JP3068456B2 - めっき装置 - Google Patents
めっき装置Info
- Publication number
- JP3068456B2 JP3068456B2 JP8090431A JP9043196A JP3068456B2 JP 3068456 B2 JP3068456 B2 JP 3068456B2 JP 8090431 A JP8090431 A JP 8090431A JP 9043196 A JP9043196 A JP 9043196A JP 3068456 B2 JP3068456 B2 JP 3068456B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead frame
- tank
- processing
- plating
- tanks
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、IC、トランジス
タ等のリードフレームに外装用の半田めっき等の各種め
っきを施すためのめっき装置に関するものである。
タ等のリードフレームに外装用の半田めっき等の各種め
っきを施すためのめっき装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、IC、トランジスタ等のリードフ
レームに外装用の半田めっき等の各種めっきを施すため
のめっき装置として、短尺のリードフレームを多数縦方
向に吊り下げ、処理槽に浸漬する方式のものや、短尺の
リードフレーム単体を籠状のリードフレーム保持体に収
容し、処理槽に浸漬する方式のもの(例えば、特開昭6
1ー87900号公報参照)が提案され、実用化されて
いる。
レームに外装用の半田めっき等の各種めっきを施すため
のめっき装置として、短尺のリードフレームを多数縦方
向に吊り下げ、処理槽に浸漬する方式のものや、短尺の
リードフレーム単体を籠状のリードフレーム保持体に収
容し、処理槽に浸漬する方式のもの(例えば、特開昭6
1ー87900号公報参照)が提案され、実用化されて
いる。
【0003】ところで、上記従来のめっき装置の場合、
リードフレームを処理槽へ浸漬する操作及び処理槽から
引き上げる操作が必須であることから、めっき処理工程
の生産性が低く大量処理が困難であり、また、めっき装
置の構造が複雑化したり、処理槽が大形化する(特に処
理槽の深さが大きくなる)という問題点を有していた。
また、上記従来のめっき装置は、めっき処理工程のみを
単独に行うもので、めっき処理工程の前処理工程である
リードフレームに付着した合成樹脂バリの除去工程を1
つの装置で行うことができなかった。
リードフレームを処理槽へ浸漬する操作及び処理槽から
引き上げる操作が必須であることから、めっき処理工程
の生産性が低く大量処理が困難であり、また、めっき装
置の構造が複雑化したり、処理槽が大形化する(特に処
理槽の深さが大きくなる)という問題点を有していた。
また、上記従来のめっき装置は、めっき処理工程のみを
単独に行うもので、めっき処理工程の前処理工程である
リードフレームに付着した合成樹脂バリの除去工程を1
つの装置で行うことができなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来のめ
っき装置の問題点に鑑み、リードフレーム保持体を昇降
操作することなくリードフレームに外装用のめっきを施
すこと及びめっき処理工程の前処理工程であるリードフ
レームに付着した合成樹脂バリの除去工程を1つの装置
で行うことを可能することにより、生産性が高く、構造
が簡易でコンパクトなめっき装置を提供することを目的
とする。
っき装置の問題点に鑑み、リードフレーム保持体を昇降
操作することなくリードフレームに外装用のめっきを施
すこと及びめっき処理工程の前処理工程であるリードフ
レームに付着した合成樹脂バリの除去工程を1つの装置
で行うことを可能することにより、生産性が高く、構造
が簡易でコンパクトなめっき装置を提供することを目的
とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のめっき装置は、環状に連ねて配設した複数
の処理槽と、複数枚のリードフレームを並列に吊り下げ
状態に保持する電極を兼ねたチャック部を有し、該チャ
ック部にリードフレームを保持したまま、環状に連ねて
配設した複数の処理槽1間を順に移動しながら循環する
複数のリードフレーム保持体と、リードフレーム保持体
を処理槽間を順に同期して間欠的に移動させる移動装置
とからなり、処理槽の周壁にリードフレーム保持体が移
動するときリードフレーム保持体に吊り下げ状態に保持
した複数枚のリードフレームがそのまま通過し得るスリ
ットを形成したことを特徴とする。この場合において、
処理槽は、リードフレームのめっき処理の種類に応じ
て、電解脱脂槽、バリ除去槽、エッチング槽、酸活性
層、半田めっき槽、水洗槽、中和槽、水切り槽、乾燥槽
等の処理槽のうちから任意のものを、任意の順序に組み
合わせて構成することができる。
め、本発明のめっき装置は、環状に連ねて配設した複数
の処理槽と、複数枚のリードフレームを並列に吊り下げ
状態に保持する電極を兼ねたチャック部を有し、該チャ
ック部にリードフレームを保持したまま、環状に連ねて
配設した複数の処理槽1間を順に移動しながら循環する
複数のリードフレーム保持体と、リードフレーム保持体
を処理槽間を順に同期して間欠的に移動させる移動装置
とからなり、処理槽の周壁にリードフレーム保持体が移
動するときリードフレーム保持体に吊り下げ状態に保持
した複数枚のリードフレームがそのまま通過し得るスリ
ットを形成したことを特徴とする。この場合において、
処理槽は、リードフレームのめっき処理の種類に応じ
て、電解脱脂槽、バリ除去槽、エッチング槽、酸活性
層、半田めっき槽、水洗槽、中和槽、水切り槽、乾燥槽
等の処理槽のうちから任意のものを、任意の順序に組み
合わせて構成することができる。
【0006】本発明のめっき装置は、処理槽のリードフ
レーム保持体の移動方向の長さをリードフレーム保持体
の1回の間欠的な移動量の整数倍に形成したり、処理槽
の周壁に形成したスリットから流出した処理液を処理槽
に循環させる処理液循環装置を設けることができる。
レーム保持体の移動方向の長さをリードフレーム保持体
の1回の間欠的な移動量の整数倍に形成したり、処理槽
の周壁に形成したスリットから流出した処理液を処理槽
に循環させる処理液循環装置を設けることができる。
【0007】本発明のめっき装置は、電極(陰極)を兼
ねたチャック部に複数枚のリードフレームを並列に吊り
下げ状態に保持した複数のリードフレーム保持体を、連
ねて配設した複数の処理槽間を移動装置により順に同期
して間欠的に移動させながら循環させることにより、各
処理槽において、リードフレームに付着した合成樹脂バ
リの除去、エッチング、めっき、水洗、乾燥等の処理を
行う。そして、リードフレーム保持体が移動するときリ
ードフレーム保持体に並列に吊り下げ状態に保持された
複数枚のリードフレームは、処理槽の周壁に形成したス
リットを通過するため、移動装置はリードフレーム保持
体を昇降操作することなく複数の処理槽間をそのまま水
平方向に移動させることができる。
ねたチャック部に複数枚のリードフレームを並列に吊り
下げ状態に保持した複数のリードフレーム保持体を、連
ねて配設した複数の処理槽間を移動装置により順に同期
して間欠的に移動させながら循環させることにより、各
処理槽において、リードフレームに付着した合成樹脂バ
リの除去、エッチング、めっき、水洗、乾燥等の処理を
行う。そして、リードフレーム保持体が移動するときリ
ードフレーム保持体に並列に吊り下げ状態に保持された
複数枚のリードフレームは、処理槽の周壁に形成したス
リットを通過するため、移動装置はリードフレーム保持
体を昇降操作することなく複数の処理槽間をそのまま水
平方向に移動させることができる。
【0008】この場合において、各処理槽において行
う、リードフレームに付着した合成樹脂バリの除去、エ
ッチング、めっき、水洗、乾燥等の処理に要する時間
は、各々の処理槽において大きく異なるため、めっき
等、処理時間の長い処理槽は、その処理時間に合わせて
リードフレーム保持体の移動方向の長さをリードフレー
ム保持体の1回の間欠的な移動量の整数倍に形成し、他
の処理槽における処理時間に影響を与えることなく処理
時間を長くすることができる。
う、リードフレームに付着した合成樹脂バリの除去、エ
ッチング、めっき、水洗、乾燥等の処理に要する時間
は、各々の処理槽において大きく異なるため、めっき
等、処理時間の長い処理槽は、その処理時間に合わせて
リードフレーム保持体の移動方向の長さをリードフレー
ム保持体の1回の間欠的な移動量の整数倍に形成し、他
の処理槽における処理時間に影響を与えることなく処理
時間を長くすることができる。
【0009】また、処理槽の周壁に形成したスリットか
ら流出した処理液は、処理液循環装置により処理槽に循
環させることができる。
ら流出した処理液は、処理液循環装置により処理槽に循
環させることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るめっき装置の
発明の実施の形態を図示の実施例に基づいて説明する。
図1〜図2に示すように、めっき装置は、環状に連ねて
配設した複数の処理槽1と、複数枚のリードフレーム1
0を並列に吊り下げ状態に保持する電極を兼ねたチャッ
ク部3を有し、複数の処理槽1間を順に移動しながら循
環する複数のリードフレーム保持体2と、リードフレー
ム保持体2を処理槽間を順に同期して間欠的に移動させ
る移動装置4からその主要部を構成する。
発明の実施の形態を図示の実施例に基づいて説明する。
図1〜図2に示すように、めっき装置は、環状に連ねて
配設した複数の処理槽1と、複数枚のリードフレーム1
0を並列に吊り下げ状態に保持する電極を兼ねたチャッ
ク部3を有し、複数の処理槽1間を順に移動しながら循
環する複数のリードフレーム保持体2と、リードフレー
ム保持体2を処理槽間を順に同期して間欠的に移動させ
る移動装置4からその主要部を構成する。
【0011】処理槽1は、リードフレーム10の処理を
行うための適宜の処理液、処理設備を収容した複数の処
理槽を連接したもので、リードフレームに付着した合成
樹脂バリを浮かせる電解脱脂槽11、電解脱脂槽11で
浮いた合成樹脂バリを高圧水又はショットブラストによ
り完全に除去するバリ除去槽12、Fe系リードフレー
ム用エッチング槽13a、Cu系リードフレーム用エッ
チング槽13b、Fe系リードフレーム用酸活性槽14
a、Cu系リードフレーム用酸活性槽14b及び半田め
っき槽15並びにこれらの槽の間に適宜配設した水洗槽
16(純水洗槽、純湯洗槽を含む。)、中和槽17、水
切り槽18及び乾燥槽19からなる。
行うための適宜の処理液、処理設備を収容した複数の処
理槽を連接したもので、リードフレームに付着した合成
樹脂バリを浮かせる電解脱脂槽11、電解脱脂槽11で
浮いた合成樹脂バリを高圧水又はショットブラストによ
り完全に除去するバリ除去槽12、Fe系リードフレー
ム用エッチング槽13a、Cu系リードフレーム用エッ
チング槽13b、Fe系リードフレーム用酸活性槽14
a、Cu系リードフレーム用酸活性槽14b及び半田め
っき槽15並びにこれらの槽の間に適宜配設した水洗槽
16(純水洗槽、純湯洗槽を含む。)、中和槽17、水
切り槽18及び乾燥槽19からなる。
【0012】このうち、半田めっき槽15には、電極
(陽極)15aを配設し、その一端を電源(図示せず)
に、他端を半田めっき槽15の処理液中に配設した陽極
部材15bに接続する。陽極部材15bは、めっき金属
からなる棒状のもので、リードフレーム保持体2のチャ
ック部3に並列に吊り下げられたリードフレーム10を
囲むように複数本、例えば、左右に3本の陽極部材15
bを移動するリードフレーム10とほぼ平行になるよう
に配設する。これによって、リードフレーム10のめっ
き処理のむらをなくし、表面に均一なめっき層を形成す
ることができる。
(陽極)15aを配設し、その一端を電源(図示せず)
に、他端を半田めっき槽15の処理液中に配設した陽極
部材15bに接続する。陽極部材15bは、めっき金属
からなる棒状のもので、リードフレーム保持体2のチャ
ック部3に並列に吊り下げられたリードフレーム10を
囲むように複数本、例えば、左右に3本の陽極部材15
bを移動するリードフレーム10とほぼ平行になるよう
に配設する。これによって、リードフレーム10のめっ
き処理のむらをなくし、表面に均一なめっき層を形成す
ることができる。
【0013】この場合において、電解脱脂槽11や半田
めっき槽15のような処理時間の長い処理槽は、その処
理時間に合わせてリードフレーム保持体2の移動方向の
長さをリードフレーム保持体2の1回の間欠的な移動量
の整数倍、具体的には、電解脱脂槽11の場合は6倍
に、半田めっき槽15の場合は15倍に形成し、他の処
理槽における処理時間に影響を与えることなく処理時間
を長く、本実施例においては、電解脱脂槽11の処理時
間を単位処理時間の6倍に、半田めっき槽15の処理時
間を単位処理時間の15倍にすることができる。
めっき槽15のような処理時間の長い処理槽は、その処
理時間に合わせてリードフレーム保持体2の移動方向の
長さをリードフレーム保持体2の1回の間欠的な移動量
の整数倍、具体的には、電解脱脂槽11の場合は6倍
に、半田めっき槽15の場合は15倍に形成し、他の処
理槽における処理時間に影響を与えることなく処理時間
を長く、本実施例においては、電解脱脂槽11の処理時
間を単位処理時間の6倍に、半田めっき槽15の処理時
間を単位処理時間の15倍にすることができる。
【0014】本実施例においては、処理槽1を2列に配
置し、それぞれの両端をリードフレーム保持体2のトラ
バース機構5を介して環状に連接するとともに、電解脱
脂槽11の前にリードフレーム供給装置6のリードフレ
ーム供給槽6aを、乾燥槽19の後ろにリードフレーム
排出装置7のリードフレーム排出槽7aを設け、さら
に、リードフレーム排出槽7aとリードフレーム供給槽
6aの間にリードフレーム保持体2のチャック部3等に
付着した不要の半田めっきの除去を行うためのめっき剥
離槽8を設けるようにしているが、これら処理槽の種
類、配列等は、リードフレーム10の処理の内容に応じ
て適宜変更可能であり、例えば、処理槽1を1列に配置
し、その両端をリードフレーム保持体2のトラバース機
構を介して環状に連接するように構成することも可能で
ある。
置し、それぞれの両端をリードフレーム保持体2のトラ
バース機構5を介して環状に連接するとともに、電解脱
脂槽11の前にリードフレーム供給装置6のリードフレ
ーム供給槽6aを、乾燥槽19の後ろにリードフレーム
排出装置7のリードフレーム排出槽7aを設け、さら
に、リードフレーム排出槽7aとリードフレーム供給槽
6aの間にリードフレーム保持体2のチャック部3等に
付着した不要の半田めっきの除去を行うためのめっき剥
離槽8を設けるようにしているが、これら処理槽の種
類、配列等は、リードフレーム10の処理の内容に応じ
て適宜変更可能であり、例えば、処理槽1を1列に配置
し、その両端をリードフレーム保持体2のトラバース機
構を介して環状に連接するように構成することも可能で
ある。
【0015】リードフレーム供給槽6aには、供給コン
ベア6bを介してリードフレーム配列装置6cを連接
し、リードフレーム配列装置6cにおいて配列されたリ
ードフレーム10を、リードフレーム供給槽6aにおい
てリードフレーム保持体2のチャック部3に並列に吊り
下げ状態に自動的に装着、保持するように構成する。リ
ードフレーム排出槽7aには、排出コンベア7bを連接
し、処理が終わったリードフレーム10を、リードフレ
ーム排出槽7aにおいて自動的に離脱、排出するように
構成する。この場合において、リードフレーム保持体2
のチャック部3に並列に吊り下げるリードフレーム10
の枚数に応じて、リードフレーム供給装置6の供給コン
ベア6b及びリードフレーム配列装置6c並びにリード
フレーム排出装置7の排出コンベア7bを2組以上配設
することができ、これにより、リードフレーム10の装
着、離脱の作業時間を短縮することができる。
ベア6bを介してリードフレーム配列装置6cを連接
し、リードフレーム配列装置6cにおいて配列されたリ
ードフレーム10を、リードフレーム供給槽6aにおい
てリードフレーム保持体2のチャック部3に並列に吊り
下げ状態に自動的に装着、保持するように構成する。リ
ードフレーム排出槽7aには、排出コンベア7bを連接
し、処理が終わったリードフレーム10を、リードフレ
ーム排出槽7aにおいて自動的に離脱、排出するように
構成する。この場合において、リードフレーム保持体2
のチャック部3に並列に吊り下げるリードフレーム10
の枚数に応じて、リードフレーム供給装置6の供給コン
ベア6b及びリードフレーム配列装置6c並びにリード
フレーム排出装置7の排出コンベア7bを2組以上配設
することができ、これにより、リードフレーム10の装
着、離脱の作業時間を短縮することができる。
【0016】処理槽1の周壁1aには、リードフレーム
保持体2が移動するとき、リードフレーム保持体2のチ
ャック部3に並列に吊り下げ状態に保持されたリードフ
レーム10がそのまま通過し得るスリット1bを形成す
る。スリット1bは、対象となるリードフレームの大き
さに合わせて形成するが、このスリット1bから処理槽
1内の処理液が流出するため、リードフレームの通過を
妨げない必要最小限の大きさとすることが望ましい。な
お、スリット1b部にリードフレームの通過を妨げない
適宜のシール装置を配設することができる。
保持体2が移動するとき、リードフレーム保持体2のチ
ャック部3に並列に吊り下げ状態に保持されたリードフ
レーム10がそのまま通過し得るスリット1bを形成す
る。スリット1bは、対象となるリードフレームの大き
さに合わせて形成するが、このスリット1bから処理槽
1内の処理液が流出するため、リードフレームの通過を
妨げない必要最小限の大きさとすることが望ましい。な
お、スリット1b部にリードフレームの通過を妨げない
適宜のシール装置を配設することができる。
【0017】この場合において、スリット1bを、図3
(a)に示すように、対象となる最も大きいリードフレ
ームの大きさに合わせて形成し、それより薄いリードフ
レームの処理を行う場合には、図3(b)に示すような
狭い幅のスリット1bを形成した補助板1cを処理槽1
の周壁1aに配設したり、それより幅の小さいリードフ
レームの処理を行う場合には、図3(c)に示すよう
に、補助板1dを処理槽1の周壁1aに配設することに
よって、めっき装置に汎用性を持たせながら処理槽1内
の処理液の流出量を低減することができる。
(a)に示すように、対象となる最も大きいリードフレ
ームの大きさに合わせて形成し、それより薄いリードフ
レームの処理を行う場合には、図3(b)に示すような
狭い幅のスリット1bを形成した補助板1cを処理槽1
の周壁1aに配設したり、それより幅の小さいリードフ
レームの処理を行う場合には、図3(c)に示すよう
に、補助板1dを処理槽1の周壁1aに配設することに
よって、めっき装置に汎用性を持たせながら処理槽1内
の処理液の流出量を低減することができる。
【0018】処理槽1の下方には、処理槽1の周壁1a
に形成したスリット1bから流出した処理液を処理槽1
に循環させる処理液循環装置9を設ける。処理液循環装
置9は、スリット1bから流出した処理液を受ける受槽
91と、受槽91に配管92を介して連接したポンプ9
3と、ポンプ93から分岐配管94を介して連接した下
槽95と、下槽95から還流する処理液の流れの影響を
小さくするため下槽95と処理槽1の間に配設した緩衝
板96からなる。
に形成したスリット1bから流出した処理液を処理槽1
に循環させる処理液循環装置9を設ける。処理液循環装
置9は、スリット1bから流出した処理液を受ける受槽
91と、受槽91に配管92を介して連接したポンプ9
3と、ポンプ93から分岐配管94を介して連接した下
槽95と、下槽95から還流する処理液の流れの影響を
小さくするため下槽95と処理槽1の間に配設した緩衝
板96からなる。
【0019】リードフレーム保持体2は、チャック部3
にリードフレーム10を並列に吊り下げ状態に保持し
て、移動装置4によって複数の処理槽1間を順に移動し
ながら循環するもので、図4に示すように、枠部材2a
と、複数の処理槽1に沿って配設した移動装置4のレー
ル41,41上を摺動する摺動部材2b,2bと、チャ
ック部3を垂下する桟部材2cからなる。摺動部材2b
の少なくとも一方は、リードフレーム保持体2がレール
41,41から外れず、レールに沿って移動するよう
に、レール41と嵌合する形状、具体的には、山形のレ
ール41に嵌合する谷形に形成する。
にリードフレーム10を並列に吊り下げ状態に保持し
て、移動装置4によって複数の処理槽1間を順に移動し
ながら循環するもので、図4に示すように、枠部材2a
と、複数の処理槽1に沿って配設した移動装置4のレー
ル41,41上を摺動する摺動部材2b,2bと、チャ
ック部3を垂下する桟部材2cからなる。摺動部材2b
の少なくとも一方は、リードフレーム保持体2がレール
41,41から外れず、レールに沿って移動するよう
に、レール41と嵌合する形状、具体的には、山形のレ
ール41に嵌合する谷形に形成する。
【0020】処理槽1間を循環するリードフレーム保持
体2の数は、特に限定的なものではなく、1台のリード
フレーム保持体2を配設して処理を行うインデックス運
転から、間隙なくリードフレーム保持体2を配設して処
理を行う連続運転まで可能で、連続運転を行うことによ
って、処理の都合上リードフレーム保持体2の移動速度
を落としても生産性が低下せず、大量処理を支障なく行
うことができる。
体2の数は、特に限定的なものではなく、1台のリード
フレーム保持体2を配設して処理を行うインデックス運
転から、間隙なくリードフレーム保持体2を配設して処
理を行う連続運転まで可能で、連続運転を行うことによ
って、処理の都合上リードフレーム保持体2の移動速度
を落としても生産性が低下せず、大量処理を支障なく行
うことができる。
【0021】リードフレーム保持体2の桟部材2cに垂
下するチャック部3は、電極(陰極)を兼ねたもので、
可動接点を介して電源(共に図示せず)に接続される。
このチャック部3は、図5に示すように、互いに対向す
るく字状に曲がった操作部3a,3aの先端にリードフ
レーム10の把持部3b,3bを備えた形状をし、ステ
ンレス鋼板等の導電性を有する弾性材料で形成する。チ
ャック部3に装着されたリードフレーム10は、把持部
3b,3bにより広い面積で、かつ強固に挟持されるた
め、電解脱脂槽11や半田めっき槽15において高い電
流密度で電解、めっき処理を行うことができ、処理時間
の短縮を図ることができ、また、バリ除去槽12におい
て合成樹脂バリを高圧水又はショットブラストにより除
去する際、装着されたリードフレーム10がチャック部
3から離脱することがない。
下するチャック部3は、電極(陰極)を兼ねたもので、
可動接点を介して電源(共に図示せず)に接続される。
このチャック部3は、図5に示すように、互いに対向す
るく字状に曲がった操作部3a,3aの先端にリードフ
レーム10の把持部3b,3bを備えた形状をし、ステ
ンレス鋼板等の導電性を有する弾性材料で形成する。チ
ャック部3に装着されたリードフレーム10は、把持部
3b,3bにより広い面積で、かつ強固に挟持されるた
め、電解脱脂槽11や半田めっき槽15において高い電
流密度で電解、めっき処理を行うことができ、処理時間
の短縮を図ることができ、また、バリ除去槽12におい
て合成樹脂バリを高圧水又はショットブラストにより除
去する際、装着されたリードフレーム10がチャック部
3から離脱することがない。
【0022】リードフレーム10の装着は、チャック部
3の操作部3a,3aの両側に押圧部材3c,3cを配
置し(図6(a))、押圧部材3c,3cにより操作部
3a,3aを挟みつけるようにして操作部3a,3aの
先端の把持部3b,3bを開き(図6(b))、把持部
3b,3bの間隙にリードフレーム10の端部を挿入し
た後、押圧部材3c,3cの押圧力を解除することによ
り、把持部3b,3b間にリードフレーム10の端部を
挟持することにより行う(図6(c))。チャック部3
に装着されたリードフレーム10の離脱は、装着の場合
とは逆に、チャック部3の操作部3a,3aの両側に押
圧部材3c,3cを配置し(図6(c))、押圧部材3
c,3cにより操作部3a,3aを挟みつけるようにし
て操作部3a,3aの先端の把持部3b,3bを開き、
把持部3b,3b間からリードフレーム10が離脱した
後(図6(b))、押圧部材3c,3cの押圧力を解除
することにより行う(図6(a))。なお、上記の操作
は、リードフレーム供給槽6a及びリードフレーム排出
槽7aにおいて自動的に行われる。
3の操作部3a,3aの両側に押圧部材3c,3cを配
置し(図6(a))、押圧部材3c,3cにより操作部
3a,3aを挟みつけるようにして操作部3a,3aの
先端の把持部3b,3bを開き(図6(b))、把持部
3b,3bの間隙にリードフレーム10の端部を挿入し
た後、押圧部材3c,3cの押圧力を解除することによ
り、把持部3b,3b間にリードフレーム10の端部を
挟持することにより行う(図6(c))。チャック部3
に装着されたリードフレーム10の離脱は、装着の場合
とは逆に、チャック部3の操作部3a,3aの両側に押
圧部材3c,3cを配置し(図6(c))、押圧部材3
c,3cにより操作部3a,3aを挟みつけるようにし
て操作部3a,3aの先端の把持部3b,3bを開き、
把持部3b,3b間からリードフレーム10が離脱した
後(図6(b))、押圧部材3c,3cの押圧力を解除
することにより行う(図6(a))。なお、上記の操作
は、リードフレーム供給槽6a及びリードフレーム排出
槽7aにおいて自動的に行われる。
【0023】リードフレーム保持体2に並列に設けるチ
ャック部3の数は、本実施例においては4条としている
が、これに限定されず、2条以上の任意の数にすること
ができる。図7は、第2実施例を示すもので、このリー
ドフレーム保持体2には並列に8条のチャック部3を設
けている。
ャック部3の数は、本実施例においては4条としている
が、これに限定されず、2条以上の任意の数にすること
ができる。図7は、第2実施例を示すもので、このリー
ドフレーム保持体2には並列に8条のチャック部3を設
けている。
【0024】移動装置4は、複数のリードフレーム保持
体2を複数の処理槽1に沿って配設したレール41,4
1上を順に同期して間欠的に所定の距離だけ移動させる
もので、図8に示すように、リードフレーム保持体2に
当接し、移動させる揺動可能な送りレバー42と、送り
レバー42を揺動させる揺動シリンダ43と、送りレバ
ー42を間欠的に所定の距離だけ移動させる移動シリン
ダ44から構成する。この移動装置4は、処理槽1の側
方にリードフレーム保持体2の1回の間欠的な移動量だ
け距離をあけて等間隔に配設し、揺動シリンダ43によ
り送りレバー42をリードフレーム保持体2に当接する
位置に揺動させた状態で移動シリンダ44を作動するこ
とにより、リードフレーム保持体2を前方の移動装置4
の位置まで移動させる。その後、揺動シリンダ43によ
り送りレバー42をリードフレーム保持体2に当接しな
い位置に揺動させた状態で移動シリンダ44を復帰さ
せ、前工程から移動してくるリードフレーム保持体2に
備えるようにしたものである。なお、移動装置は、複数
のリードフレーム保持体2を複数の処理槽1間を順に同
期して間欠的に所定の距離だけ移動させることができる
ものであれば、本実施例のものに限定されるものではな
い。
体2を複数の処理槽1に沿って配設したレール41,4
1上を順に同期して間欠的に所定の距離だけ移動させる
もので、図8に示すように、リードフレーム保持体2に
当接し、移動させる揺動可能な送りレバー42と、送り
レバー42を揺動させる揺動シリンダ43と、送りレバ
ー42を間欠的に所定の距離だけ移動させる移動シリン
ダ44から構成する。この移動装置4は、処理槽1の側
方にリードフレーム保持体2の1回の間欠的な移動量だ
け距離をあけて等間隔に配設し、揺動シリンダ43によ
り送りレバー42をリードフレーム保持体2に当接する
位置に揺動させた状態で移動シリンダ44を作動するこ
とにより、リードフレーム保持体2を前方の移動装置4
の位置まで移動させる。その後、揺動シリンダ43によ
り送りレバー42をリードフレーム保持体2に当接しな
い位置に揺動させた状態で移動シリンダ44を復帰さ
せ、前工程から移動してくるリードフレーム保持体2に
備えるようにしたものである。なお、移動装置は、複数
のリードフレーム保持体2を複数の処理槽1間を順に同
期して間欠的に所定の距離だけ移動させることができる
ものであれば、本実施例のものに限定されるものではな
い。
【0025】上記のように構成されためっき装置により
リードフレーム10の処理を行うには、リードフレーム
10をリードフレーム供給槽6aにおいてチャック部3
に並列に吊り下げ状態に装着、保持したリードフレーム
保持体2を、電解脱脂槽11、バリ除去槽12、Fe系
リードフレーム用エッチング槽13a、Cu系リードフ
レーム用エッチング槽13b、Fe系リードフレーム用
酸活性槽14a、Cu系リードフレーム用酸活性槽14
b、半田めっき槽15、水洗槽16、中和槽17、水切
り槽18及び乾燥槽19を移動装置4により順に同期し
て間欠的に移動させながら循環させることにより、各処
理槽1において、リードフレームに付着した合成樹脂バ
リの除去、エッチング、めっき、水洗、乾燥等の処理を
行った後、リードフレーム排出槽7aにおいて、処理が
終わったリードフレーム10を離脱、排出して1工程を
終了する。なお、リードフレーム保持体2のチャック部
3等に付着した不要の半田めっきは、めっき装置の故障
の原因にもなることから、リードフレーム10を離脱し
た後、リードフレーム排出槽7aに連接しためっき剥離
槽8において除去する。
リードフレーム10の処理を行うには、リードフレーム
10をリードフレーム供給槽6aにおいてチャック部3
に並列に吊り下げ状態に装着、保持したリードフレーム
保持体2を、電解脱脂槽11、バリ除去槽12、Fe系
リードフレーム用エッチング槽13a、Cu系リードフ
レーム用エッチング槽13b、Fe系リードフレーム用
酸活性槽14a、Cu系リードフレーム用酸活性槽14
b、半田めっき槽15、水洗槽16、中和槽17、水切
り槽18及び乾燥槽19を移動装置4により順に同期し
て間欠的に移動させながら循環させることにより、各処
理槽1において、リードフレームに付着した合成樹脂バ
リの除去、エッチング、めっき、水洗、乾燥等の処理を
行った後、リードフレーム排出槽7aにおいて、処理が
終わったリードフレーム10を離脱、排出して1工程を
終了する。なお、リードフレーム保持体2のチャック部
3等に付着した不要の半田めっきは、めっき装置の故障
の原因にもなることから、リードフレーム10を離脱し
た後、リードフレーム排出槽7aに連接しためっき剥離
槽8において除去する。
【0026】ところで、リードフレーム保持体2が移動
するとき、リードフレーム保持体2のチャック部3に並
列に吊り下げ状態に保持された複数枚のリードフレーム
10は、処理槽1の周壁1aに形成したスリット1bを
通過するため、移動装置4はリードフレーム保持体2を
複数の処理槽1に沿って配設したレール41,41上を
水平方向に移動させる。
するとき、リードフレーム保持体2のチャック部3に並
列に吊り下げ状態に保持された複数枚のリードフレーム
10は、処理槽1の周壁1aに形成したスリット1bを
通過するため、移動装置4はリードフレーム保持体2を
複数の処理槽1に沿って配設したレール41,41上を
水平方向に移動させる。
【0027】また、処理槽1の周壁に形成したスリット
1aから流出した処理液は、処理液循環装置9のポンプ
93により処理槽1に還流させる。
1aから流出した処理液は、処理液循環装置9のポンプ
93により処理槽1に還流させる。
【0028】
【発明の効果】本発明のめっき装置によれば、電極(陰
極)を兼ねたチャック部に複数枚のリードフレームを並
列に吊り下げ状態に保持した複数のリードフレーム保持
体を、環状に連ねて配設した複数の処理槽間を移動装置
により順に同期して間欠的に移動させながら循環させる
ことにより、リードフレームに付着した合成樹脂バリの
除去、エッチング、めっき、水洗、乾燥等の処理を1つ
の装置で行うことができる。これにより、本発明のめっ
き装置は、リードフレーム保持体を昇降操作することな
く複数の処理槽間をそのまま水平方向に移動させること
ができることと相俟って、生産性が高く、大量処理を支
障なく行うことができる。また、本発明のめっき装置
は、リードフレームの処理数量等に応じて、循環するリ
ードフレーム保持体の数を任意に設定することが可能で
あり、運転方法もインデックス運転から連続運転まで行
うことができる。さらに、本発明のめっき装置は、構造
が簡易でコンパクトであり、また、リードフレーム保持
体がめっき装置本体から分離可能であるため、メンテナ
ンスが容易である。
極)を兼ねたチャック部に複数枚のリードフレームを並
列に吊り下げ状態に保持した複数のリードフレーム保持
体を、環状に連ねて配設した複数の処理槽間を移動装置
により順に同期して間欠的に移動させながら循環させる
ことにより、リードフレームに付着した合成樹脂バリの
除去、エッチング、めっき、水洗、乾燥等の処理を1つ
の装置で行うことができる。これにより、本発明のめっ
き装置は、リードフレーム保持体を昇降操作することな
く複数の処理槽間をそのまま水平方向に移動させること
ができることと相俟って、生産性が高く、大量処理を支
障なく行うことができる。また、本発明のめっき装置
は、リードフレームの処理数量等に応じて、循環するリ
ードフレーム保持体の数を任意に設定することが可能で
あり、運転方法もインデックス運転から連続運転まで行
うことができる。さらに、本発明のめっき装置は、構造
が簡易でコンパクトであり、また、リードフレーム保持
体がめっき装置本体から分離可能であるため、メンテナ
ンスが容易である。
【図1】本発明のめっき装置の実施例を示す平面図であ
る。
る。
【図2】図1のIーI断面図である。
【図3】処理槽の実施例を示す図である。
【図4】リードフレーム保持体の実施例を示す図であ
る。
る。
【図5】チャック部の実施例を示す図である。
【図6】リードフレームの装着、離脱方法を示す図であ
る。
る。
【図7】本発明のめっき装置の第2実施例を示し、
(a)は正面断面図、(b)はそのIIーII断面図であ
る。
(a)は正面断面図、(b)はそのIIーII断面図であ
る。
【図8】移動装置の実施例を示す図である。
【符号の説明】 1 処理槽 1a 周壁 1b スリット 2 リードフレーム保持体 3 チャック部 4 移動装置 5 チャック部回転駆動装置 6 リードフレーム供給装置 7 リードフレーム排出装置 8 めっき剥離槽 9 処理液循環装置 10 リードフレーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−193829(JP,A) 特開 平6−220695(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】 環状に連ねて配設した複数の処理槽と、
複数枚のリードフレームを並列に吊り下げ状態に保持す
る電極を兼ねたチャック部を有し、該チャック部にリー
ドフレームを保持したまま、環状に連ねて配設した複数
の処理槽間を順に移動しながら循環する複数のリードフ
レーム保持体と、リードフレーム保持体を処理槽間を順
に同期して間欠的に移動させる移動装置とからなり、処
理槽の周壁にリードフレーム保持体が移動するときリー
ドフレーム保持体に吊り下げ状態に保持した複数枚のリ
ードフレームがそのまま通過し得るスリットを形成した
ことを特徴とするめっき装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8090431A JP3068456B2 (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | めっき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8090431A JP3068456B2 (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | めっき装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09256196A JPH09256196A (ja) | 1997-09-30 |
JP3068456B2 true JP3068456B2 (ja) | 2000-07-24 |
Family
ID=13998429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8090431A Expired - Lifetime JP3068456B2 (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | めっき装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3068456B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4627862B2 (ja) * | 2000-10-12 | 2011-02-09 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | めっき装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58193829A (ja) * | 1982-05-01 | 1983-11-11 | Fuji Plant Kogyo Kk | メツキ処理での短尺フレ−ムの搬送方法および装置 |
JPH06220695A (ja) * | 1993-01-26 | 1994-08-09 | Shikino Mekki Kk | 鍍金処理方法及び鍍金処理装置 |
-
1996
- 1996-03-18 JP JP8090431A patent/JP3068456B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09256196A (ja) | 1997-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005515629A5 (ja) | ||
JP2000507646A (ja) | 処理液体で被処理物を電気化学的に処理するための方法と装置 | |
CN111247273B (zh) | 表面处理装置和工件保持夹具 | |
JP2005537392A (ja) | 少なくとも表面が導電性であるワークピースを電解処理するための装置および方法 | |
JP3068456B2 (ja) | めっき装置 | |
CN114250501A (zh) | 一种可连续进行电镀和化镀的设备和方法 | |
JPH08175659A (ja) | 陰極板の自動搬送処理装置 | |
CN111247272A (zh) | 表面处理装置 | |
JPH1088395A (ja) | めっき装置 | |
JP2011032515A (ja) | ラックめっき方法およびラックめっき装置 | |
JPS63262494A (ja) | 電解製錬における極板処理方法 | |
EP4056736A1 (en) | Distribution system for a process fluid for chemical and/or electrolytic surface treatment of a substrate | |
JPH09195092A (ja) | 連続電解装置 | |
TW201809368A (zh) | 吸入鍍覆裝置 | |
JPH036400A (ja) | 連続めっきの給電方法 | |
KR100349582B1 (ko) | 피씨비단자부 금도금장치 | |
CN116971019A (zh) | 电镀阴极接点自动化退镀装置和连续电镀作业方法 | |
JPS61253399A (ja) | メツキ液浄化装置 | |
JPH0726865Y2 (ja) | プリント板の金メッキ装置 | |
JPH07254674A (ja) | リードフレームのめっき装置およびそれに用いる電極の剥離装置 | |
JPH0222499A (ja) | メッキ装置 | |
JPH05275593A (ja) | リードフレームの表面処理装置 | |
JP4574237B2 (ja) | 電解めっき装置 | |
JPH0342348B2 (ja) | ||
JPH06192886A (ja) | 微小部表面処理装置 |