JP3080616B1 - ビーム補償光学系 - Google Patents
ビーム補償光学系Info
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Abstract
【要約】
【課題】 全ての波長に対してビームの縦横比を変えず
に所望のビーム径を維持したり収束や発散を制御できる
ようにするビーム補償光学系を提供する。また、波長可
変レーザにおいて、波長の変化に追従して光学系を制御
し、常に所望の平行光あるいは収束光や発散光を得るよ
うにする。 【解決手段】 光学軸Ｉを共有して鏡面が対向するよう
に配設された第１凹面鏡Ｍ１と第２凹面鏡Ｍ２と、中心
部に細孔Ｈを有し表裏に反射面を有する平面鏡Ｍ０とを
備え、この平面鏡Ｍ０を第１凹面鏡Ｍ１と第２凹面鏡Ｍ
２の間に、細孔Ｈの位置に立てた法線が光学軸Ｉと鋭角
を以て交わり、かつ細孔Ｈが第２凹面鏡Ｍ２の焦点位置
近傍に位置するように配設して、光線が法線に関して光
学軸Ｉと対称な方向IIから平面鏡Ｍ０の表面反射面に入
射して反射しさらに第１凹面鏡Ｍ １で反射して平面鏡の
細孔Ｈ近傍に収束し、細孔Ｈを通過する光線が第２凹面
鏡Ｍ２で反射してさらに平面鏡Ｍ０の裏面反射面で反射
して出射するように配置する。
に所望のビーム径を維持したり収束や発散を制御できる
ようにするビーム補償光学系を提供する。また、波長可
変レーザにおいて、波長の変化に追従して光学系を制御
し、常に所望の平行光あるいは収束光や発散光を得るよ
うにする。 【解決手段】 光学軸Ｉを共有して鏡面が対向するよう
に配設された第１凹面鏡Ｍ１と第２凹面鏡Ｍ２と、中心
部に細孔Ｈを有し表裏に反射面を有する平面鏡Ｍ０とを
備え、この平面鏡Ｍ０を第１凹面鏡Ｍ１と第２凹面鏡Ｍ
２の間に、細孔Ｈの位置に立てた法線が光学軸Ｉと鋭角
を以て交わり、かつ細孔Ｈが第２凹面鏡Ｍ２の焦点位置
近傍に位置するように配設して、光線が法線に関して光
学軸Ｉと対称な方向IIから平面鏡Ｍ０の表面反射面に入
射して反射しさらに第１凹面鏡Ｍ １で反射して平面鏡の
細孔Ｈ近傍に収束し、細孔Ｈを通過する光線が第２凹面
鏡Ｍ２で反射してさらに平面鏡Ｍ０の裏面反射面で反射
して出射するように配置する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光輸送光学
系などに用いられるビーム補償光学系に関し、特に波長
選択性を有する光ビームに用いることができる補償用光
学系に関する。
系などに用いられるビーム補償光学系に関し、特に波長
選択性を有する光ビームに用いることができる補償用光
学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレーザ光輸送光学系では、補償光
学系として２枚の凸レンズをレーザ光軸上に配置し、入
力側レンズで平行光線を焦点に集光し出力側レンズで再
び平行光線に変換する図４に示したようなビームエキス
パンダーが用いられていた。このような光学レンズを用
いたビームエキスパンダーでは、細孔を設けた空間周波
数フィルタを焦点付近に配置してビームの横モードを改
善することができる。また、レーザ波長が変わるときに
はレンズ間距離を調整することにより発散角の変化に対
応させることができる。しかし、光学レンズを用いたビ
ームエキスパンダーでは、レンズ間距離を変更する度に
空間周波数フィルタの位置を調整する必要があった。ま
た、赤外線領域では光学ガラスの光透過率が低下するた
め、赤外線レーザに使用することができなかった。
学系として２枚の凸レンズをレーザ光軸上に配置し、入
力側レンズで平行光線を焦点に集光し出力側レンズで再
び平行光線に変換する図４に示したようなビームエキス
パンダーが用いられていた。このような光学レンズを用
いたビームエキスパンダーでは、細孔を設けた空間周波
数フィルタを焦点付近に配置してビームの横モードを改
善することができる。また、レーザ波長が変わるときに
はレンズ間距離を調整することにより発散角の変化に対
応させることができる。しかし、光学レンズを用いたビ
ームエキスパンダーでは、レンズ間距離を変更する度に
空間周波数フィルタの位置を調整する必要があった。ま
た、赤外線領域では光学ガラスの光透過率が低下するた
め、赤外線レーザに使用することができなかった。
【０００３】ガラスレンズを使わないため赤外線にも使
用できるものとして、反射ミラーを組み合わせて発散角
を変化させるようにした補償光学系がある。図５に示し
た２枚の球面ミラーを用いた補償光学系は、入力側の球
面ミラーにレーザビームが入射すると焦点に収束して空
間周波数フィルタの細孔を通過し出力側の球面ミラーで
平行光束に調整されて射出する。しかしこの補償光学系
では、入射するレーザビームが球面ミラーに対して斜め
に入射することから収差を生じ、ビームの発散角および
ビーム径の縦横比が変化する。この補償系の出射平行光
束は１０ｍあるいは２０ｍ離れたところまで輸送される
と断面の歪みも無視できない大きさになるので、ビーム
を利用する場所が補償系から数１０ｍ離れたところにあ
るような場合には使用できない。
用できるものとして、反射ミラーを組み合わせて発散角
を変化させるようにした補償光学系がある。図５に示し
た２枚の球面ミラーを用いた補償光学系は、入力側の球
面ミラーにレーザビームが入射すると焦点に収束して空
間周波数フィルタの細孔を通過し出力側の球面ミラーで
平行光束に調整されて射出する。しかしこの補償光学系
では、入射するレーザビームが球面ミラーに対して斜め
に入射することから収差を生じ、ビームの発散角および
ビーム径の縦横比が変化する。この補償系の出射平行光
束は１０ｍあるいは２０ｍ離れたところまで輸送される
と断面の歪みも無視できない大きさになるので、ビーム
を利用する場所が補償系から数１０ｍ離れたところにあ
るような場合には使用できない。
【０００４】なお、この反射鏡を用いた補償光学系は、
レーザの波長により発散角が変化して焦点位置が変化す
るため、レーザ波長が変化するときには球面ミラー間距
離を調整して出射光の平行性を確保しなければならな
い。このような調整によりレーザの平行性を維持するこ
とはできるが、図５に点線で示すように球面ミラーの位
置が変化すると出射光の光軸がずれる問題があり、また
焦点位置の変化に伴い空間周波数フィルタの位置を調整
しなければならない問題がある。
レーザの波長により発散角が変化して焦点位置が変化す
るため、レーザ波長が変化するときには球面ミラー間距
離を調整して出射光の平行性を確保しなければならな
い。このような調整によりレーザの平行性を維持するこ
とはできるが、図５に点線で示すように球面ミラーの位
置が変化すると出射光の光軸がずれる問題があり、また
焦点位置の変化に伴い空間周波数フィルタの位置を調整
しなければならない問題がある。
【０００５】このように、従来のビーム輸送系における
補償光学系では、ビーム光の波長が変化すると発散角を
一定に保つため光学系の位置を調整する必要がある。通
常補償光学系のレンズ間距離あるいはミラー間距離はビ
ーム輸送距離に対して小さいから、光学系の位置調整に
は高い精度が要求され、調整系のコストが嵩む結果とな
る。また、光学系の位置を変化させればレーザ光の横モ
ードを改善してビームの質を高めるために用いる空間周
波数フィルタも新しい位置に適合するように位置調整す
る必要があり、機構が複雑化する。
補償光学系では、ビーム光の波長が変化すると発散角を
一定に保つため光学系の位置を調整する必要がある。通
常補償光学系のレンズ間距離あるいはミラー間距離はビ
ーム輸送距離に対して小さいから、光学系の位置調整に
は高い精度が要求され、調整系のコストが嵩む結果とな
る。また、光学系の位置を変化させればレーザ光の横モ
ードを改善してビームの質を高めるために用いる空間周
波数フィルタも新しい位置に適合するように位置調整す
る必要があり、機構が複雑化する。
【０００６】このような問題を解決し、色素レーザ、Ｔ
i-Ｓレーザ、ＯＰＯ、ＦＥＬ、その他の波長可変レーザ
に適用できるものとして、本願出願人の出願に係る特願
平１０−２３８２２５号公報が本願発明者等の発明に係
る歪みの少ない平行光束を得る収差のないビーム補償光
学系を開示している。この開示発明のビーム補償光学系
は、図６に示すように、回転楕円面ミラーと回転放物面
ミラーを備え、回転楕円面ミラーの第１焦点にビーム源
を配置し、第２焦点と回転放物面ミラーの焦点を一致さ
せて両ミラーが焦点を挟んで対向するように配置して、
ビーム源から放射され回転楕円面ミラーで反射して第２
焦点を通過したビームを回転放物面ミラーで反射させる
ようにしたものである。
i-Ｓレーザ、ＯＰＯ、ＦＥＬ、その他の波長可変レーザ
に適用できるものとして、本願出願人の出願に係る特願
平１０−２３８２２５号公報が本願発明者等の発明に係
る歪みの少ない平行光束を得る収差のないビーム補償光
学系を開示している。この開示発明のビーム補償光学系
は、図６に示すように、回転楕円面ミラーと回転放物面
ミラーを備え、回転楕円面ミラーの第１焦点にビーム源
を配置し、第２焦点と回転放物面ミラーの焦点を一致さ
せて両ミラーが焦点を挟んで対向するように配置して、
ビーム源から放射され回転楕円面ミラーで反射して第２
焦点を通過したビームを回転放物面ミラーで反射させる
ようにしたものである。
【０００７】本開示発明では、ビーム源から放射され回
転楕円面ミラーで反射して第２焦点に収束する光ビーム
の各部分は走行する光路長が全て同じであるから、第２
焦点に収束した光ビームは第１焦点位置のビーム源にお
ける特性をそのまま再現している。したがって、回転放
物面ミラーから見たときはその焦点位置に点状ビーム光
源があるのと等価になり、この光ビームを回転放物面ミ
ラーで反射すると回転放物面ミラーの軸と平行な平行光
束を得ることができる。
転楕円面ミラーで反射して第２焦点に収束する光ビーム
の各部分は走行する光路長が全て同じであるから、第２
焦点に収束した光ビームは第１焦点位置のビーム源にお
ける特性をそのまま再現している。したがって、回転放
物面ミラーから見たときはその焦点位置に点状ビーム光
源があるのと等価になり、この光ビームを回転放物面ミ
ラーで反射すると回転放物面ミラーの軸と平行な平行光
束を得ることができる。
【０００８】本開示発明は、特に波長分布を有するビー
ム光に対してもビーム径の縦横比を維持した平行光束を
得ることができ、またビーム光の波長が変化しても光束
の状態が変化せず光学系および空間周波数フィルタの位
置を再調整をする必要がない。しかし、ビームの拡散角
が波長に比例して大きくなるため、波長を変化させれば
ビームの径が変化する。また、本開示発明もかなり複雑
な光学系を構成し、マイクロメータや精密アクチュエー
タなどを用いて、通常は試行錯誤により光学系の調整を
行う。特に波長可変レーザに適用する場合のように、ビ
ームの発散角が大きく変化するときにその変化に追従し
て光学系の配置等を調整することは難しい。
ム光に対してもビーム径の縦横比を維持した平行光束を
得ることができ、またビーム光の波長が変化しても光束
の状態が変化せず光学系および空間周波数フィルタの位
置を再調整をする必要がない。しかし、ビームの拡散角
が波長に比例して大きくなるため、波長を変化させれば
ビームの径が変化する。また、本開示発明もかなり複雑
な光学系を構成し、マイクロメータや精密アクチュエー
タなどを用いて、通常は試行錯誤により光学系の調整を
行う。特に波長可変レーザに適用する場合のように、ビ
ームの発散角が大きく変化するときにその変化に追従し
て光学系の配置等を調整することは難しい。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明が解決
しようとする課題は、全ての波長に対してビームの縦横
比を変えずに所望のビーム径を維持したり収束や発散を
制御できるようにすることである。また、波長可変レー
ザにおいて、波長の変化に追従して光学系を制御し、常
に所望の平行光あるいは収束光や発散光を得るようにす
ることである。
しようとする課題は、全ての波長に対してビームの縦横
比を変えずに所望のビーム径を維持したり収束や発散を
制御できるようにすることである。また、波長可変レー
ザにおいて、波長の変化に追従して光学系を制御し、常
に所望の平行光あるいは収束光や発散光を得るようにす
ることである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のビーム補償光学系は、光学軸を共有して鏡
面が対向するように配設された第１凹面鏡と第２凹面鏡
と、中心部に細孔を有し表裏に反射面を有する平面鏡と
を備え、この平面鏡を第１凹面鏡と第２凹面鏡の間に、
細孔の位置に立てた法線が上記光学軸と鋭角を以て交わ
り、かつ細孔が第２凹面鏡の焦点位置近傍に位置するよ
うに配設したもので、光線が上記法線に関して上記光学
軸と対称な方向から平面鏡の表面反射面に入射して反射
しさらに第１凹面鏡で反射して平面鏡の細孔近傍に収束
し、細孔を通過する光線が第２凹面鏡で反射してさらに
平面鏡の裏面反射面で反射して出射するようにしたこと
を特徴とする。
め、本発明のビーム補償光学系は、光学軸を共有して鏡
面が対向するように配設された第１凹面鏡と第２凹面鏡
と、中心部に細孔を有し表裏に反射面を有する平面鏡と
を備え、この平面鏡を第１凹面鏡と第２凹面鏡の間に、
細孔の位置に立てた法線が上記光学軸と鋭角を以て交わ
り、かつ細孔が第２凹面鏡の焦点位置近傍に位置するよ
うに配設したもので、光線が上記法線に関して上記光学
軸と対称な方向から平面鏡の表面反射面に入射して反射
しさらに第１凹面鏡で反射して平面鏡の細孔近傍に収束
し、細孔を通過する光線が第２凹面鏡で反射してさらに
平面鏡の裏面反射面で反射して出射するようにしたこと
を特徴とする。
【００１１】本発明のビーム補償光学系によれば、各光
学要素が標準的な位置関係を有する場合は、細孔を通過
した光ビームは第２凹面鏡の焦点位置にある点光源から
放射されたものと考えることができるので、第２凹面鏡
で反射して平行光となって平面鏡の裏面反射面で反射し
て平行ビームとして装置外に射出される。第２凹面鏡で
形成される平行光のビーム径ｒoutは細孔を通過する光
ビームの拡散角に比例する。一方、ビーム源から射出さ
れ平面鏡と第１凹面鏡で反射して平面鏡の細孔に収束す
る光ビームの収束角θholeは、ビーム源における拡散角
θ0とビーム光源を点光源と見なすことができる仮想的
な光源位置から第１凹面鏡までの距離ｌ0と第１凹面鏡
と平面鏡の細孔までの距離ｌ1に基づいて決められる。
また、ビームの収束状態が良好であれば、細孔を通過し
た光ビームの拡散角は上記収束角θho leと同じ値を持
つ。
学要素が標準的な位置関係を有する場合は、細孔を通過
した光ビームは第２凹面鏡の焦点位置にある点光源から
放射されたものと考えることができるので、第２凹面鏡
で反射して平行光となって平面鏡の裏面反射面で反射し
て平行ビームとして装置外に射出される。第２凹面鏡で
形成される平行光のビーム径ｒoutは細孔を通過する光
ビームの拡散角に比例する。一方、ビーム源から射出さ
れ平面鏡と第１凹面鏡で反射して平面鏡の細孔に収束す
る光ビームの収束角θholeは、ビーム源における拡散角
θ0とビーム光源を点光源と見なすことができる仮想的
な光源位置から第１凹面鏡までの距離ｌ0と第１凹面鏡
と平面鏡の細孔までの距離ｌ1に基づいて決められる。
また、ビームの収束状態が良好であれば、細孔を通過し
た光ビームの拡散角は上記収束角θho leと同じ値を持
つ。
【００１２】したがって、ビーム光源における拡散角θ
0が与えられたときに所望の径ｒoutを持った平行ビーム
を得るためには、光学的な意味において細孔を第２凹面
鏡の焦点に配設し、仮想的な光源位置と第１凹面鏡の距
離ｌ0と第１凹面鏡と平面鏡の距離ｌ1を調整して上記収
束角θholeを調整すればよい。また、第２凹面鏡と平面
鏡の細孔までの距離ｌ2を第２凹面鏡の焦点距離より長
くすれば射出される光ビームは収束光となり、反対に短
くすれば射出ビームは発散光となる。このように、本発
明のビーム補償光学系を用いると、光学要素の位置を調
整することにより射出ビームの形状を容易にコントロー
ルすることができる。なお、凹面鏡は、少なくともある
光学配置において平行ビームが入射したときに実用上ほ
ぼ１点に収束する機能を有する反射鏡であればよく、回
転楕円面ミラー、球面ミラー、回転放物面ミラーなどで
あってもよい。
0が与えられたときに所望の径ｒoutを持った平行ビーム
を得るためには、光学的な意味において細孔を第２凹面
鏡の焦点に配設し、仮想的な光源位置と第１凹面鏡の距
離ｌ0と第１凹面鏡と平面鏡の距離ｌ1を調整して上記収
束角θholeを調整すればよい。また、第２凹面鏡と平面
鏡の細孔までの距離ｌ2を第２凹面鏡の焦点距離より長
くすれば射出される光ビームは収束光となり、反対に短
くすれば射出ビームは発散光となる。このように、本発
明のビーム補償光学系を用いると、光学要素の位置を調
整することにより射出ビームの形状を容易にコントロー
ルすることができる。なお、凹面鏡は、少なくともある
光学配置において平行ビームが入射したときに実用上ほ
ぼ１点に収束する機能を有する反射鏡であればよく、回
転楕円面ミラー、球面ミラー、回転放物面ミラーなどで
あってもよい。
【００１３】本発明のビーム補償光学系における第１凹
面鏡の位置は、光軸方向に調整できるようにすることが
好ましい。また、ビーム補償光学系全体を平面鏡と光源
を結ぶ光線入射方向に移動する駆動機構を備えることが
好ましい。さらに、平面鏡と第１凹面鏡の距離および平
面鏡と光源の距離を調整する機構を備えて、細孔を通過
する光線の発散角を調整して光学系から射出される光ビ
ームの形状を決めるようにすることができる。このよう
な機構を備えることにより、射出ビームの形状を容易に
調整することができる。また、遠隔操作あるいは自動操
作により所望の形状に調整するようにして運転条件の設
定を容易にすることも可能である。
面鏡の位置は、光軸方向に調整できるようにすることが
好ましい。また、ビーム補償光学系全体を平面鏡と光源
を結ぶ光線入射方向に移動する駆動機構を備えることが
好ましい。さらに、平面鏡と第１凹面鏡の距離および平
面鏡と光源の距離を調整する機構を備えて、細孔を通過
する光線の発散角を調整して光学系から射出される光ビ
ームの形状を決めるようにすることができる。このよう
な機構を備えることにより、射出ビームの形状を容易に
調整することができる。また、遠隔操作あるいは自動操
作により所望の形状に調整するようにして運転条件の設
定を容易にすることも可能である。
【００１４】なお、光ビームはレーザ光であってもよ
い。本発明のビーム補償光学系はビームの波長が変わっ
ても光学要素の位置調整により容易に所定の形状を持っ
たビームを供給することができるので、発生する光の波
長に分布があるレーザ装置や波長が変わるレーザ装置に
適用するときに特に効果が大きい。特に色素レーザ、Ｔ
i-Ｓレーザ、ＯＰＯ、ＦＥＬ、その他の波長可変レーザ
における容易に波長を変更することができるという特長
を生かしかつ平行ビームを得ようとする場合に本発明の
ビーム補償光学系を適用する効用が大きい。本発明のビ
ーム補償光学系は、レーザ送電システムや炭酸ガスレー
ザ加工装置に使用することにより、従来より効率の高い
装置とすることができる。
い。本発明のビーム補償光学系はビームの波長が変わっ
ても光学要素の位置調整により容易に所定の形状を持っ
たビームを供給することができるので、発生する光の波
長に分布があるレーザ装置や波長が変わるレーザ装置に
適用するときに特に効果が大きい。特に色素レーザ、Ｔ
i-Ｓレーザ、ＯＰＯ、ＦＥＬ、その他の波長可変レーザ
における容易に波長を変更することができるという特長
を生かしかつ平行ビームを得ようとする場合に本発明の
ビーム補償光学系を適用する効用が大きい。本発明のビ
ーム補償光学系は、レーザ送電システムや炭酸ガスレー
ザ加工装置に使用することにより、従来より効率の高い
装置とすることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について実施例に基
づき図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明のビ
ーム補償光学系の１実施例の光学的配置を示す線図、図
２は実施例における光ビームの形状変化を表した展開
図、図３は波長可変レーザに適用したときの制御システ
ムのブロック図である。
づき図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明のビ
ーム補償光学系の１実施例の光学的配置を示す線図、図
２は実施例における光ビームの形状変化を表した展開
図、図３は波長可変レーザに適用したときの制御システ
ムのブロック図である。
【００１６】
【実施例】本実施例のビーム補償光学系は、図１に示す
ように、架台１の上に第１の凹面鏡Ｍ1と第２の凹面鏡
Ｍ2と平面鏡Ｍ0を備えて、光源２から放射されるレーザ
光を平行光ビームに変成して射出するものである。第１
凹面鏡Ｍ1と第２凹面鏡Ｍ0は、それぞれ入射光を収束さ
せる機能を有するもので、特に第２凹面鏡は平行光が入
射すると少なくとも実用的な意味において１点に焦点を
結ぶものであり、例えば球面ミラー、回転放物面ミラ
ー、回転楕円面ミラーなどが利用される。また、平面鏡
Ｍ0は薄い板からなり表裏両面に反射面を有し中心部分
に細孔Ｈが設けられている。細孔Ｈは入射するレーザ光
の径より十分小さいものとする。
ように、架台１の上に第１の凹面鏡Ｍ1と第２の凹面鏡
Ｍ2と平面鏡Ｍ0を備えて、光源２から放射されるレーザ
光を平行光ビームに変成して射出するものである。第１
凹面鏡Ｍ1と第２凹面鏡Ｍ0は、それぞれ入射光を収束さ
せる機能を有するもので、特に第２凹面鏡は平行光が入
射すると少なくとも実用的な意味において１点に焦点を
結ぶものであり、例えば球面ミラー、回転放物面ミラ
ー、回転楕円面ミラーなどが利用される。また、平面鏡
Ｍ0は薄い板からなり表裏両面に反射面を有し中心部分
に細孔Ｈが設けられている。細孔Ｈは入射するレーザ光
の径より十分小さいものとする。
【００１７】第１凹面鏡Ｍ1と第２凹面鏡Ｍ0は、光学軸
Ｉを共有し鏡面が対向するように配置されている。平面
鏡Ｍ0は細孔Ｈで凹面鏡の光学軸Ｉと交わるように配置
され、第２凹面鏡Ｍ2に平行光が入射したときに細孔Ｈ
の近傍に焦点を結ぶ位置関係に置かれていて、細孔Ｈか
ら放射される光線が第２凹面鏡Ｍ2で反射すると平行ビ
ームになって平面鏡Ｍ0に入射するようになっている。
また、平面鏡Ｍ0の向きは、光源２と平面鏡Ｍ0を結ぶ直
線IIに沿って入射する光が平面鏡Ｍ0により凹面鏡の光
学軸Ｉの方向に反射するように調整されている。
Ｉを共有し鏡面が対向するように配置されている。平面
鏡Ｍ0は細孔Ｈで凹面鏡の光学軸Ｉと交わるように配置
され、第２凹面鏡Ｍ2に平行光が入射したときに細孔Ｈ
の近傍に焦点を結ぶ位置関係に置かれていて、細孔Ｈか
ら放射される光線が第２凹面鏡Ｍ2で反射すると平行ビ
ームになって平面鏡Ｍ0に入射するようになっている。
また、平面鏡Ｍ0の向きは、光源２と平面鏡Ｍ0を結ぶ直
線IIに沿って入射する光が平面鏡Ｍ0により凹面鏡の光
学軸Ｉの方向に反射するように調整されている。
【００１８】第１凹面鏡Ｍ1と第２凹面鏡Ｍ2はそれぞれ
凹面鏡の光学軸Ｉ上を移動して平面鏡Ｍ0との距離を調
整する駆動機構（図外）を備えている。また、架台１に
は光源２からの入射光の方向に移動できる駆動機構（図
外）が備えられている。なお、設置時の調整を容易にす
るために、第１凹面鏡Ｍ1と第２凹面鏡Ｍ2はそれぞれ２
軸のあおり機構を備えている。
凹面鏡の光学軸Ｉ上を移動して平面鏡Ｍ0との距離を調
整する駆動機構（図外）を備えている。また、架台１に
は光源２からの入射光の方向に移動できる駆動機構（図
外）が備えられている。なお、設置時の調整を容易にす
るために、第１凹面鏡Ｍ1と第２凹面鏡Ｍ2はそれぞれ２
軸のあおり機構を備えている。
【００１９】以下、図２を参照して本発明のビーム補償
光学系の作用を説明する。光源２から放射されるレーザ
光は平面鏡Ｍ0で反射して第１凹面鏡Ｍ1に射入し反射し
て再び平面鏡Ｍ0に戻る。光源２からのレーザ光が点光
源から放射されたと見なすときにその仮想的な点光源が
位置する点Ｏと平面鏡Ｍ0の距離をｌv、平面鏡Ｍ0と第
１凹面鏡Ｍ1の距離をｌ1、第１凹面鏡Ｍ1の焦点距離を
ｆ1とすると、下記（１）式の関係が成り立つときに入
射光は細孔Ｈの位置に焦点を結び、細孔Ｈを通過する。 １／（ｌv＋ｌ1）＋１／ｌ1＝１／ｆ1 （１） このとき、入射するレーザ光の拡散角をθrad、細孔Ｈ
を通過して出射するレーザ光の拡散角をθholeとすれ
ば、近軸光線については下記（２）式が成立する。 θhole＝θrad（ｌv＋ｌ1）／ｌ1 （２）
光学系の作用を説明する。光源２から放射されるレーザ
光は平面鏡Ｍ0で反射して第１凹面鏡Ｍ1に射入し反射し
て再び平面鏡Ｍ0に戻る。光源２からのレーザ光が点光
源から放射されたと見なすときにその仮想的な点光源が
位置する点Ｏと平面鏡Ｍ0の距離をｌv、平面鏡Ｍ0と第
１凹面鏡Ｍ1の距離をｌ1、第１凹面鏡Ｍ1の焦点距離を
ｆ1とすると、下記（１）式の関係が成り立つときに入
射光は細孔Ｈの位置に焦点を結び、細孔Ｈを通過する。 １／（ｌv＋ｌ1）＋１／ｌ1＝１／ｆ1 （１） このとき、入射するレーザ光の拡散角をθrad、細孔Ｈ
を通過して出射するレーザ光の拡散角をθholeとすれ
ば、近軸光線については下記（２）式が成立する。 θhole＝θrad（ｌv＋ｌ1）／ｌ1 （２）
【００２０】細孔Ｈに入射したレーザ光は、細孔Ｈを通
過して第２凹面鏡Ｍ2に入射し反射して平行光となり、
再び平面鏡Ｍ0に入射して裏面の反射面で反射し、平行
ビームとして光学系から射出される。第２凹面鏡Ｍ2で
得られる平行ビームの径ｄoutは、焦点位置にある細孔
Ｈを通過してくるレーザ光の拡散角θholeに比例して定
まる。すなわち、平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の距離をｌ
2とすれば、 ｄout＝θholeｌ2 （３） となる。
過して第２凹面鏡Ｍ2に入射し反射して平行光となり、
再び平面鏡Ｍ0に入射して裏面の反射面で反射し、平行
ビームとして光学系から射出される。第２凹面鏡Ｍ2で
得られる平行ビームの径ｄoutは、焦点位置にある細孔
Ｈを通過してくるレーザ光の拡散角θholeに比例して定
まる。すなわち、平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の距離をｌ
2とすれば、 ｄout＝θholeｌ2 （３） となる。
【００２１】本実施例のビーム補償光学系によって平行
光を得るために必要な光学素子の配置をさらに厳密に求
めるためには、光線行列を用いた光線追跡が有効であ
る。本実施例の構成を表す光線行列は、球面ミラーにお
ける反射行列と伝播行列である。球面ミラーによる反射
行列は、ミラーの曲率半径をＲとして、下の（４）式で
表現され、伝播行列は伝播距離をｌとして、下の（５）
式に表わす通りである。
光を得るために必要な光学素子の配置をさらに厳密に求
めるためには、光線行列を用いた光線追跡が有効であ
る。本実施例の構成を表す光線行列は、球面ミラーにお
ける反射行列と伝播行列である。球面ミラーによる反射
行列は、ミラーの曲率半径をＲとして、下の（４）式で
表現され、伝播行列は伝播距離をｌとして、下の（５）
式に表わす通りである。
【００２２】
【数１】
【００２３】本実施例のビーム補償光学系では、平面鏡
Ｍ0からの距離ｌ0の位置にある光源２から放射された所
定の拡散角θradとビーム径ｄrad（ビーム半径ｒrad）
を有する光ビームは、平面鏡Ｍ0で反射して第１凹面鏡
Ｍ1で反射し、平面鏡Ｍ0の細孔Ｈの位置で収束して拡散
角がθhole、ビーム径が０の光ビームになる。第１凹面
鏡Ｍ1の焦点距離ｆ1は曲率Ｒ1の半分であるので、下の
（６）式が成立する。
Ｍ0からの距離ｌ0の位置にある光源２から放射された所
定の拡散角θradとビーム径ｄrad（ビーム半径ｒrad）
を有する光ビームは、平面鏡Ｍ0で反射して第１凹面鏡
Ｍ1で反射し、平面鏡Ｍ0の細孔Ｈの位置で収束して拡散
角がθhole、ビーム径が０の光ビームになる。第１凹面
鏡Ｍ1の焦点距離ｆ1は曲率Ｒ1の半分であるので、下の
（６）式が成立する。
【００２４】
【数２】
【００２５】さらに、平面鏡Ｍ0の細孔Ｈの位置から拡
散角θholeで拡散する光ビームが曲率半径Ｒ2の第２凹
面鏡Ｍ2で反射し平面鏡Ｍ0で反射して拡散角０ビーム径
ｄout（ビーム半径ｒout）の平行光として射出するか
ら、下の（７）式が成立する。
散角θholeで拡散する光ビームが曲率半径Ｒ2の第２凹
面鏡Ｍ2で反射し平面鏡Ｍ0で反射して拡散角０ビーム径
ｄout（ビーム半径ｒout）の平行光として射出するか
ら、下の（７）式が成立する。
【００２６】
【数３】
【００２７】上記の幾何光学解析式を用いて、本実施例
のビーム補償光学系における諸元を求めることができ
る。まず、細孔Ｈにおける光ビームの拡散角θholeとビ
ーム径については、（６）式を解くことにより下記
（８）式と（９）式の関係が成立する。 θhole＝θrad−２｛（θrad（ｌ0＋ｌ1）＋ｒrad｝／Ｒ1 （８） ０＝ｌ1[θrad−２｛（θrad（ｌ0＋ｌ1）＋ｒrad｝／Ｒ1] ＋θrad（ｌ0＋ｌ1）＋ｒrad （９）
のビーム補償光学系における諸元を求めることができ
る。まず、細孔Ｈにおける光ビームの拡散角θholeとビ
ーム径については、（６）式を解くことにより下記
（８）式と（９）式の関係が成立する。 θhole＝θrad−２｛（θrad（ｌ0＋ｌ1）＋ｒrad｝／Ｒ1 （８） ０＝ｌ1[θrad−２｛（θrad（ｌ0＋ｌ1）＋ｒrad｝／Ｒ1] ＋θrad（ｌ0＋ｌ1）＋ｒrad （９）
【００２８】また、出力される平行光は拡散角が０で光
ビーム半径がｒoutであるから、（７）式から下記（１
０）式と（１１）式の関係が成立する。 ０＝θhole−２ｌ2θhole／Ｒ2 すなわち、 ｌ2＝Ｒ2／２ （１０） また、 ｒout＝θholeｌ2 （１１）
ビーム半径がｒoutであるから、（７）式から下記（１
０）式と（１１）式の関係が成立する。 ０＝θhole−２ｌ2θhole／Ｒ2 すなわち、 ｌ2＝Ｒ2／２ （１０） また、 ｒout＝θholeｌ2 （１１）
【００２９】（１０）式から、出力光が平行光である条
件を満たすときの平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の距離ｌ2
は、第２凹面鏡Ｍ2の曲率半径Ｒ2により決まる一定の値
を取ることが分かる。さらに、（１１）式で出力ビーム
の半径ｒoutが細孔Ｈにおける光ビームの拡散角θhole
と平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の距離ｌ2にのみ依存する
ことから、結局細孔Ｈにおける光ビームの拡散角θhole
が出力ビームの半径ｒoutを決めることになる。
件を満たすときの平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の距離ｌ2
は、第２凹面鏡Ｍ2の曲率半径Ｒ2により決まる一定の値
を取ることが分かる。さらに、（１１）式で出力ビーム
の半径ｒoutが細孔Ｈにおける光ビームの拡散角θhole
と平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の距離ｌ2にのみ依存する
ことから、結局細孔Ｈにおける光ビームの拡散角θhole
が出力ビームの半径ｒoutを決めることになる。
【００３０】次に、（９）式を変形すると下の（１２）
式が導かれる。 （ｌ0＋ｌ1）＝｛（θradＲ1−２ｒrad）ｌ1＋ｒradＲ1｝ ／｛θrad（２ｌ1−Ｒ1）｝ （１２） （１２）式を（８）式に代入して下の（１３）式が得ら
れる。 θhole＝θradＲ1／（Ｒ1−２ｌ1） （１３） この式から、細孔Ｈにおける光ビームの拡散角θholeは
平面鏡Ｍ0と第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1の関数であること
が分かる。
式が導かれる。 （ｌ0＋ｌ1）＝｛（θradＲ1−２ｒrad）ｌ1＋ｒradＲ1｝ ／｛θrad（２ｌ1−Ｒ1）｝ （１２） （１２）式を（８）式に代入して下の（１３）式が得ら
れる。 θhole＝θradＲ1／（Ｒ1−２ｌ1） （１３） この式から、細孔Ｈにおける光ビームの拡散角θholeは
平面鏡Ｍ0と第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1の関数であること
が分かる。
【００３１】すなわち、出力平行光のビーム径は平面鏡
Ｍ0と第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1により調整することがで
きる。なお、この距離ｌ1は（９）式を満足する範囲内
で任意の値を取ることができ、さらにこの距離ｌ1に従
って光源２と平面鏡Ｍ0の距離ｌ0が決定される。
Ｍ0と第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1により調整することがで
きる。なお、この距離ｌ1は（９）式を満足する範囲内
で任意の値を取ることができ、さらにこの距離ｌ1に従
って光源２と平面鏡Ｍ0の距離ｌ0が決定される。
【００３２】図３は、上に説明した関係に基づいて構築
したビーム補償光学系の自動調整システムを表すブロッ
ク図である。自動調整システムは、演算制御装置３とキ
ーボードなどの入力装置４とからなり、入力装置４から
の指示を受け光源２から発振するレーザのデータを取得
して、光源２の制御、架台１の並進制御、平面鏡Ｍ0と
第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1、平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の
距離ｌ2を制御する。
したビーム補償光学系の自動調整システムを表すブロッ
ク図である。自動調整システムは、演算制御装置３とキ
ーボードなどの入力装置４とからなり、入力装置４から
の指示を受け光源２から発振するレーザのデータを取得
して、光源２の制御、架台１の並進制御、平面鏡Ｍ0と
第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1、平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の
距離ｌ2を制御する。
【００３３】平行ビームを発生させる場合の調整手順の
１例を示すと以下の通りである。演算制御装置３は、調
整を行う前に光源２から放射されるレーザの波長を知ら
なけらばならない。演算制御装置３には解析式あるいは
テーブルが予め与えられていて、波長に対応するレーザ
光の発散角とビーム径を解析的に割り出すことができ
る。なお、これらレーザ光の特性値はオペレータが入力
装置４を介して供給してもよく、また演算制御装置３が
光源２から測定値として直接収集しても良い。
１例を示すと以下の通りである。演算制御装置３は、調
整を行う前に光源２から放射されるレーザの波長を知ら
なけらばならない。演算制御装置３には解析式あるいは
テーブルが予め与えられていて、波長に対応するレーザ
光の発散角とビーム径を解析的に割り出すことができ
る。なお、これらレーザ光の特性値はオペレータが入力
装置４を介して供給してもよく、また演算制御装置３が
光源２から測定値として直接収集しても良い。
【００３４】次に、以下の手順により各光学要素の位置
調整を行う。 目標とするビーム径ｄoutを決定して入力装置４か
ら入力し、また光源２から放射されるレーザ光の発散角
θradとビーム径ｄradを取得する。 （１０）式（１１）式に基づいて、ビーム径ｄout
に対応する細孔Ｈにおける光ビーム拡散角θholeを求め
る。 （１３）式に基づいて、光ビーム拡散角θholeに対
応する平面鏡Ｍ0と第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1を求めて、
第１凹面鏡Ｍ1の位置を調整する。 （９）式に基づいて、本光学系の条件を満足させる
光源２と平面鏡Ｍ0の距離ｌ0を求めて、架台１の位置を
調整する。
調整を行う。 目標とするビーム径ｄoutを決定して入力装置４か
ら入力し、また光源２から放射されるレーザ光の発散角
θradとビーム径ｄradを取得する。 （１０）式（１１）式に基づいて、ビーム径ｄout
に対応する細孔Ｈにおける光ビーム拡散角θholeを求め
る。 （１３）式に基づいて、光ビーム拡散角θholeに対
応する平面鏡Ｍ0と第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1を求めて、
第１凹面鏡Ｍ1の位置を調整する。 （９）式に基づいて、本光学系の条件を満足させる
光源２と平面鏡Ｍ0の距離ｌ0を求めて、架台１の位置を
調整する。
【００３５】なお、本実施例のビーム補償光学系から平
行ビームでなく収束光や発散光を放射させようとする場
合は、入力装置４からの指示により平面鏡Ｍ0と第２凹
面鏡Ｍ2の距離ｌ2が第２凹面鏡Ｍ2の焦点距離ｆ2に対し
て僅かに偏倚するように調整することにより目的を達成
することができる。
行ビームでなく収束光や発散光を放射させようとする場
合は、入力装置４からの指示により平面鏡Ｍ0と第２凹
面鏡Ｍ2の距離ｌ2が第２凹面鏡Ｍ2の焦点距離ｆ2に対し
て僅かに偏倚するように調整することにより目的を達成
することができる。
【００３６】次に、上記手法を用いた調整の具体例を説
明する。対象とするビーム補償光学系は、曲率半径３０
cmの第１凹面鏡Ｍ1と曲率半径１００cmの第２凹面鏡Ｍ2
を用いており、平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の距離ｌ2は
５０cmで固定されている。また、レーザ光は点光源２か
ら発散角θrad＝４mradで放射され、ビーム半径ｒradは
０mmである。目標とする平行ビームの半径ｒoutを３cm
とすると、上記のステップで細孔Ｈにおける光ビーム
拡散角θholeが０．０６rad、のステップで平面鏡Ｍ0
と第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1が１６cm、のステップで光
源２と平面鏡Ｍ0の距離ｌ0が２２４cmと求められる。
明する。対象とするビーム補償光学系は、曲率半径３０
cmの第１凹面鏡Ｍ1と曲率半径１００cmの第２凹面鏡Ｍ2
を用いており、平面鏡Ｍ0と第２凹面鏡Ｍ2の距離ｌ2は
５０cmで固定されている。また、レーザ光は点光源２か
ら発散角θrad＝４mradで放射され、ビーム半径ｒradは
０mmである。目標とする平行ビームの半径ｒoutを３cm
とすると、上記のステップで細孔Ｈにおける光ビーム
拡散角θholeが０．０６rad、のステップで平面鏡Ｍ0
と第１凹面鏡Ｍ1の距離ｌ1が１６cm、のステップで光
源２と平面鏡Ｍ0の距離ｌ0が２２４cmと求められる。
【００３７】この計算は容易に検証することができる。
本ビーム補償光学系を展開すると図４において光源２が
点光源となった場合に当たり、光源２から第１凹面鏡Ｍ
1の距離がｌ0＋ｌ1、第１凹面鏡Ｍ1と第２凹面鏡Ｍ2の
距離がｌ1＋ｌ2であるエキスパンダーに等価であるか
ら、光線行列は下記（１４）式で表される。
本ビーム補償光学系を展開すると図４において光源２が
点光源となった場合に当たり、光源２から第１凹面鏡Ｍ
1の距離がｌ0＋ｌ1、第１凹面鏡Ｍ1と第２凹面鏡Ｍ2の
距離がｌ1＋ｌ2であるエキスパンダーに等価であるか
ら、光線行列は下記（１４）式で表される。
【００３８】
【数４】
【００３９】（１４）式に先に求めた各値を代入する
と、（１５）式が得られ、ビーム径３cmの平行光が実現
されており、上記計算が正しいことが検証された。した
がって、各駆動機構を操縦して各光学要素の位置調整を
してこれらの値を実現すれば、目標とする半径３cmの平
行ビームを得ることができる。
と、（１５）式が得られ、ビーム径３cmの平行光が実現
されており、上記計算が正しいことが検証された。した
がって、各駆動機構を操縦して各光学要素の位置調整を
してこれらの値を実現すれば、目標とする半径３cmの平
行ビームを得ることができる。
【００４０】この調整手法は、色素レーザ、Ｔi-Ｓレー
ザ、ＯＰＯ、ＦＥＬ、その他全ての波長可変レーザにお
いて、レーザ光のビーム径と発散角が解析的に予測でき
る場合やデータとして予め与えることができる場合に適
用でき、図３のようなシステムを組むことで任意の径を
有する平行ビームを容易に得ることができる。なお、レ
ーザ光で波長掃引を行う場合にも、掃引速度が予め知ら
れているときは、掃引に合わせて第１凹面鏡Ｍ1の位置
と架台１の位置を調整することにより連続波長掃引に対
応して何時でも同じ径の平行光を放射するようにするこ
とができる。
ザ、ＯＰＯ、ＦＥＬ、その他全ての波長可変レーザにお
いて、レーザ光のビーム径と発散角が解析的に予測でき
る場合やデータとして予め与えることができる場合に適
用でき、図３のようなシステムを組むことで任意の径を
有する平行ビームを容易に得ることができる。なお、レ
ーザ光で波長掃引を行う場合にも、掃引速度が予め知ら
れているときは、掃引に合わせて第１凹面鏡Ｍ1の位置
と架台１の位置を調整することにより連続波長掃引に対
応して何時でも同じ径の平行光を放射するようにするこ
とができる。
【００４１】さらに、第２凹面鏡Ｍ2を光軸方向に並進
移動させることにより、ビームを収束・発散させること
も可能である。また、平面鏡Ｍ0の細孔Ｈは、開孔径が
ビーム径に対して十分小さいため、空間周波長フィルタ
としても機能する。なお、上記説明では架台を移動させ
て光源と平面鏡の距離を調整するようにしているが、光
源側を移動させても良いことは言うまでもない。
移動させることにより、ビームを収束・発散させること
も可能である。また、平面鏡Ｍ0の細孔Ｈは、開孔径が
ビーム径に対して十分小さいため、空間周波長フィルタ
としても機能する。なお、上記説明では架台を移動させ
て光源と平面鏡の距離を調整するようにしているが、光
源側を移動させても良いことは言うまでもない。
【００４２】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明のビーム補償
光学系は、光ビームの使用条件や波長によりビームの発
散角が変化する場合にも、任意のビーム径の平行光線を
容易に得ることができ、照明や加工など広く各種の光輸
送系に用いることができる。特に、色素レーザ、ＦＥＬ
などの可変波長型レーザに使用することが容易で、かつ
波長掃引する場合にも利用できる。
光学系は、光ビームの使用条件や波長によりビームの発
散角が変化する場合にも、任意のビーム径の平行光線を
容易に得ることができ、照明や加工など広く各種の光輸
送系に用いることができる。特に、色素レーザ、ＦＥＬ
などの可変波長型レーザに使用することが容易で、かつ
波長掃引する場合にも利用できる。
【図１】本発明のビーム補償光学系の１実施例を示す光
学的配置を示す線図である。
学的配置を示す線図である。
【図２】本実施例における光ビームの形状変化を表した
展開図である。
展開図である。
【図３】本実施例のビーム補償光学系を波長可変レーザ
に適用したときの制御システムのブロック図である。
に適用したときの制御システムのブロック図である。
【図４】従来のビーム補償光学系の例を示す配置図であ
る。
る。
【図５】従来のビーム補償光学系の別の例を示す配置図
である。係を示す図面である。
である。係を示す図面である。
【図６】従来のビーム補償光学系のさらに別の例を示す
配置図である。
配置図である。
１ ビーム補償光学系用架台 ２ 光源 ３ 演算制御装置 ４ 入力装置
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B23K 26/06 G02B 27/09
Claims (6)
- 【請求項１】 第１の凹面鏡と第２の凹面鏡と、中心部
に細孔を有し表裏に反射面を有する平面鏡とを備え、第
１凹面鏡と第２凹面鏡を光学軸を共有して鏡面が対向す
るように配設し、前記平面鏡を第１凹面鏡と第２凹面鏡
の間に、前記細孔の位置に立てた平面鏡の法線が前記光
学軸と鋭角を以て交わり、かつ該細孔が第２凹面鏡の焦
点位置近傍に位置するように配設し、光線が前記法線に
関して前記光学軸と対称な方向から前記平面鏡の表面反
射面に入射して反射しさらに第１凹面鏡で反射して前記
細孔付近に収束するように配置し、該細孔を通過する光
線を第２凹面鏡で反射させさらに前記平面鏡の裏面反射
面で反射させるようにしたことを特徴とするビーム補償
光学系。 - 【請求項２】 前記第１凹面鏡の位置を光軸方向に調整
するようにしたことを特徴とする請求項１記載のビーム
補償光学系。 - 【請求項３】 該装置全体を前記入射光線の方向に移動
する駆動機構を備えることを特徴とする請求項１または
２記載のビーム補償光学系。 - 【請求項４】 前記平面鏡と第１凹面鏡の距離および前
記平面鏡と光源の距離を調整することにより前記細孔を
通過する光線の発散角を調整して光学系から射出される
光ビームの形状を決めることを特徴とする請求項１から
３のいずれかに記載のビーム補償光学系。 - 【請求項５】 前記光線がレーザ光であることを特徴と
する請求項１から４のいずれかに記載のビーム補償光学
系。 - 【請求項６】 請求項５記載のビーム補償光学系を備え
た波長可変レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11077237A JP3080616B1 (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | ビーム補償光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11077237A JP3080616B1 (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | ビーム補償光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3080616B1 true JP3080616B1 (ja) | 2000-08-28 |
| JP2000271776A JP2000271776A (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13628269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11077237A Expired - Fee Related JP3080616B1 (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | ビーム補償光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3080616B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110441896A (zh) * | 2018-05-02 | 2019-11-12 | 上海晟昶光电技术有限公司 | 激光同轴聚焦装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4963149B2 (ja) * | 2001-09-19 | 2012-06-27 | ギガフォトン株式会社 | 光源装置及びそれを用いた露光装置 |
| JP5474891B2 (ja) * | 2011-08-12 | 2014-04-16 | ギガフォトン株式会社 | 光源装置及びそれを用いた露光装置 |
-
1999
- 1999-03-23 JP JP11077237A patent/JP3080616B1/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110441896A (zh) * | 2018-05-02 | 2019-11-12 | 上海晟昶光电技术有限公司 | 激光同轴聚焦装置 |
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| JP2000271776A (ja) | 2000-10-03 |
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