。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【考案の属する技術分野】

本考案は、シリコンウェハの研磨用定位リングの構造に関し、定位リングは本体の底部に外周から内周方向に向かって４０±２０ミクロンの上向きの傾斜を持ち、接触がより良好に達成される。

【０００２】

【従来の技術】

最初に請願した考案（第８８２０８２４７号）の構造は、図５および図６の通りである。定位リング１のリング本体２は、長期の使用と研磨または化学薬品による腐食に耐えうるプラスチック結晶ポリフェニレンサルファイド（Polyphenyl ene Sulfide ＰＰＳ）からなる正円形であり、研磨するウェハの外形にぴったり隙間無く固定できるようになっており（ここでは図示されていない）、リングの回転中心軸が同時にウェハの中心となり、回転の際に中心のずれが生じることはない。リングの上部には外壁を横に貫き等角度に配列されている複数の排水口３があり、ここから水が出るようになっている。実用試験では、排水口３の間隔は９０°であり４個設けられている。リング外壁にそった上部には同素材の適当な幅と高さを持つ突出部４があり、突出部４には等間隔で複数の開口部６があり、それぞれの開口部６にねじ受けソケット５がはめ込まれている。実用試験における開口部６は間隔が３０°であり、合計１２箇所設けられ、それぞれの位置にねじ受けソケット５をはめ込むことができるようになっている。リングに取り付けられるソケット５の位置は正確でなければならず、これにより回転動力源との接続を行い（ここでは図示されていない）、コンピュータによる回転中心軸の測定を正確に行なうことが可能になっている。

【０００３】二番目に請願した考案（第８８２０８２４８号）の構造は、図７および図８の通りである。定位リング１のリング主要部分２は非金属製のリング本体７と金属リング８からなり、ねじ穴９が直接金属リング８の上に設けられることができるようになっている。したがって、一番目の考案ではねじ受けソケット５を開口部６にはめ込む際に生じる誤差が難点であったが、二番目の考案はこの問題点を解決し、回転動力の定位をより正確にすることが可能である。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

そこで、本考案の目的は、上記の考案のリング底面に外周から内周方向に向かってわずかな上向きの傾斜を持たせ、接触をより良好にするシリコンウェハの研磨用定位リングの構造を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

本考案の請求項記載のシリコンウェハの研磨用定位リングの構造によると、リング本体は長期の使用と研磨または化学薬品による腐食に耐えうるプラスチック結晶体で作られている正円形のリングであり、内径が研磨するウェハの外径に対応し、ウェハをはめ込んでその同心軸を中心として旋回するものである。リング外壁にそった上部には同材質の適当な幅と高さを持つ突出部があり、突出部には等間隔で複数の開口部がある。それぞれの開口部にねじ受けソケットがはめ込まれている。排水口はリング本体の外壁を貫くように等間隔で複数設けられている。リング本体の底部が外周から内周方向に向かって上向きの傾斜を持っているため、接触の効果を向上することが可能である。

【０００６】

【考案の実施の形態】

以下、本考案の実施の形態を図面に基づいて説明する。本考案のその他の目的、構造および働きは下記の通りである。（図解参照）これらはともに実験に用いた実施例である。図１および図２に示すように、本考案の第１実施例による定位リング１のリング本体２は、長期の使用と研磨または化学薬品による腐食に耐えうるプラスチック結晶からなる正円形であり、研磨するウェハの外形に隙間無く固定できるようになっており、リングの回転中心軸を同時にウェハの中心として回転するものである。リング２の上部には外壁を横に貫き９０°度に配列されている４個の排水口３があり、ここから水が出るようになっている。リング２の外壁にそった上部には、同材質の適当な幅と高さを持つ突出部４があり、突出部４には３０°間隔で合計１２箇所の開口部６がある。それぞれの開口部６にねじ受けソケット５がはめ込まれ、これにより回転動力源との接続が行われ、コンピュータによる回転中心軸の測定ができるようになっている。また、定位リング１のリング本体２の底部は外周１２から内周１３方向に向かって４０±２０ミクロンの上向きの傾斜１４を持ち、接触の効果を向上するように設計されている。

【０００７】図３および図４に示すように、本考案の第２実施例による定位リング１の主要部分２は、リング本体７と金属リング８から成っている。非金属のリング本体７は長期の使用と研磨または化学薬品による腐食に耐えうるポリフェニレンサルファイド（Polyphenylene Sulfide ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（Poly ether-etherketon ＰＥＥＫ）または半結晶熱可塑性ポリエステル（Semi-crysta line thermoplastic polyester）などを用いることもできる。非金属製リング本体７の内径は、研磨するウェハの外形に隙間なく固定できるようになっており（ここでは図示されていない）、リング７の回転中心軸が同時にウェハの中心となる。リング本体７の上部には外壁を貫く複数の排水口３があり、これを金属リング８の壁面を貫く排水口３と連結し、排水を行う。リング本体７の底部は外周１２から内周１３方向に向かって４０±２０ミクロンの上向きの傾斜１４を持ち、接触の効果を向上している。また、リング本体７の外周１２の上段には左回りの正のねじ切り１０があり、これを金属リング８の負のねじ切り１１に合わせてはめ込むことにより、金属リング８部分がリング本体２よりも若干高くなり、突出部４が形成されている。突出部４には等間隔の複数のねじ穴９があり、これにより回転動力源との接続および定位が行われる（ここでは図示されていない）。本実施例におけるねじ穴９は間隔が３０°であり、合計１２箇所設けられている。また、金属リング８に設けられている排水口３とリング本体７に設けられている排水口３とを一致連結することにより排水を行なう。金属リング８の突出部４の下部内壁にはリング本体７外壁に付けられた左回りのねじ切り１０に対応するように作られている負のねじ切り１１があり、これにより金属リング８とリング本体７とを組み合わせ、定位リング全体２が構成される。このような仕組みにより金属リング８が右旋回によりリング本体７の回転を促す際に、両者の間に位置のずれが生じることはない。金属リング８は化学薬品による腐食の起こらないステンレス製である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の第１実施例によるシリコンウェハの研
磨用定位リングの構造を示すの斜視図である。

【図２】図１をＩＩ−ＩＩ線で切断した断面図である。

【図３】本考案の第２実施例によるシリコンウェハの研
磨用定位リングの構造を示す斜視図である。

【図４】図３をＩＶ‐ＩＶ線で切断した断面図である。

【図５】従来のシリコンウェハの研磨に用いる定位リン
グの構造体を示す斜視図である。

【図６】図５をＶＩ−ＶＩ線で切断した断面図である。

【図７】従来のシリコンウェハの研磨に用いる定位リン
グの構造体を示す斜視図である。

【図８】図７をＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線で切断した断面図
である。

【符号の説明】

１定位リング２リング結合体３排水口４周囲の突出部５ねじ受けソケット６開口部７リング本体８金属リング９ねじ穴１０正ねじ切り１１負ねじ切り１２外周１３内周１４傾斜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者陳水生台湾新竹市松嶺路47号 (72)考案者陳添丁台湾新竹市松嶺路47号

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】リング本体と、ねじ受けソケットと、排
水口とを備えるシリコンウェハの研磨用定位リングの構
造であって、前記リング本体は長期の使用と研磨または化学薬品によ
る腐食に耐えうるプラスチック結晶体で作られている正
円形のリングであり、内径が研磨するウェハの外径に対
応し、ウェハをはめ込んでその同心軸を中心として旋回
し、外壁にそった上部には同材質の適当な幅と高さを持
つ突出部があり、突出部には等間隔で複数の開口部があ
り、それぞれの開口部にねじ受けソケットがはめ込ま
れ、前記ねじ受けソケットは前記リング本体の上部に取り付
けられた突出部に等間隔で設けられた開口部にはめ込む
ように作られ、前記排水口は前記リング本体の外壁を貫くように等間隔
で複数設けられていることを特徴とするシリコンウェハ
の研磨用定位リングの構造。
【請求項２】前記リング本体上部に取り付けられた突
出部は３０°の等間隔で合計１２の開口部を有すること
を特徴とする請求項１記載のシリコンウェハの研磨用定
位リングの構造。
【請求項３】９０°の等間隔で合計４つの排水口を有
することを特徴とする請求項１記載のシリコンウェハの
研磨用定位リングの構造。
【請求項４】リング本体を備えるシリコンウェハの研
磨用定位リングの構造であって、前記リング本体は長期の使用と研磨または化学薬品によ
る腐食に耐えうるプラスチック結晶体で作られた正円形
のリングであり、内径は研磨するウェハの外径に対応
し、ウェハをはめ込んでその同心軸を中心として旋回す
るものであり、外壁にそった上部には適当な幅と高さを
持つ突出部があり、突出部には前記リング本体の外壁を
貫くように等間隔で設けられている複数の排水口があ
り、排水口により排水を行い、前記リング本体は本体と
金属リングとを左周りのねじ切りにより結合したもので
あり、したがって、右回りの旋回による研磨の際に本体
と金属リングとのずれが起こることはなく、前記リング
本体の上部に取り付けられている金属リングの突出部に
は等間隔で設けられている複数のねじ穴があり、ねじ穴
により回転動力との接合定位が行われ、前記リング本体の底部は外周から内周方向に向かって４
０±２０ミクロンの上向きの傾斜を持ち、接触の効果を
向上するように設計されていることを特徴とするシリコ
ンウェハの研磨用定位リングの構造。
【請求項５】前記リング本体上部に取り付けられた突
出部は３０°の等間隔で合計１２の開口部を有すること
を特徴とする請求項４記載のシリコンウェハの研磨用定
位リングの構造。
【請求項６】外壁に複数の排水口を有し、排水口はリ
ング本体の排水口と金属リングの排水口とを接続したも
のであることを特徴とする請求項４記載のシリコンウェ
ハの研磨用定位リングの構造。