JP3055368U - 靴 - Google Patents

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JP3055368U
JP3055368U JP1998004665U JP466598U JP3055368U JP 3055368 U JP3055368 U JP 3055368U JP 1998004665 U JP1998004665 U JP 1998004665U JP 466598 U JP466598 U JP 466598U JP 3055368 U JP3055368 U JP 3055368U
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arch
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uneven portion
metatarsal
outsole
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JP1998004665U
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English (en)
Inventor
修司 山本
Original Assignee
修司 山本
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  • Footwear And Its Accessory, Manufacturing Method And Apparatuses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 グッドイヤーウェルト製法の靴において、中
底表面に簡単に足骨の中足骨のアーチを支持する凹凸部
を形成可能とすることを課題とする。 【解決手段】 中底にリブを付け、この中底リブに甲
革、表底、表底上面の細革を縫い付けると共に、足骨の
中足骨のアーチに対応した凹凸部を有する足底板を配置
して、中底表面に前記アーチを支持する凹凸部を形成し
たことを特徴とする。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【考案の属する分野】
この考案は、靴特にグッドイヤーウェルト製法で製造される靴であって、中底に 足の骨のアーチを支持する凹凸部を形成した靴に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、重厚で堅牢な製靴法として、中底にリブを付け、この中底リブに甲革、表 底、表底上面の細革を縫い付けるグッドイヤーウェルト製法は公知であり、丈夫 で、型崩れし難く、履き込むほどに履き心地の良さが増してくると共に、表底の 取り替えが可能で、半張り修理を何回でも出来る特徴を有しており、高級靴に多 く用いられている製法である。しかしながら、このようなグッドイヤーウェルト 製法の靴であって、中底に足のアーチを支持する凹凸部を形成したものは、従来 提案されていない。
【0003】 図10〜12に示すように、足の骨は、中足骨(図10のD−E線に沿った部分 )を若干上方にアーチ状に湾曲した状態に保つことが、歩行時や直立時の足の疲 れを少なくし、身体のバランスを保つ上で最も好ましいとされている。この中足 骨のアーチは、足の幅方向のみならず、線A−B、A−Cに沿って図12に示す ように足の長さ方向にも存在しているために、図13に示すような位置にアーチ 部を支持する凹凸部(F、G、H)を設ける必要がある。従来公知の前記グッド イヤーウェルト製法による靴の中底は、通常ほぼ平坦に形成されており、かかる 中足骨のアーチを支持し得るようなものではなかった。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
この考案は、グッドイヤーウェルト製法の靴において、中底表面に簡単に足骨の 中足骨のアーチを支持する凹凸部を形成可能とすることを課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】 上記課題を解決するためにこの考案が採った手段は、中底にリブを付け、この中 底リブに甲革、表底、表底上面の細革を縫い付けると共に、足骨の中足骨のアー チに対応した凹凸部を有する足底板を配置して、中底表面に前記アーチを支持す る凹凸部を形成したことを特徴とする。
【0006】 足骨の中足骨のアーチに対応した凹凸部を有する足底板は、中底自体としても、 中底と表底との間に配置しても、或いは中底の上面に配置しても良い。足底板は 、全敷き形態でも、半敷き形態でも良い。
【0007】 足骨の中足骨のアーチに対応した凹凸部を有する足底板は、中底に形成したリブ に、甲革、表底、表底上面の細革と共に縫い付けても、接着剤で固着しても良い 。
【0008】
【考案の実施の形態】
この考案の好ましい実施の形態を、以下に詳細に説明する。図面を参照して、こ の考案による靴は、中底(1)にリブ(2)を形成し、このリブ(2)に甲革(3)、表 底(4)及び表底(4)の上面を被覆する細革(5)を縫い付ける、グッドイヤーウェ ルト製法で形成される。リブ(2)と甲革(3)、表底(4)及び細革(5)は、好まし くはチェーンステッチ(掬い縫い)で縫われ、表底(4)と細革(5)は、ロックス テッチ(出縫い)で縫い付けられる。
【0009】 この考案は、かかるグッドイヤーウェルト製法による靴において、中底(1)自体 又は中底(1)と表底(4)との間、或いは中底(1)の上面に、図4〜9に示す足底 板(6)を配置したことを特徴とする。足底板(6)は、前記図10〜13に示され る足骨の中足骨のアーチを支持する凹凸部(F、G、H)に対応した凹凸部(7) (8)(9)が形成されており、中足骨のアーチを的確に支持することが出来るよう になっている。足底板(6)は、図4に示すように足裏全体を覆う全敷き形態に形 成するのが好ましいが、図5に示すように凹凸部(7)(8)(9)を備えた半敷き形 態であっても良い。足底板(6)は、コルク、ゴム、硬質スポンジ等で形成される 。足底板(6)は、標準的な凹凸部を有するものを組み込んで大量生産しても良い が、使用者の足型を採って個々の使用者に適合した足底板を作成する注文生産と しても良い。
【0010】 中底(1)自体を足底板(6)で形成する場合、中底(1)と表底(4)との間に中物芯 が介挿され、足底板(6)の表面は、従来周知のように敷き革で被覆される。又、 中底(1)の下に足底板(6)が配置される場合には、中底(1)は足底板(6)の凹凸 部が充分に表出されるような、柔軟で薄い材料が用いられる。中底(1)の表面に 足底板(6)を配置する場合、足底板(6)の表面は、敷き革で被覆される。足底板 (6)は、グッドイヤーウェルト製法に従って、中底のリブ(2)に縫い付けても、 或いは接着剤で固着しても良い。
【0011】
【考案の効果】
この考案によれば、グッドイヤーウェルト製法で形成される靴の底に、足の中足 骨のアーチを支持する凹凸部を簡単に形成することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この考案にかかる靴の一部を断面した斜視図
【図2】同靴の幅方向に沿った縦断面図
【図3】同靴の長手方向に沿った縦断面図
【図4】足底板の斜視図
【図5】足底板の一変形を示す斜視図
【図6】足底板の平面図
【図7】図6a−a’線に沿った断面図
【図8】図6b−b’線に沿った断面図
【図9】図6c−c’線に沿った断面図
【図10】足骨を示す図
【図11】図10B−C線のアーチを示す図
【図12】図10A−B線のアーチを示す図
【図13】足骨のアーチを支持する凹凸部の位置を示す
【符号の説明】
(1)中底 (2)リブ (3)甲革 (4)表革 (5)細革 (6)足底板 (7)凹凸部 (8)凹凸部 (9)凹凸部

Claims (8)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】中底にリブを付け、この中底リブに甲革、
    表底、表底上面の細革を縫い付けると共に、足骨の中足
    骨のアーチに対応した凹凸部を有する足底板を配置し
    て、中底表面に前記アーチを支持する凹凸部を形成した
    ことを特徴とする靴。
  2. 【請求項2】中底が、足骨の中足骨のアーチに対応した
    凹凸部を有する足底板であることを特徴とする請求項1
    記載の靴。
  3. 【請求項3】中底と表底との間に、足骨の中足骨のアー
    チに対応した凹凸部を有する足底板を配置したことを特
    徴とする請求項1記載の靴。
  4. 【請求項4】中底の上面に、足骨の中足骨のアーチに対
    応した凹凸部を有する足底板を配置したことを特徴とす
    る請求項1記載の靴。
  5. 【請求項5】足骨の中足骨のアーチに対応した凹凸部を
    有する足底板を、中底に形成したリブに、甲革、表底、
    表底上面の細革と共に縫い付けたことを特徴とする請求
    項1乃至4のいずれかに記載の靴。
  6. 【請求項6】足骨の中足骨のアーチに対応した凹凸部を
    有する足底板を、接着剤で固着したことを特徴とする請
    求項1乃至4のいずれかに記載の靴。
  7. 【請求項7】足骨の中足骨のアーチに対応した凹凸部を
    有する足底板が、足裏全体を覆うことが出来る面積と形
    状を有した全敷き形態であることを特徴とする請求項1
    乃至6のいずれかに記載の靴。
  8. 【請求項8】足骨の中足骨のアーチに対応した凹凸部を
    有する足底板が、中足骨のアーチ部を支持する凹凸部を
    含む半敷き形態であることを特徴とする請求項1乃至6
    のいずれかに記載の靴。
JP1998004665U 1998-06-26 1998-06-26 Expired - Lifetime JP3055368U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008044353A1 (fr) * 2006-10-10 2008-04-17 Nichigen Club Co., Ltd. Procédé de fixation de semelle de base

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