JP3047509B2 - Manufacturing method of electrophotographic photoreceptor - Google Patents
Manufacturing method of electrophotographic photoreceptorInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、複写機やプリンター
等の電子写真装置に使用する電子写真感光体の製造方法
に係り、特に、アルミニウム又はアルミニウム合金で構
成された導電性基体を水系下で洗浄した後、この導電性
基体を温水中に浸漬させ、この温水中から導電性基体を
引き上げて水切り乾燥させ、その後、この導電性基体上
に、少なくともバインダー樹脂と感光性材料とを溶剤に
溶解或いは分散させた感光層用塗液を塗布して感光層を
形成するようにした電子写真感光体の製造方法に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an electrophotographic photosensitive member used in an electrophotographic apparatus such as a copying machine or a printer, and more particularly, to a method for manufacturing a conductive substrate made of aluminum or an aluminum alloy under water. After washing, the conductive substrate is immersed in warm water, the conductive substrate is pulled up from the warm water, drained and dried, and then at least a binder resin and a photosensitive material are dissolved in a solvent on the conductive substrate. Alternatively, the present invention relates to a method for producing an electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer is formed by applying a dispersed photosensitive layer coating solution.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、複写機やプリンター等の電子
写真装置に使用される電子写真感光体を製造するにあた
っては、一般にアルミニウム等で構成された導電性基体
上に感光層を形成するようにしていた。2. Description of the Related Art Conventionally, in manufacturing an electrophotographic photosensitive member used for an electrophotographic apparatus such as a copying machine or a printer, a photosensitive layer is generally formed on a conductive substrate made of aluminum or the like. I was
【0003】ここで、電子写真感光体を製造するのに使
用する導電性基体は、一般に機械的な工程を経て製造さ
れるため、この導電性基体上に埃,ごみ,金属微片,
錆,油等の異物が付着しており、これを充分に除去しな
いで感光層を形成すると、形成された感光層に欠陥が生
じ、このように製造された電子写真感光体を使用して画
像形成を行なった場合には形成される画像に画像欠損を
生じたり、またこの電子写真感光体にクリーニング不良
が発生する等の問題があった。Here, since a conductive substrate used for manufacturing an electrophotographic photosensitive member is generally manufactured through a mechanical process, dust, dirt, metal particles, and the like are formed on the conductive substrate.
Foreign matter such as rust and oil is adhered. If the photosensitive layer is formed without removing it sufficiently, a defect occurs in the formed photosensitive layer, and an image is formed by using the electrophotographic photosensitive member manufactured as described above. When the formation is performed, there is a problem that an image to be formed has an image defect, and that the electrophotographic photosensitive member has a cleaning failure.
【0004】このため、従来においても、導電性基体上
に感光層を形成するにあたっては、この導電性基体を洗
浄して、導電性基体上に付着した埃,ごみ,金属微片,
錆,油等の異物を除去するようにしていた。ここで、上
記のように導電性基体を洗浄するにあたり、従来におい
ては、一般にその洗浄液としてフロンや1,1,1−ト
リクロルエタン等の溶剤を使用していた。For this reason, conventionally, when a photosensitive layer is formed on a conductive substrate, the conductive substrate is washed and dust, dirt, metal particles,
Foreign substances such as rust and oil were removed. Here, in cleaning the conductive substrate as described above, conventionally, a solvent such as Freon or 1,1,1-trichloroethane has generally been used as the cleaning liquid.
【0005】しかし、これらの溶剤は大気中に放出され
ると、成層圏のオゾン層を破壊する等、地球の環境を害
するものとして、国際的に規制される方向にあり、この
ため、これらの溶剤を使用しないで上記導電性基体を洗
浄する方法が検討されるようになった。However, when these solvents are released into the atmosphere, they tend to be internationally regulated as harming the earth's environment, such as destruction of the ozone layer in the stratosphere. A method for cleaning the above-mentioned conductive substrate without using the same has been studied.
【0006】そして、上記のような溶剤を使用しないで
導電性基体を洗浄する方法として、近年においては、代
替フロン,塩素系溶剤,有機溶剤,水系洗剤等を用いた
洗浄方法が開発されるに至った。In recent years, as a method of cleaning a conductive substrate without using a solvent as described above, a cleaning method using an alternative fluorocarbon, a chlorine-based solvent, an organic solvent, an aqueous detergent or the like has been developed. Reached.
【0007】しかし、代替フロンや塩素系溶剤を用いた
場合には、上記のフロン等の溶剤を用いた場合と同様に
環境破壊の問題があり、今後その使用が規制される可能
性が高いため、長期にわたって導電性基体の洗浄に使用
することができず、また有機溶剤を用いた場合には、一
般に有機溶剤が可燃性であるため、洗浄作業に危険を伴
う等の問題があった。[0007] However, the use of alternative chlorofluorocarbons or chlorinated solvents poses a problem of environmental destruction as in the case of the use of the above-mentioned chlorofluorocarbons and the like. However, it cannot be used for cleaning a conductive substrate for a long period of time, and when an organic solvent is used, the organic solvent is generally flammable, and thus there is a problem that the cleaning operation involves danger.
【0008】このため、近年においては、水系洗剤を使
用して導電性基体を水系下で洗浄する方法が注目され、
使用する水系洗剤や、その洗浄方法について種々の開発
がなされるようになった。[0008] For this reason, in recent years, a method of washing a conductive substrate in an aqueous system using an aqueous detergent has attracted attention.
Various developments have been made on the aqueous detergent used and its cleaning method.
【0009】ここで、このように導電性基体を水系洗剤
を使用して水系下で洗浄するようにした場合、使用する
洗剤の選択や、洗浄後における導電性基体の水切り乾燥
や、洗浄後における廃水処理等が問題となるが、特に洗
浄後における導電性基体の水切り乾燥は、導電性基体に
与える影響が大きいため、その方法について様々な研究
がなされていた。Here, when the conductive substrate is washed in an aqueous system using a water-based detergent as described above, selection of a detergent to be used, draining and drying of the conductive substrate after washing, and washing and cleaning after washing are performed. Although wastewater treatment and the like pose a problem, in particular, since draining and drying of the conductive substrate after washing has a large effect on the conductive substrate, various studies have been made on the method.
【0010】そして、このように導電性基体を水切り乾
燥する方法としては、洗浄された導電性基体の表面に付
着している溶液を代替フロン,イソプロピルアルコー
ル,5−フッ化プロパノール等の溶剤を用いて置換し、
これを乾燥させる方法や、洗浄された導電性基体を高温
の湯水中に浸漬させ、これを引き上げながら乾燥させる
温水引き上げ法等がある。しかし、洗浄された導電性基
体の表面に付着している溶液を代替フロン等の溶剤を用
いて置換するようにした場合、上記のように代替フロン
等を用いて導電性基体を洗浄する場合と同様の問題が生
じるため、近年においては、上記温水引き上げ法が用い
られる傾向にある。As a method of draining and drying the conductive substrate as described above, a solution adhering to the surface of the cleaned conductive substrate is replaced with a solvent such as chlorofluorocarbon, isopropyl alcohol, or 5-fluoropropanol. And replace
There are a method of drying this, a method of pulling the washed conductive substrate in high-temperature hot water, and drying while pulling it up. However, when the solution adhering to the surface of the cleaned conductive substrate is replaced with a solvent such as a substitute for chlorofluorocarbon, the case where the conductive substrate is cleaned with the use of a substitute for chlorofluorocarbon or the like is used as described above. Since a similar problem occurs, in recent years, the hot water pulling method tends to be used.
【0011】ここで、上記のように水系下で洗浄された
導電性基体を温水引き上げ法によって水切り乾燥する場
合、その温水の温度が高いほど水切りの効率が良くなる
ため、通常は、上記導電性基体80℃前後の温度になっ
た純水中に浸漬させ、これを徐々に引き上げて導電性基
体を水切り乾燥させるようにしていた。Here, when the conductive substrate washed in a water system as described above is drained and dried by a hot water pulling method, the higher the temperature of the hot water, the better the draining efficiency. The substrate was immersed in pure water at a temperature of about 80 ° C., and was gradually pulled up to drain and dry the conductive substrate.
【0012】しかし、このように温水引き上げ法によっ
て水切り乾燥した導電性基体上に、バインダー樹脂や感
光性材料を溶剤に溶解或いは分散させた感光層用塗液を
塗布し、この導電性基体上に感光層を形成した場合、導
電性基体上に形成される感光層に多数のピンホール状の
ノイズが発生したり、感光層に塗布むらや凝集等が生
じ、この電子写真感光体を使用して画像形成を行なった
場合、形成された画像に白黒斑点のノイズ等が発生し
て、その画質が低下するという問題があった。However, a coating solution for a photosensitive layer obtained by dissolving or dispersing a binder resin or a photosensitive material in a solvent is applied to the conductive substrate which has been drained and dried by the hot water pulling method. When a photosensitive layer is formed, a large number of pinhole-shaped noises are generated in the photosensitive layer formed on the conductive substrate, or uneven coating or aggregation occurs on the photosensitive layer. When an image is formed, noise such as black and white spots is generated in the formed image, and there is a problem that the image quality is deteriorated.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】この発明は、複写機や
プリンター等の電子写真装置に使用する電子写真感光体
を製造する場合における上記のような問題を解決するこ
とを課題とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems in producing an electrophotographic photosensitive member used for an electrophotographic apparatus such as a copying machine or a printer. .
【0014】すなわち、この発明においては、アルミニ
ウム又はアルミニウム合金で構成された導電性基体を水
系下で洗浄した後、この導電性基体を温水中に浸漬さ
せ、この温水中から導電性基体を引き上げて水切り乾燥
させ、その後、この導電性基体上に、少なくともバイン
ダー樹脂と感光性材料とを溶剤に溶解或いは分散させた
感光層用塗液を塗布して感光層を形成する場合におい
て、導電性基体上に形成される感光層にピンホール状の
ノイズが発生したり、感光層に塗布むらや凝集等が生じ
たりするのを抑制し、この電子写真感光体を使用して画
像形成を行なった場合に、形成される画像に白黒斑点の
ノイズ等が発生するということがなく、良好な画像が安
定して得られるようにすることを課題とするものであ
る。That is, in the present invention, after the conductive substrate made of aluminum or aluminum alloy is washed in an aqueous system, the conductive substrate is immersed in warm water, and the conductive substrate is pulled up from the warm water. After draining and drying, and then applying a coating solution for a photosensitive layer in which at least a binder resin and a photosensitive material are dissolved or dispersed in a solvent to form a photosensitive layer, the conductive substrate In the case where an image is formed using this electrophotographic photoreceptor, it is possible to suppress the occurrence of pinhole-shaped noise in the photosensitive layer formed on the photosensitive layer, or to suppress the occurrence of coating unevenness or aggregation in the photosensitive layer. It is another object of the present invention to stably obtain a good image without generating noise such as black and white spots on a formed image.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】この発明においては、上
記のような課題を解決するため、アルミニウム又はアル
ミニウム合金で構成された導電性基体を水系下で洗浄し
た後、この導電性基体を温水中に浸漬させ、この温水中
から導電性基体を引き上げて水切り乾燥させ、その後、
この導電性基体上に、少なくともバインダー樹脂と感光
性材料とを溶剤に溶解或いは分散させた感光層用塗液を
塗布して感光層を形成するにあたり、上記水切り乾燥を
行なった後、この導電性基体上を上記感光層用塗液に使
用する溶剤又は感光層用塗液と相溶する溶剤を用いて処
理し、その後、この導電性基体上に上記感光層用塗液を
塗布するようにしたのである。According to the present invention, in order to solve the above-described problems, a conductive substrate made of aluminum or an aluminum alloy is washed in an aqueous system, and then the conductive substrate is heated in hot water. Immersed in the water, drained and dried the conductive substrate from the warm water,
In order to form a photosensitive layer by applying a coating solution for a photosensitive layer in which at least a binder resin and a photosensitive material are dissolved or dispersed in a solvent on the conductive substrate, the above-mentioned drainage drying is performed. The substrate was treated with a solvent used for the photosensitive layer coating liquid or a solvent compatible with the photosensitive layer coating liquid, and then the photosensitive layer coating liquid was applied on the conductive substrate. It is.
【0016】ここで、導電性基体を水系下で洗浄する方
法としては、従来より行なわれている公知の方法を使用
することができ、例えば、純水を用いた水洗浄、イオン
性,非イオン性の水溶性界面活性剤を使用した溶液によ
る洗浄、炭化水素系溶剤,高級アルコール類等を水中に
乳化した洗剤を使用したエマルジョン洗浄、化学エッチ
ング洗浄等の化学洗浄と、ブラシを導電性基体に押し付
けて洗浄するブラシスクラッピング、水を導電性基体に
向けて高圧で噴出させるジェットスプレー洗浄、超音波
を使用した超音波洗浄、メガソニックスクラッピング等
の物理洗浄とを適宜組み合わせて使用することができ
る。Here, as a method for cleaning the conductive substrate in an aqueous system, a conventionally known method can be used. For example, water cleaning using pure water, ionic, non-ionic Cleaning with a solution using a water-soluble surfactant, emulsion cleaning using a detergent in which a hydrocarbon solvent, higher alcohols, etc. are emulsified in water, chemical cleaning such as chemical etching cleaning, and applying a brush to a conductive substrate. It can be used in combination with physical cleaning such as brush scraping for pressing and cleaning, jet spray cleaning for jetting water at high pressure toward a conductive substrate, ultrasonic cleaning using ultrasonic waves, and megasonic scraping. it can.
【0017】そして、上記導電性基体を水系下で洗浄す
る具体的な方法としては、例えば、導電性基体を乳化剤
を用いて洗浄し、導電性基体における油汚れや有機物汚
れを落とした後、この導電性基体を水ですすいで、導電
性基体に付着した乳化剤を除去し、その後、この導電性
基体を界面活性剤溶液やエッチング液を用いて精密洗浄
し、導電性基体に付着している有機物や無機物の汚れを
完全に除去した後、この導電性基体を水ですすいで、導
電性基体に付着した界面活性剤やエッチング液を除去す
るようにし、また必要に応じて、上記の各工程中におい
て上記の物理洗浄を組み合わせて行なうようにする。As a specific method of washing the conductive substrate in an aqueous system, for example, the conductive substrate is washed with an emulsifier to remove oil stains and organic stains on the conductive base, The conductive substrate is rinsed with water to remove the emulsifier adhering to the conductive substrate, and then the conductive substrate is precision-cleaned using a surfactant solution or an etching solution to remove organic substances adhering to the conductive substrate. After completely removing dirt and inorganic contaminants, the conductive substrate is rinsed with water to remove a surfactant and an etchant attached to the conductive substrate. In the above, the above physical cleaning is performed in combination.
【0018】また、上記のようにして導電性基体を水系
下で洗浄した後、この導電性基体を温水中に浸漬させ、
この温水中から導電性基体を引き上げて水切り乾燥させ
るにあたっては、従来より行なわれている条件と同様の
条件で行なうことができ、通常は、純水を使用してその
温度を80℃前後の高温にし、このように高温になった
純水中に、上記のように水系下で洗浄された導電性基体
を浸漬させ、これを徐々に引き上げて導電性基体を水切
り乾燥させるようにする。After washing the conductive substrate in an aqueous system as described above, the conductive substrate is immersed in warm water,
When the conductive substrate is pulled up from the warm water and drained and dried, it can be performed under the same conditions as those conventionally used. Usually, the temperature is raised to about 80 ° C. using pure water. Then, the conductive substrate washed under the aqueous system as described above is immersed in pure water at such a high temperature, and is gradually pulled up to drain and dry the conductive substrate.
【0019】そして、このように水切り乾燥された導電
性基体にバインダー樹脂や感光性材料を溶剤に溶解或い
は分散させた感光層用塗液を塗布する前に、この導電性
基体を上記感光層用塗液に使用した溶剤或いはこの感光
層用塗液と相溶する溶剤を用いて処理する。Before applying the coating solution for a photosensitive layer in which a binder resin or a photosensitive material is dissolved or dispersed in a solvent to the conductive substrate thus dried and dried, the conductive substrate is coated with the photosensitive layer. The treatment is carried out using the solvent used for the coating solution or a solvent compatible with the coating solution for the photosensitive layer.
【0020】ここで、感光層用塗液と相溶する溶剤と
は、この感光層用塗液と任意の割合で混合しても、この
感光層用塗液中におけるバインダー樹脂の析出や分散性
の急激な低下を起こさない溶剤のことを意味する。Here, the solvent compatible with the photosensitive layer coating liquid may be mixed with the photosensitive layer coating liquid at an arbitrary ratio, even if the binder resin precipitates or disperses in the photosensitive layer coating liquid. Means a solvent that does not cause a sharp drop in
【0021】また、上記のような溶剤を用いて水切り乾
燥された導電性基体を処理するにあたっては、上記のよ
うに水切り乾燥された導電性基体を上記の溶剤中に浸漬
させたり、上記溶剤をスプレーによって導電性基体上に
塗布したり、上記溶剤をブレードを用いて導電性基体上
に塗布する等の公知の方法を使用することができる。な
お、導電性基体を上記の溶剤中に浸漬させて処理する場
合には、通常その浸漬時間を5秒〜3分間、好ましくは
10秒〜1分間にすると共に、その温度を20〜30℃
にし、またその浸漬時に、超音波、ブラシ、スポンジ等
による処理を行なうようにすることが好ましい。In treating the conductive substrate that has been drained and dried using the above-mentioned solvent, the conductive substrate that has been drained and dried as described above is immersed in the above-mentioned solvent, or the above-mentioned solvent is removed. A known method such as application to a conductive substrate by spraying, or application of the solvent to a conductive substrate using a blade can be used. When the conductive substrate is immersed in the above-mentioned solvent for treatment, the immersion time is usually 5 seconds to 3 minutes, preferably 10 seconds to 1 minute, and the temperature is 20 to 30 ° C.
In addition, it is preferable to perform a treatment using an ultrasonic wave, a brush, a sponge, or the like at the time of immersion.
【0022】そして、このように水切り乾燥された導電
性基体を感光層用塗液に使用した溶剤又は感光層用塗液
と相溶する溶剤で処理した後、この導電性基体上に上記
感光層用塗液を塗布して、この導電性基体上に感光層を
形成する。Then, the conductive substrate thus drained and dried is treated with the solvent used for the coating solution for the photosensitive layer or a solvent compatible with the coating solution for the photosensitive layer, and then the photosensitive layer is coated on the conductive substrate. A photosensitive coating layer is formed on the conductive substrate by applying a coating liquid for use.
【0023】[0023]
【作用】上記のようにアルミニウム又はアルミニウム合
金で構成された導電性基体を水系下で洗浄した後、この
導電性基体を温水中に浸漬させ、この温水中から導電性
基体を引き上げて水切り乾燥させた後、この導電性基体
を感光層用塗液に使用する溶剤又は感光層用塗液と相溶
する溶剤で処理し、その後、この導電性基体上に感光層
用塗液を塗布して感光層を形成すると、形成された感光
層にピンホール状のノイズが発生したり、感光層に塗布
むらや凝集等が生じたりするということがなく、このよ
うに製造された電子写真感光体を使用して画像形成を行
なった場合に、形成された画像に白黒斑点のノイズ等が
発生するということがなくなる。After washing the conductive substrate made of aluminum or aluminum alloy in an aqueous system as described above, the conductive substrate is immersed in warm water, the conductive substrate is pulled up from the warm water, drained and dried. After that, the conductive substrate is treated with a solvent used for the coating solution for the photosensitive layer or a solvent compatible with the coating solution for the photosensitive layer. When the layer is formed, there is no occurrence of pinhole-shaped noise in the formed photosensitive layer or uneven coating or aggregation of the photosensitive layer. When the image is formed in this manner, noise such as black and white spots does not occur in the formed image.
【0024】[0024]
【実施例】以下、この発明の実施例に係る電子写真感光
体の製造方法について具体的に説明すると共に、比較例
を挙げ、この実施例の方法によって製造された電子写真
感光体が、比較例の方法によって製造された電子写真感
光体に比べて優れていることを明らかにする。EXAMPLES Hereinafter, a method for manufacturing an electrophotographic photosensitive member according to an embodiment of the present invention will be described in detail, and a comparative example will be described. It is clarified that it is superior to the electrophotographic photosensitive member manufactured by the method of (1).
【0025】(実施例1〜4)これらの実施例において
は、導電性基体として、JIS6063アルミニウム合
金で、直径が80mm,長さが340mmになった円筒
状に形成され、その外周面が鏡面加工されたものを用い
るようにした。(Examples 1 to 4) In these examples, the conductive substrate was formed of a JIS6063 aluminum alloy into a cylindrical shape having a diameter of 80 mm and a length of 340 mm, and the outer peripheral surface thereof was mirror-finished. It was made to use what was done.
【0026】そして、この導電性基体を洗剤(荒川化学
社製,パインアルファーST−100S)を使用し、ス
プレー洗浄とブラシ洗浄を組み合わせて1分間前洗浄を
行なった後、この導電性基体をシャワー洗浄とブラシ洗
浄を組み合わせ、水で30秒間すすぎを行なった。Then, the conductive substrate is pre-cleaned for 1 minute by using a detergent (Pine Alpha ST-100S, manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.) and spray cleaning and brush cleaning are performed, and then the conductive substrate is showered. Washing and brush washing were combined and rinsed with water for 30 seconds.
【0027】次いで、上記導電性基体を洗剤(第一工業
製薬社製,DKビークリアCW−5520)内に浸漬さ
せ、ブラシ洗浄と超音波洗浄を組み合わせて1分間本洗
浄を行なった。そして、このように本洗浄された導電性
基体を純水(1μS/cm)中に浸漬させて30秒間超
音波洗浄を行ない、その後、この導電性基体を純水を使
用して10秒間シャワー洗浄し、これの操作を2回繰り
返して行なうようにした。Next, the above-mentioned conductive substrate was immersed in a detergent (DK Beaclear CW-5520, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), and the main cleaning was performed for 1 minute by combining brush cleaning and ultrasonic cleaning. Then, the conductive substrate thus completely washed is immersed in pure water (1 μS / cm) and subjected to ultrasonic cleaning for 30 seconds, and thereafter, the conductive substrate is subjected to shower cleaning using pure water for 10 seconds. However, this operation was repeated twice.
【0028】次いで、このようにして水系下で洗浄され
た導電性基体を80℃の温度になった純水中に浸漬させ
た後、この導電性基体を上記純水中から10mm/se
cの速度で引き上げて、水切り乾燥させた。Next, the conductive substrate thus washed in an aqueous system is immersed in pure water at a temperature of 80 ° C., and then the conductive substrate is removed from the pure water by 10 mm / sec.
It was pulled up at the speed of c and drained and dried.
【0029】そして、上記のように水切り乾燥された導
電性基体を、実施例1においては、シクロヘキサノンと
メチルエチルケトン(MEK)を6:4の割合に混合し
た溶剤中に、実施例2においてはMEKの溶剤中に、実
施例3においてはメチルイソブチルケトン(MIBK)
の溶剤中に、実施例4においてはジクロルメタンの溶剤
中にそれぞれ浸漬させ、各導電性基体を回転させなが
ら、ナイロンスポンジを各導電性基体の表面に接触させ
てそれぞれ30秒間処理し、その後、各導電性基体をそ
れぞれ前記の各溶剤中から取り出した。Then, the conductive substrate dried and drained as described above is mixed with a solvent in which cyclohexanone and methyl ethyl ketone (MEK) are mixed in a ratio of 6: 4 in Example 1, and MEK in Example 2 is mixed. In a solvent, in Example 3, methyl isobutyl ketone (MIBK)
In Example 4, in a solvent of dichloromethane in Example 4, while rotating each conductive substrate, a nylon sponge was brought into contact with the surface of each conductive substrate to be treated for 30 seconds. The conductive substrate was taken out of each of the above solvents.
【0030】そして、このように取り出した各導電性基
体を、下記の化1に示すビスアゾ顔料1重量部と、ポリ
エステル(東洋紡績社製,V−200)1重量部と、シ
クロヘキサノン50重量部と、MEK48重量部とを加
えた電荷発生層用塗液中に浸漬させ、浸漬塗布法により
各導電性基体上に膜厚が約0.3μmになった電荷発生
層を形成した。Each of the conductive substrates thus taken out was combined with 1 part by weight of a bisazo pigment shown in Chemical Formula 1, 1 part by weight of polyester (V-200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), and 50 parts by weight of cyclohexanone. , And 48 parts by weight of MEK, was immersed in a coating liquid for a charge generation layer, and a charge generation layer having a thickness of about 0.3 μm was formed on each conductive substrate by a dip coating method.
【0031】[0031]
【化1】 Embedded image
【0032】そして、このように各導電性基体上に形成
された電荷発生層を目視して、電荷発生層におけるピン
ホール状のノイズの発生の有無を調べたところ、何れの
電荷発生層においてもピンホール状のノイズは発見され
なかった。なお、上記実施例1〜4において、電荷発生
層を形成する前に導電性基体を浸漬させた各溶剤は、上
記電荷発生層用の塗液と相溶性を有するものであった。The presence of pinhole-shaped noise in the charge generation layer was examined by visually checking the charge generation layer thus formed on each conductive substrate. No pinhole-like noise was found. In Examples 1 to 4, each solvent in which the conductive substrate was immersed before forming the charge generation layer was compatible with the coating solution for the charge generation layer.
【0033】次いで、上記のようにして電荷発生層が形
成された各導電性基体上に、電荷輸送材料として下記の
構造式(化2)に示すジスチリル誘導体13重量部と、
ポリカーボネート樹脂(帝人化成社製,K−1300)
13重量部とをジクロルメタン87重量部に溶解させた
電荷輸送層用塗液を浸漬塗布法により塗布し、これを乾
燥させて、各導電性基体の電荷発生層上にそれぞれ膜厚
が20μmになった電荷輸送層を形成した。Next, 13 parts by weight of a distyryl derivative represented by the following structural formula (Formula 2) as a charge transporting material is provided on each of the conductive substrates on which the charge generating layer is formed as described above.
Polycarbonate resin (K-1300, manufactured by Teijin Chemicals Limited)
13 parts by weight of a charge transporting layer coating solution in which 87 parts by weight of dichloromethane was dissolved was applied by a dip coating method, and dried to form a film having a thickness of 20 μm on the charge generating layer of each conductive substrate. A charge transport layer was formed.
【0034】[0034]
【化2】 Embedded image
【0035】(比較例1)この比較例においても、導電
性基体を水切り乾燥させるまでは、上記実施例1〜4の
場合と同様にした。そして、この比較例においては、水
切り乾燥された導電性基体を溶剤で処理することなく、
そのままこの導電性基体上に、上記実施例1〜4と同様
にして電荷発生層を形成した。Comparative Example 1 In this comparative example, the same operation as in Examples 1 to 4 was performed until the conductive substrate was drained and dried. And in this comparative example, without treating the drained and dried conductive substrate with a solvent,
A charge generation layer was formed on the conductive substrate as it was in the same manner as in Examples 1 to 4.
【0036】そして、このように導電性基体上に形成さ
れた電荷発生層の状態を目視したところ、この比較例の
ものにおいては、形成された電荷発生層にピンホール状
のノイズが発生していた。When the state of the charge generation layer thus formed on the conductive substrate was visually observed, in this comparative example, pinhole-shaped noise was generated in the formed charge generation layer. Was.
【0037】このようにして導電性基体上に電荷発生層
を形成した後は、上記実施例1〜4の場合と同様にし
て、電荷発生層上に電荷輸送層を形成した。After forming the charge generation layer on the conductive substrate in this manner, a charge transport layer was formed on the charge generation layer in the same manner as in Examples 1-4.
【0038】(比較例2)この比較例においても、導電
性基体を水切り乾燥させるまでは、上記実施例1〜4の
場合と同様にした。そして、この比較例のものにおいて
は、水切り乾燥された導電性基体を、上記の電荷発生層
用塗液と相溶性のないイソプロピルアルコール中に浸漬
させるようにし、それ以外は、上記実施例1〜4の場合
と同様にして、この導電性基体を回転させながら、ナイ
ロンスポンジをこの導電性基体の表面に接触させて30
秒間処理した後、この導電性基体を前記の溶剤中から取
り出し、その後、この導電性基体上に上記実施例1〜4
の場合と同様にして電荷発生層を形成した。Comparative Example 2 In this comparative example, the operation was the same as in Examples 1 to 4 until the conductive substrate was drained and dried. In the comparative example, the drained and dried conductive substrate was immersed in isopropyl alcohol incompatible with the above-described charge generation layer coating liquid. As in the case of 4, while rotating the conductive substrate, a nylon sponge is brought into contact with the surface of the conductive substrate to obtain a sponge.
After the treatment for 2 seconds, the conductive substrate was taken out of the solvent, and then the above Examples 1-4 were placed on the conductive substrate.
The charge generation layer was formed in the same manner as in the above case.
【0039】ここで、このようにして導電性基体上に形
成された電荷発生層の状態を目視したところ、この比較
例のものにおいては、形成された電荷発生層に塗布ムラ
や凝集が発生していた。Here, when the state of the charge generation layer formed on the conductive substrate in this manner was visually observed, in the case of this comparative example, coating unevenness and aggregation occurred in the formed charge generation layer. I was
【0040】このようにして導電性基体上に電荷発生層
を形成した後は、上記実施例1〜4の場合と同様にし
て、電荷発生層上に電荷輸送層を形成した。After forming the charge generation layer on the conductive substrate in this manner, a charge transport layer was formed on the charge generation layer in the same manner as in Examples 1 to 4.
【0041】(実施例5,6)これらの実施例のものに
おいても、導電性基体を水切り乾燥させるまでは、上記
実施例1〜4と場合と同様にした。そして、このように
水切り乾燥された各導電性基体を、実施例5においては
テトラヒドロフランの溶剤中に、実施例6においてはジ
クロルメタンの溶剤中にそれぞれ浸漬させ、上記実施例
1〜4の場合と同様にして、各導電性基体を回転させな
がら、ナイロンスポンジを各導電性基体の表面に接触さ
せて30秒間処理した後、各導電性基体を前記の溶剤中
から取り出した。(Examples 5 and 6) In these examples, the operations were the same as those in Examples 1 to 4 until the conductive substrate was drained and dried. Then, each of the conductive substrates thus drained and dried is immersed in a solvent of tetrahydrofuran in Example 5, and in a solvent of dichloromethane in Example 6, respectively, and the same as in Examples 1 to 4 described above. Then, while rotating each conductive substrate, a nylon sponge was brought into contact with the surface of each conductive substrate and treated for 30 seconds, and then each conductive substrate was taken out of the solvent.
【0042】次いで、上記のように溶剤で処理した各導
電性基体を、フタロシアニン顔料1重量部と、ポリビニ
ルブチラール樹脂1重量部と、テトラヒドロフラン98
重量部とを加えた電荷発生層用塗液中に浸漬させ、浸漬
塗布法により各導電性基体上に膜厚が約0.2μmにな
った電荷発生層を形成した。Next, each conductive substrate treated with the solvent as described above was mixed with 1 part by weight of a phthalocyanine pigment, 1 part by weight of a polyvinyl butyral resin, and 98 parts of tetrahydrofuran.
The resultant was immersed in a coating solution for a charge generation layer to which a part by weight was added, and a charge generation layer having a thickness of about 0.2 μm was formed on each conductive substrate by a dip coating method.
【0043】そして、このように各導電性基体上に形成
された電荷発生層を目視して観察したところ、何れの電
荷発生層においてもピンホール状のノイズは発見されな
かった。なお、これらの実施例5,6において、電荷発
生層を形成する前に導電性基体を浸漬させた各溶剤は、
上記の電荷発生層用塗液と相溶性を有するものであっ
た。When the charge generation layers thus formed on each conductive substrate were visually observed, no pinhole-shaped noise was found in any of the charge generation layers. In these Examples 5 and 6, each solvent in which the conductive substrate was immersed before forming the charge generation layer was:
It had compatibility with the above-mentioned coating solution for charge generation layer.
【0044】このようにして各導電性基体上にそれぞれ
電荷発生層を形成した後は、上記実施例1〜4の場合と
同様にして、各電荷発生層上に電荷輸送層を形成した。After the formation of the charge generation layers on the respective conductive substrates in this manner, the charge transport layers were formed on the respective charge generation layers in the same manner as in Examples 1 to 4.
【0045】(比較例3)この比較例においても、導電
性基体を水切り乾燥させるまでは、上記実施例1〜4の
場合と同様にした。そして、この比較例においては、水
切り乾燥された導電性基体を溶剤で処理することなく、
そのままこの導電性基体上に、上記実施例5,6と同様
にして電荷発生層を形成した。Comparative Example 3 In this comparative example, the operation was the same as in Examples 1 to 4 until the conductive substrate was drained and dried. And in this comparative example, without treating the drained and dried conductive substrate with a solvent,
A charge generation layer was formed on the conductive substrate as it was in the same manner as in Examples 5 and 6.
【0046】そして、このように導電性基体上に形成さ
れた電荷発生層の状態を目視したところ、この比較例の
ものにおいては、形成された電荷発生層にピンホール状
のノイズが発生していた。When the state of the charge generation layer thus formed on the conductive substrate was visually observed, in the comparative example, pinhole-shaped noise was generated in the formed charge generation layer. Was.
【0047】このようにして導電性基体上に電荷発生層
を形成した後は、上記実施例1〜4と同様にして、電荷
発生層上に電荷輸送層を形成した。After forming the charge generation layer on the conductive substrate in this manner, a charge transport layer was formed on the charge generation layer in the same manner as in Examples 1 to 4.
【0048】次に、上記のようにして製造した実施例1
〜6及び比較例1〜3の各電子写真感光体を使用して画
像形成を行い、形成された画像における画像ノイズの評
価を行い、その結果を下記の表1に示した。なお、画像
形成を行うにあたり、実施例1〜4及び比較例1,2の
各電子写真感光体については、市販の複写機(ミノルタ
カメラ社製,EP−5400)に搭載し、また実施例
5,6及び比較例3の各電子写真感光体については、市
販のリーダープリンター(ミノルタカメラ社製,RP5
07)に搭載して画像形成を行った。Next, Example 1 manufactured as described above was used.
6 and Comparative Examples 1 to 3, images were formed, and image noise in the formed images was evaluated. The results are shown in Table 1 below. In performing the image formation, the electrophotographic photosensitive members of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were mounted on a commercially available copying machine (EP-5400, manufactured by Minolta Camera Co., Ltd.). , 6 and Comparative Example 3 were manufactured using a commercially available reader printer (RP5, manufactured by Minolta Camera Co., Ltd.).
07) to form an image.
【0049】[0049]
【表1】 [Table 1]
【0050】[0050]
【発明の効果】以上詳述したように、この発明に係る電
子写真感光体の製造方法においては、アルミニウム又は
アルミニウム合金で構成された導電性基体を水系下で洗
浄した後、この導電性基体を温水中に浸漬させてこの温
水中から導電性基体を引き上げ、導電性基体を水切り乾
燥させた後、この導電性基体を感光層用塗液に使用する
溶剤又は感光層用塗液と相溶する溶剤で処理し、その
後、この導電性基体上に感光層用塗液を塗布して感光層
を形成するようにしたため、形成された感光層にピンホ
ール状のノイズが発生したり、感光層に塗布むらや凝集
等が生じたりするということがなくなった。As described above in detail, in the method of manufacturing an electrophotographic photoreceptor according to the present invention, a conductive substrate made of aluminum or an aluminum alloy is washed in an aqueous system, and then the conductive substrate is washed. The conductive substrate is pulled up from the warm water by immersion in warm water, and the conductive substrate is drained and dried. Then, the conductive substrate is compatible with the solvent used for the photosensitive layer coating liquid or the photosensitive layer coating liquid. After treating with a solvent, the photosensitive layer was formed by applying a coating solution for a photosensitive layer on the conductive substrate, so that pinhole-shaped noise was generated in the formed photosensitive layer, The occurrence of uneven coating, aggregation and the like is eliminated.
【0051】この結果、この発明に係る方法で製造され
た電子写真感光体を使用して画像形成を行なった場合、
形成された画像に白黒斑点のノイズ等が発生するという
ことがなく、良好な画像が安定して得られるようになっ
た。As a result, when an image was formed using the electrophotographic photosensitive member manufactured by the method according to the present invention,
A good image can be stably obtained without generating noise such as black and white spots on the formed image.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−163558(JP,A) 特開 平4−242747(JP,A) 特開 昭58−37173(JP,A) 特開 平4−218056(JP,A) 特開 平4−97158(JP,A) 特開 平1−312554(JP,A) 特開 平4−81861(JP,A) 特開 平3−29959(JP,A) 特開 昭58−14841(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03G 5/05 Continuation of the front page (56) References JP-A-3-163558 (JP, A) JP-A-4-242747 (JP, A) JP-A-58-37173 (JP, A) JP-A-4-218056 (JP, A) JP-A-4-97158 (JP, A) JP-A-1-312554 (JP, A) JP-A-4-81861 (JP, A) JP-A-3-29959 (JP, A) JP-A Sho 58-14841 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G03G 5/05
Claims (1)
成された導電性基体を水系下で洗浄した後、この導電性
基体を温水中に浸漬させ、この温水中から導電性基体を
引き上げて水切り乾燥させ、その後、この導電性基体上
に、少なくともバインダー樹脂と感光性材料とを溶剤に
溶解或いは分散させた感光層用塗液を塗布して感光層を
形成するにあたり、上記水切り乾燥を行なった後、この
導電性基体上を上記感光層用塗液に使用する溶剤又は感
光層用塗液と相溶する溶剤を用いて処理し、その後、こ
の導電性基体上に上記感光層用塗液を塗布するようにし
たことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。After washing a conductive substrate made of aluminum or an aluminum alloy in an aqueous system, the conductive substrate is immersed in warm water, the conductive substrate is pulled up from the warm water, drained and dried, On the conductive substrate, a coating solution for a photosensitive layer in which at least a binder resin and a photosensitive material are dissolved or dispersed in a solvent is applied to form a photosensitive layer. On the conductive substrate using a solvent used for the photosensitive layer coating solution or a solvent compatible with the photosensitive layer coating solution, and then applying the photosensitive layer coating solution on the conductive substrate. A method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3135898A JP3047509B2 (en) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | Manufacturing method of electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04335356A JPH04335356A (en) | 1992-11-24 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180124588A (en) * | 2017-05-12 | 2018-11-21 | 주식회사 유니온알텍 | Particle removal apparatus for sliding-type doors and windows |
-
1991
- 1991-05-10 JP JP3135898A patent/JP3047509B2/en not_active Expired - Fee Related
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