JP3066110B2 - ジカルボン酸イミド - Google Patents

ジカルボン酸イミド

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JP3066110B2
JP3066110B2 JP3143081A JP14308191A JP3066110B2 JP 3066110 B2 JP3066110 B2 JP 3066110B2 JP 3143081 A JP3143081 A JP 3143081A JP 14308191 A JP14308191 A JP 14308191A JP 3066110 B2 JP3066110 B2 JP 3066110B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【技術分野】本発明は除草作用を示す新規なジカルボン
酸イミドに関するものである。
【0002】
【従来技術】Arch.Pharm.320、1281
−83(1987)から、3−位にエトキシカルボニル
メチル置換基を有するイソオキサゾールジカルボン酸イ
ミドは公知である。さらにJ.Chem.Soc.Pe
rkin Trans 1,2391−4(1982)
には3−メチル−イソオキサゾール−4,5−ジカルボ
ン酸イミドが記載されている。またSynthesis
1988、449−52は、染料製造のための中間生
成物として、5−アミノ−置換イソチアゾールジカルボ
ン酸イミドを開示している。
【0003】ことに置換されているチアゾール−4,5
−ジカルボン酸イミドは、J.Het.Chem.26
(1989)885、Synthesis 1988、
449、J.Het.Chem、25(1988)90
1、J.Chem.Soc.Perkin Tran
s.1、1981、2692から公知である。しかしな
がら上述した公知技術は、これらジカルボン酸イミドの
除草特性については全く開示するところがない。
【0004】そこで本発明の目的は、除草作用を示すこ
の種のジカルボン酸イミド新規化合物を見出し、提供す
ることである。
【0005】
【発明の要約】しかるに上述した目的は、以下の式(I
a)、(Ib)、(Ic)
【0006】
【化2】 で表され、式中Xが酸素あるいは硫黄を意味し、R1
水素、ハロゲン、シアノを、1から5個のハロゲンおよ
び/あるいは1もしくは2個の以下の基、すなわちC3
−C6シクロアルキル、、C1−C4アルコキシ、C1−C
4ハロゲンアルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C
4ハロゲンアルキルチオ、C1−C4アルキルスルホニ
ル、C1−C4ハロゲンアルキルスルホニルあるいはシア
ノを持っていてもよいC1−C6−アルキルを、1から3
個のC1−C4アルキルあるいはハロゲンを持っていても
よいC3−C8シクロアルキルを、1から3個の以下の
基、すなわちハロゲン、C1−C3アルコキシおよび/あ
るいはフェニル(これがさらに1から3個の以下の基、
すなわちC1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアルキ
ル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキ
シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル
チオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持っていても
よい)を持っていてもよいC2−C6アルケニルを、1か
ら3個の以下の基、すなわちハロゲン、C1−C3アルコ
キシおよび/あるいはフェニル(これがさらに1から3
個の以下の基、すなわちC1−C4アルキル、C1−C4
ロゲンアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲ
ンアルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲ
ンアルキルチオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持
っていてもよい)を持っていてもよいC2−C6アルキニ
ルを、R1がさらにC1−C4アルコキシ、C2−C6アル
ケニルオキシ、C2−C6アルキニルオキシ、C1−C4
ルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルコキシ、C1−C4
ロゲンアルキルチオ、C1−C4アルキルスルホニルある
いはC1−C4ハロゲンアルキルスルホニルを、1から3
個の以下の基、すなわちC1−C4アルキル、C1−C4
ロゲンアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲ
ンアルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲ
ンアルキルチオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持
っていてもよいフェノキシあるいはフェニルチオを、酸
素、硫黄および窒素のうちから選ばれる1もしくは2個
のヘテロ原子を有する5もしくは6員の飽和あるいは芳
香族ヘテロ環式基(この環は1もしくは2個の以下の
基、すなわちC1−C3アルキル、ハロゲン、C1−C3
ルコキシあるいはC1−C3アルコキシカルボニルを持っ
ていてもよい)を、1もしくは2個の以下の基、すなわ
ち上述したアルキル、ことにメチル、上述したハロゲ
ン、ことに弗素、塩素、上述したアルコキシ、ことにメ
トキシ、エトキシ、あるいはメトキシカルボニル、エト
キシカルボニルのようなアルコキシカルボニル、ことに
メトキシカルボニルを持っていてもよい、縮合芳香族環
基であって、以下のベンゾフラン−2−イル、ベンゾフ
ラン−3−イル、イソベンゾフラン−2−イル、ベンゾ
チオフェン−2−イル、ベンゾチオフェン−3−イル、
イソベンゾチオフェン−2−イル、インドール−2−イ
ル、インドール−3−イル、1,2−ベンゾイソオキサ
ゾール−3−イル、ベンゾオキサゾール−2−イル、
1,2−ベンゾイソチアゾール−3−イル、ベンゾチア
ゾール−2−イル、インダゾール−3−イル、(1H)
−ベンズイミダゾール−2−イル、キノール−3−イ
ル、キノール−5−イル、キノール−6−イル、キノー
ル−8−イル、イソキノール−1−イルおよびイソキノ
ール−5−イルのうちから選ばれる縮合環基を、あるい
はフェニルもしくはフェニル−C1−C4アルキル(各フ
ェニル環は非置換でも、1から3個の以下の基、すなわ
ちC1−C6アルキル、C1−C6ハロゲンアルキル、C1
−C6アルコキシ、C1−C6ハロゲンアルコキシ、C1
6アルキルチオ、C1−C6ハロゲンアルキルチオ、ハ
ロゲン、ニトロあるいはシアノで置換されていてもよ
い)を意味し、R2が水素、ヒドロキシル、C1−C4
ルコキシを、1から3個の以下の基、すなわちシアノ、
1−C4アルコキシ−C1−C4アルコキシ、C1−C4
ルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキシ、C1−C4アル
キルチオ、C1−C4ハロゲンアルキルチオ、ジ−C1
4アルキルアミノ、ハロゲン、C3−C8シクロアルキ
ルあるいはフェニル(このフェニル環がさらに1から3
個の以下の基、すなわちハロゲン、シアノ、ニトロ、C
1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアルキル、C1−C4
アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキシ、C1−C4
ルキルチオあるいはC1−C4ハロゲンアルキルチオを持
っていてもよい)を持っていてもよいC1−C6アルキル
を、1から3個の以下の基、すなわちC1−C6アルキ
ル、C1−C6ハロゲンアルキル、C1−C4アルコキシ、
1−C4ハロゲンアルコキシ、ハロゲン、ニトロあるい
はシアノを持っていてもよいC3−C8シクロアルキル
を、ハロゲンによりモノからトリ置換され、かつ/もし
くはフェニル(このフェニルが1から3個の以下の基、
すなわちC1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアルキ
ル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキ
シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル
チオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持っていても
よい)によりモノ置換されていてもよいC3−C6アルケ
ニルを、ハロゲンによりモノからトリ置換され、かつ/
もしくはフェニル(このフェニルが1から3個の以下の
基、すなわちC1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアル
キル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキ
シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル
チオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持っていても
よい)によりモノ置換されていてもよいC3−C6アルキ
ニルを、R2がさらにジ−C1−C4アルキルアミノを、
酸素、硫黄あるいは窒素のうちから選ばれる1もしくは
2個のヘテロ原子を有する5もしくは6員の飽和あるい
は芳香族ヘテロ環式基(これはC1−C4アルキルあるい
はハロゲンによりモノからトリ置換されていてもよい)
を、C1−C4アルキルあるいはハロゲンによりモノから
トリ置換されていてもよい縮合芳香族環基であって、以
下のベンゾフラン−2−イル、ベンゾフラン−3−イ
ル、イソベンゾフラン−2−イル、ベンゾチオフェン−
2−イル、ベンゾチオフェン−3−イル、イソベンゾチ
オフェン−2−イル、インドール−2−イル、インドー
ル−3−イル、1,2−ベンゾイソオキサゾール−3−
イル、ベンゾオキサゾール−2−イル、1,2−ベンゾ
イソチアゾール−3−イル、ベンゾチアゾール−2−イ
ル、インダゾール−3−イル、(1H)−ベンズイミダ
ゾール−2−イル、キノール−3−イル、キノール−5
−イル、キノール−6−イル、キノール−8−イル、イ
ソキノール−1−イルおよびイソキノール−5−イルの
うちから選ばれる縮合環基を、1から4個の以下の基、
すなわちC1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアルキ
ル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキ
シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル
チオ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ホルミル、フェニ
ル、C1−C4アルカノイル、C1−C4ハロゲンアルカノ
イルあるいはC1−C4アルコキシカルボニルを持ってい
てもよいフェニルを、C1−C4アルキルあるいはハロゲ
ンによりモノからトリ置換されていてもよいナフチルを
意味することを特徴とする、ジカルボン酸イミドならび
にその植物容認性の塩(ただし式中R1がメチルあるい
は2−チアゾリルを意味する場合、R2がフェニルを意
味する、3−メチルイソオキサゾール−4,5−ジカル
ボン酸イミドおよびチアゾール−4,5−ジカルボン酸
イミドを除く)により達成されることが本発明者らによ
り見出された。
【0007】当然のことながら、上記化合物の製造方
法、少なくとも上記新規化合物(Ia)、(Ib)、
(Ic)のいずれかを含有する除草剤も本発明の対象と
なる。
【0008】
【発明の構成】本発明による新規化合物(I)は、以下
に示す方法により得られる。
【0009】(A法)水分解剤、例えば無水醋酸、塩化
チオニルのような無機酸ハロゲン化物、三塩化もしくは
四塩化燐のようなハロゲン化燐(III)もしくはハロ
ゲン化燐(IV)、ホスゲン、p−トルエンスルホン酸
クロライド、プロパンホスホン酸無水物を使用して脱水
することにより、以下の化合物(IIa)から(II
f)を式(I)のジカルボン酸イミドに転化することが
できる。
【0010】
【化3】 反応はジカルボン酸モノアミドを不活性溶媒中にまず添
加し、場合により同様に不活性溶媒中に添加した約1モ
ル量の水分解剤を滴下することにより行われる。この混
合物を常法により、例えば水で加水分解し、吸引濾別す
るか、有機溶媒で抽出し、有機溶媒を蒸散させて目的物
を得る。
【0011】この反応の溶媒としては、テトラクロルエ
タン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジクロロエ
タン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、メチル−
tert−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル、アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチ
ルテトラ−ヒドロ−2(1H)−ピリミジノン、1,3
−ジメチルイミダゾリン−2−オンのような双極性中性
溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、ピリジン、キノ
リンのような芳香族溶媒、アセトン、メチルエチルケト
ンのようなケトンあるいはこれらの混合溶媒が使用され
る。
【0012】脱水は−10℃からそれぞれの使用溶媒の
還流温度、ことに0℃から150℃までの温度で行われ
る。
【0013】必要な出発化合物酸アミドに対する水分解
剤の使用モル割合は、一般に0.9:1から5:1の範
囲である。
【0014】(混合)溶媒中の材料濃度は、一般に1リ
ットル当たり0.5から5モル、ことに0.2から2モ
ルの範囲である。
【0015】この方法の出発材料として必要なジカルボ
ン酸モノアミド(IIa)の製造は、西独出願公開38
12225号公報に記載されている方法で行われる。
【0016】またモノカルボン酸モノアミド(IIc)
は、同じく公開3931627号公報に記載の方法で得
られる。その出発物質、イソオキサゾール−ないしイソ
チアゾール−3−カルボン酸ハロゲン化物(VII)
は、アミン(VIII)と反応せしめられる。カルボン
酸ハロゲン化物としては塩化物が好ましい。この場合、
カルボン酸ハロゲン化物は不活性有機溶媒、例えばジク
ロルメタン或はジエチルエーテルもしくはメチル−te
rt−ブチルエーテル中において、同様に有機溶媒に溶
解せしめられたアミン(VIII)と反応せしめられ
る。アミン(VIII)は、対応するハロゲン化水素と
結合するために、2−5倍モル量、ことに2−3倍モル
量使用される。補助塩基、例えば3級アミン(トリエチ
ルアミン)の存在下に処理することもできる。この場合
には、アミン(VIII)は1から1.5モル当量で十
分である。反応温度は0から50℃、ことに0から20
℃である。反応は一般に1から12時間で終了する。反
応混合物は常法により、例えば加水分解、生成物(I
X)の有機溶媒による抽出、有機溶媒の蒸散で処理され
る。
【0017】式(IIc)の3−アミノカルボニルイソ
オキサゾール−4−カルボン酸もしくは3−アミノカル
ボニル−イソチアゾール−4−カルボン酸は、イソオキ
サゾールアミドもしくはイソチアゾールアミド(IX)
から、好ましくは反応条件下に不活性の有機溶媒、例え
ばジエチルエーテルあるいはテトラヒドロフランを添加
しつつ、アルキルリチウム、例えばn−ブチルリチウ
ム、sec−ブチルリチウム、メチルリチウムと反応さ
せて得られる。この反応は一般的に不活性雰囲気、例え
ば窒素ガス中において、−70から−80℃の温度で行
われる。この反応においてアルキルリチウムは、使用さ
れるアミド(IX)の2−3倍モルの量で使用される。
完全に反応させた後、反応混合物は不活性有機溶媒、例
えばテトラヒドロフランのようなジエーテルエーテル中
において二酸炭素で処理することにより目的生成物(I
Ic)が得られる。
【0018】
【化4】 この反応に必要な出発材料、イソオキサゾール−3−カ
ルボン酸ハロゲン化物ないしイソチアゾール−3−カル
ボン酸ハロゲン化物(VII)は、対応するカルボン酸
から慣用の方法で製造され得る。
【0019】
【化5】 これに必要なカルボン酸は、文献、1962年、ニュー
ヨーク、ロンドン在、インターサイエンス、パプリッシ
ャーズ刊、R.W.ウイリー編「ザ、ケミストリー、オ
ブ、ヘテロサイクリック、コンパウンズ、ファイブ、ア
ンド、ミックスメンバード、コンパウンズ、ウイズ、ナ
イトロジェン、アンド、オキシジェン」27巻、バイル
シュタインの主稿ならびに第1−第5補遺に記載されて
いる方法、あるいは一般的に周知の方法、例えば対応す
るアルコールもしくはアルデヒドから酸化により、ある
いは対応するニトリルから加水分解により製造され得
る。
【0020】出発材料として使用されるジカルボン酸モ
ノアミド(IIe)および(IIf)は種々の方法で得
られる。
【0021】(a)下記の方法段階(A)に記載の反応
条件下に、対応するアルキルエステル、例えばメチルエ
ステル、エチルエステルの鹸化による方法
【0022】
【化6】 このアルキルエステルは、式(III)のジエステルを
当量の水性塩基で加水分解してモノエステル(IV
a)、(IVb)とし、これらを分離して、あるいは混
合物としてまずハロゲン化物、その他のカルボン酸活性
形態とし、次いでこれをアミン(VIII)でアミド化
される。
【0023】
【化7】 この合成方法の各反応段階(A)および(B)を以下に
詳述する。
【0024】反応段階(A) ジエステル(III)を部分鹸化してモノエステル(I
Va)および(IVb)とするため、−20から60
℃、ことに10から30℃の温度において、水と混合し
得る有機溶媒中で1.0から1.2モル当量の塩基の存
在下に処理する。
【0025】塩基としてはことにアルカリ金属陽イオン
の水酸化物、例えばナトリウムもしくはカリウムの水酸
化物が適当である。この塩基は一般に5から20重量%
の水溶液として使用される。
【0026】上記処理用の溶媒としては、ジオキサンあ
るいは式(III)のエステルに対応するアルコールが
好ましい。
【0027】反応混合物の後処理のため、常法により酸
性化し、目的生成物を固体分ないし油分として析出させ
る。単離は常法により濾過ないし抽出で行う。
【0028】両異性体(IVa)および(IVb)の混
合物は、分別結晶法あるいはクロマトグラフィー法によ
り分離され、あるいは分離することなくそのまま次の処
理に付される。
【0029】反応段階(B) モノエステル(IVa)および(IVb)は、まずそれ
自体公知の方法でハロゲン化物その他カルボン酸官能性
活性形態とし、次いでこれをアミン(VIII)により
アミド化する。
【0030】カルボン酸活性形態としては、ハロゲン化
物、ことにクロライド、ブロマイドのほかにイミダゾリ
ドがある。一般的にハロゲン化物が好ましい。
【0031】これは、カルボン酸(IVa)および(I
Vb)をハロゲン化剤、例えばチオニルクロライド、チ
オニルブロマイド、オキシ塩化もしくは臭素燐、三塩
(臭)化もしくは四塩(臭)化燐、ホスゲンならびに塩
素、臭素元素と反応させて得られる。ハロゲン化剤は1
から5モル、ことに1から2モル当量使用される。
【0032】反応は、0℃からハロゲン化剤の沸点ま
で、溶媒の存在下に処理する場合にはその沸点までの温
度で、ことに20から120℃までの温度で行われる。
溶媒としては、例えばテトラクロロエタン、メチレンク
ロライド、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベン
セン、1,2−クロロベンゼン、ベンゼン、トルエン、
キシレンのような炭化水素が使用される。
【0033】活性化カルボン酸誘導体は、ハロゲン化
剤、溶媒を使用する場合にはこれも含めて蒸留除去して
から、アミンと反応せしめられる。このアミド化は−2
0から100℃、ことに−10から20℃の温度で、不
活性の中性極性有機溶媒中において行われる。この反応
用溶媒としては、ジクロロメタンのような炭化水素、ジ
エテルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルのよ
うなエーテルが好ましい。
【0034】このカルボン酸ハロゲン化物のアミド化に
際してはハロゲン化水素が形成されるので、アミン(V
III)は2から5モル、ことに2から3モル当量の過
剰量で使用することが好ましい。アミンはほぼ等モル量
(1から1.2モル当量)しようする場合にはハロゲン
化水素と結合させるために、塩基ことにトリエチルアミ
ン、ピリジンのような3級アミンが添加される。
【0035】モノエステル(IVa)および(IVb)
の混合物から出発する場合には、この反応によりカルボ
ン酸アミドの異性体混合物が得られるが、これは常法に
より、例えば分別結晶法あるいはクロマトグラフィー法
により個々の異性体に分別される。
【0036】この方法に必要な材料(III)は公知で
あり(Bull.Soc.Chim.Fr.1974、
2079)、公知方法により製造される(Bull.S
oc.Chim.Fr.1969、1762、J.Ch
em.Soc.1953、93)。
【0037】(b)チアゾールカルボン酸アミド(II
e)および(IIf)の製造
【0038】
【化8】 このチアゾールカルボン酸アミド(IIe)および(I
If)は、式(V)のジカルボン酸無水物をそれ自体公
知の方法により(VIII)のアミンと反応させて異性
体(IIe)、(IIf)の混合物をもたらし、次いで
これを分離することにより有利に得られる。
【0039】
【化9】 この反応は−10から150℃、ことに20から120
℃の温度で不活性の中性、極性、有機溶媒中において行
われる。溶媒としては、ことにテトラクロロエタン、メ
チレンクロライド、クロロホルム、ジクロルエタン、ク
ロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼンのようなハロ
ゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、メチル−tert
−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル、アセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキ
サイド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチルイミ
ドアゾリジン−2−オン−のような中性溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ピリジン、キノリンのような
芳香族溶媒、アセトン、メチルエチルケトンのようなケ
トンあるいはこれらの混合溶媒が好ましい。
【0040】アミン(VIII)は化合物(V)に対し
て等モル量あるいは過剰量で、ことに1.0から5.0
モル当量で使用される。
【0041】この方法に必要なジカルボン酸無水物は公
知であり公知の方法で製造され得る(Bull.So
c.Chim.Fr.1969、1762)。
【0042】(c)化合物(IIe)、(IIf)(式
中のR1が水素でもなくシアノでもない場合)の製造方
【0043】
【化10】 これらオキサゾールカルボン酸アミドもしくはチアゾー
ルカルボン酸アミドの異性体は、以下の方法工程(B)
に示される反応条件下に活性化し、アミド化し、次いで
得られたアミド(VIa)、(VIb)をカルボキシル
化試薬の存在下にそれ自体の方法で反応させることによ
り得られる。
【0044】
【化11】 この反応方法における工程(A)は、方法(a)につき
工程(B)に記載された反応条件下において行われる。
【0045】反応工程(B) オキサゾールないしチアゾールカルボン酸アミド(VI
a)、(VIb)のカルボキシル化は、原則として0か
ら100℃、ことに−50から−80℃の温度で、湿気
遮断下、塩基の存在下に不活性の中性、双極性溶媒中に
おいて行われる。適当なカルボキシル化剤は気相もしく
は固相二酸化炭素であり、適当な溶媒としてはジエチル
エーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテルが使
用される。塩基としては、メチルリチウム、n−ブチル
リチウム、s−ブチルリチウム、フェニルリチウムのよ
うな有機金属化合物が使用される。
【0046】反応は常法によりまずオキサゾールないし
チアゾールカルボン酸アミド(VIa)、(VIb)溶
液に、3モル当量までの塩基水溶液わ添加し、これによ
りヘテロ環に金属を導入した誘導体をもたらし、次いで
親電子的カルボキシル化試薬を添加して目的化合物(I
Ie)、(IIf)とする。
【0047】この方法に必要なカルボン酸は、上述の文
献バイルシュタインの27巻、第1−5補遺から公知で
あり、公知方法、例えば対応するアルコールもしくはア
ルデヒドの酸化により、あるいは対応するニトリルの加
水分解により製造される(ジョン、ウィリー、アンド、
サンズ刊、アーノルド、ワイスベルガー、E.D.ウォ
ード、C.テイラー編、「ザ、ケミストリー、オブ、ヘ
テロサイクリック、コンパウンズ」34巻、1部J.
V.メッツガーの「チアゾールおよびその誘導体」、同
上45巻519頁以降I.J.トゥルキイの「ヤキサゾ
ール」参照)。
【0048】(b)式(IIb)の化合物は、また対応
するジカルボン酸エステルをそれ自体公知の方法でアミ
ンと反応させ、得られたアミドを鹸化する方法によって
も製造される。
【0049】
【化12】 ジエステルは不活性有機溶媒に溶解させてアミン(VI
II)と反応させるのが好ましい。この反応用溶媒とし
ては、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエ
ーテル、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレ
ンのような芳香族、メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、tert−ブタノールのようなアルコールあ
るいはこれらの混合溶媒が好ましい。
【0050】反応は−100℃から使用される(混合)
溶媒の還流温度、ことに−60℃から150℃までの温
度で行われる。使用されるジエステルとアミンの両割合
は一般に1:1から1:2、ことに1:1から1:1.
2の範囲である。溶媒中における原料の濃度は一般に1
リットル当たり0.1から5モル、ことに0.2から
2.0モルである。
【0051】ことに有利であるのは、エタノールのよう
なアルコール中において、50から100℃において当
量アミンの存在下に反応させることである。反応に必要
なジエステルは、公知であり、文献記載の方法で製造さ
れ得る(Bull.Soc.Chim.Fr.196
9、1762、J.Chem.Soc.1953、9
3)。
【0052】上述した各種方法(a)−(b)による出
発化合物(IIe)および(IIf)の製造のほかに、
さらに以下の文献記載の方法も採用され得る。
【0053】すなわち、上述したインターサイエンス、
パブリッシャーズ刊、R.W.ウイリイ編「ザ、ケミス
トリー、オブ、ヘテロサイクリック、コンパウンズ、フ
ァイブ、アンド、シックスメンバード、コンパランズ、
ウイズ、ナイトロジエン、アンド、オキシジェン」27
巻、バイルシュタインの論稿および第1−5補遺、19
84年パーガモン社刊「ヘテロサイクリック、ケミスト
リー」6巻「ファイブメンバード、リングズ、ウイズ、
トゥー、オア、モーア、オキシジェン、サルファー、オ
ア、ナイトロジェン、アトムズ」、1984年ジョー
ン、ウィリイ、アンド、サンズ刊、J.マーチの「アド
ウァ−スト、オーガニック、ケミストリー」第3版、ホ
ウベン−ワイルの「メトーデン、デル、オルガニッシェ
ン、ヘミー」第4版、VI、VI、VII、VIII、
X巻、西独特許出願公開3932052号公報などに開
示されている方法である。
【0054】(B法)本発明新規化合物(IIa)のさ
らに他の製造方法は、ハイドロキサム酸クロライド
(X)をハロゲン化マレイン酸イミド(XI)と反応さ
せることから成る。この場合、ハロゲン化マレイン酸イ
ミド(XI)をあらかじめ不活性有機溶媒に溶解させ、
これに等モル量のハイトロキサム酸クロライド(X)を
添加し、次いでこれに約2倍モル量の塩基を滴下添加す
るのが好ましい。得られた反応混合物は常法により、例
えば水で加水分解し、生成物を有機溶媒で抽出し、溶媒
を蒸散させる。ことにより後処理される。
【0055】
【化13】 この反応用溶媒として、例えばジクロルエタン、クロロ
ベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、テトラクロロエ
タン、ジクロムエタンおよびクロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、メチル−tert
−ブチルエーテル、ジメトキシジエタン、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族溶媒あるいはこれらの混合溶媒が使用
される。
【0056】反応は−10℃から50℃、ことに0℃か
ら30℃の温度で行われる。塩基としては2−、3−、
4−ピコリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジ
メチルシクロヘキシルアミン、トリエチルアミン(TE
A)、ピリジン、1,8−ジアザビシクロ(5.4.
0)−ウンデス−7ーエン(DBU)のような窒素塩基
が使用される。反応干与体はことに1:1のモル割合で
使用され、窒素塩基は2倍から3倍モル量で使用され
る。有機溶媒中の原料濃度は、1リットル当たり一般に
0.1から5モル、ことに0.2から2モルである。
【0057】(C法)本発明新規化合物(IIa)のさ
らに他の合成方法は、ハイドロキサム酸クロライド
(X)をマレイン酸イミド(XIII)と反応させて得
られるイソオキサゾリンジカルボン酸イミド(XII)
を酸化させることである。この場合、マレイン酸イミド
(XIII)はあらかじめ不活性有機溶媒に溶解させ、
これに約1モル量のハイドロキサム酸クロライドを添加
し、次いで約1モル量の塩基を滴下添加するのが好まし
い。反応混合物は常法により、例えば加水分解し、有機
溶媒で抽出しあるいは吸引濾別して後処理する。
【0058】
【化14】 この反応用溶媒としては、テトラクロロエタン、ジクロ
ロメタン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼ
ン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素、もしく
はベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族溶媒、
あるいはこれらの混合溶媒を使用するのが好ましい。反
応は−10℃から50℃、ことに0℃から30℃の温度
で行われる。塩基としては2−、3−、4−ピコリン、
N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルシクロヘ
キシルアミン、トリエチルアミン(TEA)、ピリジン
あるいは、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)−ウ
ンデス−7ーエン(DBU)のような窒素塩基が使用さ
れる。反応干与体は1から1.1:1(マレイン酸イミ
ド:ヒドロキサム酸クロライド)の割合で使用され、こ
れに2倍から3倍モル量の窒素塩基が添加される。溶媒
中の原料濃度は、1リットル当たり一般に0.1から5
モル、ことに0.2から2モルである。
【0059】イソオキサゾ−ルカルボン酸イミド(I
a)は、イソオキサゾリンイミド(XII)の脱水によ
り得られるが、この場合イソオキサゾリレイミド(XI
I)をあらかじめ不活性有機溶媒を溶解させ、これに約
1モル量の酸化剤を添加するのが好ましい。この溶媒と
してはベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素がことに好ましい。酸化剤としては次亜鉛素酸ナ
トリウム、ニトロベンゼン、キノン、例えば2,3,
5,6−テトラクロル−p−ベンゾキノン、5,6−ジ
クロル−2,3−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DD
Q)を使用するのが有利である。反応は50℃から使用
溶媒の沸点までの温度で行われる。反応干与体はモルわ
りあい1:1から1:10(イソオキサゾリンイミド:
酸化剤)の範囲で使用される。
【0060】本発明化合物(I)の特定の用途にかんが
みて、式(I)中の基としては以下のものが挙げられ
る。
【0061】まずXとしては酸素あるいは硫黄が挙げら
れる。
【0062】R1は以下のものを意味する。
【0063】弗素、塩素、臭素、沃素のようなハロゲ
ン、ことに弗素および塩素。
【0064】メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、te
rt−ブチル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチ
ルブチル、3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピ
ル、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロ
ピル、1−エチルプロピル、ヘキシル、1−メチルペン
チル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−
メチルペンチル、1,1−ジメチルペンチル、1,2−
ジメチルペンチル、1,3−ジメチルペンチル、2,2
−ジメチルペンチル、2,3−ジメチルペンチル、3,
3−ジメチルペンチル、1−エチルブチル、2−エチル
ブチル、1,1−2−トリメチルプロピル、1,2,2
−トリメチルプロピル、1−エチル−1−メチルプロピ
ル、1−エチル−2−メチルプロピルのようなC1−C6
アルキル、ことにメチル、エチル、プロピルおよびイソ
プロピルである。ただしこれらは1から5個のハロゲン
原子、ことに弗素および/あるいは塩素原子、あるいは
1もしくは2個の以下の基を持っていてもよい。すなわ
ち、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシルのようなC3−C8シクロアルキル、こと
にシクロプロピル、メトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、2−メチルエトキシ、n−ブトキシ、1−メチルプ
ロポキシ、2−メチルプロポキシ、1,1−ジメチルエ
トキシのようなC1−C4アルコキシ、ことにメトキシ、
エトキシ、1−メチルエトキシおよび1,1−ジメチル
エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキ
シ、クロロジフルオロメトキシ、ジクロロフルオロメト
キシ、1−フルオロエトキシ、2−フルオロエトキシ、
2,2−ジフルオロエトキシ、1,1,2,2−テトラ
フルオロエトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキ
シ、2−クロル−1,1,2−トリフルオロエトキシ、
ペンタフルオロエトキシのようなC1−C4ハロゲンアル
コキシ、ことにトリフルオロメトキシおよびペンタフル
オロエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピオチ
オ、1−メチルエチルチオのようなC1−C4アルキルチ
オ、ことにメチルチオおよびエチルチオ、ジフルオロメ
チルチオ、トリフルオロメチルチオ、クロロジフルオロ
メチルチオ、1−フルオロエチルチオ、2−フルオロエ
チルチオ、2,2−ジフルオロエチルチオ、2,2,
2−トリフルオロエチルチオ、2−クロロ−2,2−ジ
フルオルエチルチオ、2,2−ジクロル−2−フルオロ
エチルチオ、2,2,2−トリクロロエチルチオ、ペン
タフルオロエチルチオのようなC1−C4ハロゲンアルキ
ルチオ、ことにトリフルオロメチルチオおよびペンタフ
ルオロエチルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニ
ルのようなC1−C4アルキルスルホニル、ことにメチル
スルホニル、トリフルオロメチルスルホニル、ペンタフ
ルオロエチルスルホニルのようなC1−C4ハロゲンアル
キルスルホニル、ことにトリフルオロメチルスルホニ
ル、あるいはシアノである。
【0065】R1はさらに以下のものを意味する。
【0066】シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオク
チルのようなC3−C8シクロアルキル、ことにシクロプ
ロピル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル、ただし
これらは1から3個の以下の基、すなわち上述したアル
キル、ことにメチルあるいは上述したハロゲン、ことに
塩基および弗素を持っていてもよい。
【0067】R1はさらに次のものを意味する。
【0068】エテニル、1−プロペニル、2−プロペニ
ル、1−エチルエテニル、1−ブテニル、2−ブテニ
ル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、1−
メチル−2−プロペニル、2−メチル−1−プロペニ
ル、2−メチル−2−プロペニル、1−ペンテニル、2
−ペンテニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−
メチル−1−ブテニル、2−メチル−1−ブテニル、3
−メチル−2−ブテニル、1−メチル−2−ブテニル、
2−メチル−2−ブテニル、1−メチル−3−ブテニ
ル、2−メチル−3−ブテニル、3−メチル−3−ブテ
ニル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、1,1−ジ
メチル−1−プロペニル、1,2−ジメチル−2−プロ
ペニル、1−エチル−1−プロペニル、1−エチル−2
−プロペニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−
ヘキセニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、1−メ
チル−1−ペンテニル、2−メチル−1−ペンテニル、
3−ペンチル−1−ペンテニル、4−メチル−1−ペン
テニル、1−メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2
−ペンテニル、3−メチル−2−ペンテニル、4−メチ
ル−2−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2
−メチル−3−ペンテニル、4−メチル−2−ペンテニ
ル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メチル−3−ペ
ンテニル、3−メチル−3−ペンテニル、4−メチル−
3−ペンテニル、4−メチル−4−ペンテニル、1,1
−ジメチル−2−ブテニル、1,1−ジメチル−3−ブ
テニル、1,2−ジメチル−1−ブテニル、1,2−ジ
メチル−2−ブテニル、1,2−ジメチル−3−ブテニ
ル、1,3−ジメチル−1−ブテニル、2,3−ジメチ
ル−1−ブテニル、2,3−ジメチル−2−ブテニル、
2,3−ジメチル−3−ブテニル、3,3−ジメチル−
1−ブテニル、1−エチル−1−ブテニル、1−エチル
−2−ブテニル、1−エチル−3−ブテニル、1,1,
2−トリメチル−2,2−プロペニル、1−エチル−1
−メチル−2−プロペニル、1−エチル−2−メチル−
1−プロペニル、1−エチル−2−メチル−プロペニル
のようなC2−C8アルケニル、ことに2−プロペニル、
ただしこれらは、1ないし3個の以下の基、すなわち上
述したハロゲン、ことに弗素および塩素、上述したアル
コキシ、ことにメトキシ、エトキシ、フェニル(これ自
体さらに1から3個の置換基、すなわち上述したアルキ
ル、ことにメチル、エチルおよびイソプロピル、上述し
たハロゲン化アルキル、ことにトリフルオロメチルおよ
びクロロジフルオロメチル、上述したアルコキシ、こと
にメトキシおよびエトキシ、上述したハロゲン化アルコ
キシ、ことにトリフルオロメトキシ、ペンタフルオロエ
トキシおよびトリクロロメトキシ、上述したアルキルチ
オ、ことにメチルチオおよびエチルチオ、上述したハロ
ゲンアルキルチオ、ことにジフルオロメチルチオ、ペン
タフルオロエチルチオ、およびトリフルオロメチルチ
オ、上述したハロゲン、ことに弗素および塩素、シアノ
あるいはニトロを持っていてもよい)を持っていてもよ
い。
【0069】R1はさらに次のものを意味する。
【0070】エチニル、1−プロピニル、2−プロピニ
ル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチニル、1−
メチル−2−プロピニル、1−ペンチニル、2−ペンチ
ニル、3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−
3−ブチル、2−メチル−3−ブチニル、1−メチル−
2−ブチニル、3−メチル−1−ブチニル、1,1−ジ
メチル−2−プロピニル、1−エチル−2−プロピニ
ル、1−ヘキシニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニ
ル、4−ヘキシニル、4−アルキニル、1−メチル−2
−ペンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、1−メチ
ル−4−ペンチニル、2−メチル−3−ペンチニル、2
−メチル−4−ペンチニル、3−メチルペンチニル、3
−メチル−4−ペンチニル、4−メチル−1−ペンチニ
ル、4−メチル−2−ペンチニル、1,1−ジメチル−
2−ブチニル、1,1−ジメチル−3−ブチニル、1,
2−ジメチル−3−ブチニル、2,2−ジメチル−2−
ブチニル、3,3−ジメチル−1−ブチニル、1−エチ
ル−2−ブチニル、1−エチル−3−ブチニル、2−エ
チル−3−ブチニル、1−エチル−1−メチル−2−ブ
チニルのようなC2−C6アルキニル、ことに2−プロピ
ニル。ただしこれらは、1から3個までの以下の基、す
なわち上述したハロゲン、ことに沃素、上述したアルコ
キシ、ことにメトキシおよびエトキシ、フェニルを持っ
ていてもよい。ただし、このフェニル自体がさらに1か
ら3個の以下の基、すなわち上述したアルキル、ことに
メチル、エチルおよびイソプロピル、上述したハロゲン
アルキル、ことにトリフルオロメチルおよびクロロジフ
ルオロメチル、上述したアルコキシ、ことにメトキシお
よびエトキシ、上述したハロゲンアルコキシ、ことにト
リフルオロメトキシ、ペンタフルオロエトキシおよびト
リクロロメトキシ、上述したアルキルチオ、ことにメチ
ルチオおよびエチルチオ、上述したハロゲンアルキルチ
オ、ことにジフルオロメチルチオ、ペンタフルオロエチ
ルチオおよびトリオロメチルチオ、上述したハロゲン、
ことに弗素および塩素、シアノあるいはニトロを持って
いてもよい。
【0071】R1はさらに次のものを意味する。
【0072】ビニルオキシ、2−プロペニルオキシ、2
−メチル−2−プロペニルオキシ、(E)−2−ブテニ
ルオキシ、(Z)−2−ブテニルオキシ、1,3−ジメ
チル−2−ブテニルオキシ、2−ペンテニルオキシ、2
−ヘキセニルオキシのようなC2−C6アルケニルオキ
シ、ことに2−プロペニルオキシおよび(E)−2−ブ
テニルオキシ。
【0073】2−プロピニルオキシ、2−ブチニルオキ
シ、1−エチル−2−ブチニルオキシ、1−メチル−2
−プロピニルオキシ、2−ペンチニルオキシのようなC
3−C6アルキニルオキシ、ことに2−プロピニルオキ
シ。
【0074】上述したようなC1−C4アルキルチオ、こ
とにメチルチオおよびエチルチオ。
【0075】上述したようなC1−C4ハロゲンアルキル
チオ、ことにジフルオロメチルチオ、ペンタフルオロメ
チルチオおよびトリフルオロメチルチオ。
【0076】上述したようなC1−C4アルキルスルホニ
ル、ことにメチルスルホニル。
【0077】上述したようなハロゲンアルキルスルホニ
ル、ことにトリフルオロメチルスルホニル。
【0078】R1はさらに次のものを意味する。
【0079】フェノキシあるいはフェニルチオ。ただし
これらは1から3個の以下の基、すなわち上述したC1
−C4アルキル、ことにメチル、エチルおよびイソプロ
ピル、上述したC1−C4ハロゲンアルキル、ことにトリ
フルオロメチルおよびクロロジフルオロメチル、上述し
たC1−C4アルコキシ、ことにメトキシおよびエトキ
シ、上述したC1−C4ハロゲンアルコキシ、ことにトリ
フルオロメトキシ、ペンタフルオロエトキシおよびトリ
クロロメトキシ、上述したようなC1−C4アルキルチ
オ、ことにメチルおよびエチルチオ、上述したようなC
1−C4ハロゲンアルキルチオ、ことにジフルオロメチル
チオ、ペンタフルオロエチルチオおよびトリフルオロメ
チルチオ、上述したようなハロゲン、ことに弗素および
塩素、シアノあるいはニトロを持っていてもよい。
【0080】R1はさらに次のものを意味する。
【0081】2−テトラヒドロフラニル、3−テトラヒ
ドロフラニル、4−テトラヒドロフラニル、2−テトラ
ヒドロピラニル、3−テトラヒドロピラニル、3−フラ
ニル、2−チエニル、3−チエニル、2−フラニル、3
−テトラヒドロチエニル、3−フルオラニル、2−テト
ラヒドロピラニル、5−イソオキサゾリル、3−イソオ
キサゾリル、4−イソオキサゾリル、5−イソチアゾリ
ル、4−イソチアゾリル、3−イソチアゾリル、2−オ
キサゾリル、4−チアゾリル、4−オキサゾリル、2−
チアゾリル、5−オキサゾリル、5−チアゾリル、2−
イミダゾリル、4−イミダゾリル、5−イミダゾリル、
3−ピロリル、2−ピロリル、3−ピラゾリル、4−ピ
ラゾリル、5−ピラゾリル、4−ピリジル、3−ピリジ
ル、2−ピリジルのような、酸素、硫黄および窒素のう
ちから選ばれる1もしくは2個のヘテロ原子を有する5
もしくは6員のヘテロ環式基。ただし、この環は1もし
くは2個の以下の基、すなわち上述したアルキル、こと
にメチル、上述したハロゲン、ことに弗素および塩素、
上述したアルコキシ、ことにメトキシおよびエトキシ、
メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニルのような
アルコキシカルボニル、ことにメトキシカルボニルを持
っていてもよい。
【0082】R1はさらに1もしくは2個の以下の基、
すなわち上述したアルキル、ことにメチル、上述したハ
ロゲン、ことに弗素、塩素、上述したアルコキシ、こと
にメトキシ、エトキシ、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニルのようなアルコキシカルボニル、ことにメト
キシカルボニルを持っていてもよい、縮合芳香族環基で
あって、以下のベンゾフラン−2−イル、ベンゾフラン
−3−イル、イソベンゾフラン−2−イル、ベンゾチオ
フェン−2−イル、ベンゾチオフェン−3−イル、イソ
ベンゾチオフェン−2−イル、インドール−2−イル、
インドール−3−イル、1,2−ベンゾイソオキサゾー
ル−3−イル、ベンゾオキサゾール−2−イル、1,2
−ベンゾイソチアゾール−3−イル、ベンゾチアゾール
−2−イル、イミダゾール−3−イル、(1H)−ベン
ズイミダゾール−2−イル、キノール−3−イル、キノ
ール−5−イル、キノール−6−イル、キノール−8−
イル、イソキノール−1−イルおよびイソキノール−5
−イルのうちから選ばれる縮合環基を、あるいはR1
さらにベンジル、フェニルエチルのようなフェニル、フ
ェニル−C1−C4アルキルを意味する。ただしこれらフ
ェニル基は1から3個の以下の基、すなわち上述したア
ルキル、ことにメチル、エチルおよびイソプロピル、上
述したハロゲンアルキル、ことにトリフルオロメチルお
よびクロロジフルオロメチル、上述したアルコキシ、こ
とにメトキシおよびエトキシ、上述したハロゲンアルコ
キシ、ことにトリフルオロメトキシ、ペンタフルオロエ
トキシおよびトリクロロメトキシ、上述したアルキルチ
オ、ことにメチルチオおよびエチルチオ、上述したハロ
ゲンアルキルチオ、ことにジフルオロメチルチオ、ペン
タフルオロエチルチオおよびトリフルオロメチルチオ、
上述したハロゲン、ことに弗素および塩素、シアノある
いはニトロを持っていてもよい。
【0083】R2は水素、ヒドロキシを意味する。
【0084】R2はさらにR1につき上述したC1−C4
ルコキシ、ことにメトキシおよびエトキシを意味する。
【0085】R2はさらに以下のものを意味する。
【0086】R1につき上述したC1−C6アルキル、こ
とにメチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブ
チル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピルおよび
1,1−ジメチルエチル、1,1−ジメチルブチル、
1,2−ジメチルプロピル。ただしこれらは1から3個
の以下の基、すなわちシアノ、メトキシ−メトキシ、エ
トキシ−エトキシのようなアルコキシ−アルコキシ、こ
とにメトキシ−メトキシ、R1につき上述したアルコキ
シ、ことにメトキシおよびエトキシ、R1につき上述し
たハロゲンアルコキシ、ことにトリフルオロメトキシ、
1につき上述したアルキルチオ、ことにメチルチオお
よびエチルチオ、R1につき上述したハロゲンアルキル
チオ、ことにトリフルオロメチルチオ、ジアルキルアミ
ノ、ことにジメチルアミノおよびジエチルアミノ、R1
につき上述したハロゲン、ことに弗素および塩素、R1
につき上述したシクロアルキル、ことにシクロプロピ
ル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル、あるいは1
個のフェニルを持っていてもよい。このフェニル自体さ
らに1から3個の以下の基、すなわちハロゲン、シア
ノ、ニトロ、R1につき上述したアルキル、ことにメチ
ルおよびエチル、R1につき上述したハロゲンアルキ
ル、ことにトリフルオロメチル、R1につき上述したア
ルコキシ、ことにメトキシおよびエトキシ、R1につき
上述したハロゲンアルコキシ、ことにトリフルオロメト
キシ、R1につき上述したアルキルチオ、ことにメチル
チオおよびエチルチオ、R1につき上述したハロゲンア
ルキルチオ、ことにトリフルオロメチルオを持っていて
もよい。
【0087】R2はさらにR1につき上述したC3−C8
クロアルキル、ことにシクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチルおよびシクロヘキシルを意味する。ただ
しこれらは、1から3個の以下の基、すなわちR1につ
き上述したアルキル、ことにメチル、エチルおよび1−
メチルエチル、R1につき上述したハロゲンアルキル、
ことにトリフルオロメチル、R1につき上述したアルコ
キシ、ことにメトキシおよびエトキシ、R1につき上述
したハロゲンアルコキシ、ことにトリフルオロメトキ
シ、R1につき上述したハロゲン、ことに弗素および塩
素、ニトロあるいはシアノを持っていてもよい。
【0088】R2はさらにR1につき上述したC3−C6
ルケニル、ことを2−プロペニル、1−メチル−2−プ
ロペニル、1,1−ジメチル−2−プロペニルおよび2
−ブテニルを意味する。ただしこれらは、R1につき上
述したハロゲン、ことに弗素および塩素によりモノない
しトリ置換され、かつ/もしくはフェニルによりモノ置
換されていてもよい。
【0089】R2はまたR1につき上述したC3−C6アル
キニル、ことに2−プロピル、1−メチル−2−プロピ
ルおよび1,1−ジメチル−2−プロピニルを意味す
る。ただしこれらは、R1につき上述したハロゲン、こ
とに弗素および塩素によりモノないしトリ置換され、か
つ/もしくはフェニルによりモノ置換されていてもよ
い。このフェニル自体がさらに以下の1から3個の置換
基、すなわちR1につき上述したアルキル、ことにメチ
ルおよびメチル、R1につき上述したハロゲンアルキ
ル、ことにトリフルオロメチル、R1につき上述したア
ルコキシ、ことにメトキシおよびエトキシ、R1につき
上述したハロゲンアルコキシ、R1につき上述したアル
キルチオ、ことにメチルチオおよびエチルチオ、R1
つき上述したハロゲンアルキルチオ、ことにトリフルオ
ロメチルチオ、R1につき上述したハロゲン、ことに弗
素および塩素、シアノあるいはニトロを持っていてもよ
い。
【0090】R2はさらにC1−C4ジアルキルアミノ、
ことにジメチルアミノおよびジエチルアミノを意味し、
さらにR1につき上述した、酸素、硫黄および窒素のう
ちから選ばれる1もしくは2個のヘテロ原子を有する5
員もしくは6員のヘテロ環式基を意味する。ただしこの
環はR1につき上述したアルキル、ことにメチル、エチ
ルおよび1−メチルエチル、あるいはR1につき上述し
たハロゲン、ことに弗素あるいは塩素によりモノないし
トリ置換されていてもよい。
【0091】R2はさらに1もしくは2個の以下の基、
すなわち上述したアルキル、ことにメチル、上述したハ
ロゲン、ことに弗素、塩素、上述したアルコキシ、こと
にメトキシ、エトキシ、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニルのようなアルコキシカルボニル、ことにメト
キシカルボニルを持っていてもよい、縮合芳香族環基で
あって、以下のベンゾフラン−2−イル、ベンゾフラン
−3−イル、イソベンゾフラン−2−イル、ベンゾチオ
フェン−2−イル、ベンゾチオフェン−3−イル、イソ
ベンゾチオフェン−2−イル、インドール−2−イル、
インドール−3−イル、1,2−ベンゾイソオキサゾー
ル−3−イル、ベンゾオキサゾール−2−イル、1,2
−ベンゾイソチアゾール−3−イル、ベンゾチアゾール
−2−イル、イミダゾール−3−イル、(1H)−ベン
ズイミダゾール−2−イル、キノール−3−イル、キノ
ール−5−イル、キノール−6−イル、キノール−8−
イル、イソキノール−1−イルおよびイソキノール−5
−イルのうちから選ばれる縮合環基を、あるいは意味し
てもよい。
【0092】R2はさらにフェニルを意味し、これは1
から4個の以下の基、すなわちR1につき上述したアル
キル、ことにメチル、エチルおよび1−メチルエチル、
1につき上述したハロゲンアルキル、ことにトリフル
オロメチル、R1につき上述したアルコキシ、ことにエ
トキシおよびメトキシ、R1につき上述したハロゲンア
ルコキシ、ことにトリフルオロメトキシ、R1につき上
述したアルキルチオ、ことにメチルチオおよびエチルチ
オ、R1につき上述したハロゲンアルキルチオ、ことに
トリフルオロメチルチオ、R1につき上述したハロゲ
ン、ことに弗素および塩素、ニトロ、シアノ、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリルのようなC1
4アルカノイル、ことにアセチル、トリフルオロアセ
チル、トリクロロアセチル、ペンタフルオロプロピオニ
ルのようなハロゲンアルカノイル、ことにトリフルオロ
アセチル、あるいはR1につき上述したアルコキシカル
ボニル、ことにメトキシカルボニルを持っていてもよ
い。
【0093】R2はまたさらにR1につき上述したアルキ
ル、ことにメチルおよびエチルにより、あるいはR1
つき上述したハロゲン、ことに弗素および塩素によりモ
ノないしトリ置換されていてもよいナフチルを意味す
る。
【0094】本発明による除草有効化合物(Ia)およ
び(Ib)をさらに具体的に以下に示す。すなわち
【0095】
【化15】 で表され、この式中のR1が以下のものを意味する化合
物である。すなわち、水素、弗素、塩素、メチル、エチ
ル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチル
プロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチ
ル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、
3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2
−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロピル、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、1−メチル
−シクロプロピル、シクロプロピルメチル、1−(シク
ロプロピル)−エチル、クロロメチル、ジクロロメチ
ル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、トリ
フルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ジフルオロメ
チル、1−クロロエチル、2−クロロエチル、1−メチ
ル−1−クロロエチル、1−メチル−2−クロロエチ
ル、メトキシメチル、1−メチルメトキシメチル、1−
メチル−2−メトキシメチル、1−メチル−エトキシメ
チル、エトキシメチル、エテニル、1−プロペニル、2
−プロペニル、1−メチルエテニル、1−エチルエテニ
ル、2−フェニルエテニル、1−ブテニル、2−ブテニ
ル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、1−
メチル−2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニ
ル、2−プロピニル、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、1−メチルエトキシ、ブトキシ、1−メチルプロポ
キシ、1,1−ジメチルエトキシ、メチルチオ、エチル
チオ、クロロジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメチルチオ、フェニル、2−フルオロフ
ェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニ
ル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4−ク
ロロフェニル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニ
ル、4−メチルフェニル、2−トリフルオロメチルフェ
ニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4−トリフル
オロメチルフェニル、2−メトキシフェニル、3−メト
キシフェニル、4−メトキシフェニル、2,4−ジクロ
ロフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、フェノ
キシ、フェニルチオ、2−クロロフェノキシ、3−クロ
ロフェノキシ、4−クロロフェノキシ、2,4−ジクロ
ロフェノキシ、ベンジル、2−クロロベンジル、3−ク
ロロベンジル、4−クロロベンジル、2−フルオロベン
ジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロベンジル、
2−チエニル、3−チエニル、2−ピリジル、3−ピリ
ジル、4−ピリジル。
【0096】さらに他の本発明除草有効化合物(I
a)、(Ib)を具体的に示す。すなわち、以下の式
【0097】
【化16】 で表され、この式中のR1が水素、弗素、塩素、メチ
ル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1
−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメ
チルエチル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチル
ブチル、3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピ
ル、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロ
ピル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、1−メチル−シクロプロピル、シクロプロピルメチ
ル、1−(シクロプロピル)−エチル、クロロメチル、
ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロ
メチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、
ジフルオロメチル、1−クロロエチル、2−クロロエチ
ル、1−メチル−1−クロロエチル、1−メチル−2−
クロロエチル、メトキシメチル、1−メチルメトキシメ
チル、1−メチル−2−メトキシエチル、1−メチル−
エトキシメチル、エトキシメチル、エテニル、1−プロ
ペニル、2−プロペニル、1−メチルエテニル、1−エ
チルエテニル、2−フェニルエテニル、1−ブテニル、
2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペ
ニル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−2−
プロペニル、2−プロピニル、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、1−メチルエトキシ、ブトキシ、1−メチル
プロポキシ、1,1−ジメチルエトキシ、メチルチオ、
エチルチオ、クロロジフルオロメトキシ、トリフルオロ
メトキシ、トリクロロメチルチオ、フェニル、2−フル
オロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフ
ェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4
−クロロフェニル、2−メチルフェニル、3−メチルフ
ェニル、4−メチルフェニル、2−トリフルオロメチル
フェニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4−トリ
フルオロメチルフェニル、2−メトキシフェニル、3−
メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2,4−ジ
クロロフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、フ
ェノキシ、フェニルチオ、2−クロロフェノキシ、3−
クロロフェノキシ、4−クロロフェノキシ、2,4−ジ
クロロフェノキシ、ベンジル、2−クロロベンジル、3
−クロロベンジル、4−クロロベンジル、2−フルオロ
ベンジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロベンジ
ル、2−チエニル、3−チエニル、2−ピリジル、3−
ピリジル、4−ピリジルを意味する化合物である。
【0098】さらに他の本発明除草有効化合物(I
a)、(Ib)を具体的に示す。すなわち、以下の式
【0099】
【化17】 で表され、この式中のR1が水素、弗素、塩素、メチ
ル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1
−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメ
チルエチル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチル
ブチル、3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピ
ル、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロ
ピル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、1−メチル−シクロプロピル、シクロプロピルメチ
ル、1−(シクロプロピル)−エチル、クロロメチル、
ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロ
メチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、
ジフルオロメチル、1−クロロエチル、2−クロロエチ
ル、1−メチル−1−クロロエチル、1−メチル−2−
クロロエチル、メトキシメチル、1−メチルメトキシメ
チル、1−メチル−2−メトキシエチル、1−メチル−
エトキシメチル、エトキシメチル、エテニル、1−プロ
ペニル、2−プロペニル、1−メチルエテニル、2−フ
ェニルエテニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブ
テニル、1−メチル−1−プロペニル、1−メチル−2
−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、2−プロ
ピニル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、1−メチル
エトキシ、ブトキシ、1−メチルプロポキシ、1,1−
ジメチルエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、クロロジ
フルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロ
メチルチオ、フェニル、2−フルオロフェニル、3−フ
ルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフ
ェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2
−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフ
ェニル、2−トリフルオロメチルフェニル、3−トリフ
ルオロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニ
ル、2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニル、4
−メトキシフェニル、2,4−ジクロロフェニル、2,
4,6−トリメチルフェニル、フェノキシ、フェニルチ
オ、2−クロロフェノキシ、3−クロロフェノキシ、4
−クロロフェノキシ、2−フルオロベンジル、3−フル
オロベンジル、4−フルオロベンジル、2−チエニル、
3−チエニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリ
ジルを意味する場合の化合物である。
【0100】さらに他の本発明除草有効化合物(I
a)、(Ib)を具体的に示す。すなわち、以下の式
【0101】
【化18】 で表され、この式中のR1が水素、弗素、塩素、メチ
ル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1
−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメ
チルエチル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチル
ブチル、3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピ
ル、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロ
ピル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、1−メチル−シクロプロピル、シクロプロピルメチ
ル、1−(シクロプロピル)−エチル、クロロメチル、
ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロ
メチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロメチル、
ジフルオロメチル、1−クロロエチル、2−クロロエチ
ル、1−メチル−1−クロロエチル、1−メチル−2−
クロロエチル、メトキシメチル、1−メチルメトキシメ
チル、1−メチル−2−メトキシエチル、1−メチル−
エトキシメチル、エトキシメチル、エテニル、1−プロ
ペニル、2−プロペニル、1−メチルエテニル、1−エ
チルエテニル、2−フェニルエテニル、1−ブテニル、
2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペ
ニル、1−メトキシ−2−プロペニル、2−メチル−2
−プロペニル、2−プロピニル、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、1−メチルエトキシ、ブトキシ、1−メチ
ルプロポキシ、1,1−ジメチルエトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、クロロジフルオロメトキシ、トリフル
オロメトキシ、トリクロロメチルチオ、フェニル、2−
フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオ
ロフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニ
ル、4−クロロフェニル、2−メチルフェニル、3−メ
チルフェニル、4−メチルフェニル、2−トリフルオロ
メチルフェニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4
−トリフルオロメチルフェニル、2−メトキシフェニ
ル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、
2,4−ジクロロフェニル、2,4,6−トリメチルフ
ェニル、フェニルチオ、2−クロロフェノキシ、3−ク
ロロフェノキシ、4−クロロフェノキシ、2,4−ジク
ロロフェノキシ、ベンジル、2−クロロベンジル、3−
クロロベンジル、4−クロロベンジル、2−フルオロベ
ンジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロベンジ
ル、2−チエニル、3−チエニル、2−ピリジル、3−
ピリジル、4−ピリジルを意味する場合の化合物であ
る。
【0102】本発明のさらに他の除草有効化合物(I
a)、(Ib)の具体例を示す。すなわち、以下の式
【0103】
【化19】 で表され、式中R1が水素、弗素、塩素、メチル、エチ
ル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチル
プロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチ
ル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、
3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2
−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロピル、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、1−メチル
−シクロプロピル、シクロプロピルメチル、1−(シク
ロプロピル)−エチル、クロロメチル、ジクロロメチ
ル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、トリ
フルオロメチル、ペンタフルオロメチル、ジフルオロメ
チル、1−クロロエチル、2−クロロエチル、1−メチ
ル−1−クロロエチル、1−メチル−2−クロロエチ
ル、メトキシメチル、1−メチルメトキシメチル、1−
メチル−2−メトキシエチル、1−メチルエトキシメチ
ル、エトキシメチル、エテニル、1−プロペニル、2−
プロペニル、1−メチルエトキシメチル、エトキシメチ
ル、エテニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1−
メチルエテニル、1−エチルエテニル、2−フェニルエ
テニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、
1−メチル−1−プロペニル、1−メチル−2−プロペ
ニル、2−メチル−2−プロペニル、2−プロピニル、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、1−メチルエトキ
シ、ブトキシ、1−メチルプロポキシ、1,1−ジメチ
ルエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、クロロジフルオ
ロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメチル
チオ、フェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロ
フェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニ
ル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−メ
チルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニ
ル、2−トリフルオロメチルフェニル、3−トリフルオ
ロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、
2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニル、4−メ
トキシフェニル、2,4−ジクロロフェニル、2,4,
6−トリメチルフェニル、フェノキシ、フェニルチオ、
2−クロロフェノキシ、3−クロロフェノキシ、4−ク
ロロフェノキシ、2,4−ジクロロフェノキシ、ベンジ
ル、2−クロロベンジル、3−クロロベンジル、4−ク
ロロベンジル、2−フルオロベンジル、3−フルオロベ
ンジル、4−フルオロベンジル、2−チエニル、3−チ
エニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジルを
意味する場合の化合物である。
【0104】本発明による除草有効化合物(Ia)、
(Ib)のさらに他の具体例を示す。すなわち、以下の
【0105】
【化20】 で表され、式中R1が水素、弗素、塩素、メチル、エチ
ル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチル
プロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチ
ル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、
3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2
−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロピル、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、1−メチル
−シクロプロピル、シクロプロピルメチル、1−(シク
ロプロピル)−エチル、クロロメチル、ジクロロメチ
ル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、トリ
フルオロメチル、ペンタフルオロメチル、ジフルオロメ
チル、1−クロロエチル、2−クロロエチル、1−メチ
ル−1−クロロエチル、1−メチル−2−クロロエチ
ル、メトキシメチル、1−メチルメトキシメチル、1−
メチル−2−メトキシエチル、1−メチル−エトキシメ
チル、エトキシメチル、エテニル、1−プロペニル、2
−プロペニル、1−メチルエトキシメチル、エトキシメ
チル、エテニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1
−メチルエテニル、1−エチルエテニル、2−フェニル
エテニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニ
ル、1−メチル−1−プロペニル、1−メチル−2−プ
ロペニル、2−メチル−2−プロペニル、2−プロピニ
ル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、1−メチルエト
キシ、ブトキシ、1−メチルプロポキシ、1,1−ジメ
チルエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、クロロジフル
オロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメチ
ルチオ、フェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオ
ロフェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニ
ル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−メ
チルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニ
ル、2−トリフルオロメチルフェニル、3−トリフルオ
ロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、
2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニル、4−メ
トキシフェニル、2,4−ジクロロフェニル、2,4,
6−トリメチルフェニル、フェノキシ、フェニルチオ、
2−クロロフェノキシ、3−クロロフェノキシ、4−ク
ロロフェノキシ、2,4−ジクロロフェノキシ、ベンジ
ル、2−クロロベンジル、3−クロロベンジル、4−ク
ロロベンジル、2−フルオロベンジル、3−フルオロベ
ンジル、4−フルオロベンジル、2−チエニル、3−チ
エニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジルを
意味する場合の化合物である。
【0106】次に本発明による除草有効化合物(Ic)
の具体例を示す。すなわち、以下の式
【0107】
【化21】 で表され、式中R1が水素、弗素、塩素、シアノ、メチ
ル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1
−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメ
チルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジ
メチルプロピル、シクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロ
オクチル、1−メチル−シクロプロピル、シクロプロピ
ルメチル、1−(シクロプロピル)−エチル、クロロメ
チル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロロジフ
ルオロメチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエ
チル、ジフルオロメチル、1−クロロエチル、2−クロ
ロエチル、1−メチル−1−クロロエチル、1−メチル
−2−クロロエチル、メトキシメチル、1−メチルメト
キシメチル、1−メチル−2−メトキシエチル、1−メ
チルエトキシメチル、エトキシメチル、エテニル、1−
プロペニル、2−プロペニル、1−メチルエトキシメチ
ル、エトキシメチル、エテニル、1−プロぺニル、2−
プロペニル、1−メチルエテニル、1−エチルエテニ
ル、2−フェニルエテニル、1−ブテニル、2−ブテニ
ル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、1−
メチル−2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニ
ル、2−プロピニル、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、1−メチルエトキシ、ブトキシ、1−メチルプロポ
キシ、1,1−ジメチルエトキシ、メチルチオ、エチル
チオ、クロロジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメチルチオ、フェニル、2−フルオロフ
ェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニ
ル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4−ク
ロロフェニル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニ
ル、4−メチルフェニル、2−トリフルオロメチルフェ
ニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4−トリフル
オロメチルフェニル、2−メトキシフェニル、3−メト
キシフェニル、4−メトキシフェニル、2,4−ジクロ
ロフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、フェノ
キシ、フェニルチオ、2−クロロフェノキシ、3−クロ
ロフェノキシ、4−クロロフェノキシ、2,4−ジクロ
ロフェノキシ、ベンジル、2−クロロベンジル、3−ク
ロロベンジル、4−クロロベンジル、2−フルオロベン
ジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロベンジル、
2−チエニル、3−チエニル、2−ピリジル、3−ピリ
ジル、4−ピリジルを意味する場合の化合物である。
【0108】さらに他の本発明による除草有効化合物
(Ic)の具体例を示す。すなわち、以下の式
【0109】
【化22】 で表され、式中R1が水素、弗素、塩素、シアノ、メチ
ル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1
−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメ
チルエチル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチル
ブチル、3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピ
ル、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロ
ピル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、1−メチル−シクロプロピル、シクロプロピルメチ
ル、1−(シクロプロピル)−エチル、クロロメチル、
ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロ
メチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、
ジフルオロメチル、1−クロロエチル、2−クロロエチ
ル、1−メチル−1−クロロエチル、1−メチル−2−
クロロエチル、メトキシメチル、1−メチルメトキシメ
チル、1−メチル−2−メトキシエチル、1−メチルエ
トキシメチル、エトキシメチル、エテニル、1−プロペ
ニル、2−プロペニル、1−メチルエトキシメチル、エ
トキシメチル、エテニル、1−プロぺニル、2−プロペ
ニル、1−メチルエテニル、1−エチルエテニル、2−
フェニルエテニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−
ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、1−メチル−
2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、2−プ
ロピニル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、1−メチ
ルエトキシ、ブトキシ、1−メチルプロポキシ、1,1
−ジメチルエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、クロロ
ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロ
ロメトキシ、トリクロロメチルチオ、フェニル、2−フ
ルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロ
フェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、
4−クロロフェニル、2−メチルフェニル、3−メチル
フェニル、4−メチルフェニル、2−トリフルオロメチ
ルフェニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4−ト
リフルオロメチルフェニル、2−メトキシフェニル、3
−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2,4−
ジクロロフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、
フェノキシ、フェニルチオ、2−クロロフェノキシ、3
−クロロフェノキシ、4−クロロフェノキシ、2,4−
ジクロロフェノキシ、ベンジル、2−クロロベンジル、
3−クロロベンジル、4−クロロベンジル、2−フルオ
ロベンジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロベン
ジル、2−チエニル、3−チエニル、2−ピリジル、3
−ピリジル、4−ピリジルを意味する場合の化合物であ
る。
【0110】本発明による除草有効化合物(Ic)の他
の具体例を示す。すなわち、以下の式
【0111】
【化23】 で表され、式中R1が水素、弗素、塩素、シアノ、メチ
ル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1
−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメ
チルエチル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチル
ブチル、3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピ
ル、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロ
ピル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、1−メチル−シクロプロピル、シクロプロピルメチ
ル、1−(シクロプロピル)−エチル、クロロメチル、
ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロ
メチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、
ジフルオロメチル、1−クロロエチル、2−クロロエチ
ル、1−メチル−1−クロロエチル、1−メチル−2−
クロロエチル、メトキシメチル、1−メチルメトキシメ
チル、1−メチル−2−メトキシエチル、1−メチルエ
テニル、1−エチルエテニル、2−フェニルエテニル、
1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチ
ル−1−プロペニル、1−メチル−2−プロペニル、2
−メチル−2−プロペニル、2−プロピニル、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、1−メチルエトキシ、ブト
キシ、1−メチルプロポキシ、1,1−ジメチルエトキ
シ、メチルチオ、エチルチオ、クロロジフルオロメトキ
シ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメチルチオ、フ
ェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニ
ル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニル、3−
クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−メチルフェ
ニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2−
トリフルオロメチルフェニル、3−トリフルオロメチル
フェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、2−メト
キシフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフ
ェニル、2,4−ジクロロフェニル、2,4,6−トリ
メチルフェニル、フェノキシ、フェニルチオ、2−クロ
ロフェノキシ、3−クロロフェノキシ、4−クロロフェ
ノキシ、2,4−ジクロロフェノキシ、ベンジル、2−
クロロベンジル、3−クロロベンジル、4−クロロベン
ジル、2−フルオロベンジル、3−フルオロベンジル、
4−フルオロベンジル、2−チエニル、3−チエニル、
2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジルを意味する
場合の化合物である。
【0112】さらに他の本発明化合物(Ic)の具体例
を以下に示す。すなわち以下の式
【0113】
【化24】 で表され、式中R2がメチル、エチル、プロピル、1−
メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチ
ルプロピル、1,1−ジメチルエチル、ペンチル、1−
メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、
1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロピ
ル、2,2−ジメチルプロピル、1−エチルプロピル、
ヘキシル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、
3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、1,1−ジ
メチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメ
チルブチル、2,2−ジメチルブチル、2,3−ジメチ
ルブチル、3,3−ジメチルブチル、1−エチルブチ
ル、2−エチルブチル、1,1,2−トリメチルプロピ
ル、1−エチル−1−メチルプロピル、1−エチル−2
−メチルプロピル、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シク
ロオクチル、1−メチルシクロプロピル、シクロプロピ
ルメチル、1−(シクロプロピル)−エチル、1−メチ
ルシクロヘキシル、1−エチルシクロヘキシル、シクロ
ヘキシルメチル、2−プロペニル、1−メチル−2−プ
ロペニル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、2−プ
ロピニル、1−メチル−2−プロピニル、1,1−ジメ
チルプロピニル、フェニルメチル、1−メチルフェニル
メチル、1,1−ジメチルフェニルメチル、 2−フェ
ニルメチル、2−メチルチオエチル、1−メチル−2−
メチルチオエチル、1,1−ジメチル−2−メチルチオ
エチル、1−メチル−2−メチルチオエチル、1,1−
ジメチル−2−メチルチオエチル、3−メチルチオプロ
ピル、2−フルオロエチル、2−フルオロ−1−メチル
エチル、1,1−ジメチル−2−フルオロエチル、2−
クロロエチル、2−クロロ−1−メチルエチル、2−ク
ロロ−1,1−ジメチル−2−フルオロエチル、2−ク
ロロエチル、2−クロロ−1−メチルエチル、2−クロ
ロ−1,1−ジメチルエチル、2−メトキシエチル、2
−メトキシ−1−メチルエチル、1,1−ジメチル−2
−メトキシエチル、3−メトキシプロピル、2−シアノ
エチル、2−シアノ−1−メチルエチル、2−シアノ−
1,1−ジメチルエチル、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、モルホリノ、ピペリジノ、フェニル、2−メチル
フェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、
2−エチルフェニル、3−エチルフェニル、4−エチル
フェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチ
ルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメ
チルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジ
メチルフェニル、2,3,4−トリメチルフェニル、
2,3,5−トリメチルフェニル、2,4,5−トリメ
チルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、3,
4,5−トリメチルフェニル、2−トリフルオロメチル
フェニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4−トリ
フルオロメチルフェニル、2−フルオロフェニル、3−
フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロ
フェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、
2,3−ジフルオロフェニル、2,4−ジフルオロフェ
ニル、2,5−ジフルオロフェニル、2,6−ジフルオ
ロフェニル、2,3−ジクロロフェニル、2,4−ジク
ロロフェニル、2,5−ジクロロフェニル、2,6−ジ
クロロフェニル、2,3,4−トリクロロフェニル、
2,3,5−トリクロロフェニル、2,4,6−トリク
ロロフェニル、3,4,5−トリクロロフェニル、2−
シアノフェニル、3−シアノフェニル、4−シアノフェ
ニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、
2,3−ジメトキシフェニル、2,4−ジメトキシフェ
ニル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6−ジメトキ
シフェニル、3,4−ジメトキシフェニル、3,5−ジ
メトキシフェニル、3,4,5−ジメトキシフェニル、
2−トリフルオロメトキシフェニル、3−トリフルオロ
メトキシフェニル、4−トリフルオロメトキシフェニ
ル、2−ニトロフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニ
トロフェニル、2,3−ジニトロフェニル、2,4−ジ
ニトロフェニル、2,5−ジニトロフェニル、2,6−
ジニトロフェニル、3,4−ジニトロフェニル、3,5
−ジニトロフェニル、1−ナフチル、3−テトラヒドロ
フリル、4−テトラヒドロフリル、2−チアゾリルを表
す場合の化合物である。
【0114】上述したR1およびR2の定義は、オキサゾ
ールもしくはチアゾール−4,5−ジカルボン酸イミド
において、記載された組合わせ以外のものと相互に組合
わされ得る。
【0115】式(Ia)、(Ib)、(Ic)の化合物
の塩としては、農業的に使用され得る塩、例えばカリウ
ム塩、ナトリウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウ
ム塩、マグネシウム塩、バリウム塩のようなアルカリ土
類金属塩、マンガン、銅、亜鉛、鉄の各塩、アンモニウ
ム、ホスホニウム、スルホニウム、スルホキソニウムの
各塩、例えばアンモニウム塩、テトラアルキルアンモニ
ウム塩、ベンジルトリアルキルアンモニウム塩、トリア
ルキルスルホニウム塩、トリアルキルスルホキソニウム
塩などが挙げられる。
【0116】本発明による除草性化合物又はこれを含有
する除草剤は例えば直接的に噴霧可能な溶液、粉末、懸
濁液、更にまた高濃度の水性又は油性又はその他の懸濁
液又は分散液、エマルジョン、油性分散液、ペースト、
ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で噴霧、ミスト法、ダス
ト法、散布法又は注入法によって適用することができ
る。適用形式は、完全に使用目的に基づいて決定され
る;いずれの場合にも、本発明の有効物質の可能な限り
の微細分が保証されるべきである。
【0117】化合物は通常直接飛散可能の溶液、乳濁
液、ペースト又は油分散液を製造するために適する。不
活性な添加物として中位乃至高位の沸点の鉱油留分例え
ば燈油又はディーゼル油、更にコールタール油等、並び
に植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、環状及び芳香
族炭化水素例えばトルオール、キシロール、パラフィ
ン、テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタリン
又はその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサノ
ン、クロルベンゾール、イソフォロン等、強極性溶剤例
えばN,N−ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフ
ォキシド、N−メチルピロリドン、水が使用される。
【0118】水性使用形は乳濁液濃縮物、分散液、ペー
スト、湿潤可能の粉末又は水分散可能な顆粒より水の添
加により製造することができる。乳濁液、ペースト又は
油分散液を製造するためには、物質はそのまま又は油又
は溶剤中に溶解して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化
剤により水中に均質に混合されることができる。しかも
有効物質、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場合
により溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもで
き、これは水にて希釈するのに適する。
【0119】表面活性物質としては次のものが挙げられ
る:リグニンスルフォン酸、ナフタリンスルフォン酸、
フェノールスルフォン酸及びジブチルナフタリンスルフ
ォン酸等の芳香族スルフォン酸並びに脂肪酸の各アルカ
リ塩、アルカリ土類塩、アンモニウム塩、アルキルスル
フォナート、アルキルアリールスルフォナート、アルキ
ルスルファート、ラウリルエーテルスルファート、脂肪
アルコールスルファート、並びに硫酸化ヘキサデカノー
ル、ヘプタデカノール及びオクタデカノールの塩、並び
に脂肪アルコールグリコールエーテルの塩、スルフォン
化ナフタリン及びナフタリン誘導体とフォルムアルデヒ
ドとの縮合生成物、ナフタリン或はナフタリンスルフォ
ン酸とフェノール及びフォルムアルデヒドとの縮合生成
物、ポリオキシエチレン−オクチルフェノールエーテ
ル、エトキシル化イソオクチルフェノール、オクチルフ
ェノール、ノニルフェノール、アルキルフェノールポリ
グリコールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコー
ルエーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコー
ル、イソトリデシルアルコール、脂肪アルコールエチレ
ンオキシド−縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル、又はポリオキシプロピレ
ン、ラウリルアルコールポリグリコールエーテルアセタ
ート、ソルビットエステル、リグニン−亜硫酸廃液及び
メチル繊維素。
【0120】粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と
固状担体物質とを混合又は一緒に磨砕することにより製
造することができる。
【0121】粒状体例えば被覆−、透浸−及び均質粒状
体は、有効物質を固状担体物質に結合することにより製
造することができる。固状担体物質は例えば鉱物土例え
ば珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、石灰石、
石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、粘土、白雲
石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化
マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫酸アンモニ
ウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素及び
植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びクルミ穀
粉、繊維素粉末及び他の固状担体物質である。
【0122】使用形は有効物質を通常0.1乃至95重
量%殊に0.5乃至90重量%を含有する。この際有効
物質は純度90〜100%、好ましくは95〜100%
(NMRスペクトルによる)で使用される。
【0123】調剤は0.1から95重量%、ことに0.
5から90重量%の有効物質を含有する。この場合、有
効物質の純度は90から100%、ことに95から10
0%のものが使用される(NMRスペクトルによる)。
【0124】本発明による化合物1の製剤例は以下の通
りである。
【0125】I.90重量部の化合物1.001を、N
−メチル−α−ピロリドン10重量部と混合する時は、
極めて小さい滴の形にて使用するのに適する溶液が得ら
れる。
【0126】II.20重量部の化合物4.003を、
キシロール80重量部、エチレンオキシド8乃至10モ
ルをオレイン酸−N−モノエタノールアミド1モルに付
加した付加生成物10重量部、ドデシルベンゾールスル
フォン酸のカルシウム塩5重量部及びエチレンオキシド
40モルをヒマシ油1モルに付加した付加生成物5重量
部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を水1000
00重量部に注入しかつ細分布することにより有効成分
0.02重量%を含有する水性分散液が得られる。
【0127】III.20重量部の化合物1.001
を、シクロヘキサノン40重量部、イソブタノール30
重量部、エチレンオキシド7モルをイソオクチルフエノ
ール1モルに付加した付加生成物20重量部及びエチレ
ンオキシド40モルをヒマシ油1モルに付加した付加生
成物10重量部よりなる混合物中に溶解する。この溶液
を水100000重量部に注入しかつ細分布することに
より有効成分0.02重量%を含有する水性分散液が得
られる。
【0128】IV.20重量部の化合物4.003をシ
クロヘキサノン25重量部、沸点210乃至280℃の
鉱油留分65重量部及びエチレンオキシド40モルをヒ
マシ油1モルに付加した付加生成物10重量部よりなる
混合物中に溶解する。この溶液を水100000重量部
に注入しかつ細分布することにより有効成分0.02重
量%を含有する水性分散液が得られる。
【0129】V.20重量部の化合物1.001を、ジ
イソブチル−ナフタリン−α−スルフォン酸のナトリウ
ム塩3重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォン
酸のナトリウム塩17重量部及び粉末状珪酸ゲル60重
量部と充分に混和し、かつハンマーミル中において磨砕
する。この混合物を水20000重量部に細分布するこ
とにより有効成分0.1重量%を含有する噴霧液が得ら
れる。
【0130】VI.3重量部の化合物1.001を、細
粒状カオリン97重量部と密に混和する。かくして有効
物質3重量%を含有する噴霧剤が得られる。
【0131】VII.30重量部の化合物4.003
を、粉末状珪酸ゲル92重量部及びこの珪酸ゲルの表面
上に吹きつけられたパラフィン油8重量部よりなる混合
物と密に混和する。かくして良好な接着性を有する有効
物質の製剤が得られる。
【0132】VIII.20重量部の化合物4.003
を、ドデシルベンゾールスルフォン酸のカルシウム塩2
重量部、脂肪アルコールポリグリコールエーテル8重量
部、フェノール−尿素−フォルムアルデヒド−縮合物の
ナトリウム塩2重量部及びパラフィン系鉱油68重量部
と密に混和する。安定な油状分散液が得られる。
【0133】除草剤および植物成長制御剤もしくは有効
物質の施与は、事前処理法、事後処理法のいずれによっ
ても行われ得る。有効物質が特定の栽培植物に対して多
少の影響を及ぼす場合、この除草剤は噴霧器を使用して
敏感な栽培植物の葉になるべくかからないように、しか
しながらその下方において成長している好ましからざる
植物の葉あるいは露出している土壌表面には十分に施さ
れるようにする。
【0134】除草剤として使用される場合の使用量は、
その施与の目的、季節、対象植物の種類および成長段階
に応じて相違するが、一般的1ヘクタール当たり有効物
質(a、s)を0.001から3kg、ことに0.01
から2kgの範囲である。
【0135】雑草防除の有効範囲、栽培植物による容認
性、その成長に対する好ましい影響力、ならびに施与方
法の多様性にかんがみて、本発明化合物は多様な栽培植
物に使用され得る。例えば以下の植物のために使用され
る。タマネギ(Allium cepa) パイナップル(Ananas comosus) ナンキンマメ(Arachis hypogaea) アスパラガス(Asparagus officina
lis) フダンソウ(Beta vulgaris spp.a
ltissima) サトウジシヤ(Beta vulgaris spp.
rapa) ブラシーカ ナパス(変種ナパス)(Brassica
napus var.napus) ブラシーカ ナパス(変種ナポブラシーカ)(Bras
sica napusvar.napobrassic
a) ブラシーカ ラパ(変種シルベストリス)(Brass
ica rapavar.silvestris) トウツバキ(Camellia sinensis) ベニバナ(Carthamus tinctoriu
s) キヤリーヤイリノイネンシス(Carya illin
oinensis) マルブシユカン(Citrus limon) ナツミカン(Citrus sinensis) コーヒーノキ〔Coffea arabica(Cof
fea canephora,Coffea libe
rica)〕 キユウリ(Cucumis sativus) ギヨウギシバ(Cynodon dactylon) ニンジン(Daucus carota) アブラヤミ(Elaeis guineensis) イチゴ(Fragaria vesca) 大豆(Glvcine max) 木棉〔Gossypium hirsutum(Gos
sypiumarboreum Gossypium herbaceum Gossy
piumvitifolium)〕 ヒマワリ(Helianthus annuus) ゴムノキ(Heveabrasilinsis) 大麦(Hordeum vulgare) カラハナソウ(Humulus lupulus) アメリカイモ(Ipomoea batatas) オニグルミ(Juglans regia) レンズマメ(Lens culinaris) アマ(Linum usitatissimum) トマト(Lycopersicon lycopers
icum) リンゴ属(Malus spp.) キヤツサバ(Manihot esculenta) ムラサキウマゴヤシ(Medicago sativ
a) バシヨウ属(Musa spp.) タバコ〔Nicotiana tabacum(N.r
ustica)〕 オリーブ(Olea europaea) イネ(Oryza sativa) アズキ(Phaseolus lunatus) ゴガツササゲ(Phaseolus vulgari
s) トウヒ(Picea abies) マツ属(Pinus spp.) シロエンドウ(Pisum sativum) サクラ(Prunus avium) プルヌス ダルシス(Prunus dulcis) モモ(Prunus Persica) ナシ(Pyrus communis) サグリ(Ribes sylvestre) トウゴマ(Ricinus communis) サトウキビ(Saccharum officinar
um) ライムギ(Secale cereale) ジヤガイモ(Solanum tuberosum) モロコシ〔Sorghum bicolor(s.vu
lgare)〕 カカオノキ(Theobroma cacao) ムラサキツユクサ(Trifolium praten
se) 小麦(Triticum aestivum) トリテイカム、ドラム(Triticum duru
m) ソラマメ(Vicia faba) ブドウ(Vitis vinifera) トウモロコシ(Zea mays)有効範囲を拡大し、
相乗効果を達成するため、本発明による新規化合物
(I)は、これら相互に、また他の除草剤ないし成長制
御剤と混合し、同時に施与することができる。混合され
得る化合物の例としては、例えばジアジン、4H−3,
1−ベンズオキサジン誘導体、ベンゾチアジアシノン、
2,6−ジニトリロアニリン、N−フェニルカルバメー
ト、チオカルバメート、ハロゲンカルボン酸、トリアジ
ン、アミド、尿素、ジフェニルエーテル、トリアジノ
ン、ウラジル、ベンゾフラン誘導体、シクロヘキサン−
1,3−ジオン誘導体、キノリンカルボン酸誘導体、ス
ルホニル尿素誘導体、(ヘテロ)−アリールオキシ−フ
ェノキシプロピオン酸、その塩、エステル、アミドなど
が挙げられる。
【0136】さらに、化合物(I)のみでも、あるいは
他の除草剤あるいは植物防護剤と組せてでも使用可能で
ある。例えば広義の害虫防除剤、植物病原菌ないしバク
テリア防除剤である。ことに注目すべきは微量要素ない
し栄養欠乏状態を処置するための鉱物塩溶液とも混合可
能であり、また植物に対して無毒の各種の油を添加する
こともできる。
【0137】以下の実施例により本発明化合物(I)の
製造方法を詳述する。
【0138】(1)化合物(Ia)およ び(Ib)の製
N−tert−ブチル−3 −イソプロピル−イソオキ
ゾール−4,5− ジカルボキシイミド 200ミリリットルのジクロロメタ
ン中、5.1g(20ミリモル)の5−tert−ブチ
ルアミノカルボニル−3−イソプロピル−イソオキサゾ
ール−4−カルボン酸に、−5℃において順次に7.5
g(74.1ミリモル)のメチルモルホリン、2.4g
(20ミリモル)のジメチルアミノピリジンおよびジク
ロロメタン中17.4g(27.3ミリモル)の50%
溶液を滴下し、次いで6時間還流加熱した。真空下に溶
媒を蒸散除去し、残渣を300ミリリットルのエチルア
セテートに投入し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で2
回、くえん酸5%溶液、飽和炭酸ナトリウム溶液および
飽和塩化ナトリウム溶液で各1回ずつ抽出した。有機相
を乾燥し、溶媒を真空下に蒸散除去した。これにより
4.1g(87%)のN−tert−ブチル−3−イソ
プロピル−イソオキサゾール−4,5−ジカルボキシイ
ミドを融点60−62℃の固体分として得た(化合物番
号1.003)。
【0139】100ミリリットルの無水トルエン中、
8.5g(45.3ミリモル)のクロロマレイン酸−t
ert−ブチルイミドに、1℃において100ミリリッ
トルのトルエン中、5.5g(45.3ミリモル)の2
−メチルプロピルヒドロキシアミルクロライドを添加し
た。次いで0℃において9.6g(94.9ミリモル)
のトリエチルアミンを滴下し、室温において12時間撹
拌した。濾別し、濾液を10%HClで抽出し、有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を真空下に蒸散除去
した。これにより7.9g(74%)のN−tert−
ブチル−3−イソプロピル−イソオキサゾール−4,5
−ジカルボキシイミド(物性は上記参照)を得た。
【0140】N−tert−ブチル −3−イソプロピル
−イソ チアゾール−4,5−ジカ ルボキシイミド 200ミリリットルのジクロロメタン中、5.4g(2
0ミリモル)の5−tert−ブチルアミノカルボニル
−3−イソプロピル−イソチアゾール−4−カルボン酸
に、−5℃において順次に7.5g(74.1ミリモ
ル)のメチルモルホリン、2.4g(20ミリモル)の
ジメチルアミノピリジンおよび17.4g(27.3ミ
リモル)のプロパンホスホン酸無水物の50%ジクロロ
メタン溶液を滴下し、次いで6時間還流加熱した。化合
物番号1.003につき上述したと同様の後処理をし
て、4.8g(95%)のN−tert−ブチル−3−
イソプロピル−イソチアゾール−4,5−ジカルボキシ
イミド(化合物番号3.001)を融点52−53℃の
固体分として得た。
【0141】N−tert−ブチル −5−メチルイソオ
キサゾ ール−3,4−ジカルボキ シイミド 150ミリリットルのジクロロメタン中、3.8g(1
6.8ミリモル)の3−tert−ブチルアミノカルボ
ニル−5−メチルイソオキサゾール−4−カルボン酸
に、−5℃において順次に6.3g(62.2ミリモ
ル)のメチルモルホリン、2.4g(20ミリモル)の
ジメチルアミノピリジンおよび14.6g(23ミリモ
ル)のプロパンホスホン酸無水物の50%ジクロロメタ
ン溶液を滴下し、次いで6時間還流加熱した。上述と同
様の後処理して3.2g(91%)のN−tert−ブ
チル−5−メチルイソオキサゾール−3,4−ジカルボ
ン酸イミド(化合物番号2.001)を融点48−50
℃の固体分として得た。
【0142】同様にしてさらにこれから以下の構造式を
有する、さらに他の本発明化合物を得た。
【0143】
【化25】 式中のXは酸素あるいは硫黄を意味し、R1については
下表のQ1からQ104の基を意味し、R2については下表
のM1からM145の基を意味し、X、QおよびMは任意に
組合わされる。
【0144】
【表1】
【0145】
【表2】
【0146】
【表3】
【0147】
【表4】
【0148】
【表5】
【0149】
【表6】
【0150】
【表7】
【0151】
【表8】 (2)化合物(Ic)の前駆化 合物の製造 4(5)−t−ブチルアミ ノカルボニル−2−メチル
アゾール− 5(4)−カルボン酸 4(5)−エトキシカルボ ニル−2−メチルチアゾー
−5(4)−カルボン酸 300ミリリットル中、51.8g(0.213モル)
の2−メチルチアゾール−4,5−ジカルボン酸ジエチ
ルエステルの溶液に、0℃において100ミリリットル
の水中、8.5g(0.213モル)の水酸化ナトリウ
ムの溶液を滴下し、室温で12時間撹拌し、次いで真空
下に溶媒を蒸散除去し、残渣を100ミリリットルのエ
ーテルおよび200ミリリットルの水の中に投入した。
相分離し、水性相を濃HClでpH1に調整した。油状
析出生成物をCH2Cl2で抽出し、単離した。収量3
4.8g(76%)、3:2の異性体混合物として。
【0152】4−エトキシカルボニル−2−メチルチア
ゾール−5−カルボン酸(主構成分)
【0153】
【外1】 5−エトキシカルボニル−2−メチルチアゾール−5−
カルボン酸(副構成分)
【0154】
【外2】 4(5)−t−ブチルアミ ノカルボニル−2−メチル
アゾール− 5(4)−カルボン酸エチ ルエステル 50ミリリットルのトルエン中、8g(37.2ミリモ
ル)の4(5)−エトキシカルボニル−2−メチルチア
ゾール−5(4)−カルボン酸溶液に、3.20g(4
0.9ミリモル)のピリジンを添加した。30分間撹拌
してから、4.70g(39.8ミリモル)のチオニル
クロライドを添加し、この混合物を60℃で2時間撹拌
し、次いで0℃に冷却し、8g(110ミリモル)のt
−ブチルアミンを添加した。室温で12時間後撹拌し、
真空下に溶媒を蒸散除去して、残渣を100ミリリット
ルのエーテルおよび50ミリリットルの水に投入した。
さらに100ミリリットルのエーテルで抽出し、合併抽
出液を乾燥し、溶媒を除去した。残渣として9.70g
(97%)の生成物を結晶体(3:2の異性体混合物)
として得た。
【0155】5−t−ブチルアミノカルボニル−2−メ
チルチアゾール−4−カルボン酸エチルエステル(主構
成分)
【0156】
【外3】 4−t−ブチルアミノカルボニル−2−メチルチアゾー
ル−5−カルボン酸エチルエステル(副構成分)
【0157】
【外4】 4(5)−t−ブチルアミ ノカルボニル−2−メチル
アゾール− 5(4)−カルボン酸 100ミリリットルのエタノール中、9.70g(3
5.9ミリモル)の4(5)−t−ブチルアミノカルボ
ニル−2−メチルチアゾール−5(4)−カルボン酸エ
チルエステルの溶液に、20ミリリットルの水中、1.
70g(43.1ミリモル)の水酸化ナトリウムを添加
した。これを2時間還流加熱し、溶媒を真空下に除去
し、残渣を100ミリリツトルの水および50ミリリッ
トルのエーテルに投入した。相分離して、水性相を10
%塩酸によりpH1に調整し、抽出生成物(3:2の異
性体混合物)を吸引濾別し、乾燥した。収量6.60g
(74%)、融点125−129℃。
【0158】5−t−ブチルアミノカルボニル−2−メ
チルチアゾール−4−カルボン酸(主構成分)
【0159】
【外5】 4−t−ブチルアミノカルボニル−2−メチルチアゾー
ル−5−カルボン酸(副構成分)
【0160】
【外6】 4−シクロプロピルアミノ カルボニル−2−(1−メ
ルエチル)−オキサゾー ル−5−カルボン酸 250ミリリットルのテトラヒドロフラン中、10.4
g(0.054ミリモル)の2−(1−メチルエチル)
−オキサゾール−4−カルボン酸シクロプロコピルアミ
ドの溶液に、−70℃窒素雰囲気下において0.12モ
ルのn−ブチルリチウム(ヘキサン中1.5モル溶液8
0.0ミリリットル)を滴下し、この温度で30分撹拌
した。次いで反応混合物を500gの固体CO2 上に
注下し、1夜静置した。蒸散濃縮して残渣を200ミリ
リットルの水および10%NaOH溶液30ミリリット
ル中に投入し、ジエチルエーテルで2回抽出し、分離し
た水性相を濃塩酸でpH2に調整し、エチルアセタート
で抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶液を真空下
に除去した。これにより10.4g(81%)の4−シ
クロプロピルアミノカルボニル−2−(1−メチルエチ
ル)−オキサゾール−5−カルボン酸を、融点109−
112℃の白色粉末として得た。
【0161】4−tert−ブチル アミノカルボニル−
2−メ トキシチアゾール−5−カ ルボン酸 150ミリリットルのテトラヒドロフラン中、8.00
g(37ミリモル)の2−メトキシチアゾール−4−カ
ルボン酸−tert−ブチルアミドの溶液に、−70℃
において97ミリモルのn−ブチルリチウムのn−ヘキ
サン溶液65ミリリットルをを滴下した。次いで反応混
合物を500gの固状二酸化炭素上に注下し、14時間
にわたり室温まで除々に加熱した。真空下に溶媒を蒸散
除去し、残渣を150ミリリットルの水および16ミリ
リットルの苛性ソーダ液中に投入し、濾過し、濾液を濃
塩酸で酸性化し、析出カルボン酸を吸引濾別した。これ
により7.8g(82%)の4−tert−ブチルアミ
ノカルボニル−2−メトキシトリアゾール−5−カルボ
ン酸を融点120−122℃の白色粉末として得た。
【0162】(3)オキサゾールないし チアゾール−
4,5−ジカ ルボン酸イミド(Ic)の 製造 N−tert−ブチル−2 −メチルチアゾール−4,
−ジカルボン酸イミド 20ミリリットルのピリジンに溶解させた6.60g
(27.3ミリモル)の4(5)−t−ブチルアミノカ
ルボニル−2−メチルチアゾール−5−(4)−カルボ
ン酸に、6.20g(32.7ミリモル)のp−トルエ
ンスルホン酸クロライドを添加し、室温で12時間撹拌
した。溶媒を真空下に除去し、残渣をCH2Cl2および
水の混合液中に投入し、相分離し、有機相を10%HC
l溶液、飽和NaHCO3溶液、水により洗浄し、乾燥
した。溶媒の蒸散除去により残留する残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー(展開液CH2Cl2)処理した精製
した。収量5.20g(85%)、融点106℃(化合
物番号4.013)。
【0163】
【外7】 N−(3−トリフルオロメ チルフェニル)−2−(1
メチルエチル)−チアゾ ール−4,5−ジカルボン 酸イ
ミド 100ミリリットルのピリジンに溶解させた11.5g
(37ミリモル)の4(5)−(3−トリフルオロメチ
ルアニリノ)−カルボニル−2−(1−メチルエチル)
−チアゾール−5(4)−カルボン酸に、0℃において
8.5g(44.5ミリモル)のp−トルエンスルホン
酸クロライドを添加した。室温まで加温し、次いで60
℃に2時間加熱した。真空下に溶媒を除去し、残渣をC
2Cl2溶液および水の混合液中に投入し、水性相をさ
らにCH2Cl2で抽出し、合併抽出液を順次10%HC
l、NaHCO3飽和溶液および水で洗浄した。Na2
4で乾燥し、濃縮し、残渣をシリカゲル(展開液CH2
Cl2)処理により精製した。収量10.65g(84
%)、融点80℃(化合物番号4.015)。
【0164】
【外8】 N−tert−ブチル−2 −メトキシチアゾール−4
5−ジカルボン酸イミド 100ミリリットルのCH2Cl2中、2.6g(10ミ
リモル)の4−t−ブチルアミノカルボニル−2−メト
キシチアゾール−5−カルボン酸(実施例1、3)の溶
液に、−5℃において順次に3.75g(37.1ミリ
モル)のN−メチルモルホリン、1.20g(10ミリ
モル)の4−N,N−ジメチルアミノピリジンおよびC
2Cl2中、プロパンホスホン酸無水物の50%溶液
8.70g(13.7ミリモル)を添加した。6時間還
流加熱し、溶媒を蒸散除去し、残渣を醋酸に添加した。
カルボン酸水素ナトリウムで2回、5%くえん酸溶液で
1回抽出し、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒の蒸散除去後、粗生成物をシリカゲルクロマト
グラフィー(展開液シクロヘキサン/醋酸1:1)によ
り精製して、1.2g(50%)の目的生成物(融点6
3−66℃化合物番号4.014)。
【0165】以下の表4及び5に上述実施例におけると
同様にして得られた本発明による各種化合物を列記す
る。
【0166】
【表9】
【0167】
【表10】
【0168】
【表11】
【0169】
【表12】
【0170】
【表13】
【0171】
【表14】
【0172】
【表15】 使用実施例 式(Ia)、(Ib)、(Ic)のジカルボン酸イミド
の除草効果を温室実験により確認した。
【0173】栽培容器として約3.0%の腐葉土を含有
するローム土砂を充填した植木鉢を使用した。これらに
それぞれの被験植物の種子を播種した。
【0174】事前処理法により、有効物質の水性懸濁液
ないし乳濁液を噴霧器により播種直後各植木鉢に施与し
た。それぞれ発芽および成長促進のため軽く灌水し、植
物が成長するまで澄明のプラスチックシートで被覆し
た。この被覆は被験植物の同時発芽(有効物質が影響し
ない場合)をもたらすに有効である。
【0175】また事後処理のため、草丈3から15cm
程度まで成長してから、これを有効物質の水性懸濁液も
しくは乳濁液で処理する。この事後処理のための有効物
質(a、s、)使用量は1ヘクター当たり1から2kg
とした。
【0176】被験植物はその種類に応じて10−25℃
温度帯域と20−35℃帯域にそれぞれ配置した。実験
期間は2から4週間に限定し、その間植物の栽培管理を
なし、それぞれの処理に対する反応を観察した。
【0177】実施例化合物4.003の場合に、温室試
験で使用された植物種は次のとおりである。
【0178】 アカザ (Chenopodium albu
m) ハコベ (stellaria media) イヌノフグリ属 (Veronica spp.)実施
例化合物4.003を用い、1.0kg/ha a.
s.で生長後施用により、望ましくない広葉植物を非常
に良好に防除できた。
【0179】実施例化合物1.001の場合に、温室試
験で使用された植物種は次のとおりである。
【0180】 アカザ (Chenopodium albu
m) シュンギク (Chysanthemum cor
onarium) コアワ (Setaria italica) イヌホオズキ (Solanum nigrum)実
施例化合物1.001を用い、2.0kg/ha a.
s.で生長後施用により、望ましくない広葉植物を非常
に良好に防除できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07D 513/04 325 C07D 513/04 325 (72)発明者 トーマス、キュッケンヘーナー ドイツ連邦共和国、6710、フランケンタ ール、ザイデルシュトラーセ、2 (72)発明者 ゲールハルト、ハムプレヒト ドイツ連邦共和国、6940、ヴァインハイ ム、ローテ−トゥルム−シュトラーセ、 28 (72)発明者 ヴォルフガング、フロイント ドイツ連邦共和国、6730、ノイシュタッ ト、ヨーハン−ゴットリープ−フィヒテ −シュトラーセ、71 (72)発明者 カール−オットー、ヴェストファレン ドイツ連邦共和国、6720、シュパイヤ ー、マウスベルクヴェーク、58 (72)発明者 マティアス、ゲルバー ドイツ連邦共和国、6704、ムターシュタ ット、リターシュトラーセ、3 (72)発明者 ヘルムート、ヴァルター ドイツ連邦共和国、6719、オブリッヒハ イム、3、グリューンシュタッター、シ ュトラーセ、82 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 498/04 A01N 43/76 A01N 43/78 A01N 43/80 C07D 513/04 CAPLUS(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 以下の式(Ia)、(Ib)、(Ic) 【化1】 で表され、式中Xが酸素あるいは硫黄を意味し、R1
    水素、ハロゲン、シアノを、1から5個のハロゲンおよ
    び/あるいは1もしくは2個の以下の基、すなわちC3
    −C6シクロアルキル、、C1−C4アルコキシ、C1−C
    4ハロゲンアルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C
    4ハロゲンアルキルチオ、C1−C4アルキルスルホニ
    ル、C1−C4ハロゲンアルキルスルホニルあるいはシア
    ノを持っていてもよいC1−C6−アルキルを、1から3
    個のC1−C4アルキルあるいはハロゲンを持っていても
    よいC3−C8シクロアルキルを、1から3個の以下の
    基、すなわちハロゲン、C1−C3アルコキシおよび/あ
    るいはフェニル(これがさらに1から3個の以下の基、
    すなわちC1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアルキ
    ル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキ
    シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル
    チオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持っていても
    よい)を持っていてもよいC2−C6アルケニルを、1か
    ら3個の以下の基、すなわちハロゲン、C1−C3アルコ
    キシおよび/あるいはフェニル(これがさらに1から3
    個の以下の基、すなわちC1−C4アルキル、C1−C4
    ロゲンアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲ
    ンアルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲ
    ンアルキルチオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持
    っていてもよい)を持っていてもよいC2−C6アルキニ
    ルを、R1がさらにC1−C4アルコキシ、C2−C6アル
    ケニルオキシ、C2−C6アルキニルオキシ、C1−C4
    ルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルコキシ、C1−C4
    ロゲンアルキルチオ、C1−C4アルキルスルホニルある
    いはC1−C4ハロゲンアルキルスルホニルを、1から3
    個の以下の基、すなわちC1−C4アルキル、C1−C4
    ロゲンアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲ
    ンアルコキシ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲ
    ンアルキルチオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持
    っていてもよいフェノキシあるいはフェニルチオを、酸
    素、硫黄および窒素のうちから選ばれる1もしくは2個
    のヘテロ原子を有する5もしくは6員の飽和あるいは芳
    香族ヘテロ環式基(この環は1もしくは2個の以下の
    基、すなわちC1−C3アルキル、ハロゲン、C1−C3
    ルコキシあるいはC1−C3アルコキシカルボニルを持っ
    ていてもよい)を、1もしくは2個の以下の基、すなわ
    ち上述したアルキル、ことにメチル、上述したハロゲ
    ン、ことに弗素、塩素、上述したアルコキシ、ことにメ
    トキシ、エトキシ、あるいはメトキシカルボニル、エト
    キシカルボニルのようなアルコキシカルボニル、ことに
    メトキシカルボニルを持っていてもよい、縮合芳香族環
    基であって、以下のベンゾフラン−2−イル、ベンゾフ
    ラン−3−イル、イソベンゾフラン−2−イル、ベンゾ
    チオフェン−2−イル、ベンゾチオフェン−3−イル、
    イソベンゾチオフェン−2−イル、インドール−2−イ
    ル、インドール−3−イル、1,2−ベンゾイソオキサ
    ゾール−3−イル、ベンゾオキサゾール−2−イル、
    1,2−ベンゾイソチアゾール−3−イル、ベンゾチア
    ゾール−2−イル、インダゾール−3−イル、(1H)
    −ベンズイミダゾール−2−イル、キノール−3−イ
    ル、キノール−5−イル、キノール−6−イル、キノー
    ル−8−イル、イソキノール−1−イルおよびイソキノ
    ール−5−イルのうちから選ばれる縮合環基を、あるい
    はフェニルもしくはフェニル−C1−C4アルキル(各フ
    ェニル環は非置換でも、1から3個の以下の基、すなわ
    ちC1−C6アルキル、C1−C6ハロゲンアルキル、C1
    −C6アルコキシ、C1−C6ハロゲンアルコキシ、C1
    6アルキルチオ、C1−C6ハロゲンアルキルチオ、ハ
    ロゲン、ニトロあるいはシアノで置換されていてもよ
    い)を意味し、R2が水素、ヒドロキシル、C1−C4
    ルコキシを、1から3個の以下の基、すなわちシアノ、
    1−C4アルコキシ−C1−C4アルコキシ、C1−C4
    ルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキシ、C1−C4アル
    キルチオ、C1−C4ハロゲンアルキルチオ、ジ−C1
    4アルキルアミノ、ハロゲン、C3−C8シクロアルキ
    ルあるいはフェニル(このフェニル環がさらに1から3
    個の以下の基、すなわちハロゲン、シアノ、ニトロ、C
    1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアルキル、C1−C4
    アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキシ、C1−C4
    ルキルチオあるいはC1−C4ハロゲンアルキルチオを持
    っていてもよい)を持っていてもよいC1−C6アルキル
    を、1から3個の以下の基、すなわちC1−C6アルキ
    ル、C1−C6ハロゲンアルキル、C1−C4アルコキシ、
    1−C4ハロゲンアルコキシ、ハロゲン、ニトロあるい
    はシアノを持っていてもよいC3−C8シクロアルキル
    を、ハロゲンによりモノからトリ置換され、かつ/もし
    くはフェニル(このフェニルが1から3個の以下の基、
    すなわちC1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアルキ
    ル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキ
    シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル
    チオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持っていても
    よい)によりモノ置換されていてもよいC3−C6アルケ
    ニルを、ハロゲンによりモノからトリ置換され、かつ/
    もしくはフェニル(このフェニルが1から3個の以下の
    基、すなわちC1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアル
    キル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキ
    シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル
    チオ、ハロゲン、シアノあるいはニトロを持っていても
    よい)によりモノ置換されていてもよいC3−C6アルキ
    ニルを、R2がさらにジ−C1−C4アルキルアミノを、
    酸素、硫黄あるいは窒素のうちから選ばれる1もしくは
    2個のヘテロ原子を有する5もしくは6員の飽和あるい
    は芳香族ヘテロ環式基(これはC1−C4アルキルあるい
    はハロゲンによりモノからトリ置換されていてもよい)
    を、C1−C4アルキルあるいはハロゲンによりモノから
    トリ置換されていてもよい縮合芳香族環基であって、以
    下のベンゾフラン−2−イル、ベンゾフラン−3−イ
    ル、イソベンゾフラン−2−イル、ベンゾチオフェン−
    2−イル、ベンゾチオフェン−3−イル、イソベンゾチ
    オフェン−2−イル、インドール−2−イル、インドー
    ル−3−イル、1,2−ベンゾイソオキサゾール−3−
    イル、ベンゾオキサゾール−2−イル、1,2−ベンゾ
    イソチアゾール−3−イル、ベンゾチアゾール−2−イ
    ル、インダゾール−3−イル、(1H)−ベンズイミダ
    ゾール−2−イル、キノール−3−イル、キノール−5
    −イル、キノール−6−イル、キノール−8−イル、イ
    ソキノール−1−イルおよびイソキノール−5−イルの
    うちから選ばれる縮合環基を、1から4個の以下の基、
    すなわちC1−C4アルキル、C1−C4ハロゲンアルキ
    ル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロゲンアルコキ
    シ、C1−C4アルキルチオ、C1−C4ハロゲンアルキル
    チオ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ホルミル、フェニ
    ル、C1−C4アルカノイル、C1−C4ハロゲンアルカノ
    イルあるいはC1−C4アルコキシカルボニルを持ってい
    てもよいフェニルを、C1−C4アルキルあるいはハロゲ
    ンによりモノからトリ置換されていてもよいナフチルを
    意味することを特徴とする、ジカルボン酸イミドならび
    にその植物容認性の塩(ただし式中R1がメチルあるい
    は2−チアゾリルを意味する場合、R2がフェニルを意
    味する、3−メチルイソオキサゾール−4,5−ジカル
    ボン酸イミドおよびチアゾール−4,5−ジカルボン酸
    イミドを除く)。
  2. 【請求項2】 請求項(1)による式(Ia)、(I
    b)、(Ic)のジカルボン酸イミドの1種類あるいは
    複数種類と不活性添加剤を含有する除草剤組成物。
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