JP3067315B2 - 配向処理方法 - Google Patents
配向処理方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶素子に用いる基板
の上に液晶分子を配向させるための配向処理を施す方法
に関するものである。
の上に液晶分子を配向させるための配向処理を施す方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶素子に用いる基板の上に施される配
向処理は、一般に、基板上に配向膜を形成し、この配向
膜面をラビングローラにより一方向にラビングする方法
で行なわれている。
向処理は、一般に、基板上に配向膜を形成し、この配向
膜面をラビングローラにより一方向にラビングする方法
で行なわれている。
【０００３】図３は従来の配向処理方法を示す平面図で
あり、液晶素子用基板（ガラス基板）１の表示領域の上
にはＩＴＯ膜等の透明導電膜からなる複数の透明電極２
が形成されており、これら電極２の端子２ａは、表示領
域の外側に導出されて基板１の一端縁部に配列されてい
る。
あり、液晶素子用基板（ガラス基板）１の表示領域の上
にはＩＴＯ膜等の透明導電膜からなる複数の透明電極２
が形成されており、これら電極２の端子２ａは、表示領
域の外側に導出されて基板１の一端縁部に配列されてい
る。
【０００４】なお、図に示した基板１は、単純マトリッ
クス型液晶素子の一方の基板であり、上記電極２は、走
査電極または信号電極である。また、この電極２の端子
２ａは、２つの端子群に分けて配列されており、各端子
群毎に駆動回路に接続されるようになっている。
クス型液晶素子の一方の基板であり、上記電極２は、走
査電極または信号電極である。また、この電極２の端子
２ａは、２つの端子群に分けて配列されており、各端子
群毎に駆動回路に接続されるようになっている。
【０００５】そして、この基板１上への配向処理は、基
板１の電極形成領域（表示領域）の上にポリイミド樹脂
等からなる配向膜３を形成し、この配向膜３の膜面を、
外周面に植毛布からなるラビング布を巻付けたラビング
ローラ４によって一方向にラビングする方法で行なわれ
ている。
板１の電極形成領域（表示領域）の上にポリイミド樹脂
等からなる配向膜３を形成し、この配向膜３の膜面を、
外周面に植毛布からなるラビング布を巻付けたラビング
ローラ４によって一方向にラビングする方法で行なわれ
ている。
【０００６】この配向膜３面のラビングは、基板１上に
所定の接触圧でラビングローラ４を接触させ、このラビ
ングローラ４をその移動方向とは逆方向に回転させなが
ら基板１の一端側から他端側に移動させることによって
行なわれており、ラビングローラ４は、その軸方向が配
向膜３のラビング方向に対して直交する姿勢で配置さ
れ、配向膜３のラビング方向に（ローラ軸に対して直交
する方向）に移動されている。
所定の接触圧でラビングローラ４を接触させ、このラビ
ングローラ４をその移動方向とは逆方向に回転させなが
ら基板１の一端側から他端側に移動させることによって
行なわれており、ラビングローラ４は、その軸方向が配
向膜３のラビング方向に対して直交する姿勢で配置さ
れ、配向膜３のラビング方向に（ローラ軸に対して直交
する方向）に移動されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の配向処理方法では、配向膜３に均一な配向性をもた
せることができなかった。
来の配向処理方法では、配向膜３に均一な配向性をもた
せることができなかった。
【０００８】これは、基板１の一端側から他端側に移動
されるラビングローラ４が基板１の端子配列縁部を通過
するときに、このラビングローラ４のうち前記端子配列
縁部に配列されている端子群の上を通る部分がＩＴＯ膜
等からなる端子２ａの表面を擦りながら端子２ａ上を通
過するに対し、ラビングローラ４の他の部分、つまり端
子群がない箇所を通る部分は端子２ａには触れないため
であり、そのため、ラビングローラ外周面のラビング布
の表面状態に差が生じて、ラビングローラ４による配向
膜３面のラビング性（延伸効果等）が、端子群の上を通
ったローラ部分でラビングされる領域Ａと、他の領域
（端子上を通らないローラ部分でラビングされる領域）
Ｂとで異なってしまう。なお、この領域Ａ，Ｂのラビン
グ性の差は、配向処理回数が多くなるのにともなって大
きくなる。
されるラビングローラ４が基板１の端子配列縁部を通過
するときに、このラビングローラ４のうち前記端子配列
縁部に配列されている端子群の上を通る部分がＩＴＯ膜
等からなる端子２ａの表面を擦りながら端子２ａ上を通
過するに対し、ラビングローラ４の他の部分、つまり端
子群がない箇所を通る部分は端子２ａには触れないため
であり、そのため、ラビングローラ外周面のラビング布
の表面状態に差が生じて、ラビングローラ４による配向
膜３面のラビング性（延伸効果等）が、端子群の上を通
ったローラ部分でラビングされる領域Ａと、他の領域
（端子上を通らないローラ部分でラビングされる領域）
Ｂとで異なってしまう。なお、この領域Ａ，Ｂのラビン
グ性の差は、配向処理回数が多くなるのにともなって大
きくなる。
【０００９】また、図３では、ラビングローラ４を基板
１の端子配列縁部側から他端側に移動させているが、上
記領域Ａ，Ｂのラビング性の差は、ラビングローラ４を
逆方向に移動させてラビングを行なう場合にも発生して
おり、その場合は、最初に配向処理される基板の配向膜
面は均一にラビングできるが、ラビングローラ４が配向
膜３面をラビングした後に基板１の端子配列縁部を通る
ため、２枚目以後の基板の配向処理において、配向膜３
面のラビング性に同様な差が発生する。
１の端子配列縁部側から他端側に移動させているが、上
記領域Ａ，Ｂのラビング性の差は、ラビングローラ４を
逆方向に移動させてラビングを行なう場合にも発生して
おり、その場合は、最初に配向処理される基板の配向膜
面は均一にラビングできるが、ラビングローラ４が配向
膜３面をラビングした後に基板１の端子配列縁部を通る
ため、２枚目以後の基板の配向処理において、配向膜３
面のラビング性に同様な差が発生する。
【００１０】このため、従来の配向処理方法で配向処理
された配向膜３は、その配向性が、図に斜線を施した領
域と他の領域とで異なっており、そのため、従来の方法
で配向処理した基板を用いて製造された液晶素子は、そ
の光学特性が不均一で、縞状の表示むらが発生するとい
う問題をもっていた。
された配向膜３は、その配向性が、図に斜線を施した領
域と他の領域とで異なっており、そのため、従来の方法
で配向処理した基板を用いて製造された液晶素子は、そ
の光学特性が不均一で、縞状の表示むらが発生するとい
う問題をもっていた。
【００１１】これは、特にＳＴＮ型の液晶素子において
顕著であり、ＳＴＮ型液晶素子は、液晶分子のツイスト
角が大きく、かつ液晶層厚が小さいため、配向膜３の配
向性が光学特性に大きく影響して、上記表示むらが大き
くなる。本発明の目的は、配向膜面をその全域にわたっ
て一様にラビングして、均一な配向性をもたせることが
できる配向処理方法を提供することにある。
顕著であり、ＳＴＮ型液晶素子は、液晶分子のツイスト
角が大きく、かつ液晶層厚が小さいため、配向膜３の配
向性が光学特性に大きく影響して、上記表示むらが大き
くなる。本発明の目的は、配向膜面をその全域にわたっ
て一様にラビングして、均一な配向性をもたせることが
できる配向処理方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の配向処理方法
は、複数の透明電極を形成するとともにこれら電極の透
明電極からなる端子を基板縁部に配列した液晶素子用基
板の電極形成領域の上に配向膜を形成し、この配向膜面
をラビングローラにより前記液晶素子用基板の一辺に対
して斜めの方向にラビングする配向処理方法において、
前記配向膜の全面をラビングする前記ラビングローラの
幅のうち、前記端子面に接触するラビングローラの部分
以外の他の部分によりラビングされる前記基板の領域で
あって、前記基板の一端から他端に移動する前記ラビン
グローラの進行方向に対して一端側の隣接する２辺の基
板縁部に、前記端子と同じ材質の疑似電極を前記２辺の
基板縁部に繋げた形状に形成し、前記配向膜全面を、前
記端子面または前記疑似電極面に接触した前記ラビング
ローラによりラビングをすることを特徴とするものであ
る。
は、複数の透明電極を形成するとともにこれら電極の透
明電極からなる端子を基板縁部に配列した液晶素子用基
板の電極形成領域の上に配向膜を形成し、この配向膜面
をラビングローラにより前記液晶素子用基板の一辺に対
して斜めの方向にラビングする配向処理方法において、
前記配向膜の全面をラビングする前記ラビングローラの
幅のうち、前記端子面に接触するラビングローラの部分
以外の他の部分によりラビングされる前記基板の領域で
あって、前記基板の一端から他端に移動する前記ラビン
グローラの進行方向に対して一端側の隣接する２辺の基
板縁部に、前記端子と同じ材質の疑似電極を前記２辺の
基板縁部に繋げた形状に形成し、前記配向膜全面を、前
記端子面または前記疑似電極面に接触した前記ラビング
ローラによりラビングをすることを特徴とするものであ
る。
【００１３】
【作用】この配向処理方法によれば、ラビングローラが
基板の端子配列縁部を通過するときに、このラビングロ
ーラの少なくとも配向膜をラビングする領域の全ての部
分が端子またはこの端子と同じ材質の擬似電極の上を通
るため、ラビングローラ外周面のラビング布の表面状態
の変化は、配向膜ラビング領域の全域にわたって一様で
あり、したがって配向膜面は、端子上を通ったローラ部
分でラビングされる領域も、他の領域（端子上を通らな
いローラ部分でラビングされる領域）も同じ状態にラビ
ングされる。
基板の端子配列縁部を通過するときに、このラビングロ
ーラの少なくとも配向膜をラビングする領域の全ての部
分が端子またはこの端子と同じ材質の擬似電極の上を通
るため、ラビングローラ外周面のラビング布の表面状態
の変化は、配向膜ラビング領域の全域にわたって一様で
あり、したがって配向膜面は、端子上を通ったローラ部
分でラビングされる領域も、他の領域（端子上を通らな
いローラ部分でラビングされる領域）も同じ状態にラビ
ングされる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の第１の実施例を図１を参照し
て説明する。なお、図１において、図３に示したものと
対応するものについては、図に同符号を付してその説明
を省略する。
て説明する。なお、図１において、図３に示したものと
対応するものについては、図に同符号を付してその説明
を省略する。
【００１５】この実施例の配向処理方法は、基板１の端
子配列縁部に、この基板１の電極形成領域（表示領域）
の上に形成する配向膜３の膜面のうち、ラビングローラ
４の各端子群上を通る部分以外の部分でラビングされる
領域Ｂに対応させて、透明電極２の端子２ａと同じ材質
の導電膜（ＩＴＯ膜等）からなる擬似電極５を形成して
おき、配向膜３面の前記領域Ｂを、ラビングローラ４の
前記擬似電極５上を通る部分でラビングするものであ
る。
子配列縁部に、この基板１の電極形成領域（表示領域）
の上に形成する配向膜３の膜面のうち、ラビングローラ
４の各端子群上を通る部分以外の部分でラビングされる
領域Ｂに対応させて、透明電極２の端子２ａと同じ材質
の導電膜（ＩＴＯ膜等）からなる擬似電極５を形成して
おき、配向膜３面の前記領域Ｂを、ラビングローラ４の
前記擬似電極５上を通る部分でラビングするものであ
る。
【００１６】なお、この実施例では、上記擬似電極５
を、基板１の端子配列縁部に２つの群に分けて配列され
ている端子群の間と、各端子群の外端側との３箇所に形
成するとともに、これら擬似電極５をそれぞれ、ラビン
グローラ４の配向膜３面をラビングする領域のうち上記
端子群の上を通らない部分のみにその全域にわたって接
する形状に形成している。
を、基板１の端子配列縁部に２つの群に分けて配列され
ている端子群の間と、各端子群の外端側との３箇所に形
成するとともに、これら擬似電極５をそれぞれ、ラビン
グローラ４の配向膜３面をラビングする領域のうち上記
端子群の上を通らない部分のみにその全域にわたって接
する形状に形成している。
【００１７】また、上記基板１に対する配向処理は、上
記透明電極２およびその端子２ａと擬似電極５とを形成
した基板１の電極形成領域（表示領域）の上にポリイミ
ド樹脂等からなる配向膜３を形成し、この配向膜３の膜
面を、ラビングローラ４によって一方向にラビングする
方法で行なう。この配向膜３面のラビングは、従来の配
向処理方法と同様に、基板１上に所定の接触圧でラビン
グローラ４を接触させ、このラビングローラ４をその移
動方向とは逆方向に回転させながら基板１の一端側から
他端側に移動させることによって行なう。
記透明電極２およびその端子２ａと擬似電極５とを形成
した基板１の電極形成領域（表示領域）の上にポリイミ
ド樹脂等からなる配向膜３を形成し、この配向膜３の膜
面を、ラビングローラ４によって一方向にラビングする
方法で行なう。この配向膜３面のラビングは、従来の配
向処理方法と同様に、基板１上に所定の接触圧でラビン
グローラ４を接触させ、このラビングローラ４をその移
動方向とは逆方向に回転させながら基板１の一端側から
他端側に移動させることによって行なう。
【００１８】そして、この実施例の配向処理方法におい
ては、基板１の一端側から他端側に移動されるラビング
ローラ４が基板１の端子配列縁部を通過するときに、こ
のラビングローラ４のうち前記端子配列縁部に配列され
ている端子群の上を通る部分がＩＴＯ膜等からなる端子
２ａの表面を擦りながら端子２ａ上を通過し、ラビング
ローラ４の他の部分、つまり端子群がない箇所を通る部
分は、上記端子２ａと同じＩＴＯ膜等からなる擬似電極
５の表面を擦りながらこの擬似電極５の上を通過する。
ては、基板１の一端側から他端側に移動されるラビング
ローラ４が基板１の端子配列縁部を通過するときに、こ
のラビングローラ４のうち前記端子配列縁部に配列され
ている端子群の上を通る部分がＩＴＯ膜等からなる端子
２ａの表面を擦りながら端子２ａ上を通過し、ラビング
ローラ４の他の部分、つまり端子群がない箇所を通る部
分は、上記端子２ａと同じＩＴＯ膜等からなる擬似電極
５の表面を擦りながらこの擬似電極５の上を通過する。
【００１９】このため、上記端子配列縁部を通過したラ
ビングローラ４の外周面のラビング布の表面状態の変化
は、配向膜３面をラビングする領域全体にわたって等し
く、したがって、ラビングローラ４による配向膜３面の
ラビング性（延伸効果等）が、端子群の上を通ったロー
ラ部分でラビングされる領域Ａと、他の領域つまり擬似
電極５の上を通ったローラ部分でラビングされる領域Ｂ
とで異なってしまうことはない。
ビングローラ４の外周面のラビング布の表面状態の変化
は、配向膜３面をラビングする領域全体にわたって等し
く、したがって、ラビングローラ４による配向膜３面の
ラビング性（延伸効果等）が、端子群の上を通ったロー
ラ部分でラビングされる領域Ａと、他の領域つまり擬似
電極５の上を通ったローラ部分でラビングされる領域Ｂ
とで異なってしまうことはない。
【００２０】したがって、上記実施例の配向処理方法で
配向処理された配向膜３は、その全域（図上斜線を施し
た領域）の配向性が全て均一であるから、この方法で配
向処理した基板を用いて液晶素子を製造すれば、表示領
域全体の光学特性が均一で、表示むらのない、良好な表
示品質をもつ液晶素子を得ることができる。
配向処理された配向膜３は、その全域（図上斜線を施し
た領域）の配向性が全て均一であるから、この方法で配
向処理した基板を用いて液晶素子を製造すれば、表示領
域全体の光学特性が均一で、表示むらのない、良好な表
示品質をもつ液晶素子を得ることができる。
【００２１】なお、基板１に形成しておいた上記擬似電
極５は、配向膜３面をラビングした後にエッチングして
除去すればよい。ただし、この擬似電極５が端子群と駆
動回路とを接続する上で特に障害とならない場合は、こ
の擬似電極５をそのまま基板１上に残しておいてもよ
い。
極５は、配向膜３面をラビングした後にエッチングして
除去すればよい。ただし、この擬似電極５が端子群と駆
動回路とを接続する上で特に障害とならない場合は、こ
の擬似電極５をそのまま基板１上に残しておいてもよ
い。
【００２２】また、上記実施例では、各擬似電極５をそ
れぞれ、ラビングローラ４の配向膜ラビング領域だけに
接するように設けているが、各端子群の外端側に形成す
る擬似電極５は、図１に鎖線で示すように、その外端側
をラビングローラ４の配向膜ラビング領域より外側の部
分にも接するように延長させた形状としてもよく、この
ようにすれば、基板１の配置位置がその幅方向にずれた
場合でも、ラビングローラ４の配向膜側縁部をラビング
する部分が必ず擬似電極５の上を通るから、配向膜３面
全体を一様のラビングすることができる。
れぞれ、ラビングローラ４の配向膜ラビング領域だけに
接するように設けているが、各端子群の外端側に形成す
る擬似電極５は、図１に鎖線で示すように、その外端側
をラビングローラ４の配向膜ラビング領域より外側の部
分にも接するように延長させた形状としてもよく、この
ようにすれば、基板１の配置位置がその幅方向にずれた
場合でも、ラビングローラ４の配向膜側縁部をラビング
する部分が必ず擬似電極５の上を通るから、配向膜３面
全体を一様のラビングすることができる。
【００２３】さらに、上記実施例では、擬似電極５を、
ラビングローラ４の端子群上を通らない部分のみに接す
るように形成しているが、この擬似電極５は、ラビング
ローラ４の端子群上を通る部分にも接するように形成し
てもよい。
ラビングローラ４の端子群上を通らない部分のみに接す
るように形成しているが、この擬似電極５は、ラビング
ローラ４の端子群上を通る部分にも接するように形成し
てもよい。
【００２４】すなわち、図２は本発明の第２の実施例を
示している。この実施例は、電極２の端子２ａと同じＩ
ＴＯ膜等からなる擬似電極５を、少なくともラビングロ
ーラ４の配向膜ラビング領域全体に接するように形成し
たものであり、この擬似電極５は、基板１の端子配列縁
部に、この縁部に配列された端子群の外側（基板１の縁
部側）に位置させて形成されている。
示している。この実施例は、電極２の端子２ａと同じＩ
ＴＯ膜等からなる擬似電極５を、少なくともラビングロ
ーラ４の配向膜ラビング領域全体に接するように形成し
たものであり、この擬似電極５は、基板１の端子配列縁
部に、この縁部に配列された端子群の外側（基板１の縁
部側）に位置させて形成されている。
【００２５】この実施例の配向処理方法においては、基
板１の一端側から他端側に移動されるラビングローラ４
が基板１の端子配列縁部を通過するときに、このラビン
グローラ４の少なくとも配向膜ラビング領域全体が端子
２ａと同じＩＴＯ膜等からなる擬似電極５の表面を擦り
ながらこの擬似電極５の上を通過するため、この後にラ
ビングローラ４のうち端子群上を通る部分だけが端子２
ａの表面を擦りながら端子２ａ上を通過したとしても、
このラビングローラ４の外周面のラビング布の表面状態
が端子群上を通った部分と、他の部分（端子上を通らな
いローラ部分）とで異なってしまうことはない。
板１の一端側から他端側に移動されるラビングローラ４
が基板１の端子配列縁部を通過するときに、このラビン
グローラ４の少なくとも配向膜ラビング領域全体が端子
２ａと同じＩＴＯ膜等からなる擬似電極５の表面を擦り
ながらこの擬似電極５の上を通過するため、この後にラ
ビングローラ４のうち端子群上を通る部分だけが端子２
ａの表面を擦りながら端子２ａ上を通過したとしても、
このラビングローラ４の外周面のラビング布の表面状態
が端子群上を通った部分と、他の部分（端子上を通らな
いローラ部分）とで異なってしまうことはない。
【００２６】したがって、この実施例の配向処理方法で
配向処理された配向膜３も、その全域（図上斜線を施し
た領域）の配向性が全て均一であるから、この方法で配
向処理した基板を用いて液晶素子を製造すれば、表示領
域全体の光学特性が均一で、表示むらのない、良好な表
示品質をもつ液晶素子を得ることができる。この実施例
においては、上記擬似電極５が形成された部分は、配向
膜３面をラビングした後に端子群の外縁で基板ごと切断
して除去される。
配向処理された配向膜３も、その全域（図上斜線を施し
た領域）の配向性が全て均一であるから、この方法で配
向処理した基板を用いて液晶素子を製造すれば、表示領
域全体の光学特性が均一で、表示むらのない、良好な表
示品質をもつ液晶素子を得ることができる。この実施例
においては、上記擬似電極５が形成された部分は、配向
膜３面をラビングした後に端子群の外縁で基板ごと切断
して除去される。
【００２７】なお、上記第１および第２の実施例では、
ラビングローラ４を基板１の端子配列縁部側から他端側
に移動させているが、上記ラビングローラ４の移動方向
は逆でもよく、その場合も、配向膜３面をラビングした
ラビングローラ４が基板１の端子配列縁部を通過すると
きに、このラビングローラ４の少なくとも配向膜ラビン
グ領域の全ての部分が端子２ａまたはこの端子と同じ材
質の擬似電極５の上を通るため、ラビングローラ外周面
のラビング布の表面状態の変化は、配向膜ラビング領域
の全域にわたって一様であり、したがって、次に配向処
理される基板の配向膜面のラビング性（延伸効果等）
が、端子群の上を通ったローラ部分でラビングされる領
域と、他の領域を通ったローラ部分でラビングされる領
域とで異なってしまうことはない。
ラビングローラ４を基板１の端子配列縁部側から他端側
に移動させているが、上記ラビングローラ４の移動方向
は逆でもよく、その場合も、配向膜３面をラビングした
ラビングローラ４が基板１の端子配列縁部を通過すると
きに、このラビングローラ４の少なくとも配向膜ラビン
グ領域の全ての部分が端子２ａまたはこの端子と同じ材
質の擬似電極５の上を通るため、ラビングローラ外周面
のラビング布の表面状態の変化は、配向膜ラビング領域
の全域にわたって一様であり、したがって、次に配向処
理される基板の配向膜面のラビング性（延伸効果等）
が、端子群の上を通ったローラ部分でラビングされる領
域と、他の領域を通ったローラ部分でラビングされる領
域とで異なってしまうことはない。
【００２８】また、上記各実施例では、電極２の端子２
ａを一端縁部に配列した基板１に対する配向処理につい
て説明したが、本発明は、電極の端子を基板両端縁部に
配列した基板に対する配向処理にも適用できるもので、
その場合は、基板の両端の端子配列縁部にそれぞれ、少
なくとも配向膜面のうちラビングローラの端子上を通る
部分以外の部分でラビングされる領域に対応させて擬似
電極を形成しておけばよい。
ａを一端縁部に配列した基板１に対する配向処理につい
て説明したが、本発明は、電極の端子を基板両端縁部に
配列した基板に対する配向処理にも適用できるもので、
その場合は、基板の両端の端子配列縁部にそれぞれ、少
なくとも配向膜面のうちラビングローラの端子上を通る
部分以外の部分でラビングされる領域に対応させて擬似
電極を形成しておけばよい。
【００２９】また、上記各実施例では、端子２ａを、電
極２と同じ導電膜（ＩＴＯ膜等）で形成しているが、こ
の端子２ａは、ＩＴＯ膜等の透明導電膜の上にＣr 等の
金属膜を積層した２層膜であってもよく、その場合は、
前記擬似電極５を端子２ａの上層の金属膜と同じ材質の
金属で形成すればよい。
極２と同じ導電膜（ＩＴＯ膜等）で形成しているが、こ
の端子２ａは、ＩＴＯ膜等の透明導電膜の上にＣr 等の
金属膜を積層した２層膜であってもよく、その場合は、
前記擬似電極５を端子２ａの上層の金属膜と同じ材質の
金属で形成すればよい。
【００３０】
【発明の効果】本発明の配向処理方法によれば、ラビン
グローラが基板の端子配列縁部を通過するときに、この
ラビングローラの少なくとも配向膜をラビングする領域
の全ての部分が端子またはこの端子と同じ材質の擬似電
極の上を通るため、ラビングローラ外周面のラビング布
の表面状態の変化は、配向膜ラビング領域の全域にわた
って一様であり、したがって配向膜面は、端子上を通っ
たローラ部分でラビングされる領域も、他の領域（端子
上を通らないローラ部分でラビングされる領域）も同じ
状態にラビングされるから、配向膜面をその全域にわた
って一様にラビングして、均一な配向性をもたせること
ができる。
グローラが基板の端子配列縁部を通過するときに、この
ラビングローラの少なくとも配向膜をラビングする領域
の全ての部分が端子またはこの端子と同じ材質の擬似電
極の上を通るため、ラビングローラ外周面のラビング布
の表面状態の変化は、配向膜ラビング領域の全域にわた
って一様であり、したがって配向膜面は、端子上を通っ
たローラ部分でラビングされる領域も、他の領域（端子
上を通らないローラ部分でラビングされる領域）も同じ
状態にラビングされるから、配向膜面をその全域にわた
って一様にラビングして、均一な配向性をもたせること
ができる。
【図１】本発明の第１の実施例による配向処理方法を示
す平面図。
す平面図。
【図２】本発明の第２の実施例による配向処理方法を示
す平面図。
す平面図。
【図３】従来の配向処理方法を示す平面図。
１…基板、２…電極、２ａ…端子、３…配向膜、４…ラ
ビングローラ、５…擬似電極、Ａ…端子群の上を通った
ローラ部分でラビングされる領域、Ｂ…他の領域（端子
上を通らないローラ部分でラビングされる領域）。
ビングローラ、５…擬似電極、Ａ…端子群の上を通った
ローラ部分でラビングされる領域、Ｂ…他の領域（端子
上を通らないローラ部分でラビングされる領域）。
Claims (1)
- 【請求項１】複数の透明電極を形成するとともにこれら
電極の透明電極からなる端子を基板縁部に配列した液晶
素子用基板の電極形成領域の上に配向膜を形成し、この
配向膜面をラビングローラにより前記液晶素子用基板の
一辺に対して斜めの方向にラビングする配向処理方法に
おいて、前記配向膜の全面をラビングする前記ラビングローラの
幅のうち、前記端子面に接触するラビングローラの部分
以外の他の部分によりラビングされる前記基板の領域で
あって、前記基板の一端から他端に移動する前記ラビン
グローラの進行方向に対して一端側の隣接する２辺の基
板縁部に、前記端子と同じ材質の疑似電極を前記２辺の
基板縁部に繋げた形状に形成し、前記配向膜全面を、前
記端子面または前記疑似電極面に接触した前記ラビング
ローラにより ラビングをすることを特徴とする配向処理
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25102391A JP3067315B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 配向処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25102391A JP3067315B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 配向処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0588181A JPH0588181A (ja) | 1993-04-09 |
| JP3067315B2 true JP3067315B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=17216477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25102391A Expired - Fee Related JP3067315B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 配向処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3067315B2 (ja) |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP25102391A patent/JP3067315B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0588181A (ja) | 1993-04-09 |
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