JP3065336B2 - ５―置換オキサゾールの製造法 - Google Patents
５―置換オキサゾールの製造法Info
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- JP3065336B2 JP3065336B2 JP2253320A JP25332090A JP3065336B2 JP 3065336 B2 JP3065336 B2 JP 3065336B2 JP 2253320 A JP2253320 A JP 2253320A JP 25332090 A JP25332090 A JP 25332090A JP 3065336 B2 JP3065336 B2 JP 3065336B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、５−置換オキサゾール−４−カルボン酸か
ら、その脱炭酸反応物である５−置換オキサゾールを工
業的に有利に製造する方法に関するものである。
ら、その脱炭酸反応物である５−置換オキサゾールを工
業的に有利に製造する方法に関するものである。
従来の技術 ５−置換オキサゾールの一つである５−（４−ピリジ
ル）オキサゾールは、セファロスポリン化合物を得るた
めの中間体として重要である。（たとえば特開昭61−72
80号公報参照） ５−（４−ピリジル）オキサゾールを製造する従来技
術としては、４−ピリジンアルデヒドとトシルメチルイ
ソシアニドを縮合させる方法（Chem.Pharm.Bull.,27,79
3（1979）参照）、４−アセチルリジンよりアミノイソ
ニコチノイルメタンを製造し、ついでオルトギ酸エチル
で閉環する方法（J.Org.Chem.,2261（1980）参照）が知
られている。
ル）オキサゾールは、セファロスポリン化合物を得るた
めの中間体として重要である。（たとえば特開昭61−72
80号公報参照） ５−（４−ピリジル）オキサゾールを製造する従来技
術としては、４−ピリジンアルデヒドとトシルメチルイ
ソシアニドを縮合させる方法（Chem.Pharm.Bull.,27,79
3（1979）参照）、４−アセチルリジンよりアミノイソ
ニコチノイルメタンを製造し、ついでオルトギ酸エチル
で閉環する方法（J.Org.Chem.,2261（1980）参照）が知
られている。
しかしながらこれらの方法は、前者にあっては使用す
る原料化合物が高価であるという問題点があり、後者に
あっては反応工程が長くなるという問題点があり、いず
れも工業的見地からは有利とは言い難いものであった。
る原料化合物が高価であるという問題点があり、後者に
あっては反応工程が長くなるという問題点があり、いず
れも工業的見地からは有利とは言い難いものであった。
上記の方法とは異なる製造ルートとして、特開昭63−
150280号公報には、イソシアノ酢酸エステルとイソニコ
チン酸活性体（イソニコチン酸クロライド等）との反応
物を加水分解して得られる５−（４−ピリジル）オキサ
ゾール−４−カルボン酸を原料として用い、これをジメ
チルホルムアミド等の溶媒中で触媒の存在下に脱炭酸反
応させて目的物である５−（４−ピリジル）オキサゾー
ルを製造する方法が示されている。なお、この脱炭酸反
応における触媒としては、金属粉末（たとえばCu粉末）
および有機塩基（たとえばピリジン）からなる触媒を使
用している。
150280号公報には、イソシアノ酢酸エステルとイソニコ
チン酸活性体（イソニコチン酸クロライド等）との反応
物を加水分解して得られる５−（４−ピリジル）オキサ
ゾール−４−カルボン酸を原料として用い、これをジメ
チルホルムアミド等の溶媒中で触媒の存在下に脱炭酸反
応させて目的物である５−（４−ピリジル）オキサゾー
ルを製造する方法が示されている。なお、この脱炭酸反
応における触媒としては、金属粉末（たとえばCu粉末）
および有機塩基（たとえばピリジン）からなる触媒を使
用している。
５−置換オキサゾールの一つである２−メチルオキサ
ゾールに関しては、次の文献がある。
ゾールに関しては、次の文献がある。
すなわち、J.Am.Chem.Soc.,69,96（1947）には、CuO
を含むキノリン溶媒中で２−メチルオキサゾール−４−
カルボン酸を脱炭酸反応させることにより、２−メチル
オキサゾールを得る方法が示されている。
を含むキノリン溶媒中で２−メチルオキサゾール−４−
カルボン酸を脱炭酸反応させることにより、２−メチル
オキサゾールを得る方法が示されている。
発明が解決しようとする課題 上述の特開昭63−150280号公報に記載の５−（４−ピ
リジル）オキサゾールの製造方法は、安価で入手容易な
原料を利用できる点でその工業的価値が極めて高いもの
である。
リジル）オキサゾールの製造方法は、安価で入手容易な
原料を利用できる点でその工業的価値が極めて高いもの
である。
しかしながら、この方法は、（ａ）脱炭酸反応終了後
は、反応混合物から不溶物および溶媒を留去すると共
に、残渣から目的物を分離することが必要となるとこ
ろ、残渣中の目的物の純度が低い上、残渣中に混入する
金属の分離を行わなければならず（高価な金属であれば
その回収も必要）、また留去した溶媒を再使用するには
溶媒中に混入する有機塩基を除去しなければならない場
合があり、精製工程が複雑になること、（ｂ）目的物の
収率が70％前後と必ずしも高くはないこと、などの問題
点があり、工業的規模で実施するためにはさらに改良を
図ることが望まれる。
は、反応混合物から不溶物および溶媒を留去すると共
に、残渣から目的物を分離することが必要となるとこ
ろ、残渣中の目的物の純度が低い上、残渣中に混入する
金属の分離を行わなければならず（高価な金属であれば
その回収も必要）、また留去した溶媒を再使用するには
溶媒中に混入する有機塩基を除去しなければならない場
合があり、精製工程が複雑になること、（ｂ）目的物の
収率が70％前後と必ずしも高くはないこと、などの問題
点があり、工業的規模で実施するためにはさらに改良を
図ることが望まれる。
J.Am.Chem.Soc.,69,96（1947）に記載の２−メチルオ
キサゾールの製造方法も、触媒としてCuOを用いている
ため、脱炭酸反応終了後の反応混合物から不溶物および
溶媒を留去すると共に、残渣から目的物を分離すること
が必要となるところ、残渣中の目的物の純度が低い上、
残渣中に混入するCuOの分離を行わなければならず、精
製工程が複雑になるという問題点がある。
キサゾールの製造方法も、触媒としてCuOを用いている
ため、脱炭酸反応終了後の反応混合物から不溶物および
溶媒を留去すると共に、残渣から目的物を分離すること
が必要となるところ、残渣中の目的物の純度が低い上、
残渣中に混入するCuOの分離を行わなければならず、精
製工程が複雑になるという問題点がある。
本発明は、５−置換オキサゾール−４−カルボン酸か
ら脱炭酸反応により５−置換オキサゾールを製造するに
あたり、特別の触媒の使用を要せず、しかも収率を顕著
に向上させる方法を提供することを目的とするものであ
る。
ら脱炭酸反応により５−置換オキサゾールを製造するに
あたり、特別の触媒の使用を要せず、しかも収率を顕著
に向上させる方法を提供することを目的とするものであ
る。
課題を解決するための手段 本発明の５−置換オキサゾールの製造法は、式 （ここでＲは、炭素数１〜10のアルキル基、フェニル
基、置換フェニル基、フリル基、チエニル基、ナフチル
基またはピリジル基）で示される５−置換オキサゾール
−４−カルボン酸を加熱して脱炭酸することにより、式 で示される５−置換オキサゾールを製造するにあたり、
アルコール、カルボン酸、フェノールおよび水よりなる
群から選ばれた少なくとも１種のプロトン性化合物を含
有する非プロトン性アミドの存在下で反応を行うことを
特徴とするものである。
基、置換フェニル基、フリル基、チエニル基、ナフチル
基またはピリジル基）で示される５−置換オキサゾール
−４−カルボン酸を加熱して脱炭酸することにより、式 で示される５−置換オキサゾールを製造するにあたり、
アルコール、カルボン酸、フェノールおよび水よりなる
群から選ばれた少なくとも１種のプロトン性化合物を含
有する非プロトン性アミドの存在下で反応を行うことを
特徴とするものである。
以下本発明を詳細に説明する。
式（ｉ）で示される５−置換オキサゾール−４−カル
ボン酸の具体例としては、 ５−メチルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−エチルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−プロピルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−ブチルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−ヘキシルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−オクチルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−フェニルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−（ｐ−トルイル）オキサゾール−４−カルボン
酸、 ５−（ｐ−クロロフェニル）オキサゾール−４−カル
ボン酸、 ５−（ｐ−フリル）オキサゾール−４−カルボン酸、 ５−（２−チエニル）オキサゾール−４−カルボン
酸、 ５−（β−ナフチル）オキサゾール−４−カルボン酸 などがあげられる。
ボン酸の具体例としては、 ５−メチルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−エチルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−プロピルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−ブチルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−ヘキシルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−オクチルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−フェニルオキサゾール−４−カルボン酸、 ５−（ｐ−トルイル）オキサゾール−４−カルボン
酸、 ５−（ｐ−クロロフェニル）オキサゾール−４−カル
ボン酸、 ５−（ｐ−フリル）オキサゾール−４−カルボン酸、 ５−（２−チエニル）オキサゾール−４−カルボン
酸、 ５−（β−ナフチル）オキサゾール−４−カルボン酸 などがあげられる。
出発物質である式（ｉ）で示される５−置換オキサゾ
ール−４−カルボン酸は、任意の方法で得ることができ
る。
ール−４−カルボン酸は、任意の方法で得ることができ
る。
本発明においては、式（ｉ）で示される５−置換オキ
サゾール−４−カルボン酸を加熱して脱炭酸するにあた
り、プロトン性化合物を含有する非プロトン性アミドの
存在下で反応を行う。
サゾール−４−カルボン酸を加熱して脱炭酸するにあた
り、プロトン性化合物を含有する非プロトン性アミドの
存在下で反応を行う。
ここで非プロトン性アミドとしては、N,N−ジメチル
ホルムアミド（沸点153℃）、N,N−ジメチルアセトアミ
ド（沸点166℃）、N,N−ジエチルホルムアミド（沸点17
7〜178℃）、N,N,N′,N′−テトラメチル尿素（沸点177
〜178℃）、Ｎ−メチルピロリドン（沸点202℃）、Ｎ−
ホルミルピペリジン（沸点166℃）などがあげられ、こ
れらの中では、沸点、収率、コストなどを総合考慮する
と、N,N−ジメチルホルムアミドが最も工業性に富む。
なおもし必要であれば、本発明の趣旨を損なわない範囲
で、他の溶媒を併用しても差支えない。
ホルムアミド（沸点153℃）、N,N−ジメチルアセトアミ
ド（沸点166℃）、N,N−ジエチルホルムアミド（沸点17
7〜178℃）、N,N,N′,N′−テトラメチル尿素（沸点177
〜178℃）、Ｎ−メチルピロリドン（沸点202℃）、Ｎ−
ホルミルピペリジン（沸点166℃）などがあげられ、こ
れらの中では、沸点、収率、コストなどを総合考慮する
と、N,N−ジメチルホルムアミドが最も工業性に富む。
なおもし必要であれば、本発明の趣旨を損なわない範囲
で、他の溶媒を併用しても差支えない。
プロトン性化合物としては、アルコール、カルボン
酸、フェノールおよび水よりなる群から選ばれた少なく
とも１種が用いられ、収率、取り扱い性、目的物の単離
の容易さおよびコストの点から特にアルコールが好まし
く、また水も好ましい。
酸、フェノールおよび水よりなる群から選ばれた少なく
とも１種が用いられ、収率、取り扱い性、目的物の単離
の容易さおよびコストの点から特にアルコールが好まし
く、また水も好ましい。
アルコールの例としては、メタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノー
ル、イソブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノ
ール、ｎ−アミルアルコール、イソアミルアルコール、
ヘキサノール、オクタノール等の脂肪族アルコール；シ
クロペンタノール、シクロヘキサノール等の脂環式アル
コール；ベンジルアルコール、β−フェニルエチルアル
コール等の芳香族アルコール；フルフリルアルコール等
の複素環式アルコール；エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、ネオペンチルアルコール等の脂肪族多価アルコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ト
リプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等
のエーテル結合を含む多価アルコール;3−（２−ピリジ
ル）プロパノール等の含窒素アルコール；をはじめ、炭
素数１〜10程度あるいはそれ以上のアルコールがあげら
れる。
ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノー
ル、イソブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノ
ール、ｎ−アミルアルコール、イソアミルアルコール、
ヘキサノール、オクタノール等の脂肪族アルコール；シ
クロペンタノール、シクロヘキサノール等の脂環式アル
コール；ベンジルアルコール、β−フェニルエチルアル
コール等の芳香族アルコール；フルフリルアルコール等
の複素環式アルコール；エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、ネオペンチルアルコール等の脂肪族多価アルコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ト
リプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等
のエーテル結合を含む多価アルコール;3−（２−ピリジ
ル）プロパノール等の含窒素アルコール；をはじめ、炭
素数１〜10程度あるいはそれ以上のアルコールがあげら
れる。
カルボン酸の例としては、ギ酸、酢酸、ピロピオン
酸、酪酸、吉草酸、アジピン酸、安息香酸、シクロヘキ
サンカルボン酸などがあげられる。
酸、酪酸、吉草酸、アジピン酸、安息香酸、シクロヘキ
サンカルボン酸などがあげられる。
フェノールの例としては、フェノール、クレゾール、
キシレノール、ｏ−クロロフェノール、などがあげられ
る。
キシレノール、ｏ−クロロフェノール、などがあげられ
る。
非プロトン性アミドの使用量は、５−置換オキサゾー
ル−４−カルボン酸１重量部に対して５〜20重量部程
度、殊に10重量部前後とするのが適当であるが、必ずし
もこの範囲に限られない。
ル−４−カルボン酸１重量部に対して５〜20重量部程
度、殊に10重量部前後とするのが適当であるが、必ずし
もこの範囲に限られない。
プロトン性化合物の使用量は、その種類により大きく
異なるので一慨に規定できないが、非プロトン性アミド
１重量部に対し0.005〜20重量部程度、好ましくは0.01
〜５重量部程度である。
異なるので一慨に規定できないが、非プロトン性アミド
１重量部に対し0.005〜20重量部程度、好ましくは0.01
〜５重量部程度である。
上記の出発物質、非プロトン性アミドおよびプロトン
性化合物の仕込み方法は任意であり、これらを一括仕込
みする方法、いずれか一者または二者を分割仕込みする
方法、少なくとも一者を連続仕込みする方法などがいず
れも採用される。
性化合物の仕込み方法は任意であり、これらを一括仕込
みする方法、いずれか一者または二者を分割仕込みする
方法、少なくとも一者を連続仕込みする方法などがいず
れも採用される。
反応温度は100〜210℃程度が適当であり、通常は還流
下に反応を行う。反応時間は0.5〜10時間程度とするこ
とが多い。
下に反応を行う。反応時間は0.5〜10時間程度とするこ
とが多い。
反応終了後は、減圧蒸留等適宜の手段により非プロト
ン性アミドおよびプロトン性化合物を除去する。濃縮物
（残渣）は若干の不純物を含む５−置換オキサゾールで
あるので、再結晶、洗浄、その他の手段により精製し
て、目的物を得る。
ン性アミドおよびプロトン性化合物を除去する。濃縮物
（残渣）は若干の不純物を含む５−置換オキサゾールで
あるので、再結晶、洗浄、その他の手段により精製し
て、目的物を得る。
作用 本発明の反応は下記の式で表わされる。プロトン性化
合物を含有する非プロトン性アミドは、脱炭酸反応を促
進する触媒としての役割と共に、溶媒としての役割を果
たすものと考えられる。
合物を含有する非プロトン性アミドは、脱炭酸反応を促
進する触媒としての役割と共に、溶媒としての役割を果
たすものと考えられる。
次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。
実施例１ 還流装置を備えたフラスコに、５−フェニルオキサゾ
ール−４−カルボン酸10.00g、N,N−ジメチルホルムア
ミド100gおよび水2.04gを仕込み、加熱して還流下（還
流温度136℃）に５時間脱炭酸反応させた。
ール−４−カルボン酸10.00g、N,N−ジメチルホルムア
ミド100gおよび水2.04gを仕込み、加熱して還流下（還
流温度136℃）に５時間脱炭酸反応させた。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、濃縮物7.71gを
得た。これを蒸留して7.04gの標品を得た。
得た。これを蒸留して7.04gの標品を得た。
融点は37℃であり、NMRによる分析結果は次の通りで
あった。
あった。
NMR（（CD3）2CO）：δ 7.50,7.75（5H,フェニル基のＨ） 7.55（1H,オキサゾール環４位） 8.20（1H,オキサゾール環２位） 実施例２ 還流装置を備えたフラスコに、５−フェニルオキサゾ
ール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホルムアミ
ド50gおよび水1.02gを仕込み、加熱して還流下（還流温
度139℃）に５時間脱炭酸反応させた。これにより、反
応液54.64gが得られた。
ール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホルムアミ
ド50gおよび水1.02gを仕込み、加熱して還流下（還流温
度139℃）に５時間脱炭酸反応させた。これにより、反
応液54.64gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析（内部標準法によ
る定量分析、以下同様）の結果、この反応液は6.67重量
％の５−フェニルオキサゾールを含んでいることが判明
した。収率は96.6％であった。
る定量分析、以下同様）の結果、この反応液は6.67重量
％の５−フェニルオキサゾールを含んでいることが判明
した。収率は96.6％であった。
実施例３ 還流装置を備えたフラスコに、５−フェニルオキサゾ
ール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホルムアミ
ド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱して還流下
（還流温度142℃）に５時間脱炭酸反応させた。これに
より、反応液54.77gが得られた。
ール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホルムアミ
ド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱して還流下
（還流温度142℃）に５時間脱炭酸反応させた。これに
より、反応液54.77gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は6.86重量％の５−フェニルオキサゾールを含んでい
ることが判明した。収率は99.6％であった。
液は6.86重量％の５−フェニルオキサゾールを含んでい
ることが判明した。収率は99.6％であった。
実施例４ 還流装置を備えたフラスコに、５−フェニルオキサゾ
ール−４−カルボン酸4.00g、N,N−ジメチルホルムアミ
ド40gおよびエチレングリコール1.32gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度142℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。これにより、反応液44.01gが得られた。
ール−４−カルボン酸4.00g、N,N−ジメチルホルムアミ
ド40gおよびエチレングリコール1.32gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度142℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。これにより、反応液44.01gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は6.88重量％の５−フェニルオキサゾールを含んでい
ることが判明した。収率は99.4％であった。
液は6.88重量％の５−フェニルオキサゾールを含んでい
ることが判明した。収率は99.4％であった。
実施例５ 還流装置を備えたフラスコに、５−フェニルオキサゾ
ール−４−カルボン酸4.00g、N,N−ジメチルホルムアミ
ド40gおよび酢酸2.87gを仕込み、加熱して還流下（還流
温度141℃）に５時間脱炭酸反応させた。これにより、
反応液45.52gが得られた。
ール−４−カルボン酸4.00g、N,N−ジメチルホルムアミ
ド40gおよび酢酸2.87gを仕込み、加熱して還流下（還流
温度141℃）に５時間脱炭酸反応させた。これにより、
反応液45.52gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は5.74重量％の５−フェニルオキサゾールを含んでい
ることが判明した。収率は90.0％であった。
液は5.74重量％の５−フェニルオキサゾールを含んでい
ることが判明した。収率は90.0％であった。
比較例１ 還流装置を備えたフラスコに、５−フェニルオキサゾ
ール−４−カルボン酸5.00gおよびN,N−ジメチルホルム
アミド50gを仕込み、加熱して還流下（還流温度137℃）
に５時間脱炭酸反応させた。これにより、反応液54.22g
が得られた。
ール−４−カルボン酸5.00gおよびN,N−ジメチルホルム
アミド50gを仕込み、加熱して還流下（還流温度137℃）
に５時間脱炭酸反応させた。これにより、反応液54.22g
が得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は3.60重量％の５−フェニルオキサゾールを含んでい
ることが判明した。収率は51.7％であった。
液は3.60重量％の５−フェニルオキサゾールを含んでい
ることが判明した。収率は51.7％であった。
実施例６ 還流装置を備えたフラスコに、５−（ｐ−トルイル）
オキサゾール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度139℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。
オキサゾール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度139℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、濃縮物4.39gを
得た。これを蒸留して3.34gの標品を得た。
得た。これを蒸留して3.34gの標品を得た。
融点は64℃であり、NMRによる分析結果は次の通りで
あった。
あった。
NMR（（CD3）2CO）：δ 2.35（3H,CH3−） 7.25,7.60（4H,トルイル基） 7.45（1H,オキサゾール環４位） 8.10（1H,オキサゾール環２位） 実施例７ 還流装置を備えたフラスコに、５−（ｐ−トルイル）
オキサゾール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度139℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。これにより、反応液54.77gが得られた。
オキサゾール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度139℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。これにより、反応液54.77gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は7.06重量％の５−（ｐ−トルイル）オキサゾールを
含んでいることが判明した。収率は98.8％であった。
液は7.06重量％の５−（ｐ−トルイル）オキサゾールを
含んでいることが判明した。収率は98.8％であった。
実施例８ 還流装置を備えたフラスコに、５−（ｐ−クロロフェ
ニル）オキサゾール−４−カルボン酸2.00g、N,N−ジメ
チルホルムアミド20gおよびエタノール0.41gを仕込み、
加熱して還流下（還流温度146℃）に５時間脱炭酸反応
させた。
ニル）オキサゾール−４−カルボン酸2.00g、N,N−ジメ
チルホルムアミド20gおよびエタノール0.41gを仕込み、
加熱して還流下（還流温度146℃）に５時間脱炭酸反応
させた。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去して濃縮し、これを
再結晶法により精製して1.19gの標品を得た。
再結晶法により精製して1.19gの標品を得た。
融点は66.2℃であり、NMRによる分析結果は次の通り
であった。
であった。
NMR（（CD3）2CO）：δ 7.40,7.70（4H,フェニル基のＨ） 7.55（1H,オキサゾール環４位） 8.20（1H,オキサゾール環２位） 実施例９ 還流装置を備えたフラスコに、５−（ｐ−クロロフェ
ニル）オキサゾール−４−カルボン酸2.00g、N,N−ジメ
チルホルムアミド20gおよびエタノール0.41gを仕込み、
加熱して還流下（還流温度146℃）に５時間脱炭酸反応
させた。これにより、反応液21.39gが得られた。
ニル）オキサゾール−４−カルボン酸2.00g、N,N−ジメ
チルホルムアミド20gおよびエタノール0.41gを仕込み、
加熱して還流下（還流温度146℃）に５時間脱炭酸反応
させた。これにより、反応液21.39gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は7.16重量％の５−（ｐ−クロロフェニル）オキサゾ
ールを含んでいることが判明した。収率は95.3％であっ
た。
液は7.16重量％の５−（ｐ−クロロフェニル）オキサゾ
ールを含んでいることが判明した。収率は95.3％であっ
た。
実施例10 還流装置を備えたフラスコに、５−（２−チエニル）
オキサゾール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度147℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。
オキサゾール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度147℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、濃縮物4.05gを
得た。これを蒸留して3.00gの標品を得た。
得た。これを蒸留して3.00gの標品を得た。
NMRによる分析結果は次の通りであった。
NMR（（CD3）2CO）：δ 7.10（1H,チエニル基４位） 7.35（1H,オキサゾール環４位） 7.50（2H,チエニル基3,5位） 8.10（1H,オキサゾール環２位） 実施例11 還流装置を備えたフラスコに、５−（２−チエニル）
オキサゾール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度147℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。これにより、反応液54.70gが得られた。
オキサゾール−４−カルボン酸5.00g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド50gおよびエタノール1.02gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度147℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。これにより、反応液54.70gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は5.79重量％の５−（２−チエニル）オキサゾールを
含んでいることが判明した。収率は80.6％であった。
液は5.79重量％の５−（２−チエニル）オキサゾールを
含んでいることが判明した。収率は80.6％であった。
実施例12 還流装置を備えたフラスコに、５−（２−フリル）オ
キサゾール−４−カルボン酸5.20g、N,N−ジメチルホル
ムアミド52gおよびエタノール1.06gを仕込み、加熱して
還流下（還流温度149℃）に５時間脱炭酸反応させた。
キサゾール−４−カルボン酸5.20g、N,N−ジメチルホル
ムアミド52gおよびエタノール1.06gを仕込み、加熱して
還流下（還流温度149℃）に５時間脱炭酸反応させた。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、濃縮物3.13gを
得た。これを蒸留して2.83gの標品を得た。
得た。これを蒸留して2.83gの標品を得た。
NMRによる分析結果は次の通りであった。
NMR（（CD3）2CO）：δ 6.45（1H,フリル基４位） 6.60（1H,フリル基３位） 7.25（1H,オキサゾール環４位） 7.45（1H,フリル基５位） 7.85（1H,オキサゾール環２位） 実施例13 還流装置を備えたフラスコに、５−（２−フリル）オ
キサゾール−４−カルボン酸5.20g、N,N−ジメチルホル
ムアミド52gおよびエタノール1.06gを仕込み、加熱して
還流下（還流温度149℃）に５時間脱炭酸反応させた。
これにより、反応液56.78gが得られた。
キサゾール−４−カルボン酸5.20g、N,N−ジメチルホル
ムアミド52gおよびエタノール1.06gを仕込み、加熱して
還流下（還流温度149℃）に５時間脱炭酸反応させた。
これにより、反応液56.78gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は5.84重量％の５−（２−フリル）オキサゾールを含
んでいることが判明した。収率は84.8％であった。
液は5.84重量％の５−（２−フリル）オキサゾールを含
んでいることが判明した。収率は84.8％であった。
実施例14 還流装置を備えたフラスコに、５−（β−ナフチル）
オキサゾール−４−カルボン酸2.0g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド20gおよびエタノール0.41gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度147℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。
オキサゾール−４−カルボン酸2.0g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド20gおよびエタノール0.41gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度147℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。
反応終了後の反応液に水を加えて５−（β−ナフチ
ル）オキサゾールを析出させることにより単離し、1.16
gの標品を得た。
ル）オキサゾールを析出させることにより単離し、1.16
gの標品を得た。
NMRによる分析結果は次の通りであった。
NMR（（CD3）2CO）：δ 7.50（2H,ナフタレン環7,8位） 7.65（1H,オキサゾール環２位） 7.8−8.0（4H,ナフタレン環3,4,6,9位） 8.20（2H,オキサゾール環４位、ナフタレン環１
位） 実施例15 還流装置を備えたフラスコに、５−（β−ナフチル）
オキサゾール−４−カルボン酸1.8g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド18gおよびエタノール0.37gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度147℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。これにより、反応液19.31gが得られた。
位） 実施例15 還流装置を備えたフラスコに、５−（β−ナフチル）
オキサゾール−４−カルボン酸1.8g、N,N−ジメチルホ
ルムアミド18gおよびエタノール0.37gを仕込み、加熱し
て還流下（還流温度147℃）に５時間脱炭酸反応させ
た。これにより、反応液19.31gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は6.16重量％の５−（β−ナフチル）オキサゾールを
含んでいることが判明した。収率は81.2％であった。
液は6.16重量％の５−（β−ナフチル）オキサゾールを
含んでいることが判明した。収率は81.2％であった。
実施例16 還流装置を備えたフラスコに、５−（ｎ−ブチル）オ
キサゾール−４−カルボン酸4.0g、N,N−ジメチルホル
ムアミド40gおよびエタノール0.82gを仕込み、加熱して
還流下（還流温度145℃）に５時間脱炭酸反応させた。
キサゾール−４−カルボン酸4.0g、N,N−ジメチルホル
ムアミド40gおよびエタノール0.82gを仕込み、加熱して
還流下（還流温度145℃）に５時間脱炭酸反応させた。
反応終了後の反応液を濃縮した後、水−エチレンジク
ロリド系で抽出を行い、エチレンジクロリド層より５−
（ｎ−ブチル）オキサゾールの標本1.63g得た。
ロリド系で抽出を行い、エチレンジクロリド層より５−
（ｎ−ブチル）オキサゾールの標本1.63g得た。
NMRによる分析結果は次の通りであった。
NMR（（CD3）2CO）：δ 0.95（3H,CH3−） 1.50（4H,−CH2CH2−） 2.60（2H,−CH2−） 6.60（1H,オキサゾール環４位） 7.60（1H,オキサゾール環２位） 実施例17 還流装置を備えたフラスコに、５−（ｎ−ブチル）オ
キサゾール−４−カルボン酸4.0g、N,N−ジメチルホル
ムアミド40gおよびエタノール0.82gを仕込み、加熱して
還流下（還流温度145℃）に５時間脱炭酸反応させた。
これにより、反応液43.29gが得られた。
キサゾール−４−カルボン酸4.0g、N,N−ジメチルホル
ムアミド40gおよびエタノール0.82gを仕込み、加熱して
還流下（還流温度145℃）に５時間脱炭酸反応させた。
これにより、反応液43.29gが得られた。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、この反応
液は5.61重量％の５−（ｎ−ブチル）オキサゾールを含
んでいることが判明した。収率は80.8％であった。
液は5.61重量％の５−（ｎ−ブチル）オキサゾールを含
んでいることが判明した。収率は80.8％であった。
発明の効果 本発明においては、プロトン性化合物を含有する非プ
ロトン性アミドの存在下で反応を行うだけで、目的物で
ある５−置換オキサゾールを好収率で得ることができ
る。
ロトン性アミドの存在下で反応を行うだけで、目的物で
ある５−置換オキサゾールを好収率で得ることができ
る。
金属粉末や有機塩基等の触媒の使用は不要となる上、
反応物からのプロトン性化合物含有非プロトン性アミド
の除去は容易であり、また反応物中の目的物の純度も極
めて高いので、反応終了後の反応物からの目的物の単
離、精製工程は格段にシンプルなものとなる。
反応物からのプロトン性化合物含有非プロトン性アミド
の除去は容易であり、また反応物中の目的物の純度も極
めて高いので、反応終了後の反応物からの目的物の単
離、精製工程は格段にシンプルなものとなる。
よって本発明により、５−置換オキサゾールを工業的
に有利に製造することができる。
に有利に製造することができる。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 263/32 - 263/50 C07D 413/04 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ)
Claims (5)
- 【請求項１】式 （ここでＲは、炭素数１〜10のアルキル基、フェニル
基、置換フェニル基、フリル基、チエニル基またはナフ
チル基）で示される５−置換オキサゾール−４−カルボ
ン酸を加熱して脱炭酸することにより、式 で示される５−置換オキサゾールを製造するにあたり、
アルコール、カルボン酸、フェノールおよび水よりなる
群から選ばれた少なくとも１種のプロトン性化合物を含
有する非プロトン性アミドの存在下で反応を行うことを
特徴とする５−置換オキサゾールの製造法。 - 【請求項２】非プロトン性アミドがN,N−ジメチルホル
ムアミドである請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】非プロトン性アミドの使用量が、５−置換
オキサゾール−４−カルボン酸１重量部に対して５〜20
重量部である請求項１記載の製造法。 - 【請求項４】プロトン性化合物の使用量が、非プロトン
性アミド１重量部に対し0.005〜20重量部である請求項
１記載の製造法。 - 【請求項５】反応を100℃以上で行うことを特徴とする
請求項１記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2253320A JP3065336B2 (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | ５―置換オキサゾールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2253320A JP3065336B2 (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | ５―置換オキサゾールの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04134078A JPH04134078A (ja) | 1992-05-07 |
| JP3065336B2 true JP3065336B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=17249663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2253320A Expired - Fee Related JP3065336B2 (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | ５―置換オキサゾールの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3065336B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001011060A (ja) * | 1999-06-28 | 2001-01-16 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 新規オキサゾール化合物及びその製造方法 |
| WO2002076958A1 (fr) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Nippon Soda Co., Ltd. | Procede de production de composes oxazoles 5-substitues et de composes imidazoles 5-substitues |
-
1990
- 1990-09-21 JP JP2253320A patent/JP3065336B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04134078A (ja) | 1992-05-07 |
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