JP3073061B2 - 気体分離装置 - Google Patents

気体分離装置

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JP3073061B2
JP3073061B2 JP03269655A JP26965591A JP3073061B2 JP 3073061 B2 JP3073061 B2 JP 3073061B2 JP 03269655 A JP03269655 A JP 03269655A JP 26965591 A JP26965591 A JP 26965591A JP 3073061 B2 JP3073061 B2 JP 3073061B2
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明浩 堤
好彦 水島
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トキコ株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はPSA式(Pressure Swi
ng Adsorption )の気体分離装置に係り、特により高純
度の製品ガスを能率良く生成するよう構成した気体分離
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、PSA式気体分離装置は、分子
ふるいカーボンやゼオライトなどからなる吸着剤を用い
て空気を窒素と酸素に分離し、いずれか一方を製品ガス
として取出し、使用するものである。
【0003】このため、例えば窒素ガスを取り出すPS
A式気体分離装置にあっては、吸着剤が充填された吸着
槽にコンプレッサからの圧縮空気を導入して吸着剤に酸
素分子を吸着させる吸着工程と、吸着剤により分離生成
された窒素を取出す取出工程と、該吸着槽内を大気解放
しまたは真空ポンプで減圧して吸着剤を再生する再生工
程とを繰返す。即ち、取出工程では、吸着槽内の窒素を
外部に取出し、一方再生工程では吸着された酸素を脱着
し、次の吸着工程に備えるようになっている。
【0004】また、一対の吸着槽を有する装置では、一
方の吸着槽で取出工程が完了し、他方の吸着槽で再生工
程が完了した後、均圧工程を行う。この均圧工程では、
両吸着槽間を連通させて取出工程の後の吸着槽に残留す
るガスを再生工程の吸着槽へ供給して均圧化を図り、よ
り高純度の製品ガスを生成するようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
に均圧工程を行う際は、取出工程が完了した一方の吸着
槽にはかなりの圧力が残っているのに対し再生工程が完
了した他方の吸着槽は略大気圧まで減圧されている。そ
のため、均圧工程開始時は高圧側の一方の吸着槽内のガ
スが一気に低圧側の他方の吸着槽へ送出される。
【0006】このように短時間に圧力が減圧されると、
一方の吸着槽に充填された吸着剤に吸着されている酸素
分子が均圧工程開始時に脱着されてしまい、取出工程後
に残された高純度の窒素ガスだけでなく吸着剤より脱着
された酸素分子も他方の吸着槽へ供給されてしまい、窒
素純度の低いガスが供給されることとなるといった課題
がある。
【0007】そのため、均圧工程を行っても高純度の製
品ガスが得られないことになり、その分高純度の製品ガ
ス発生量が減少するとともに再起動時間が長くなる。
【0008】そこで、本発明は上記課題を解決した気体
分離装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、一の気体分子
を吸着する吸着剤が充填された複数の吸着槽を有し、該
吸着槽の製品ガス取出側間に各吸着槽内の圧力を均圧化
するため均圧用配管を配設してなる気体分離装置におい
て、前記均圧用配管途中に、前記一の吸着槽から他の吸
着槽へ送出される均圧用気体中の一の気体分子を吸着す
る吸着手段を設けてなる。
【0010】
【作用】均圧工程時均圧配管の吸着手段により一方の吸
着槽から他方の吸着槽へ送出される気体中の一の気体分
子を吸着することができるので、他方の吸着槽へ高純度
のガスを供給して均圧工程による製品ガス生成効率を高
められる。
【0011】
【実施例】図1乃至図3に本発明になる気体分離装置を
示す。
【0012】各図中、気体分離装置1は圧縮空気から窒
素を製品ガスとして生成するPSA式の窒素発生装置で
あり、スタート信号の入来により作動開始する。制御装
置2は冷凍式ドライヤ3,コンプレッサ5を有する空気
供給ユニット6,吸着ユニット7及び貯蔵ユニット8の
各バルブV1 〜V11を制御する。
【0013】コンプレッサ5からの圧縮空気は冷凍式ド
ライヤ3で除湿され、乾燥した清浄な圧縮空気として吸
着ユニット7に供給される。空気供給ユニット6と吸着
ユニット7とは配管9を介して接続されている。従っ
て、ドライヤ3で乾燥された圧縮空気は配管9を通って
吸着ユニット7で分岐した給気側の配管10,11を介
して分子ふるいカーボンよりなる吸着剤が充填された第
1,第2の吸着槽7A,7Bに供給される。又配管1
0,11には排気用の配管12,13が分岐している。
【0014】吸着槽7A,7Bの上部には取出側の配管
14,15が接続されており、両配管14,15間には
両吸着槽7A,7Bを接続する均圧用の配管16が横架
されている。又、上記配管14,15は吸着ユニット7
と貯蔵ユニット8とを接続する配管17に接続されてい
る。
【0015】均圧用配管16途中には後述する均圧工程
時バルブV4 ,V8 の開弁により吸着槽7A又は7Bか
ら送出されたガスに含まれている酸素分子を吸着する吸
着剤が充填された均圧用吸着槽(均圧用吸着手段)18
が設けられている。この吸着槽18は前述した窒素ガス
生成用の吸着槽7A,7Bとは異なり、すでに一の吸着
槽7A,7Bで酸素分子を除去された高純度の窒素ガス
が供給され、窒素ガス中に含まれた酸素分子をさらに吸
着してより高純度の窒素ガスを他の吸着槽7B,7Aへ
送出して均圧工程の効率を高めるものである。そのた
め、吸着槽18は他の吸着槽7A,7Bより小形化され
た容量の小さいものとなっている。
【0016】又、吸着槽18には排気用の配管19が接
続され、配管19の端部にはサイレンサ20が設けられ
ている。又、給気用の配管10,11との間を接続する
排気用の配管12,13にもサイレンサ22が設けられ
ている。
【0017】貯蔵ユニット8は製品ガスとしてのN2
スが蓄圧される窒素槽23と、窒素槽23内の酸素濃度
を計測する酸素センサ24とよりなる。窒素槽23の下
部には上記配管17が接続されており、吸着槽7A,7
Bで分離された高純度のN2 ガスは配管17を介して窒
素槽23に供給される。又、窒素槽23の上部にはN 2
ガスを取り出す取出配管25が接続されている。この取
出配管25は下流側のN2 ガスを使用する装置(図示せ
ず)へ延在している。
【0018】又、酸素センサ24は配管26を介して窒
素槽23と接続されている。
【0019】又、上記各配管10〜16,25,26に
は常閉形の電磁弁V1 〜V11が配設されており、各電磁
弁V1 〜V8 は後述するように制御装置2からの信号に
より還流、吸着、再生、取出し、均圧の各工程に応じて
選択的に開弁する。
【0020】上記気体分離装置1においては、スタート
スイッチ(図示せず)の操作によりコンプレッサ5が起
動して空気ドライヤ3に圧縮空気を供給する。
【0021】吸着ユニット7では第1,第2の吸着槽7
A,7B内に上記空気ドライヤ3により乾燥された圧縮
空気が供給されて、昇圧、減圧を繰り返しながら原料空
気から窒素と酸素とを分離する。尚、吸着ユニット7で
は製品ガスとしての窒素を安定供給するため、第1の吸
着槽7Aが昇圧されて吸着工程のとき第2の吸着槽7B
では減圧されて再生工程が行なわれ、又、第1の吸着槽
7Aが再生工程のとき第2の吸着槽7Bは吸着工程とな
る。
【0022】従って、制御装置2は予め入力されたプロ
グラムに基づいて吸着槽7A,7Bが交互に窒素ガスを
生成するように吸着ユニット7の各バルブV1 〜V11
開閉制御する。
【0023】尚、吸着槽7A,7Bで分離生成されたN
2 ガスは窒素槽23内に蓄えられる。装置1の起動当初
は窒素槽23内のO2 濃度が高くなっているので取出配
管25のV10は閉弁したままである。吸着槽7A,7B
で生成されたN2 ガスが次第に窒素槽23に蓄積される
とともに、窒素槽23内のN2 濃度が高まり、O2 濃度
が相対的に低下する。
【0024】従って、貯蔵ユニット8においては、起動
時配管25のバルブV10が閉弁され、酸素センサ24へ
分岐した分岐配管26のバルブV11が開弁している。
【0025】そのため、酸素センサ24は窒素槽23内
のO2 濃度を検出することができる。よって、窒素槽2
3内のO2 濃度が目標値に達すると同時にバルブV10
開弁され、下流側へのN2 ガス供給が開始される。
【0026】ここで、上記構成になる気体分離装置にお
いて、各工程ごとに開閉する吸着ユニット7の各バルブ
1 〜V9 の動作について説明する。
【0027】図2は各工程ごとの動作を示す。同図中、
各バルブV1 〜V9 は「白抜き」が開弁状態であり、
「黒塗り」が閉弁状態であることを示す。 第1工程(吸着槽A=環流・吸着、吸着槽B=再
生、吸着槽C=再生) 図2において、バルブV1 ,V3 ,V6 ,V9 が開弁す
る。そのため、吸着槽7Aにはドライヤ3からの圧縮空
気が下方から供給されるとともに、窒素槽23からの窒
素ガスが上方から還流される。これにより、吸着槽7A
は昇圧し、内部に充填された吸着剤が酸素分子を吸着す
る。
【0028】多孔質の分子ふるいカーボンよりなる吸着
剤は、吸着槽7A内の圧力にほぼ比例して酸素分子を吸
着し、減圧されるとその圧力差により酸素分子を脱着す
る。即ち、吸着剤は図3に示すような特性を有してお
り、圧縮空気が供給されると窒素よりも分子径の小さな
酸素を先に吸着する。従って、吸着槽7A内の窒素濃度
が高まる。
【0029】他の吸着槽7BではバルブV6 の開弁によ
り残存ガスが大気中に排気されて減圧される。そのた
め、吸着槽7B内に充填された充填剤は前回の吸着工程
で吸着した酸素分子が脱着されて再生される。
【0030】そして、均圧用配管16に設けられた吸着
槽18は排気用の配管19のバルブV9 が開弁している
ので、内部が大気圧に減圧されて吸着剤が再生される。 第2工程(吸着槽A=取出し、吸着槽B=再生、吸
着槽C=再生) 図2において、前記第1工程と同様バルブV1 ,V3
6 ,V9 が開弁している。
【0031】吸着槽7AではバルブV1 の開弁により圧
縮空気が供給され続けられているため、やがてコンプレ
ッサ5の供給圧力近くまで昇圧する。そして、吸着剤に
より分離生成された窒素ガスがバルブV3 を介して窒素
槽23へ取出される。
【0032】尚、他方の吸着槽7BはバルブV6 の開弁
により再生工程であり、均圧用の吸着槽18もバルブV
9 の開弁により再生工程である。 第3工程(吸着槽A,吸着槽B=均圧、吸着槽C=
吸着) 図2において、上記バルブV1 ,V3 ,V6 ,V9 が閉
弁した後、均圧用配管16のバルブV4 ,V8 が開弁す
る。
【0033】一方の吸着槽7Aでは取出工程が完了した
ため、略コンプレッサ5からの供給圧力まで昇圧してい
るのに対し、他方の吸着槽7Bでは再生工程が完了して
いるので略大気圧まで減圧されている。又、均圧用配管
16に設けられた吸着槽18も再生工程が完了して減圧
されている。
【0034】そのため、吸着槽7A内には窒素濃度の高
いN2 ガスが加圧された状態で残存している。
【0035】均圧用の吸着槽18の両側に配設された上
記バルブV4 ,V8 が開弁すると、吸着槽7A内のN2
ガスが均圧用ガスとしてバルブV4 を介して吸着槽18
に供給される。そして、吸着槽18内が昇圧すると均圧
用ガス中に含まれている酸素分子が吸着剤に吸着され
る。
【0036】さらに、吸着槽18により分離生成された
均圧用ガスは吸着槽7Aから取出したときよりも高純度
のN2 ガスとなって吸着槽7Bへ送出される。従って、
吸着槽7Bは吸着槽18を介して供給された高純度のN
2ガスにより加圧状態となり、次の吸着工程に備える。
【0037】このように、均圧工程においてはバルブV
4 ,V8の開弁により昇圧された一方の吸着槽7Aが急
速に減圧されるため、前回の吸着工程で吸着剤に吸着さ
れた酸素分子が脱着されてしまう。そのため、均圧用ガ
スの窒素濃度が低下するが、均圧用配管16に設けられ
た吸着槽18に充填された吸着剤により均圧用ガス中の
酸素分子が吸着されるので、均圧工程による高純度のN
2 ガス生成効率が高められる。よって、高純度のN2
ス発生量が増加し、再起動時間をより短縮することがで
きる。
【0038】又、従来は一方の吸着槽7Aの残存ガスが
均圧用配管16を介して直接他方の吸着槽7Bに送出さ
れたため、吸着槽7AではバルブV4 ,V8 の開弁によ
り急速に減圧されてしまい吸着剤に吸着されていた酸素
分子が脱着されやすかった。しかし、本実施例では均圧
用の配管16に吸着剤が充填された吸着槽18が介在す
るため、吸着槽7Aの圧力が急激に減圧されず、酸素分
子の脱着も抑制される。
【0039】又、図2に示す第1〜第3工程が完了する
と吸着槽7Aと7Bとが入れ換わるように上記第1〜第
3工程が実行される。
【0040】尚、上記実施例では一対の吸着槽7A,7
Bが設けられているが、2個以上の吸着槽を有する装置
にも適用できるのは勿論である。
【0041】又、上記実施例では各吸着槽が酸素分子を
吸着する構成であるが、各吸着槽が他の気体分子を吸着
する構成(例えば酸素発生装置等)にも適用できるのは
勿論である。
【0042】
【発明の効果】上述の如く、本発明になる気体分離装置
は、均圧用配管途中に均圧用気体中の一の気体分子を吸
着する吸着手段を設けることにより、均圧工程時一方の
吸着槽から送出された均圧用気体中に吸着剤から脱着さ
れた気体分子が含まれていても、これを吸着して他方の
吸着槽へ高純度の均圧用気体を供給することができる。
そのため、均圧工程による高純度の製品ガス生成効率を
より高めることができ、その結果製品ガス発生量を増加
することができるとともに、再起動時間を短縮すること
ができる等の特長を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明になる気体分離装置の一実施例の概略構
成図である。
【図2】各工程のバルブ動作及び各吸着槽の圧力変化を
示す工程図である。
【図3】吸着剤の特性(圧力−吸着量)を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 気体分離装置 2 制御装置 3 冷凍式ドライヤ 5 コンプレッサ 6 空気供給ユニット 7 吸着ユニット 7A,7B 吸着槽 8 貯蔵ユニット 16 均圧用配管 18 均圧用吸着槽 23 窒素槽 24 酸素センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−104326(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 53/04

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一の気体分子を吸着する吸着剤が充填さ
    れた複数の吸着槽を有し、該吸着槽の製品ガス取出側間
    に各吸着槽内の圧力を均圧化するため均圧用配管を配設
    してなる気体分離装置において、 前記均圧用配管途中に、前記一の吸着槽から他の吸着槽
    へ送出される均圧用気体中の一の気体分子を吸着する吸
    着手段を設けてなることを特徴とする気体分離装置。
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