JP3071423B1 - レチクルキャッシュ方式半導体製造装置 - Google Patents

レチクルキャッシュ方式半導体製造装置

Info

Publication number
JP3071423B1
JP3071423B1 JP11060053A JP6005399A JP3071423B1 JP 3071423 B1 JP3071423 B1 JP 3071423B1 JP 11060053 A JP11060053 A JP 11060053A JP 6005399 A JP6005399 A JP 6005399A JP 3071423 B1 JP3071423 B1 JP 3071423B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reticle
stocker
semiconductor manufacturing
manufacturing apparatus
product
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP11060053A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000260685A (ja
Inventor
猛 吉村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11060053A priority Critical patent/JP3071423B1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3071423B1 publication Critical patent/JP3071423B1/ja
Publication of JP2000260685A publication Critical patent/JP2000260685A/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

【要約】 【課題】 半導体製造工程におけるレチクルの搬送作業
を効率よく行うことの出来る半導体製造システム提供す
ること。 【解決手段】 PEP工程における露光・現像処理を行
う半導体製造装置2のそれぞれにM/Cレチクルストッ
カー7を付属設置している。これらのM/Cレチクルス
トッカー7には、使用効率の高いレチクルが収納され、
着工指示端末4からの命令で出庫するレチクル8を示す
ヒットランプ9と、製造計画に応じて定期的に入れ替え
るレチクル8を示す入れ替えランプ10とが備えられて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置に
関し、特に、PEP工程におけるレチクルの搬送作業の
効率化を図った半導体製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体装置の製造工程では露光
技術を用いてフォトレジストに回路パターンを形成する
際にレチクルを用いる。このレチクルは透明ガラス上に
クロム膜で素子の回路パターン情報が形成されているも
ので、集積回路の製造においては1つの製品に平均して
20種類(枚)の20層の回路パターンを形成するた
め、レチクルも平均して20種類(枚)が用いられる。
これらのレチクルは通常サイズが約150mm×150mm
程度のケースに1枚ずつ入れられており、PEP(写真
蝕刻技術:Photo Engraving Proc
ess)室に設置されているレチクルストッカーに数百
種類を単位として収容されている。そして、半導体装置
の製造工程ではレチクルストッカーから製品に応じた種
類のレチクルを作業員が取り出して露光機構を備えた半
導体製造装置の設置位置に運んでいた。
【0003】図5は従来のPEP(Photo Eng
raving Process)室における製造設備の
レイアウトを示す平面図である。PEP室1内には、マ
シンナンバーが順につけられている製造装置2が9台づ
つ2列と、PEP室1の上部(図面に対して)に1台の
計19台が設置されている。この製造装置2はウエハー
表面にフォトレジストを塗布し、このフォトレジストに
露光技術を用いてレチクルを介して露光し、次にレジス
トを現像して回路パターンを形成する装置である。
【0004】PEP室1内には、また、3台のレチクル
ストッカー3が設置されている。これらのレチクルスト
ッカー3のそれぞれにはレチクルが400種類程度収納
され、合計で1200種類のレチクルが収納されてい
る。これらのレチクルは図示しないコントローラで管理
されており、後述する着工指示端末からの命令に応じて
どのレチクルを出庫するのかLEDを点滅させて作業者
に知らせるとともに、生産計画から使用率の高いレチク
ルとの入れ替えが、月に一度行われる。
【0005】PEP室1のほぼ中央は前記着工指示端末
4が設置されていて、この着工指示端末4は各製造装置
2に、そこで処理される製品、レチクルの種類その他の
情報を通信により指示するとともに、使用するレチクル
の種類についてはレチクルストッカー3に指示するもの
である。
【0006】製品ストレージ5は着工指示端末4の近辺
に設置されており、PEP室1での製造工程で処理され
る半導体ウェーハが製品毎にロット単位で収納されてお
り、着工指示端末4からの命令に応じてどの製品ロット
を処理するのかをLEDを点滅させて作業者に知らせ
る。一方、PEP室1には、また、レチクル棚6が設置
されており、このレチクル棚6にはレチクルストッカー
3に収納出来ない他のレチクル約1万種類が収納管理さ
れている。
【0007】このように製造装置2及びその他の設備が
レイアウトされているPEP室1において、作業者は製
造装置2により製造すべき製品名とレチクルそしてマシ
ンナンバーを着工指示端末4で確認した後、着工をかけ
る。着工指示端末4は、製品ストレージ5とレチクルス
トッカー3に対して対象製品とレチクルとを通信で指示
する。これにより製品ストレージ5とレチクルストッカ
ー3では、それぞれ設けられているLEDを点滅表示し
て、指示された製品とレチクルの所在を作業者に知らせ
る。作業者はこの表示を頼りに、レチクルストッカー3
にレチクルを取りに行き、製品ストレージ5に製品を取
りに行き、それらを製造装置2まで運ぶ。この時、指定
されたレチクルがレチクルストッカー3に収納されてい
ない場合はレチクル棚6に取りに行くことになる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の半
導体製造のPEP工程においては、作業者がレチクルを
レチクルストッカー3に取りに行き、さらに、このレチ
クルを製造装置2まで運ぶ必要があり、またレチクルが
レチクルストッカー3になければ、レチクルストッカー
3とは離れた場所に設置されているレチクル棚6までに
取りに行き、レチクル名称で探し出さなければならず、
作業効率が極めて悪いという問題があった。 そこで、
本発明の目的は、半導体製造工程におけるレチクルの搬
送作業を効率よく行うことのできる半導体製造装置を提
供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のレチクルキャッ
シュ方式半導体製造装置は、ウェハー表面にフォトレジ
ストを塗布し、このフォトレジストにレチクルを介して
露光した後、現像を施すことにより回路パターンを形成
する複数台の半導体製造装置と、これらの半導体製造装
置のそれぞれに設けられ、複数種類の前記レチクルを収
納可能なレチクルストッカーと、前記製造装置により処
理される半導体基板が製品毎に貯蔵されているストレー
ジと、このストレージに対して前記製造装置により処理
すべき製品を指示するとともに、前記レチクルストッカ
ーに対して前記処理すべき製品に対応した種類のレチク
ルを指定する着工指示端末と、この着工指示端末からの
指示により出庫すべきレチクルを示すように前記レチク
ルストッカーに設けられたヒットランプと、前記複数種
のレチクルのうち、使用頻度に応じて定期的に入れ替え
るレチクル種類を示すように前記レチクルストッカーに
設けられた入れ替えランプとを具備したことを特徴とす
るものである。
【0010】また、本発明のレチクルキャッシュ方式半
導体製造装置においては、前記レチクルストッカーに
は、さらに前記着工指示端末からの指示により出庫すべ
きレチクルを示すヒットランプと、前記複数種のレチク
ルのうち、使用頻度に応じて定期的に入れ替えるレチク
ル種類を示す入れ替えランプとが備えられていることを
特徴とするものである。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図1
乃至図4を参照して説明する。
【0012】図1は本発明によるPEP室の設備レイア
ウトを示した平面図、図2は本発明に用いられるレチク
ルストッカーの構成を示した概略平面図、図3はレチク
ルの種類別作業回数をPQ分析した結果を示すグラフ、
図4は本発明のレチクルキャッシュシステムの概念を示
す概念図である。なお、図1乃至図4において、図5と
同一部分には同一符号を付して示し、詳細な説明は省略
し、以下では図5と相違する部分について主として説明
する。
【0013】図1において、本発明によるチクルストッ
カー(以下M/Cレチクルストッカーという。)7が計
19ケの各製造装置2に付属した状態で設置されてい
る。このM/Cレチクルストッカー7は、図2に示され
ているように、各製造装置2で使用率の高いレチクル8
を20種類収納するもので、着工指示端末4(図1)か
らの命令で出庫するレチクル8を示すヒットランプ9
と、生産計画に応じて定期的にレチクル8を入れ替える
時に表示する入れ替えランプ10とを有している。次
に、このように構成されたM/Cレチクルストッカー7
を各製造装置2毎に設置した製造システムを用いた作業
について説明する。図1において、作業者は製造装置2
により製造すべき製品名とレチクル及びマシンナンバー
とを着工指示端末4で確認し着工操作を行う。これによ
り着工指示端末4は、製品ストレージ5とM/Cレチク
ルストッカー7に、製造装置2に供給すべき製品とレチ
クルとを指示する。この指示を受けてM/Cレチクルス
トッカー7の該当するレチクルを表示するLEDが点滅
し、その所在を作業者に知らせる。
【0014】作業者は製品を製品ストレージ5から製造
装置2に搬送するとともに、M/Cレチクルストッカー
7からヒットランプ9(図2)が点灯しているレチクル
8を出庫し製造装置2に装着する。
【0015】以上の作業は指定されたレチクルがM/C
レチクルストッカー7に収納されている場合であり、指
定されたレチクルがM/Cレチクルストッカー7に収納
されていない場合は、レチクルストッカー3、またはレ
チクル棚6に取りに行く。
【0016】レチクルはレチクル事前準備システムとい
うソフトウェアで生産計画と製造在庫から計算され使用
率の高いレチクルが割り出され、製造装置2毎のM/C
レチクルストッカー7に割り振られ入れ替えが行われ
る。その際、入れ替えランプ10(図2)が点灯し、レ
チクルの入れ替えを作業者に知らせる。また、作業者
は、レチクル事前準備システムにより割り出されたレチ
クルの使用率に応じて、レチクルを使用率が高い順にM
/Cレチクルストッカー7からレチクルストッカー3
へ、さらに、レチクル棚6へと入れ替える。
【0017】このように、M/Cレチクルストッカー7
を製造装置2毎に付属させて配置することによって作業
効率が大幅に向上するが、この作業効率上の効果を、図
3により具体的に説明する。図3は1カ月間におけるレ
チクルの種類別作業回数のPQ分析結果を示すグラフ
で、このグラフから約400種のレチクルで、月の生産
量の70%をカバーできることが分かる。
【0018】したがって、PEP室1(図1)において
19台の製造装置2のそれぞれにM/Cレチクルストッ
カー7を設置しそれぞれ20種のレチクルを管理したと
すると、M/Cレチクルストッカー7で、20種×19
台 = 380種 のレチクルを効率よく管理すること
ができ、月の生産量の70%近くをカバーできることに
なる。
【0019】図4はこのような本発明のレチクル管理の
概念をレチクルキャッシュ概念と呼び、図示したもの
で、M/Cレチクルストッカー7をコンピューターシス
テムにおけるキャッシュメモリーに対応付けて説明する
ものである。同図においては、また、レチクル棚6はコ
ンピュータのハードディスクに、また、レチクルストッ
カー3はシステムメモリーDRAMにそれぞれ対応付け
て示している。周知のとおり、コンピュータのキャッシ
ュメモリーは、ハードディスクまたはシステムメモリー
中の、高い頻度で使用されるデータを記憶するメモリー
であり、情報処理の効率化を図るためのものである。
【0020】
【発明の効果】上記した本発明によれば、作業者はレチ
クルを製造装置より距離的に遠い位置にあるレチクルス
トッカーまで取りに行く頻度が大幅に減少するととも
に、必要なレチクルをレチクル棚から探し出す時間も激
減するため、製造工程での作業効率を著しく向上させる
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるPEP室の設備レイアウトを示し
た平面図である。
【図2】本発明によるM/Cレチクルストッカーの構成
を示す概略平面図である。
【図3】本発明によるレチクルの種類別作業回数をPQ
分析した結果を示すグラフである。
【図4】本発明によるレチクルキャッシュの概念を示す
概念図である。
【図5】従来のPEP工程の製造設備のレイアウトを示
す平面図である。
【符号の説明】
1 PEP室 2 製造装置 3 レチクルストッカー 4 着工指示端末 5 製品ステレージ 6 レチクル棚 7 M/Cレチクルストッカー 8 レチクル 9 ヒットランプ 10 入れ替えランプ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェハー表面にフォトレジストを塗布
    し、このフォトレジストにレチクルを介して露光した
    後、現像を施すことにより回路パターンを形成する複数
    台の半導体製造装置と、これらの半導体製造装置のそれ
    ぞれに設けられ、複数種類の前記レチクルを収納可能な
    レチクルストッカーと、前記製造装置により処理される
    半導体基板が製品毎に貯蔵されているストレージと、こ
    のストレージに対して前記製造装置により処理すべき製
    品を指示するとともに、前記レチクルストッカーに対し
    て前記処理すべき製品に対応した種類のレチクルを指定
    する着工指示端末と、この着工指示端末からの指示によ
    り出庫すべきレチクルを示すように前記レチクルストッ
    カーに設けられたヒットランプと、前記複数種のレチク
    ルのうち、使用頻度に応じて定期的に入れ替えるレチク
    ル種類を示すように前記レチクルストッカーに設けられ
    た入れ替えランプとを具備したことを特徴とするレチク
    ルキャッシュ方式半導体製造装置。
JP11060053A 1999-03-08 1999-03-08 レチクルキャッシュ方式半導体製造装置 Expired - Fee Related JP3071423B1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11060053A JP3071423B1 (ja) 1999-03-08 1999-03-08 レチクルキャッシュ方式半導体製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11060053A JP3071423B1 (ja) 1999-03-08 1999-03-08 レチクルキャッシュ方式半導体製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP3071423B1 true JP3071423B1 (ja) 2000-07-31
JP2000260685A JP2000260685A (ja) 2000-09-22

Family

ID=13130971

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11060053A Expired - Fee Related JP3071423B1 (ja) 1999-03-08 1999-03-08 レチクルキャッシュ方式半導体製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3071423B1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3734432B2 (ja) * 2001-06-07 2006-01-11 三星電子株式会社 マスク搬送装置、マスク搬送システム及びマスク搬送方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000260685A (ja) 2000-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100552503C (zh) 制造平板显示器的系统和方法
TWI489583B (zh) 基板處理方法
US6356804B1 (en) Automated material handling system method and arrangement
CN101467242B (zh) 衬底处理系统以及衬底搬送方法
CN101009213A (zh) 加热处理装置和方法、控制程序和计算机可读存储介质
US7665415B2 (en) Substrate processing apparatus
JP5065167B2 (ja) 基板の処理方法及び基板の処理システム
US6351684B1 (en) Mask identification database server
JP2010171276A (ja) 塗布、現像装置
US8746171B2 (en) Substrate treating system
JPS61123150A (ja) 製造装置
CN101473416A (zh) 衬底处理系统以及衬底搬送方法
JP3071423B1 (ja) レチクルキャッシュ方式半導体製造装置
JP7471173B2 (ja) スケジュール作成方法およびスケジュール作成装置
US8412368B2 (en) Method and apparatus for routing dispatching and routing reticles
JP3708919B2 (ja) 生産ラインの管理システム
JP2002236514A (ja) 基板処理システム、その制御装置、及びレシピ表示方法
JP4381673B2 (ja) 生産ラインの管理方法
KR100954899B1 (ko) 인 라인 접속 설정 방법 및 장치 및 그리고 기판 처리 장치및 기판 처리 시스템
JP4401856B2 (ja) 基板処理装置
JP2004145792A6 (ja) 生産ラインの管理方法
JP2000133577A (ja) 露光システム
JP3975360B2 (ja) 供給制御システムおよび方法、プログラム並びに情報記憶媒体
JP2007294583A (ja) 露光装置
JP4401865B2 (ja) 基板搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100526

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees