JP3070599B2 - Surface-roughened copper foil and method for producing the same - Google Patents

Surface-roughened copper foil and method for producing the same

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、銅の表面を粗面化
する方法に関し、カーボンとポリエチレンを混合して硬
化してつくるポリマー製PTC特性過電流保護素子用の
電極や多層プリント基板の銅箔等樹脂との接合性を必要
とする表面粗化銅箔の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for roughening the surface of copper, and more particularly, to a method of mixing a carbon and a polyethylene and curing the same to produce a polymer PTC characteristic electrode for an overcurrent protection element and a copper for a multilayer printed circuit board. The present invention relates to a method for producing a surface roughened copper foil which requires bonding with a resin such as a foil.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、リチウム電池の保護用やパソコン
などの回路保護用などを目的として、ポリマー製PTC
特性過電流保護素子が盛んに用いられるようになってい
る。また電子回路の小型化や高速化と伴に多層プリント
基板が大量に用いられるように成ってきた。
2. Description of the Related Art In recent years, polymer PTCs have been developed for the purpose of protecting lithium batteries and circuits of personal computers.
Characteristic overcurrent protection elements are being actively used. In addition, as electronic circuits have become smaller and faster, a large number of multilayer printed circuit boards have been used.

【0003】ポリマー製PTC特性過電流保護素子に使
用される過電流保護素子としては、カ−ボンを充填した
樹脂タイプのものが知られている。このタイプの過電流
保護素子では、樹脂の熱膨張を利用しているため、電極
となる銅箔と樹脂との間に強い接合力が要求される。多
層用プリント基板でも同様に銅箔と樹脂製絶縁フィルム
との接合力を高めるための方法として、従来から、銅箔
の表面を粗面化して凹凸をつけることが行われている。
As a PTC characteristic overcurrent protection element made of a polymer, a resin type resin filled with carbon is known. In this type of overcurrent protection element, since the thermal expansion of the resin is used, a strong bonding force is required between the resin and the copper foil serving as an electrode. Similarly, as a method for increasing the bonding strength between a copper foil and a resin insulating film in a multilayer printed circuit board, the surface of the copper foil has been conventionally roughened to have irregularities.

【0004】従来の粗化銅箔の製造方法では、まず、ロ
ールを−極、銅を+極として、比較的低電流密度で片面
だけ粗面化めっきを行い、次に荒れていない面に対し
て、同様に粗面化めっきをするのが常であった。
In a conventional method for producing a roughened copper foil, first, roughening plating is performed on only one side at a relatively low current density using a negative electrode as a roll and a positive electrode as copper. Thus, it was usual to perform roughening plating in the same manner.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の方法では、
低電流密度でめっきを行うため処理に要する時間が長く
なり、コストが高く、めっき液のコントロールを行うの
も困難であるという大きな課題があった。
In the above conventional method,
Since plating is carried out at a low current density, the time required for the treatment is long, the cost is high, and it is difficult to control the plating solution.

【0006】このような問題点に鑑み、本願発明は、粗
面化めっきで作成された銅箔と同等の樹脂との密着性を
保ち得る表面粗化銅箔を、簡単で安価な手法で提供する
ことを目的とするものである。
In view of these problems, the present invention provides a roughened copper foil capable of maintaining the same adhesiveness to a resin as a copper foil prepared by roughening plating by a simple and inexpensive method. It is intended to do so.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本願発明の表面粗化方法は、銅箔または銅板を電解
液中で交流エッチングを行うことを特徴とするものであ
る。
In order to solve the above-mentioned problems, a surface roughening method of the present invention is characterized in that a copper foil or a copper plate is subjected to AC etching in an electrolytic solution.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本願発明の実施の形態について、
図面を参照しながら説明する。図1は、本願発明におけ
るエッチング糟の概略図である。図1において、1は電
極、2は他の電極(試料)、3は電解液と添加剤の混合
溶液である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described.
This will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view of an etching tank according to the present invention. In FIG. 1, 1 is an electrode, 2 is another electrode (sample), and 3 is a mixed solution of an electrolytic solution and an additive.

【0009】上記のような装置を用いた交流エッチング
の原理について以下、詳しく説明する。
The principle of AC etching using the above-described apparatus will be described in detail below.

【0010】通常、電解エッチングは電解研磨のように
金属の表面を平滑にするために行われる。その理由は、
金属板と対極板を平行に電解液中に置き、金属板を陽極
にして電気化学的にエッチングする場合、金属に凹凸が
存在すると、電流は対極に近い突起部に集中するためで
ある。
Normally, electrolytic etching is performed to smooth the surface of a metal like electrolytic polishing. The reason is,
This is because, when a metal plate and a counter electrode plate are placed in an electrolytic solution in parallel and electrochemical etching is performed using the metal plate as an anode, if there is unevenness in the metal, the current concentrates on the protrusion near the counter electrode.

【0011】そのため、アルミニウムのように陽極にな
ると酸化物をつくるような金属以外では、エッチングで
表面に凹凸をつけることは困難である。
For this reason, it is difficult to make the surface uneven by etching, except for metals such as aluminum which form an oxide when it becomes an anode.

【0012】本願発明は、水溶液中で銅イオンと溶解し
にくい塩を作る陰イオンを添加しておくことによって、
電解エッチング時に突起部の銅イオンが多くなる部分に
化合物が生成され、陰イオンの到達しにくい凹部がエッ
チング出来易いようにすることで、エッチングによる粗
面化を実現したものである。
According to the present invention, by adding an anion which forms a salt which is hardly soluble with copper ions in an aqueous solution,
A compound is generated in a portion of the protrusion where the copper ions increase during electrolytic etching, and a concave portion where anions do not easily reach is easily etched, thereby realizing a roughened surface by etching.

【0013】また細かい凹凸を均質に作るためには、直
流エッチングより交流エッチングの方がエッチピットの
発生の機会が多く、より好ましい。
In order to form fine irregularities uniformly, AC etching is more preferable than DC etching because it has more opportunities to generate etch pits.

【0014】一般的に交流エッチングの周波数を低くす
るとエッチピットの間隔が大きくなり、広い間隔の凹凸
が得られる。例えば、1Hz程度になるとかなり大きな
間隔の凹凸が得られる。一方、エッチング周波数を高く
するとエッチピットの間隔が狭くなり、細かい凹凸が得
られる。エッチング周波数が50Hzより高くなるとエ
ッチングの進行が実質的に停止する。
In general, when the frequency of the AC etching is reduced, the interval between the etch pits is increased, and irregularities with a wide interval can be obtained. For example, when the frequency is about 1 Hz, unevenness with a considerably large interval is obtained. On the other hand, when the etching frequency is increased, the interval between the etch pits is reduced, and fine irregularities are obtained. When the etching frequency is higher than 50 Hz, the progress of the etching is substantially stopped.

【0015】また銅イオンは酸性で溶け易く、特にハロ
ゲンイオンは銅イオンと錯体を作り易いため、酸性側で
エッチングする場合の酸としてハロゲン酸が有効であ
る。この中で塩酸はコスト的にも取扱いの点からも特に
好ましい酸である。
Further, copper ions are acidic and are easily dissolved, and particularly, halogen ions are liable to form a complex with copper ions. Therefore, halogen acid is effective as an acid for etching on the acidic side. Among them, hydrochloric acid is a particularly preferred acid from the viewpoint of cost and handling.

【0016】酸濃度としては、0.001モル/L以上
が必要であり、これ以下の濃度では電流密度やエッチン
グ液の変化が大きく安定したエッチングができない等の
問題がある。
An acid concentration of 0.001 mol / L or more is required. If the concentration is less than 0.001 mol / L, there is a problem that a change in current density and an etching solution is large and stable etching cannot be performed.

【0017】中性塩を用いる場合も塩酸イオン等銅イオ
ンと錯体を作り易いハロゲンイオンを持った塩が好まし
い。また中性塩と銅イオンと溶けにくい化合物を作る組
み合わせでは酸化銅等の沈澱物を表面に作ることが多い
ため、酸処理あるいは酸中でエッチングをすることによ
り沈澱物を取り去る方が好ましい。
When a neutral salt is used, a salt having a halogen ion which easily forms a complex with a copper ion such as a hydrochloric acid ion is preferable. In addition, since a precipitate such as copper oxide is often formed on the surface in a combination that forms a compound insoluble with a neutral salt and copper ions, it is preferable to remove the precipitate by acid treatment or etching in an acid.

【0018】またこのエッチングで作る粗化面は、液組
成や周波数、電流密度によりかなり自由に凹凸をコント
ロールできるため、目的に合った表面粗度をえることが
できる。
Further, the roughened surface formed by this etching can control the irregularities quite freely by the liquid composition, frequency and current density, so that the surface roughness suitable for the purpose can be obtained.

【0019】このため樹脂の熱膨張を利用して使用する
ポリマー製PTC特性過電流保護素子の電極のように特
に強い接合強度を要する銅電極に使用すると、経時変化
の無い抵抗値の安定した過電流保護素子が得られる。ま
た多層用プリント基板銅箔として安価に提供することが
可能と成った。
For this reason, when used for a copper electrode requiring a particularly strong bonding strength, such as an electrode of a polymer PTC characteristic overcurrent protection element used by utilizing the thermal expansion of a resin, the resistance value which does not change with time is stable. A current protection element is obtained. Further, it has become possible to provide the multilayer printed circuit board copper foil at low cost.

【0020】[0020]

【実施例】以下実施例を用いて本発明を具体的に説明す
る。
The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0021】(実施例1)3モル/Lの塩化ナトリウム
と0.2wt%の炭酸アンモニウムまたは炭酸水素アン
モニゥムを水に溶かした電解液中で、電極として銅箔、
他の電極としてカ−ボンを用い、60*60mmの試料
で1Hzの交流で170mA/cm2の電流密度で5分間
エッチングを行ったところ、表面粗さRmax10μm
となった。
Example 1 A copper foil was used as an electrode in an electrolytic solution obtained by dissolving 3 mol / L of sodium chloride and 0.2 wt% of ammonium carbonate or ammonium hydrogen carbonate in water.
When a sample of 60 * 60 mm was etched at a current density of 170 mA / cm 2 for 5 minutes using an alternating current of 1 Hz using carbon as the other electrode, the surface roughness Rmax was 10 μm.
It became.

【0022】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して、3*3mm、厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り
試験を行ったところ、エッチング前は2.5kgであっ
たのに、エッチング後は14.7kgになった。エポキ
シ系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。炭酸ア
ンモニゥムでも炭酸水素アンモニゥムでもほぼ同様の強
度が観察できた。
When a tensile test was performed using a 3 * 3 mm, 0.1 mm thick copper foil using an α-cyanoacrylate instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but was 2.5 kg before etching. It became 14.7 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. Almost the same strength was observed in both ammonium carbonate and hydrogencarbonate ammonium.

【0023】周波数を50Hz以上にするとエッチング
が進行しなかった。また電流密度は高電流密度ほど表面
荒さは大きいという傾向がみられたが、顕著な差は観察
されなかった。望ましくは過電流保護素子電極では0.
3〜5Hz,多層プリント用銅箔では1〜10Hzの交
流が良い。
When the frequency was 50 Hz or more, the etching did not proceed. The current density tended to have a higher surface roughness as the current density increased, but no remarkable difference was observed. Desirably, the voltage of the overcurrent protection device electrode is set to 0.
An alternating current of 3 to 5 Hz and 1 to 10 Hz is preferable for a copper foil for multilayer printing.

【0024】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は12.5kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but 12. It became 5 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives.

【0025】電解液を、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩である塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム,
臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化カリゥム,塩化
リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸マグネシゥムな
どの塩を含むものに変えても、大きな差異は見られなか
った。また炭酸アンモニアや炭酸水素アンモニゥムの添
加量が0.001wt%以下では顕著な効果が見られな
かった。他に炭酸水素のアルカリ塩でも同様な効果があ
った。
The electrolytic solution is made of a halogen salt of an alkali metal or an alkaline earth metal, and soluble sulfates such as sodium chloride, potassium chloride, sodium nitrate, potassium nitrate,
No significant difference was found when changing to a salt containing sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate. When the amount of ammonium carbonate or ammonium hydrogen carbonate added was 0.001 wt% or less, no remarkable effect was observed. In addition, the same effect was obtained with an alkali salt of hydrogen carbonate.

【0026】PHについては、塩酸にてPH4に調節し
エッチングをおこなったところ、引っ張り強度は11.
7kgとなったが、PH1では3.5kgとなり、水酸
化ナトリウムでPH11にしたところ10.2kgとな
った。このようにPHによって引っ張り強度がコントロ
ールできることが確認された。
The pH was adjusted to pH 4 with hydrochloric acid and etching was performed.
The weight was 7 kg, but it was 3.5 kg at PH1 and 10.2 kg when the pH was adjusted to 11 with sodium hydroxide. Thus, it was confirmed that the tensile strength could be controlled by PH.

【0027】(実施例2)3モル/Lの塩化ナトリウム
と0.2wt%のフッ化アンモニウムを水に溶かした電
解液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボンを
用い、60*60mmの試料で、ポリマー製PTC過電
流保護素子用として1Hzの交流で170mA/cm2の
電流密度で5分間エッチングを行ったところ、表面粗さ
Rmax10μmとなった。また多層用プリント基板用
銅箔として5Hzの交流で85mA/cm2の電流密度で
5分間エッチングを行ったところ、表面粗さRmax2
μmとなった。
(Example 2) In an electrolytic solution obtained by dissolving 3 mol / L sodium chloride and 0.2 wt% ammonium fluoride in water, copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. * A 60 mm sample was etched for 5 minutes at a current density of 170 mA / cm2 with an alternating current of 1 Hz for use as a polymer PTC overcurrent protection device, and the surface roughness Rmax was 10 µm. When etching was performed for 5 minutes at a current density of 85 mA / cm 2 at an alternating current of 5 Hz as a copper foil for a multilayer printed board, the surface roughness Rmax
μm.

【0028】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後はRmax10μでは13.7kgに
なった。Rmax2μでは3.7kgになった。エポキ
シ系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 0.1 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, it was 2.5 kg before etching, but Rmax 10 μm after etching. It became 13.7 kg. With Rmax2μ, the weight was 3.7 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives.

【0029】(実施例3)3モル/Lの塩化ナトリウム
と0.2wt%の燐酸アンモニウムを水に溶かした電解
液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボンを用
い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170mA
/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax9μmとなった。
Example 3 In an electrolytic solution in which 3 mol / L of sodium chloride and 0.2 wt% of ammonium phosphate were dissolved in water, copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. 170mA at 1Hz AC with 60mm sample
When etching was performed at a current density of / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 9 μm.

【0030】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は12.8kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。また燐酸
や他の燐酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, the weight was 2.5 kg before the etching, but 12 kg after the etching. It became 8 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. A similar tendency was observed for phosphoric acid and other phosphates.

【0031】(実施例4)3モル/Lの塩化ナトリウム
と0.2wt%のピロ燐酸アンモニウムを水に溶かした
電解液中で、電極に銅箔他の電極にカ−ボンを用い、6
0*60mmの試料で1Hzの交流で170mA/cm2
の電流密度で5分間エッチングを行ったところ、表面粗
さRmax8μmとなった。
Example 4 In an electrolytic solution obtained by dissolving 3 mol / L sodium chloride and 0.2 wt% ammonium pyrophosphate in water, copper foil was used for the electrode and carbon was used for the other electrode.
170 mA / cm2 at 1 Hz AC with a sample of 0 * 60 mm
When etching was performed at a current density of 5 minutes, the surface roughness became Rmax 8 μm.

【0032】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は11.8kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。またピロ
燐酸や他のピロ燐酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 0.1 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, the weight was 2.5 kg before the etching, but 11.11 after the etching. It became 8 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. A similar tendency was observed for pyrophosphate and other pyrophosphates.

【0033】(実施例5)3モル/Lの塩化ナトリウム
と0.2wt%のヨ−ド酸アンモニウムを水に溶かした
電解液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボン
を用い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170
mA/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax7μmとなった。
(Example 5) In an electrolytic solution obtained by dissolving 3 mol / L sodium chloride and 0.2 wt% ammonium iodide in water, a copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. , 170 * at 1 Hz alternating current with 60 * 60 mm sample
When etching was performed at a current density of mA / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 7 μm.

【0034】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は10.2kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 0.1 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but was 10.10 kg after etching. It became 2 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives.

【0035】(実施例6)3モル/Lの塩化ナトリウム
と0.2wt%の蓚酸アンモニウムを水に溶かした電解
液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボンを用
い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170mA
/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax8μmとなった。
(Example 6) In an electrolytic solution in which 3 mol / L of sodium chloride and 0.2 wt% of ammonium oxalate were dissolved in water, copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. 170mA at 1Hz AC with 60mm sample
When etching was performed at a current density of 5 cm / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 8 μm.

【0036】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は11.5kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。また蓚酸
や他の蓚酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but was 11.1 kg after etching. It became 5 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. A similar tendency was observed for oxalic acid and other oxalates.

【0037】(実施例7)3モル/Lの塩化ナトリウム
と0.2wt%の蟻酸アンモニウムを水に溶かした電解
液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボンを用
い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170mA
/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax9μmとなった。
Example 7 In an electrolytic solution obtained by dissolving 3 mol / L of sodium chloride and 0.2 wt% of ammonium formate in water, a copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. 170mA at 1Hz AC with 60mm sample
When etching was performed at a current density of / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 9 μm.

【0038】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は11.9kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。また蟻酸
や他の蟻酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but 11.11 after etching. It became 9 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. A similar tendency was observed with formic acid and other formate salts.

【0039】(実施例8)3モル/Lの塩化ナトリウム
と0.2wt%のメタ燐酸アンモニウムを水に溶かした
電解液中で、電極として銅箔他の電極にカ−ボンを用
い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170mA
/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax8μmとなった。
(Example 8) In an electrolytic solution obtained by dissolving 3 mol / L of sodium chloride and 0.2 wt% of ammonium metaphosphate in water, copper was used as an electrode, and carbon was used as an electrode. 170mA at 1Hz AC with 60mm sample
When etching was performed at a current density of 5 cm / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 8 μm.

【0040】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は11.8kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。またメタ
燐酸や他のメタ燐酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but was 11.1 kg after etching. It became 8 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. A similar tendency was observed in metaphosphoric acid and other metaphosphates.

【0041】(実施例9)3モル/Lの塩化カリウムと
0.2wt%の蟻酸アンモニウムを水に溶かした電解液
中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボンを用
い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170mA
/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax9μmとなった。
Example 9 In an electrolytic solution in which 3 mol / L of potassium chloride and 0.2 wt% of ammonium formate were dissolved in water, copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. 170mA at 1Hz AC with 60mm sample
When etching was performed at a current density of / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 9 μm.

【0042】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は12.2kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。また蟻酸
や他の蟻酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 0.1 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, the weight was 2.5 kg before the etching, but 12 kg after the etching. It became 2 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. A similar tendency was observed with formic acid and other formate salts.

【0043】実施例1〜9で電解液を、アルカリ金属あ
るいはアルカリ土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩で
ある塩化ナトリウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、
硝酸カリウム,臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化
カリゥム,塩化リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸
マグネシゥムなどの塩を含むものに変えても、大きな差
異は見られなかった。
In Examples 1 to 9, the electrolytic solution was replaced with an alkali metal or alkaline earth metal halide, soluble sulfates such as sodium chloride, potassium chloride and sodium nitrate.
No significant difference was found even when a salt containing potassium nitrate, sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate was used.

【0044】(実施例10)3モル/Lの塩化リチウムと
0.2wt%のメタ燐酸アンモニウムを水に溶かした電
解液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボンを
用い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170m
A/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax8μmとなった。
Example 10 In an electrolytic solution in which 3 mol / L of lithium chloride and 0.2 wt% of ammonium metaphosphate were dissolved in water, copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. * 170m for 1mm alternating current with 60mm sample
When etching was performed at a current density of A / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 8 μm.

【0045】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は10.2kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。またメタ
燐酸や他のメタ燐酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 0.1 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but was 10.10 kg after etching. It became 2 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. A similar tendency was observed in metaphosphoric acid and other metaphosphates.

【0046】電解液を、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩である塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム,
臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化カリゥム,塩化
リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸マグネシゥムな
どの塩を含むものに変えても、大きな差異は見られなか
った。
The electrolytic solution is treated with an alkali metal or alkaline earth metal halide, soluble sulfates such as sodium chloride, potassium chloride, sodium nitrate and potassium nitrate.
No significant difference was found when changing to a salt containing sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate.

【0047】添加剤としては銅との難溶塩,不溶塩を作
るのが好ましく、種々の添加剤でも同様な効果が期待で
きることは言うまでもない。
As an additive, it is preferable to form a hardly soluble salt or an insoluble salt with copper. It goes without saying that the same effect can be expected with various additives.

【0048】(実施例11)3モル/Lの臭化カリウムと
0.2wt%の蟻酸アンモニウムを水に溶かした電解液
中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボンを用
い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170mA
/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax9μmとなった。
Example 11 In an electrolytic solution obtained by dissolving 3 mol / L potassium bromide and 0.2 wt% ammonium formate in water, copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. * 170mA at 1Hz AC for 60mm sample
When etching was performed at a current density of / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 9 μm.

【0049】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は12.2kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。また蟻酸
や他の蟻酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but 12. It became 2 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. A similar tendency was observed with formic acid and other formate salts.

【0050】電解液を、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩である塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム,
臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化カリゥム,塩化
リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸マグネシゥムな
どの塩を含むものに変えても、大きな差異は見られなか
った。
The electrolytic solution is treated with an alkali metal or alkaline earth metal halide, soluble sulfates such as sodium chloride, potassium chloride, sodium nitrate, potassium nitrate,
No significant difference was found when changing to a salt containing sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate.

【0051】(実施例12)3モル/Lの臭化カリウムと
0.001wt%の蟻酸アンモニウムを水に溶かした電
解液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボンを
用い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170m
A/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax6μmとなった。
Example 12 In an electrolytic solution in which 3 mol / L of potassium bromide and 0.001 wt% of ammonium formate were dissolved in water, copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. * 170m for 1mm alternating current with 60mm sample
When etching was performed at a current density of A / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 6 μm.

【0052】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は6.8kgになった。エポキシ系、
ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。また蟻酸や他
の蟻酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate instantaneous adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but was 6. It became 8 kg. Epoxy,
A similar tendency was observed for the rubber-based adhesive. A similar tendency was observed with formic acid and other formate salts.

【0053】電解液を、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩である塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム,
臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化カリゥム,塩化
リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸マグネシゥムな
どの塩を含むものに変えても、大きな差異は見られなか
った。
The electrolytic solution is treated with an alkali metal or alkaline earth metal halide, soluble sulfates such as sodium chloride, potassium chloride, sodium nitrate and potassium nitrate.
No significant difference was found when changing to a salt containing sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate.

【0054】(実施例13)3モル/Lの臭化カリウムと
0.0001wt%の蟻酸アンモニウムを水に溶かした
電解液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボン
を用い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170
mA/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax2μmとなった。
Example 13 In an electrolytic solution in which 3 mol / L of potassium bromide and 0.0001 wt% of ammonium formate were dissolved in water, a copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. * 170 at 1 Hz AC for 60 mm sample
When etching was performed at a current density of mA / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 2 μm.

【0055】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は8.5kgになった。エポキシ系、
ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。また蟻酸や他
の蟻酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but was 8. It became 5 kg. Epoxy,
A similar tendency was observed for the rubber-based adhesive. A similar tendency was observed with formic acid and other formate salts.

【0056】電解液を、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩である塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム,
臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化カリゥム,塩化
リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸マグネシゥムな
どの塩を含むものに変えても、大きな差異は見られなか
った。
The electrolytic solution was treated with an alkali metal or alkaline earth metal halide, soluble sulfates such as sodium chloride, potassium chloride, sodium nitrate and potassium nitrate.
No significant difference was found when changing to a salt containing sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate.

【0057】また、電解液や添加剤とも濃度は飽和溶液
ないで行うのが望ましいが、沈澱物があってもさしつか
えはない。
It is desirable that the concentration of both the electrolytic solution and the additive is not a saturated solution, but there is no problem even if there is a precipitate.

【0058】(実施例14)0.001モル/Lの臭化カ
リウムと0.05wt%の蟻酸アンモニウムを水に溶か
した電解液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−
ボンを用い、60*60mmの試料で1Hzの交流で5
0mA/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったと
ころ、表面粗さRmax5μmとなった。
(Example 14) In an electrolytic solution in which 0.001 mol / L of potassium bromide and 0.05 wt% of ammonium formate were dissolved in water, a copper foil was used as an electrode, and a carfoil was used as another electrode.
Using a Bonn, a sample of 60 * 60 mm is
When etching was performed for 5 minutes at a current density of 0 mA / cm 2, the surface roughness became Rmax 5 μm.

【0059】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は5.9kgになった。エポキシ系、
ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。また蟻酸や他
の蟻酸塩でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed using a 3 * 3 mm thick 0.1 mmt copper foil using an α-cyanoacrylate instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but was 5.5 kg after etching. It became 9 kg. Epoxy,
A similar tendency was observed for the rubber-based adhesive. A similar tendency was observed with formic acid and other formate salts.

【0060】電解液を、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩である塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム,
臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化カリゥム,塩化
リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸マグネシゥムな
どの塩を含むものに変えても、大きな差異は見られなか
った。
The electrolytic solution is treated with an alkali metal or alkaline earth metal halide, soluble sulfates such as sodium chloride, potassium chloride, sodium nitrate and potassium nitrate.
No significant difference was found when changing to a salt containing sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate.

【0061】(実施例15)0.0001モル/Lの臭化
カリウムと0.05wt%の蟻酸アンモニウムを水に溶
かした電解液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ
−ボンを用い、60*60mmの試料で1Hzの交流で
30mA/cm2の電流密度で5分間エッチングを行った
ところ、表面粗さRmax3μmとなった。
Example 15 In an electrolytic solution in which 0.0001 mol / L of potassium bromide and 0.05 wt% of ammonium formate were dissolved in water, a copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode. , 60 * 60mm sample and 1Hz AC
When etching was performed at a current density of 30 mA / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 3 μm.

【0062】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は2.9kgになって大きな効果はな
かった。エポキシ系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみ
られた。また蟻酸や他の蟻酸塩でも同様な傾向がみられ
た。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but was 2. There was no big effect at 9 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives. A similar tendency was observed with formic acid and other formate salts.

【0063】電解液を、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩である塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム,
臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化カリゥム,塩化
リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸マグネシゥムな
どの塩を含むものに変えても、大きな差異は見られなか
った。
The electrolytic solution was treated with a salt of an alkali metal or an alkaline earth metal, or a soluble sulfate such as sodium chloride, potassium chloride, sodium nitrate, potassium nitrate, or the like.
No significant difference was found when changing to a salt containing sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate.

【0064】また、銅箔の片面及び両面のどちらでも可
能であることは言うまでもないことである。浴温をかえ
ても著しい効果はなかった。また直流エッチングでも同
様な効果が得られたが、工程管理が難しかった。
It goes without saying that either one side or both sides of the copper foil is possible. Changing the bath temperature had no significant effect. A similar effect was obtained by DC etching, but process control was difficult.

【0065】上記の実施例で得られた粗化銅箔を用いて
ポリマー製PTC特性過電流保護素子を作成し、プリン
ト基板に実装して特性チェックを行った。
Using the roughened copper foil obtained in the above example, a polymer PTC characteristic overcurrent protection element was prepared, mounted on a printed circuit board, and checked for characteristics.

【0066】12Vの直流電源に接続し40Aの過電流
を流してポリマー製PTC特性過電流保護素子を動作さ
せそのまま1分間通電し、5分間通電を中止するのを1
サイクルとし、500サイクルを行った。
It is connected to a DC power supply of 12 V, an overcurrent of 40 A is applied to operate the PTC characteristic overcurrent protection element made of polymer, and the current is supplied for 1 minute.
The cycle was 500 cycles.

【0067】実施例1では発火せず、導電製ポリマーと
粗面化銅箔とのあいだに剥離性の問題は発生しなかっ
た。また抵抗値の変化率は±20%以内であった。実施
例15では発火せず、導電製ポリマーと粗面化銅箔との
あいだに剥離性の問題が発生した。サンプル10ケ中1
0ケの全てに剥離が生じた。また抵抗値の変化率は90
0%以上であった。
Example 1 did not ignite, and there was no problem of peelability between the conductive polymer and the roughened copper foil. The rate of change of the resistance was within ± 20%. In Example 15, no ignition occurred, and a problem of peelability occurred between the conductive polymer and the roughened copper foil. 1 out of 10 samples
Peeling occurred in all 0 cases. The rate of change of the resistance value is 90
0% or more.

【0068】(実施例16)3モル/Lの塩化カリウムに
炭酸ガスをバブリングまたはドライアイスの小片を添加
した電解液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−
ボンを用い、60*60mmの試料で1Hzの交流で1
70mA/cm2の電流密度で5分間エッチングを行った
ところ、表面粗さRmax10.5μmとなった。
(Example 16) In an electrolytic solution obtained by bubbling carbon dioxide gas into 3 mol / L potassium chloride or adding a small piece of dry ice, a copper foil was used as an electrode and a carfoil was used as another electrode.
With a 60 * 60 mm sample and 1 Hz alternating current
When etching was performed at a current density of 70 mA / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 10.5 μm.

【0069】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は12.9kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but 12. It became 9 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives.

【0070】電解液を、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩である塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム,
臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化カリゥム,塩化
リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸マグネシゥムな
どの塩を含むものに変えても、大きな差異は見られなか
った。
The electrolytic solution is prepared by using a salt of an alkali metal or an alkaline earth metal, or a soluble sulfate such as sodium chloride, potassium chloride, sodium nitrate, potassium nitrate, or the like.
No significant difference was found when changing to a salt containing sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate.

【0071】(実施例17)3モル/Lの塩化カリウムに
アンモニア水0.3wt%を添加し電解液中で、電極と
して銅箔、他の電極としてカ−ボンを用い、60*60
mmの試料で1Hzの交流で170mA/cm2の電流密
度で5分間エッチングを行ったところ、表面粗さRma
x12μmとなった。また炭酸ガスをバブリングまたは
ドライアイスの小片を添加したところ,液寿命が10倍
と成った。
Example 17 0.3 mol% of aqueous ammonia was added to 3 mol / L of potassium chloride, and copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode in an electrolytic solution.
mm sample was etched at an alternating current of 1 Hz at a current density of 170 mA / cm 2 for 5 minutes to obtain a surface roughness Rma.
x12 μm. Further, bubbling of carbon dioxide gas or addition of small pieces of dry ice increased the liquid life ten times.

【0072】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後は12.5kgになった。エポキシ
系、ゴム系接着剤でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, the weight was 2.5 kg before etching, but 12. It became 5 kg. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives.

【0073】電解液を、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩である塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム,
臭化ナトリゥム,よう化カリゥム,弗化カリゥム,塩化
リチゥム,硫酸ナトリゥムあるいは硫酸マグネシゥムな
どの塩を含むものに変えても、大きな差異は見られなか
った。またアンモニア水の添加量が0.001wt%以
下では顕著な効果が見られなかった。
The electrolytic solution is treated with an alkali metal or alkaline earth metal halide, soluble sulfates such as sodium chloride, potassium chloride, sodium nitrate and potassium nitrate.
No significant difference was found when changing to a salt containing sodium bromide, potassium iodide, potassium fluoride, lithium chloride, sodium sulfate, or magnesium sulfate. When the amount of added ammonia water was 0.001 wt% or less, no remarkable effect was observed.

【0074】(実施例18)3モル/Lの塩酸を添加した
電解液中で、電極として銅箔、他の電極としてカ−ボン
を用い、60*60mmの試料で1Hzの交流で170
mA/cm2の電流密度で5分間エッチングを行ったとこ
ろ、表面粗さRmax6.5μmとなった。
(Example 18) In an electrolytic solution containing 3 mol / L hydrochloric acid, a copper foil was used as an electrode and carbon was used as another electrode.
When etching was performed at a current density of mA / cm 2 for 5 minutes, the surface roughness became Rmax 6.5 μm.

【0075】αシアノアクリレート系瞬間接着剤を使用
して3*3mm厚さ0.1mmtの銅箔で引っ張り試験
を行ったところ、エッチング前は2.5kgであったの
に、エッチング後6.5kgになった。エポキシ系、ゴ
ム系接着剤でも同様な傾向がみられた。
When a tensile test was performed on a copper foil having a thickness of 3 mm × 3 mm and a thickness of 0.1 mm using an α-cyanoacrylate-based instant adhesive, it was 2.5 kg before etching, but 6.5 kg after etching. Became. A similar tendency was observed with epoxy and rubber adhesives.

【0076】電解液を、硫酸,リン酸,硝酸,有機スル
フォン酸,ふっ酸,酸化ハロゲン酸に変えても、大きな
差異は見られなかった。またアンモニア水,塩化アンモ
ニゥム,硫酸アンモニゥム,過硫酸アンモニゥムを添加
しても効果があったが,添加量が0.001wt%以下
では顕著な効果が見られなかった。
Even if the electrolytic solution was changed to sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, organic sulfonic acid, hydrofluoric acid or halogen oxide, no significant difference was observed. Addition of ammonia water, ammonium chloride, ammonium sulfate, or ammonium persulfate also had an effect, but no significant effect was observed when the addition amount was 0.001 wt% or less.

【0077】[0077]

【発明の効果】以上のように粗面化した銅箔を製造する
ために電解液中で電解エッチングを行うことにより、高
いRmaxを有する粗面化面を得ることが可能となった。
これにより安価に粗面化銅箔を得ることが可能となり、
多層プリント基板やポリマー製PTC特性過電流保護素
子を安価に製造することが可能となった。
As described above, by performing electrolytic etching in an electrolytic solution in order to produce a copper foil having a roughened surface, a roughened surface having a high Rmax can be obtained.
This makes it possible to obtain a roughened copper foil at low cost,
It has become possible to manufacture a multilayer printed circuit board and a polymer PTC characteristic overcurrent protection element at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】エッチング糟の構成を示す図FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an etching tank.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電極 2 他の電極(試料) 3 電解液と添加剤 1 electrode 2 other electrode (sample) 3 electrolyte and additive

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森本 光一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 小島 潤二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平8−118582(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C25F 3/02 H05K 1/09 H05K 3/38 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Koichi Morimoto 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-8-118852 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C25F 3/02 H05K 1/09 H05K 3/38

Claims (12)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 銅箔または銅板を、0.001モル/L
以上の塩を含む電解液中で交流または直流エッチングす
る方法であって、塩がアルカリ金属あるいはアルカリ土
類金属のハロゲン塩、可溶性硫酸塩または硝酸塩であ
り、 電解液に、銅イオンと水に溶けにくい化合物を作り易
い、陰イオンが添加された 表面粗化銅の製造方法。
1. A copper foil or a copper plate is prepared in an amount of 0.001 mol / L.
A method for alternating or direct current etching in an electrolyte containing more salts, salts of alkali metals or alkaline earth metal halide salts, soluble sulfates or nitrates der
Easy to make a compound that is hardly soluble in copper ion and water in the electrolyte
A method for producing surface-roughened copper to which anions have been added .
【請求項2】 陰イオンが、炭酸イオン、フッ素イオ
ン、燐酸イオン、ピロ燐酸イオン、ヨ−ド酸イオン、蓚
酸イオン、蟻酸イオン,炭酸水素イオン,水酸イオンま
たはメタ燐酸イオンから選ばれる少なくとも1種類であ
る請求項2記載の表面粗化銅の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the anion is carbonate ion or fluorine ion.
, Phosphate ion, pyrophosphate ion, iodate ion, oxalate
Acid ion, formate ion, bicarbonate ion, hydroxyl ion
Or at least one selected from metaphosphate ions
The method for producing a roughened copper according to claim 2.
【請求項3】 交流エッチングの周波数が、50Hz以
下である請求項1または2記載の表面粗化銅の製造方
法。
3. The method according to claim 1, wherein the frequency of the AC etching is 50 Hz or less.
【請求項4】 0.001モル/L以上の塩を含む液を
電解液としてエッチングを行った後、0.001モル/
L以上の酸を含む酸性液を電解液として酸処理またはエ
ッチングを行う請求項1、2または3記載の表面粗化銅
の製造方法。
4. After etching using a solution containing a salt of not less than 0.001 mol / L as an electrolyte, 0.001 mol / L
Claim 1, 2 or 3 surface roughening method for producing copper according performing an acid treatment or an etching acidic solution as an electrolyte solution containing L or more acids.
【請求項5】 硝酸塩が、塩化ナトリウム、塩化カリウ
ム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウムまたは硫酸マグネシ
ウムである請求項1〜4の何れかに記載の表面粗化銅の
製造方法。
5. nitrate, sodium chloride, potassium chloride, a manufacturing method of the surface roughening copper according to any one of claims 1 to 4, sodium nitrate, potassium nitrate or magnesium sulfate.
【請求項6】 電解液に、炭酸アンモニゥムまたは炭酸
水素アンモニゥムを添加することを特徴とする請求項1
の何れかに記載の表面粗化銅の製造方法。
6. An electrolyte according to claim 1, wherein said electrolyte is added with ammonium carbonate or ammonium hydrogencarbonate.
6. The method for producing a surface roughened copper according to any one of claims 5 to 5 .
【請求項7】 電解液に、アンモニア水を添加すること
を特徴とする請求項1〜の何れかに記載の表面粗化銅
の製造方法。
7. The electrolytic solution, the manufacturing method of the surface roughening copper according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the addition of aqueous ammonia.
【請求項8】 電解液中に陽イオンがアンモニゥムイオ
ンである添加剤を添加することをを特徴とする請求項1
の何れかに記載の表面粗化銅の製造方法。
8. The method according to claim 1, wherein an additive whose cation is ammonium ion is added to the electrolytic solution.
6. The method for producing a surface roughened copper according to any one of claims 5 to 5 .
【請求項9】 電解液中に炭酸ガスをバブリングするこ
とを特徴とする請求項1〜の何れかに記載の表面粗化
銅の製造方法。
9. The method of surface roughening copper according to any one of claims 1-8, characterized by bubbling carbon dioxide gas into the electrolytic solution.
【請求項10】 請求項1〜の何れかに記載の方法で
製造した表面粗化銅。
10. A surface Arakado prepared by the method according to any one of claims 1-9.
【請求項11】 カ−ボンとポリマーを硬化させたPT
C特性を有する導電性ポリマー製PTC特性過電流保護
素子であって、請求項1〜の何れかに記載の方法で作
成した表面粗化銅を電極とするPTC特性過電流保護素
子。
11. A PT obtained by curing a carbon and a polymer.
A PTC characteristic overcurrent protection device made of a conductive polymer having C characteristics, wherein the PTC characteristic overcurrent protection device has a roughened copper electrode prepared by the method according to any one of claims 1 to 9 as an electrode.
【請求項12】 請求項1〜の何れかに記載の方法で
作成した表面粗化銅を銅箔とする多層用プリント基板。
12. A multi-layer printed circuit board to a copper foil surface roughening copper produced by the method according to any one of claims 1-9.
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