JP3037547B2 - Conductive composition, conductor and method of forming the same - Google Patents

Conductive composition, conductor and method of forming the same

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JP3037547B2
JP3037547B2 JP5355327A JP35532793A JP3037547B2 JP 3037547 B2 JP3037547 B2 JP 3037547B2 JP 5355327 A JP5355327 A JP 5355327A JP 35532793 A JP35532793 A JP 35532793A JP 3037547 B2 JP3037547 B2 JP 3037547B2
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【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は導電性組成物、該導電性
組成物から形成された導電体およびその製造法に関する
ものである。本発明の導電性組成物は、塗布、スプレ
ー、キャスト、ディップ等の簡便な手法によって各種帯
電防止用途に適応可能である。また、前記組成物より得
られる本発明の導電体は、半導体、電器電子部品などの
工業用包装材料、オーバーヘッドプロジェクタ用フィル
ム、スライドフィルムなどの電子写真記録材料等の帯電
防止フィルム、オーディオテープ、ビデオテープ、コン
ピュータ用テープ、フロッピィディスクなどの磁気記録
用テープの帯電防止、更に透明タッチパネル、エレクト
ロルミネッセンスディスプレイ、液晶ディスプレイなど
の入力及び表示デバイス表面の帯電防止や透明電極とし
て利用される透明導電性フィルムあるいは透明導電性ガ
ラスなどとして使用することができる。
The present invention relates to a conductive composition, a conductor formed from the conductive composition, and a method for producing the same. The conductive composition of the present invention can be applied to various antistatic applications by a simple method such as coating, spraying, casting, and dipping. Further, the conductor of the present invention obtained from the composition, semiconductors, industrial packaging materials such as electrical and electronic parts, films for overhead projectors, antistatic films such as electrophotographic recording materials such as slide films, audio tape, video Antistatic of magnetic recording tapes such as tapes, tapes for computers and floppy disks, and transparent conductive films used as antistatic and transparent electrodes for input and display devices such as transparent touch panels, electroluminescent displays and liquid crystal displays or It can be used as a transparent conductive glass or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術と問題点】従来、導電性組成物の導電成分
として7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(T
CNQ)錯塩、ポリアニリンなどの導電性ポリマー、金
属系粉末やカーボン粉末、界面活性剤を用いたもの、お
よびこれらの成分と高分子化合物とを組み合わせたもの
が知られている。また、導電体としては、前記組成物か
らなる導電性塗料を用いて基材上に形成した導電体が知
られている。例えば、プラスチックフィルムまたはガラ
スなどの基材にイオンビームスッパタ装置や真空蒸着装
置を用いて、金、白金などの金属薄膜または酸化インジ
ウム・すず(ITO)などの金属酸化物薄膜を形成する
方法は、透明性及び導電性に優れている導電体が得られ
ることが知られている。しかし、その薄膜を形成させる
ために用いられる装置が高価であり、しかも材料として
用いられる金、白金などの貴金属やITOなども高価で
あるため、得られる導電体も高価になってしまうという
問題がある。TCNQを用いる電子電導性の高分子導電
体としては、第4級窒素カチオン性基を有する高分子化
合物とTCNQとからなる高分子電導体が知られている
が、溶剤に対する溶解性が非常に悪く、ジメチルホルム
アミド等の特殊な溶剤にのみ可溶なものが多く、ワニス
として適するとは言い難い。また、高分子化合物中にT
CNQの有機低分子錯塩を配合した導電性高分子組成物
を電気絶縁性高分子フィルム表面にこの配合物を形成さ
せることによって透明導電化する方法(特開昭63−2
76815号公報、特開平1−210470号公報)が
提案されている。この方法によって得られる導電体は、
高分子化合物中にTCNQ錯塩の結晶が成長し、それら
が重なり合うほど導電性が向上すると考えられている
が、この結晶成長の状態が溶剤の揮発速度や乾燥時の温
度分布に影響を受け易く、単位面積当たりの導電経路数
が不均一となることから表面抵抗のばらつきが大きく、
均一の表面抵抗が得られない。しかも、高温(例えば1
40℃加熱)または高温高湿(例えば60℃、95%R
H)の条件下において、結晶の結合点が少しでも劣化す
ると、その導電経路が著しく減少して導電性が大幅に減
少するという問題がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, 7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane (T
Known are CNQ) complex salts, conductive polymers such as polyaniline, metal-based powders and carbon powders, surfactants, and combinations of these components with polymer compounds. Further, as the conductor, a conductor formed on a base material using a conductive paint made of the above composition is known. For example, a method of forming a metal thin film such as gold or platinum or a metal oxide thin film such as indium tin oxide (ITO) on a base material such as a plastic film or glass using an ion beam sputtering device or a vacuum evaporation device is known. It is known that a conductor excellent in transparency and conductivity can be obtained. However, since the equipment used to form the thin film is expensive, and the noble metals such as gold and platinum used as materials and ITO are also expensive, the resulting conductor is also expensive. is there. As an electron conductive polymer conductor using TCNQ, a polymer conductor composed of a polymer compound having a quaternary nitrogen cationic group and TCNQ is known, but the solubility in a solvent is very poor. Many of them are soluble only in special solvents such as dimethylformamide and the like, and it is hard to say that they are suitable as varnish. In addition, T
A method of making a conductive polymer composition containing an organic low molecular complex of CNQ into a transparent conductive material by forming this compound on the surface of an electrically insulating polymer film (Japanese Patent Laid-Open No. 63-2)
No. 76815, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 1-210470) have been proposed. The conductor obtained by this method is
It is thought that the conductivity of the TCNQ complex salt crystal grows in the polymer compound and the more they overlap, the more the crystal growth state is easily affected by the evaporation rate of the solvent and the temperature distribution during drying. Since the number of conductive paths per unit area becomes non-uniform, the variation in surface resistance is large,
Uniform surface resistance cannot be obtained. In addition, high temperatures (for example, 1
40 ° C heating) or high temperature and high humidity (eg, 60 ° C, 95% R)
Under the condition of H), even if the bonding point of the crystal is slightly deteriorated, there is a problem that the conductive path is significantly reduced and the conductivity is significantly reduced.

【0003】ドープされたポリアニリン(導電性ポリマ
ー)は良く知られているがほとんどの全ての溶剤に不溶
であり成形、加工に難点がある。また、アニリンを電解
酸化重合する方法〔特開昭60−235831号公報、
J. Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 26, 1531(198
8)〕は電極上にポリアニリンのフィルムを形成するこ
とが可能であるが、単離操作が煩雑になること及び大量
合成が困難であるという問題がある。一方、アニリンの
化学酸化重合によって得られた脱ドープ状態のポリアニ
リンと酸解離定数pKaが4.8以下であるプロトン酸
のアンモニウム塩からなる導電性組成物(特開平3−2
85983号公報)が報告されているが、脱ドープ状態
のポリアニリンはN−メチル−2−ピロリドンなどの特
殊な溶媒にのみ可溶であるためワニスとして適するとは
言い難い。また、近年ドープ剤を添加することなく導電
性を発現するアルカリ可溶性のスルホン化ポリアニリン
と高分子化合物からなる導電性組成物(US51097
0)が報告されている。しかし、用いられる高分子化合
物が有機溶剤への溶解性が極めて低いポリ(1,4−ベ
ンゾアミド)樹脂、ポリイミド樹脂などであり、溶剤と
して硫酸などを用いているためワニスとして大きな問題
が残る。
[0003] Doped polyaniline (conductive polymer) is well known, but is insoluble in almost all solvents and has difficulty in molding and processing. Further, a method of electrolytic oxidation polymerization of aniline [JP-A-60-235831,
J. Polymer Sci. , Polymer
Chem. Ed. , 26 , 1531 (198
8)] can form a polyaniline film on the electrode, but has problems in that the isolation operation is complicated and mass synthesis is difficult. On the other hand, a conductive composition comprising undoped polyaniline obtained by chemical oxidative polymerization of aniline and an ammonium salt of a protonic acid having an acid dissociation constant pKa of 4.8 or less (Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
No. 85983), but it is hard to say that undoped polyaniline is suitable as a varnish because it is soluble only in a special solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone. In addition, in recent years, a conductive composition comprising an alkali-soluble sulfonated polyaniline and a polymer compound that exhibits conductivity without adding a dopant (US Pat.
0) has been reported. However, the polymer compound used is a poly (1,4-benzoamide) resin or a polyimide resin having extremely low solubility in an organic solvent, and a large problem remains as a varnish because sulfuric acid or the like is used as a solvent.

【0004】更に、上記導電性組成物などは有機溶剤を
用いているが、これらが引火性、爆発性などの性質を有
する危険物の場合、作業環境の安全性などの問題があ
る。更に、毒性による人体に対する安全性や地球環境問
題の高まりとともに人体や環境に影響を及ぼす種々の有
機溶剤への規制が高まっており、導電性組成物の安全性
も重要な課題になっている。
Furthermore, the above-mentioned conductive composition and the like use an organic solvent. However, when these are dangerous substances having properties such as flammability and explosiveness, there is a problem such as safety of the working environment. Furthermore, the safety of the human body due to toxicity and the global environmental problem are increasing, and regulations on various organic solvents that affect the human body and the environment are increasing, and the safety of the conductive composition is also an important issue.

【0005】また、カーボン粉末や金属粉末と高分子化
合物からなる導電性組成物から形成した導電体は、塗膜
の耐久性に優れるが透明性に欠けるという問題がある。
さらにアニオン系、カチオン系、非イオン系、両性など
の半透明な界面活性剤などをプラスチックフィルム中に
練り込んだり、プラスチックフィルム表面にコーティン
グすることにより、親水性とイオン性を与えてフィルム
表面に導電性を付与したものが知られている。しかし、
この方法で得られる導電体はイオン導電性のため、その
導電性が大気中の湿度の影響を受け易く、なおかつ単位
面積当たりの表面抵抗値が108Ω/□以下の導電性を
得ることができないという問題がある。
Further, a conductor formed from a conductive composition comprising a carbon powder or a metal powder and a polymer compound has a problem in that the coating film has excellent durability but lacks transparency.
In addition, anionic, cationic, nonionic, amphoteric or other translucent surfactants are kneaded into the plastic film or coated on the plastic film surface to impart hydrophilicity and ionicity to the film surface. The one provided with conductivity is known. But,
Since the conductor obtained by this method is ionic conductivity, its conductivity is easily affected by humidity in the atmosphere, and the surface resistance per unit area can be 10 8 Ω / □ or less. There is a problem that can not be.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の従来
技術の諸々の問題を解決するためになされたものであ
り、溶剤として水が使用可能であり、湿度依存性がなく
高い導電性を発現し成膜性、成形性、透明性に優れた導
電性組成物、および該組成物を利用して湿度依存性がな
く高い導電性を発現し、表面抵抗のばらつきが小さく、
成膜性、成形性、透明性に優れた導電性高分子膜を形成
させて得られる導電体及びその形成方法を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned various problems of the prior art. Water can be used as a solvent, and high conductivity without humidity dependence can be obtained. Developed and film-forming properties, moldability, conductive composition with excellent transparency, and high conductivity without humidity dependence using this composition, small variation in surface resistance,
An object of the present invention is to provide a conductor obtained by forming a conductive polymer film having excellent film-forming properties, moldability, and transparency, and a method for forming the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の特徴は、
スルホン基を全芳香環に対して15〜80%の割合で含
有するアニリン系導電性ポリマー類(a)、水溶性高分
子化合物及び水系でエマルジョンを形成する高分子化合
物よりなる群から選ばれた少なくとも一種の高分子化合
物(b)、水(c)とアミン類及び第四級アンモニウム
塩類よりなる群から選ばれた少なくとも一種の含窒素化
合物(d)を含有することを特徴とする導電性エマルジ
ョン組成物にある。
A first feature of the present invention is as follows.
It is selected from the group consisting of aniline-based conductive polymers (a) containing a sulfone group at a ratio of 15 to 80% based on the total aromatic ring, water-soluble polymer compounds, and polymer compounds that form an emulsion in an aqueous system. A conductive emulsion comprising at least one polymer compound (b), water (c), and at least one nitrogen-containing compound (d) selected from the group consisting of amines and quaternary ammonium salts. In the composition.

【0008】本発明の第2の特徴は、アニリン、N−ア
ルキルアニリンおよびフェニレンジアミン類よりなる群
から選ばれた少なくとも1種の化合物(A)と、アルコ
キシ基置換アミノベンゼンスルホン酸類(B)とを共重
合させたことにより得られたスルホン基を全芳香環に対
して15〜80%の割合で含有するアニリン系導電性ポ
リマー(f)、水溶性高分子化合物及び水系でエマルジ
ョンを形成する高分子化合物よりなる群から選ばれた少
なくとも一種の高分子化合物(b)、水(c)とアミン
類及び第四級アンモニウム塩類よりなる群から選ばれた
少なくとも一種の含窒素化合物(d)を含有することを
特徴とする導電性組成物にある。また本発明の第3の特
徴は、前記第1または第2の導電性組成物を成膜、ある
いは基材の少なくとも一つの面上に、塗布し該導電性高
分子組成物を成膜した後、常温で放置あるいは加熱処理
し、(c)および(d)成分を揮発除去させることによ
り得られる導電体、およびその製造法にある。
A second feature of the present invention is that at least one compound (A) selected from the group consisting of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamine, and an alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acid (B) The aniline-based conductive polymer (f) containing a sulfone group obtained by copolymerizing the sulfone group at a ratio of 15 to 80% with respect to the total aromatic ring, a water-soluble polymer compound, and a water-based polymer. Contains at least one polymer compound (b) selected from the group consisting of molecular compounds, water (c) and at least one nitrogen-containing compound (d) selected from the group consisting of amines and quaternary ammonium salts A conductive composition. Further, a third feature of the present invention is that the first or second conductive composition is formed into a film, or is coated on at least one surface of a base material to form a film of the conductive polymer composition. A conductor obtained by leaving or heating at room temperature to volatilize and remove the components (c) and (d), and a method for producing the same.

【0009】前記透明導電性高分子膜の処理としては、
常温で放置することにより行うこともできるが、加熱処
理により残留する(c)および(d)成分の量をより低
下することができるため導電性がさらに良くなる(抵抗
値が小さくなる)ので好ましい。使用用途により異なる
が、導電体に残留する(d)成分の量は導電膜10重量
部に対して2重量部以下、好ましくは1重量部以下とす
るのがよい。また(c)成分も実質的に存在しない方が
良い。加熱処理としては、250℃以下、好ましくは4
0〜200℃の範囲の加熱が好ましい。250℃より高
いと、(a)成分の劣化により導電性が低下することが
ある。
The treatment of the transparent conductive polymer film includes:
Although it can be carried out by leaving it at room temperature, the amount of the components (c) and (d) remaining by the heat treatment can be further reduced, so that the conductivity is further improved (resistance value is reduced), which is preferable. . The amount of the component (d) remaining in the conductor is preferably 2 parts by weight or less, more preferably 1 part by weight or less, based on 10 parts by weight of the conductive film, although it varies depending on the intended use. Further, it is better that the component (c) does not substantially exist. As the heat treatment, 250 ° C. or less, preferably 4 ° C.
Heating in the range of 0-200C is preferred. If the temperature is higher than 250 ° C., the conductivity may decrease due to the deterioration of the component (a).

【0010】以下本発明の導電性組成物および該導電性
組成物より形成した導電体ならびにその製造法について
詳細に説明する。本発明の前記導電性組成物および導電
体を構成する前記のスルホン基を含むアニリン系導電性
ポリマー類(a)または(f)の例としては、下式
(I)の構造式で示される化合物、もしくはこの繰り返
し単位を部分構造として有する化合物が挙げられる。
Hereinafter, the conductive composition of the present invention, a conductor formed from the conductive composition, and a method for producing the same will be described in detail. Examples of the aniline-based conductive polymers (a) or (f) containing a sulfone group constituting the conductive composition and the conductor of the present invention include compounds represented by the following structural formula (I): Or a compound having this repeating unit as a partial structure.

【0011】[0011]

【化1】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7又はR8
それぞれ水素、スルホン酸基およびアルコキシ基よりな
る群から選ばれ、R′は水素又は炭素数1〜4のアルキ
ル基、ベンゼンスルホン酸基およびベンゼンカルボン酸
基よりなる群から選ばれる。xは0〜1の任意の数を表
す。)
Embedded image (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 or R 8 are each selected from the group consisting of hydrogen, sulfonic acid group and alkoxy group, and R ′ is hydrogen or carbon It is selected from the group consisting of alkyl groups of formulas 1 to 4, benzenesulfonic acid groups and benzenecarboxylic acid groups, and x represents an arbitrary number of 0 to 1.)

【0012】前式(I)の構造式で示される化合物とし
ては、具体的には例えば日本化学会誌、1985,11
24、特開昭61−197633号公報、特開平1−3
01714号公報、J.Am.Chem.Soc.,
990,122,2800.、J.Am.Chem.S
oc.,1991,113,2665−2666.及び
WO.9106887に記載されている種々のスルホン
化ポリアニリン類を用いることができる。また、該ポリ
アニリン化合物は各種合成法によって得られるものを用
いることができるが例えばアニリン、N−アルキルアニ
リン及びフェニレンジアミン類よりなる群から選ばれた
少なくとも一種の化合物と、アミノアニソールスルホン
酸のようなアルコキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸
類とを共重合させて得られる共重合体(以下、前者の共
重合という)、あるいはアニリン、N−アルキルアニリ
ン及びフェニレンジアミン類よりなる群から選ばれた少
なくとも一種の化合物と、o−,m−,及び/又はp−
アミノベンゼンスルホン酸類とを共重合させ、更にスル
ホン化剤によりスルホン化してスルホン化度で調節して
得られる共重合体(以下、後者の共重合という)が好ま
しく用いられる。
Specific examples of the compound represented by the structural formula of the above formula (I) include, for example, the journal of the Chemical Society of Japan, 1985 , 11
24, JP-A 61-197633, JP-A 1-3
01714, J.P. Am. Chem. Soc. , 1
990 , 122, 2800. J. Am. Chem. S
oc. , 1991 , 113, 2665-2666. And WO. Various sulfonated polyanilines described in 9106887 can be used. Further, as the polyaniline compound, those obtained by various synthesis methods can be used. For example, at least one compound selected from the group consisting of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamines, and aminoanisolesulfonic acid A copolymer obtained by copolymerizing with an alkoxy group-substituted aminobenzenesulfonic acid (hereinafter referred to as the former copolymer), or at least one compound selected from the group consisting of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamines And o-, m-, and / or p-
A copolymer obtained by copolymerizing an aminobenzenesulfonic acid and then sulfonating with a sulfonating agent and adjusting the sulfonation degree (hereinafter referred to as the latter copolymer) is preferably used.

【0013】前記N−アルキルアニリンとしては、N−
メチルアニリン、N−エチルアニリン、N−nプロピル
アニリン、N−isoプロピルアニリン、N−ブチルア
ニリン等を挙げることができ、フェニレンジアミン類と
しては、フェニレンジアミン、N−フェニルフェニレン
ジアミン、N,N’−ジフェニルフェニレンジアミン、
N−アミノフェニル−N’−フェニルフェニレンジアミ
ン等を挙げることができる。アニリン、N−アルキルア
ニリン及びフェニレンジアミン類は、それぞれ単独ある
いは混合して用いられる。N−アルキルアニリンのアニ
リン及び/又はフェニレンジアミン類に対して用いられ
る割合(重量)は、アニリン及び/又はフェニレンジア
ミン類の合計量100に対してN−アルキルアニリン0
〜30が好都合である。N−アルキルアニリンの割合が
多すぎる場合は、水に対する溶解性が低下し、また導電
性が劣る傾向が認められる。アニリンとフェニレンジア
ミン類は、それぞれ単独で用いられるか、任意の割合で
混合して用いられる。
As the N-alkylaniline, N-alkylaniline
Methyl aniline, N-ethyl aniline, N-n propyl aniline, N-iso propyl aniline, N-butyl aniline and the like can be mentioned. Examples of phenylenediamines include phenylenediamine, N-phenylphenylenediamine, N, N ' -Diphenylphenylenediamine,
N-aminophenyl-N'-phenylphenylenediamine and the like can be mentioned. Aniline, N-alkylaniline and phenylenediamines are used alone or in combination. The ratio (weight) used for aniline and / or phenylenediamine of N-alkylaniline is such that the total amount of aniline and / or phenylenediamine is 100 and N-alkylaniline is 0%.
~ 30 is convenient. If the proportion of the N-alkylaniline is too large, the solubility in water is reduced and the conductivity tends to be poor. The aniline and the phenylenediamine are used alone or in a mixture at an arbitrary ratio.

【0014】前記のスルホン基を含むアニリン系導電性
ポリマー類(a)は、スルホン基が芳香環に対して15
〜80%、好ましくは20〜75%の範囲で含まれ、し
かもスルホン基を含む芳香環と有さない芳香環が適当に
混在して結合しているものが好ましく、交互に並んだ構
造を持つものがより好ましい。ここで、スルホン基の含
有率が15%未満であると溶解性が不十分であるため得
られる膜の導電性が低下し、一方、80%を超える場合
も導電性が低下する傾向が認められる。
In the aniline-based conductive polymers (a) containing a sulfone group, the sulfone group has 15
It is preferably in the range of from 80% to 80%, and more preferably in the range of from 20% to 75%, in which an aromatic ring containing a sulfone group and an aromatic ring having no sulfone group are appropriately mixed and bonded, and have an alternately arranged structure. Are more preferred. Here, when the content of the sulfone group is less than 15%, the solubility of the obtained film is insufficient because the solubility is insufficient. On the other hand, when the content exceeds 80%, the conductivity tends to decrease. .

【0015】以下、前者の共重合について説明する。前
者の共重合において、アルコキシ基置換アミノベンゼン
スルホン酸類(B)としては、もっとも代表的なのがア
ミノアニソールスルホン酸類であり、アミノアニソール
スルホン酸類は、2−アミノアニソール−3−スルホン
酸、2−アミノアニソール−4−スルホン酸、2−アミ
ノアニソール−5−スルホン酸、2−アミノアニソール
−6−スルホン酸、3−アミノアニソール−2−スルホ
ン酸、3−アミノアニソール−4−スルホン酸、3−ア
ミノアニソール−5−スルホン酸、3−アミノアニソー
ル−6−スルホン酸、4−アミノアニソール−2−スル
ホン酸、4−アミノアニソール−3−スルホン酸などを
挙げることができる。また、アニソールのメトキシ基
が、エトキシ基、プロポキシ基などの他のアルコキシ基
に置換されたものも用いることができる。しかしなが
ら、2−アミノアニソール−3−スルホン酸、2−アミ
ノアニソール−4−スルホン酸、2−アミノアニソール
−6−スルホン酸、3−アミノアニソール−2−スルホ
ン酸、3−アミノアニソール−4−スルホン酸、3−ア
ミノアニソール−5−スルホン酸が特に好ましく用いら
れる。
Hereinafter, the former copolymerization will be described. In the former copolymerization, the most representative of the alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acids (B) are aminoanisolesulfonic acids, and the aminoanisolesulfonic acids are 2-aminoanisole-3-sulfonic acid and 2-aminoanisole. Anisole-4-sulfonic acid, 2-aminoanisole-5-sulfonic acid, 2-aminoanisole-6-sulfonic acid, 3-aminoanisole-2-sulfonic acid, 3-aminoanisole-4-sulfonic acid, 3-amino Examples thereof include anisole-5-sulfonic acid, 3-aminoanisole-6-sulfonic acid, 4-aminoanisole-2-sulfonic acid, and 4-aminoanisole-3-sulfonic acid. In addition, those in which the methoxy group of anisole is substituted with another alkoxy group such as an ethoxy group or a propoxy group can also be used. However, 2-aminoanisole-3-sulfonic acid, 2-aminoanisole-4-sulfonic acid, 2-aminoanisole-6-sulfonic acid, 3-aminoanisole-2-sulfonic acid, 3-aminoanisole-4-sulfonic acid Acids and 3-aminoanisole-5-sulfonic acid are particularly preferably used.

【0016】重合に用いるアニリン、N−アルキルアニ
リン及びフェニレンジアミン類よりなる(A)グループ
モノマーとアミノアニソールスルホン酸類で代表される
アルコキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸類よりなる
(B)グループモノマーとの重量比は、A:B=8:2
〜1:9、好ましくはA:B=7:3〜2:8が用いら
れる。アミノアニソールスルホン酸類で代表されるアル
コキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸類(B)はそれ
ぞれ単独で用いるか、異性体が任意の割合で混合したも
のを用いても良い。ここでアルコキシ基置換アミノベン
ゼンスルホン酸類(B)の割合が少ない場合は、アルコ
キシ基置換アミノベンゼンスルホン酸類の導入割合が低
くなり、溶剤に対する溶解性が低下する傾向があり、多
い場合は、アルコキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸
類の導入割合が高くなり導電性の低下する傾向がある。
The weight ratio of the (A) group monomer composed of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamine used in the polymerization to the (B) group monomer composed of alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acids represented by aminoanisolesulfonic acids. Is A: B = 8: 2
1 : 1: 9, preferably A: B = 7: 3 to 2: 8. The alkoxy group-substituted aminobenzenesulfonic acids (B) represented by aminoanisolesulfonic acids may be used alone or in a mixture of isomers at an arbitrary ratio. Here, when the ratio of the alkoxy group-substituted aminobenzenesulfonic acids (B) is small, the introduction ratio of the alkoxy group-substituted aminobenzenesulfonic acids tends to decrease, and the solubility in a solvent tends to decrease. There is a tendency that the introduction ratio of the substituted aminobenzenesulfonic acids increases and the conductivity decreases.

【0017】共重合は、酸性溶媒中、酸化剤で酸化重合
することにより行うことができる。重合操作は、−5〜
70℃の温度範囲で行うのが好ましく、更に好ましくは
0〜60℃の範囲が適用される。ここで、−5℃以下で
は、共重合体の溶剤に対する溶解性が低下する傾向があ
り、70℃以上では、導電性が低下する傾向がある。
The copolymerization can be carried out by oxidative polymerization with an oxidizing agent in an acidic solvent. The polymerization operation is -5 to
It is preferably carried out in a temperature range of 70 ° C, more preferably in a range of 0 to 60 ° C. Here, below -5 ° C, the solubility of the copolymer in the solvent tends to decrease, and above 70 ° C, the conductivity tends to decrease.

【0018】反応に使用する溶媒は、水、メタノール、
エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、メチ
ルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドなどが好ましく用いられる。
The solvent used for the reaction is water, methanol,
Ethanol, isopropanol, acetonitrile, methyl isobutyl ketone, dimethylformamide, dimethylacetamide and the like are preferably used.

【0019】また、酸化剤は、ペルオキソ二硫酸アンモ
ニウム、過酸化水素等が用いられ、モノマー1モルに対
して0.1〜5モル、好ましくは0.5〜5モル用いら
れる。酸は、硫酸、塩酸及び、p−トルエンスルホン酸
等又はそれらの混合物が用いられ、酸の濃度は0.1〜
3mol/l、好ましくは0.2〜2mol/lの範囲
で用いられる。またこの際、触媒として鉄、銅などの遷
移金属を添加することも有効である。
As the oxidizing agent, ammonium peroxodisulfate, hydrogen peroxide or the like is used, and it is used in an amount of 0.1 to 5 mol, preferably 0.5 to 5 mol, per 1 mol of the monomer. As the acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid or the like or a mixture thereof is used, and the concentration of the acid is 0.1 to
It is used in an amount of 3 mol / l, preferably in the range of 0.2 to 2 mol / l. At this time, it is also effective to add a transition metal such as iron or copper as a catalyst.

【0020】ここで、アニリン及び/又はN−アルキル
アニリンとアルコキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸
類との共重合体は、スルホン酸基の導入割合が芳香環に
対して25〜40%であり、フェニレンジアミン、N−
フェニレンジアミン等のフェニレンジアミン類を用いた
場合に比較して、一般的にスルホン基の導入割合が低く
なるが導電性は良い傾向がある。一方、フェニレンジア
ミン、N−フェニレンジアミン等のフェニレンジアミン
類とアルコキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸類との
共重合体は、スルホン基の導入割合が芳香環に対して2
5〜50%と高く、溶解性が良い傾向がある。
Here, the copolymer of aniline and / or N-alkylaniline with an alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acid has a sulfonic acid group introduction ratio of 25 to 40% based on the aromatic ring, and phenylenediamine. , N-
Compared to the case where phenylenediamines such as phenylenediamine are used, the introduction ratio of sulfone groups is generally lower but the conductivity tends to be better. On the other hand, copolymers of phenylenediamines such as phenylenediamine and N-phenylenediamine and alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acids have a sulfone group introduction ratio of 2 to the aromatic ring.
It is as high as 5 to 50% and tends to have good solubility.

【0021】かくして得られた同一芳香環にアルコキシ
基とスルホン酸基を有するアニリン系導電性ポリマーの
平均重量分子量は、300〜500,000である。ま
た、アルコキシ基及びスルホン酸基は全芳香環に対し2
5〜50%の含有量であり、更にスルホン化操作を施す
ことなくアンモニア及びアルキルアミン等の塩基を含む
水又は有機溶剤もしくはそれらの混合物に溶解すること
ができる。
The thus obtained aniline-based conductive polymer having an alkoxy group and a sulfonic acid group on the same aromatic ring has an average weight molecular weight of 300 to 500,000. Further, the alkoxy group and the sulfonic acid group are 2
It has a content of 5 to 50% and can be dissolved in water or an organic solvent containing a base such as ammonia and an alkylamine or a mixture thereof without further performing a sulfonation operation.

【0022】以下、後者の共重合について説明する。後
者の共重合において、アミノベンゼンスルホン酸類
(C)は、o−、m−、p−いずれも用いることが可能
である。o−アミノベンゼンスルホン酸またはm−アミ
ノベンゼンスルホン酸とアニリンとの共重合体について
は、既にJ.Am.Chem.Soc.,1991,1
13,2667頁及び特開平1−301714号公報に
記載されているが、本発明者らは、p−アミノベンゼン
スルホン酸とアニリンも共重合することを見い出した。
なお、p−アミノベンゼンスルホン酸とアニリンとの共
重合体は、従来知られている直鎖状の重合体(p位での
結合の繰り返し)とは異なる重合体が得られる。
Hereinafter, the latter copolymerization will be described. In the latter copolymerization, any of o-, m- and p- can be used as the aminobenzenesulfonic acid (C). Copolymers of o-aminobenzenesulfonic acid or m-aminobenzenesulfonic acid with aniline have already been described in J. Am. Am. Chem. Soc. , 1991, 1
As described in JP-A-13,2667 and JP-A-1-301714, the present inventors have found that p-aminobenzenesulfonic acid and aniline also copolymerize.
As the copolymer of p-aminobenzenesulfonic acid and aniline, a polymer different from a conventionally known linear polymer (repeated bonding at the p-position) can be obtained.

【0023】重合に用いるアニリン、N−アルキルアニ
リンおよびフェニレンジアミン類よりなるAグループモ
ノマーとアミノベンゼンスルホン酸類よりなるCグルー
プモノマーとのモル比は、Aグループモノマーの合計量
100重量部に対してCグループモノマー10〜500
重量部が用いられる。アミノベンゼンスルホン酸類は、
o−、m−、p−それぞれ単独で用いられるか、任意の
割合で混合して用いられる。
The molar ratio of the A group monomer composed of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamine to the C group monomer composed of aminobenzenesulfonic acids used in the polymerization is as follows. Group monomer 10 to 500
Parts by weight are used. Aminobenzenesulfonic acids are
o-, m-, and p- may be used alone or as a mixture at an arbitrary ratio.

【0024】共重合体は、酸性溶媒中、酸化剤で酸化重
合することにより得ることができる。溶媒は、水、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリ
ル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が好まし
く用いられる。また、酸化剤は、過硫酸アンモニウム、
過酸化水素等が好ましく用いられ、モノマー1モルに対
して0.1〜10モル、好ましくは0.5〜5モル用い
られる。酸は、硫酸、塩酸及びp−トルエンスルホン酸
等またはそれらの混合物が好ましく用いられ、酸の濃度
は0.1〜5モル/リットル、好ましくは0.2〜3モ
ル/リットルの範囲で用いられる。反応温度は、70℃
以下で行うのが好ましく、−20℃〜50℃の範囲で行
うのがより好ましい。ここで、アニリンおよび/または
N−アルキルアニリンとアミノベンゼンスルホン酸類と
の共重合体は、一般的にスルホン基の導入割合が芳香環
に対して10〜25%と低く、導電性及び溶解性が不十
分である。しかし、フェニレンジアミン類とアミノベン
ゼンスルホン酸類との共重合体は、スルホン基の導入割
合が芳香環に対して25〜40%と高くなる傾向があ
り、導電性及び溶解性とも良好なスルホン化ポリアニリ
ンが得られる。
The copolymer can be obtained by oxidative polymerization with an oxidizing agent in an acidic solvent. As the solvent, water, methanol, ethanol, isopropanol, acetonitrile, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, dimethylacetamide and the like are preferably used. The oxidizing agent is ammonium persulfate,
Hydrogen peroxide and the like are preferably used, and 0.1 to 10 mol, preferably 0.5 to 5 mol, per 1 mol of the monomer is used. As the acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid or the like or a mixture thereof is preferably used, and the concentration of the acid is used in a range of 0.1 to 5 mol / l, preferably 0.2 to 3 mol / l. . The reaction temperature is 70 ° C
It is preferably carried out in the following, more preferably in the range of −20 ° C. to 50 ° C. Here, the copolymer of aniline and / or N-alkylaniline and aminobenzenesulfonic acid generally has a low sulfone group introduction ratio of 10 to 25% with respect to the aromatic ring, and has poor conductivity and solubility. Not enough. However, copolymers of phenylenediamines and aminobenzenesulfonic acids tend to have a sulfone group introduction ratio as high as 25 to 40% with respect to the aromatic ring, and have good conductivity and solubility in sulfonated polyaniline. Is obtained.

【0025】得られた共重合体は、無溶媒中又は溶媒中
でスルホン化剤によりスルホン化される。フェニレンジ
アミン類とアミノベンゼンスルホン酸類との共重合体は
もちろんのこと、アニリンおよび/またはN−アルキル
アニリンとアミノベンゼンスルホン酸との共重合体は、
既に芳香環の一部にスルホン基を有しているため、ポリ
アニリンと比較してスルホン化剤及び溶媒に対する溶解
性が高く、操作性が向上し、反応がスムースに進行する
ためかスルホン基の導入割合が高くなるという利点があ
る。スルホン化剤は、濃硫酸、発煙硫酸、三酸化硫黄及
び三酸化硫黄錯体等が好ましく用いられる。濃硫酸及び
発煙硫酸を用いてスルホン化する場合は無溶媒中で、三
酸化硫黄及び三酸化硫黄錯体を用いる場合は溶媒中で反
応するのが好ましい。溶媒は、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メ
チルピロリドン、ピリジン等が好ましく用いられる。濃
硫酸及び発煙硫酸は、共重合体1gに対して10〜20
0g、好ましくは20〜100gの範囲で用いられる。
また、三酸化硫黄及び三酸化硫黄錯体は、共重合体1g
に対して1〜100g、好ましくは5〜50g用いられ
る。溶媒は、共重合体1gに対して10〜300g、好
ましくは20〜200g用いられる。反応温度は、20
0℃以下が好ましく、0〜100℃が更に好ましい。得
られたスルホン化物は、スルホン基の導入割合が芳香環
に対して40〜80%へと増加する。
The obtained copolymer is sulfonated with a sulfonating agent without a solvent or in a solvent. Not only copolymers of phenylenediamines and aminobenzenesulfonic acids, but also copolymers of aniline and / or N-alkylaniline and aminobenzenesulfonic acid,
Alcohol already has a sulfone group in part of the aromatic ring, so it has higher solubility in sulfonating agents and solvents than polyaniline, improves operability, and promotes the reaction smoothly. There is an advantage that the ratio increases. As the sulfonating agent, concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid, sulfur trioxide, a sulfur trioxide complex, or the like is preferably used. The reaction is preferably carried out in the absence of a solvent when sulfonating using concentrated sulfuric acid and fuming sulfuric acid, and in a solvent when using sulfur trioxide and a sulfur trioxide complex. The solvent is dimethylformamide,
Dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone, pyridine and the like are preferably used. Concentrated sulfuric acid and fuming sulfuric acid are 10 to 20 with respect to 1 g of the copolymer.
0 g, preferably in the range of 20 to 100 g.
The sulfur trioxide and the sulfur trioxide complex are 1 g of the copolymer.
1 to 100 g, preferably 5 to 50 g. The solvent is used in an amount of 10 to 300 g, preferably 20 to 200 g, per 1 g of the copolymer. The reaction temperature is 20
The temperature is preferably 0 ° C or lower, more preferably 0 to 100 ° C. In the obtained sulfonated product, the introduction ratio of the sulfone group is increased to 40 to 80% with respect to the aromatic ring.

【0026】かくして得られたスルホン化ポリアニリン
は、300〜500,000の平均重量分子量を有し、
アンモニア及びアルキルアミン等の塩基又は酢酸アンモ
ニウム、シュウ酸アンモニウム等の前記塩基のカチオン
を含む水又はメチルアルコール、エチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール等の溶媒又はそれらの混合物に溶
解することができる。
The sulfonated polyaniline thus obtained has an average molecular weight of 300 to 500,000,
It can be dissolved in water containing a cation of a base such as ammonia and alkylamine or the above-mentioned base such as ammonium acetate and ammonium oxalate, a solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol and isopropyl alcohol, or a mixture thereof.

【0027】導電体におけるスルホン基を含むアニリン
系導電性ポリマー類(a)または(f)と高分子化合物
(b)の比率は、(a)または(f)/(b)=0.0
25/100〜100/0.5 であり、好ましくは、
(a)または(f)/(b)=0.15 /100〜1
00/1 である。アニリン系導電性ポリマー類
(a)または(f)が、この比率以外の場合、導電性の
低下や平坦性及び透明性が悪化する。高分子化合物
(b)が、この比率以外の場合は、膜の硬度、耐摩耗
性、導電性などが低下したり、基板との接着性が悪化す
る。また、前記成分(a)と(c)の使用割合は、
(c)100重量部に対して0.1〜20重量部であ
り、好ましくは0.5〜15重量部である。成分(a)
の割合が0.1重量部未満では導電性が劣ることにな
り、一方20重量部を超えると溶解性、平坦性、及び透
明性が悪くなるとともに導電性はピークに達しており増
加しない。
The ratio of the aniline-based conductive polymers (a) or (f) containing a sulfone group in the conductor to the polymer compound (b) is (a) or (f) / (b) = 0.0
25/100 to 100 / 0.5, preferably
(A) or (f) / (b) = 0.15 / 100-1
00/1. When the ratio of the aniline-based conductive polymers (a) or (f) is other than this ratio, the conductivity decreases, and the flatness and the transparency deteriorate. If the proportion of the polymer compound (b) is other than this ratio, the hardness, abrasion resistance, conductivity and the like of the film are reduced, and the adhesion to the substrate is deteriorated. The proportion of the components (a) and (c) used is as follows:
(C) 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 15 parts by weight, per 100 parts by weight. Component (a)
If the ratio is less than 0.1 part by weight, the conductivity will be inferior. On the other hand, if it exceeds 20 parts by weight, the solubility, flatness and transparency will deteriorate, and the conductivity will peak and will not increase.

【0028】本発明に用いられる組成物の構成成分
(c)水は単独でも用いられるが、水と相溶性のある有
機溶媒の一種以上を任意の割合で混合して用いることも
できる。有機溶媒は、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセト
ン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ類、メチ
ルプロピレングリコール、エチルプロピレングリコール
などのプロピレングリコール類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、N−メチル
ピロリドン、N−エチルピロリドンなどのピロリドン類
などを挙げることができる。用いられる割合は、水/有
機溶媒=1/100〜100/0が好ましい。
The water component (c) of the composition used in the present invention may be used alone, but may be used by mixing at least one kind of an organic solvent compatible with water at an arbitrary ratio. Organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and isopropanol; ketones such as acetone and methyl isobutyl ketone; cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; propylene glycols such as methyl propylene glycol and ethyl propylene glycol; Examples include amides such as formamide and dimethylacetamide, and pyrrolidones such as N-methylpyrrolidone and N-ethylpyrrolidone. The ratio used is preferably water / organic solvent = 1/100 to 100/0.

【0029】本発明の導電性組成物および導電体の構成
成分(b)はそれぞれ単独でも用いられるが、二種以上
の任意の割合で混合したものであってもよい。水溶性高
分子化合物は、ポリビニルアルコール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルコ
ール類、ポリアクリルアマイド、ポリ(N−t−ブチル
アクリルアマイド)、ポリアクリルアマイドメチルプロ
パンスルホン酸などのポリアクリルアマイド類、ポリビ
ニルピロリドン類、水溶性アルキド樹脂、水溶性メラミ
ン樹脂、水溶性尿素樹脂、水溶性フェノール樹脂、水溶
性エポキシ樹脂、水溶性ポリブタジエン樹脂、水溶性ア
クリル樹脂、水溶性ウレタン樹脂、水溶性アクリル/ス
チレン共重合樹脂、水溶性酢酸ビニル/アクリル共重合
樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、水溶性スチレン/マレ
イン酸共重合樹脂及びこれらの共重合体などが用いられ
る。水系でエマルジョンを形成する高分子化合物は、水
系アルキド樹脂、水系メラミン樹脂、水系尿素樹脂、水
系フェノール樹脂、水系エポキシ樹脂、水系ポリブタジ
エン樹脂、水系アクリル樹脂、水系ウレタン樹脂、水系
アクリル/スチレン共重合樹脂、水系酢酸ビニル/アク
リル共重合樹脂、水系ポリエステル樹脂、水系スチレン
/マレイン酸共重合樹脂、水系アクリル/シリカ樹脂及
びこれらの共重合体などが用いられる。
The component (b) of the conductive composition and the conductor of the present invention may be used alone or in combination of two or more in any ratio. Water-soluble polymer compounds include polyvinyl alcohols such as polyvinyl alcohol, polyvinyl formal and polyvinyl butyral, polyacrylamides, poly (Nt-butylacrylamide), polyacrylamides such as polyacrylamide methylpropanesulfonic acid, Polyvinyl pyrrolidone, water soluble alkyd resin, water soluble melamine resin, water soluble urea resin, water soluble phenol resin, water soluble epoxy resin, water soluble polybutadiene resin, water soluble acrylic resin, water soluble urethane resin, water soluble acrylic / styrene Polymer resins, water-soluble vinyl acetate / acrylic copolymer resins, water-soluble polyester resins, water-soluble styrene / maleic acid copolymer resins, and copolymers thereof are used. Aqueous polymer compounds that form emulsions include aqueous alkyd resins, aqueous melamine resins, aqueous urea resins, aqueous phenol resins, aqueous epoxy resins, aqueous polybutadiene resins, aqueous acrylic resins, aqueous urethane resins, and aqueous acrylic / styrene copolymer resins. Water-based vinyl acetate / acrylic copolymer resins, water-based polyester resins, water-based styrene / maleic acid copolymer resins, water-based acrylic / silica resins, and copolymers thereof are used.

【0030】成分(b)高分子化合物の使用割合は成分
(c)水100重量部に対して0.1〜400重量部で
あり、好ましくは0.5〜300重量部である。0.1
重量部未満では成膜性、成形性、強度が劣ることにな
り、一方400重量部を超えると成分(a)または
(f)のスルホン基を含むアニリン系導電性ポリマー類
の溶解性が低下したり、導電性が劣ることになる。
The proportion of the polymer compound (b) used is 0.1 to 400 parts by weight, preferably 0.5 to 300 parts by weight, per 100 parts by weight of the component (c) water. 0.1
If the amount is less than part by weight, the film formability, moldability, and strength will be inferior, while if it exceeds 400 parts by weight, the solubility of the aniline-based conductive polymer containing a sulfone group of the component (a) or (f) will decrease. Or poor conductivity.

【0031】本発明で用いられる組成物の構成成分
(d)の含窒素化合物は、例えば式(II)、式(III)
で表される化合物が用いられる。用いられるアミン類の
構造式を式(II)に示す。
The nitrogen-containing compound as the component (d) of the composition used in the present invention is, for example, a compound represented by the formula (II) or (III)
The compound represented by is used. The structural formula of the amines used is shown in formula (II).

【0032】[0032]

【化2】 式中、R1〜R3は各々互いに独立に水素、炭素数1〜4
(C1〜C4)のアルキル基、CH2OH、CH2CH2
H、CONH2又はNH2を表す。更に用いられる四級ア
ンモニウム塩類の構造式を式(III)に示す。
Embedded image In the formula, R 1 to R 3 each independently represent hydrogen, carbon number 1 to 4
(C 1 -C 4 ) alkyl group, CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
Represents H, CONH 2 or NH 2 . Further, the structural formula of the quaternary ammonium salts used is shown in formula (III).

【0033】[0033]

【化3】 式中、R1〜R4は各々互いに独立に水素、炭素数1〜4
(C1〜C4)のアルキル基、CH2OH、CH2CH2
H、CONH2又はNH2を表し;X-はOH-、1/2・
SO4 2-、NO3 -、1/2CO3 2-、HCO3 -、1/2・
(COO)2 2-、又はR′COO-〔式中、R′は炭素数
1〜3(C1〜C3)のアルキル基である〕を表す。
Embedded image In the formula, R 1 to R 4 each independently represent hydrogen, carbon number 1 to 4
(C 1 -C 4 ) alkyl group, CH 2 OH, CH 2 CH 2 O
H, CONH 2 or NH 2 ; X is OH , 1/2 ·
SO 4 2− , NO 3 , 1 / 2CO 3 2− , HCO 3 , 1/2 ·
(COO) 2 2− or R′COO , wherein R ′ is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (C 1 to C 3 ).

【0034】上記含窒素化合物成分(d)は、これらの
アミン類とアンモニウム塩類を混合して用いることによ
り更に導電性を向上させることができる。具体的には、
NH3/(NH42CO3、NH3/(NH4)HCO3
NH3/(NH4)HCO3、NH3/CH3COONH4
NH3/(NH42SO4、N(CH33/(NH4)H
CO3、N(CH33/CH3COONH4、N(CH3
3/(NH42SO4などが挙げられる。また、これらの
混合比は任意の割合で用いることができるが、アミン類
/アンモニウム塩類=1/10〜10/0が好ましい。
The conductivity of the nitrogen-containing compound component (d) can be further improved by using a mixture of these amines and ammonium salts. In particular,
NH 3 / (NH 4 ) 2 CO 3 , NH 3 / (NH 4 ) HCO 3 ,
NH 3 / (NH 4 ) HCO 3 , NH 3 / CH 3 COONH 4 ,
NH 3 / (NH 4 ) 2 SO 4 , N (CH 3 ) 3 / (NH 4 ) H
CO 3 , N (CH 3 ) 3 / CH 3 COONH 4 , N (CH 3 )
3 / (NH 4 ) 2 SO 4 and the like. The mixing ratio of these may be any ratio, but it is preferable that amines / ammonium salts = 1/10 to 10/0.

【0035】含窒素化合物成分(d)の使合割合は成分
(c)100重量部に対して0.01〜30重量部、好
ましくは0.5〜20重量部である。成分(d)の割合
が0.01重量部未満では成分(a)の溶解性が十分で
はなく、一方30重量部を超えると溶液が強塩基性を示
し、成分(a)の分解が促進されるため導電性が劣るこ
ととなる。なお、溶液のpHは、含窒素化合物の濃度、
種類及び混合比率で任意に調節することができ、pH5
〜12の範囲で用いることができる。
The proportion of the nitrogen-containing compound component (d) is 0.01 to 30 parts by weight, preferably 0.5 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the component (c). When the proportion of the component (d) is less than 0.01 part by weight, the solubility of the component (a) is not sufficient. On the other hand, when the proportion exceeds 30 parts by weight, the solution shows strong basicity, and the decomposition of the component (a) is accelerated. Therefore, the conductivity is inferior. The pH of the solution is determined by the concentration of the nitrogen-containing compound,
PH and pH can be arbitrarily adjusted by the type and mixing ratio.
It can be used in the range of ~ 12.

【0036】本発明の導電性組成物は、前記成分(a)
または(f)、(b)、(c)及び(d)の成分のみで
も性能の良い膜を形成することが可能であるが、界面活
性剤(e)を加えると更に平坦性、塗布性及び導電性な
どが向上する。界面活性剤(e)は、アルキルスルホン
酸、アルキルベンゼンスルホン酸、アルキルカルボン酸
などの陰イオン界面活性剤、アルキルアミン、アルキル
四級アミンなどの陽イオン界面活性剤、カルボキシベン
ダイン、アミノカルボン酸などの両性界面活性剤、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン
ソルビタン脂肪酸エステルなどの非イオン界面活性剤及
びフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキル
カルボン酸、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン
酸、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノー
ルなどのフッ素系界面活性剤が用いられる。なお、界面
活性剤は二種以上用いても何らさしつかえない。
The conductive composition of the present invention comprises the component (a)
Alternatively, a film with good performance can be formed only by the components (f), (b), (c) and (d). However, when the surfactant (e) is added, flatness, coatability and the like are further improved. The conductivity and the like are improved. Surfactant (e) includes anionic surfactants such as alkyl sulfonic acid, alkyl benzene sulfonic acid and alkyl carboxylic acid, cationic surfactants such as alkyl amine and alkyl quaternary amine, carboxybendaine, amino carboxylic acid and the like. Amphoteric surfactants, nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, and fluoroalkyl carboxylic acids, perfluoroalkyl carboxylic acids, perfluoroalkyl benzene sulfonic acids, perfluoroalkyl polyoxyethylene ethanol A fluorine-based surfactant such as In addition, even if it uses two or more surfactants, there is no problem.

【0037】構成成分(e)の使用割合は、成分(c)
水100重量部に対して0〜10重量部、好ましくは0
〜5重量部である。成分(e)の割合が10重量部を超
えると塗布性は向上するが、平坦性が低下したり、平坦
性は向上するが導電性が劣るなどの現象が生じる。さら
に本発明に用いられる導電性組成物には、必要に応じ
て、保存安定剤、接着助剤などを添加することができ
る。
The proportion of component (e) used is determined by the proportion of component (c)
0 to 10 parts by weight, preferably 0 to 100 parts by weight of water
-5 parts by weight. When the proportion of the component (e) exceeds 10 parts by weight, the coating properties are improved, but the flatness is reduced, and the flatness is improved, but phenomena such as poor conductivity are caused. Further, a storage stabilizer, an adhesion aid, and the like can be added to the conductive composition used in the present invention, if necessary.

【0038】本発明による導電性組成物は、水(c)に
スルホン基を全芳香環に対して15〜80%の割合で含
有するアニリン系導電性ポリマー類(a)または
(f)、水溶性高分子化合物及び水系でエマルジョンを
形成する高分子化合物から選ばれた少なくとも一種の高
分子化合物(b)およびアミン類及び第四級アンモニウ
ム塩類から選ばれた少なくとも一種の含窒素化合物
(d)を添加し、室温下で又は加熱撹拌して完全に溶解
するか、又は混和して調製する。室温で固形分が析出す
る場合はろ別して用いる。また、本発明の導電体は、前
記のようにして調製した導電性組成物を基材に塗布する
ことにより形成することが可能である。これらの成分を
混合する際、スパイラルミキサー、プラネタリーミキサ
ー、ディスパーサー、ハイブリットミキサーなどのブレ
ード型撹拌混練装置が好適に用いられる。なお、この後
更にボールミル、振動ミル、サンドミル、ロールミルな
どのボール型混練装置を用いて分散溶解を徹底化するこ
とが望ましい。
The conductive composition according to the present invention comprises an aniline-based conductive polymer (a) or (f) containing a sulfone group in water (c) at a ratio of 15 to 80% based on the total aromatic ring; At least one polymer compound (b) selected from a water-soluble polymer compound and a polymer compound that forms an emulsion in an aqueous system, and at least one nitrogen-containing compound (d) selected from amines and quaternary ammonium salts. Add and mix completely at room temperature or with heating and stirring, or prepare by mixing. If solids precipitate at room temperature, they are filtered and used. The conductor of the present invention can be formed by applying the conductive composition prepared as described above to a substrate. When mixing these components, a blade-type stirring and kneading device such as a spiral mixer, a planetary mixer, a disperser, or a hybrid mixer is preferably used. After this, it is desirable to further thoroughly disperse and dissolve using a ball-type kneading apparatus such as a ball mill, a vibration mill, a sand mill, and a roll mill.

【0039】本発明の導電体の形成方法として用いられ
る導電性組成物は、一般の塗料に用いられる方法によっ
て基材の表面に加工される。例えばグラビアコーター、
ロールコーター、カーテンフローコーター、スピンコー
ター、バーコーター、リバースコーター、キスコータ
ー、ファンテンコーター、ロッドコーター、エアドクタ
ーコーター、ナイフコーター、ブレードコーター、キャ
ストコーティング、スクリーンコーティングなどの塗布
法、スプレーコーティングなどの噴霧法、ディップなど
の浸漬法などが用いられる。
The conductive composition used as a method for forming a conductor according to the present invention is processed on the surface of a substrate by a method used for general paints. For example, gravure coater,
Roll coater, curtain flow coater, spin coater, bar coater, reverse coater, kiss coater, fountain coater, rod coater, air doctor coater, knife coater, blade coater, cast coating, coating method such as screen coating, spraying such as spray coating A dipping method such as a dipping method is used.

【0040】導電性組成物によって形成される透明導電
性高分子膜は、膜厚0.01〜1000μmに成膜が可
能であるが、膜厚が大きいと透明導電性高分子膜の透明
性が低下するので、なるべく薄いことが要求され、好ま
しくは0.01〜500μmの範囲、更に好ましくは
0.02〜100μmの範囲とするのがよい。また、上
記の厚さの透明導電性高分子膜を得るためには、導電性
組成物の粘度を1000cp以下、好ましくは1〜50
0cpの範囲とし、固形分量0.1〜80重量%の範囲
とすることが好ましい。
The transparent conductive polymer film formed from the conductive composition can be formed to a thickness of 0.01 to 1000 μm, but if the film thickness is large, the transparency of the transparent conductive polymer film becomes poor. Therefore, it is required to be as thin as possible, preferably in the range of 0.01 to 500 μm, more preferably in the range of 0.02 to 100 μm. Further, in order to obtain a transparent conductive polymer film having the above thickness, the viscosity of the conductive composition is 1000 cp or less, preferably 1 to 50 cp.
It is preferably in the range of 0 cp and the solid content is in the range of 0.1 to 80% by weight.

【0041】導電性組成物を塗工する基材としては、高
分子化合物、木材、紙材、セラミックス及びそのフィル
ムまたはガラス板などが用いられる。例えば高分子化合
物及びフィルムとしては、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエステル、A
BS樹脂、AS樹脂、メタクリル樹脂、ポリブタジエ
ン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリフッ化ビ
ニリデン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアラミド、ポ
リフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルニトリル、
ポリアミドイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリサル
フォン、ポリエーテルイミド、ポリブチレンテレフタレ
ート及びそのフィルムなどがある。これらの高分子フィ
ルムは、少なくともその一つの面に透明導電性高分子膜
を形成させるため、該高分子膜の密着性を向上させる目
的で上記フィルム表面をコロナ表面処理またはプラズマ
処理することが好ましい。また、基材に透明導電性高分
子膜を形成した後の加熱処理は、250℃以下、好まし
くは40〜200℃の範囲で処理することにより導電体
が形成される。
As a substrate on which the conductive composition is applied, a polymer compound, wood, paper, ceramics, a film thereof, a glass plate, or the like is used. For example, as the polymer compound and the film, polyethylene, polyvinyl chloride, polypropylene, polystyrene, polyester, A
BS resin, AS resin, methacrylic resin, polybutadiene, polycarbonate, polyarylate, polyvinylidene fluoride, polyamide, polyimide, polyaramid, polyphenylene sulfide, polyetheretherketone, polyphenyleneether, polyethernitrile,
Examples include polyamide imide, polyether sulfone, polysulfone, polyether imide, polybutylene terephthalate, and films thereof. For these polymer films, in order to form a transparent conductive polymer film on at least one surface thereof, it is preferable to perform a corona surface treatment or a plasma treatment on the film surface for the purpose of improving the adhesion of the polymer film. . The heat treatment after forming the transparent conductive polymer film on the base material is performed at 250 ° C. or lower, preferably in the range of 40 to 200 ° C., to form the conductor.

【0042】[0042]

【実施例】実施例1 アニリン10重量部とm−アミノベンゼンスルホン酸1
8重量部を塩酸酸性条件下ペルオキソ二硫酸アンモニウ
ムで重合し、共重合体を合成した。この共重合体を発煙
硫酸640重量部で更にスルホン化し、スルホン化ポリ
アニリンを合成した。この化合物はIRスペクトル(図
2、1500cm-1付近:スルホン化ポリアニリンの骨
格、1100cm-1付近:スルホン基の吸収)において
スルホン化ポリアニリン特有の吸収が認められた。な
お、得られたスルホン化ポリアニリンのスルホン基の含
有量は48%であった。上記スルホン化ポリアニリン2
重量部、水系でエマルジョンを形成するウレタン樹脂
「アデカボンタイター232」(旭電化工業(株)製)
50重量部、アンモニア0.3重量部を水100重量部
に室温で撹拌混和し導電性エマルジョン組成物を調製し
た。このようにして得られた溶液を厚さ1mmのガラス
基板上にディップ法により塗布し、100℃、2分間乾
燥させた。形成された膜に残留する(d)成分は、膜の
重量に対し、1%以下である。膜厚3μmの表面の平滑
な表面抵抗値1.5×106Ω/□のフィルムが得られ
た。
EXAMPLES Example 1 10 parts by weight of aniline and m-aminobenzenesulfonic acid 1
Eight parts by weight was polymerized with ammonium peroxodisulfate under acidic conditions of hydrochloric acid to synthesize a copolymer. This copolymer was further sulfonated with 640 parts by weight of fuming sulfuric acid to synthesize a sulfonated polyaniline. This compound IR spectrum (FIG 2,1500Cm -1 vicinity: backbone of the sulfonated polyaniline, 1100 cm -1 vicinity Sulfonated absorption of group) sulfonated polyaniline-specific absorption was observed in. In addition, the content of the sulfone group of the obtained sulfonated polyaniline was 48%. The above sulfonated polyaniline 2
Urethane resin "Adekabon Titer 232" which forms an emulsion in parts by weight and water system (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)
50 parts by weight and 0.3 parts by weight of ammonia were stirred and mixed with 100 parts by weight of water at room temperature to prepare a conductive emulsion composition. The solution thus obtained was applied on a glass substrate having a thickness of 1 mm by a dipping method, and dried at 100 ° C. for 2 minutes. The component (d) remaining in the formed film is 1% or less based on the weight of the film. A film having a smooth surface resistance of 1.5 × 10 6 Ω / □ with a thickness of 3 μm was obtained.

【0043】実施例2 アニリン10重量部、N−メチルアニリン1.3重量部
及びm−アミノベンゼンスルホン酸20重量部を硫酸酸
性条件下ペルオキソ二硫酸アンモニウムで重合し、共重
合体を合成した。この共重合体を濃硫酸1530重量部
で更にスルホン化し、スルホン化ポリアニリンを合成し
た。この化合物はIRスペクトル(図4、1500cm
-1付近:スルホン化ポリアニリンの骨格、1100cm
-1付近:スルホン基の吸収)においてスルホン化ポリア
ニリン特有の吸収が認められた。なお、得られたスルホ
ン化ポリアニリンのスルホン基の含有量は49%であっ
た。上記スルホン化ポリアニリン5重量部、水系でエマ
ルジョンを形成するアクリル/スチレン樹脂「ニカゾー
ルRX−832A」(日本カーバイド工業(株)製)7
0重量部、アンモニア1.0重量部を水/イソプロピル
アコール(1/1)100重量部に室温で撹拌混和し導
電性エマルジョン組成物を調製した。このようにして得
られた溶液を前記PETフィルム上にキャスト法により
塗布し、100℃、2分間乾燥させた。形成された膜に
残留する(d)成分は、膜の重量に対し、1%以下であ
る。膜厚3.5μmの表面の平滑な表面抵抗値2.5×
106Ω/□のフィルムが得られた。
Example 2 10 parts by weight of aniline, 1.3 parts by weight of N-methylaniline and 20 parts by weight of m-aminobenzenesulfonic acid were polymerized with ammonium peroxodisulfate under acidic conditions of sulfuric acid to synthesize a copolymer. This copolymer was further sulfonated with 1530 parts by weight of concentrated sulfuric acid to synthesize a sulfonated polyaniline. This compound has an IR spectrum (FIG. 4, 1500 cm
Around -1 : Sulfonated polyaniline skeleton, 1100cm
Around -1 : absorption of sulfone group), absorption specific to sulfonated polyaniline was observed. In addition, the content of the sulfone group of the obtained sulfonated polyaniline was 49%. Acrylic / styrene resin "Nicazole RX-832A" (Nippon Carbide Industrial Co., Ltd.) 7 which forms an emulsion with 5 parts by weight of the above-mentioned sulfonated polyaniline and water system.
0 parts by weight and 1.0 parts by weight of ammonia were stirred and mixed at room temperature with 100 parts by weight of water / isopropyl alcohol (1/1) to prepare a conductive emulsion composition. The solution thus obtained was applied on the PET film by a casting method, and dried at 100 ° C. for 2 minutes. The component (d) remaining in the formed film is 1% or less based on the weight of the film. Smooth surface resistance of 3.5 μm thick surface 2.5 ×
A film of 10 6 Ω / □ was obtained.

【0044】実施例3 アニリン10重量部、2−アミノアニソール−4−スル
ホン酸20重量部を硫酸酸性条件下ペルオキソ二硫酸ア
ンモニウムで共重合し、芳香環にスルホン基を有するポ
リアニリンを合成した。この化合物はIRスペクトル
(図5、1500cm-1付近:スルホン化ポリアニリン
の骨格、1100cm-1付近:スルホン基の吸収)にお
いてスルホン化ポリアニリン特有の吸収が認められた。
なお、得られた芳香環にスルホン基を有するポリアニリ
ンのスルホン基の含有量は48%であった。上記芳香環
にスルホン基を有するポリアニリン2重量部、水系でエ
マルジョンを形成するエポキシ樹脂「アデカレジン E
PE−0410」(旭電化工業(株)製)50重量部、
アンモニア0.5重量部を水100重量部に室温で撹拌
混和し導電性エマルジョン組成物を調製した。このよう
にして得られた溶液を厚さ1mmのガラス基板上にスピ
ンコート法により塗布し、100℃、2分間乾燥させ
た。形成された膜に残留する(d)成分は、膜の重量に
対し、1%以下である。膜厚2.0μmの表面の平滑な
表面抵抗値1.5×106Ω/□のフィルムが得られ
た。
Example 3 10 parts by weight of aniline and 20 parts by weight of 2-aminoanisole-4-sulfonic acid were copolymerized with ammonium peroxodisulfate under sulfuric acid conditions to synthesize polyaniline having a sulfone group on an aromatic ring. This compound IR spectrum (FIG 5,1500Cm -1 vicinity: backbone of the sulfonated polyaniline, 1100 cm -1 vicinity Sulfonated absorption of group) sulfonated polyaniline-specific absorption was observed in.
In addition, the content of the sulfone group of the obtained polyaniline having a sulfone group in the aromatic ring was 48%. The epoxy resin “Adekaresin E” which forms an emulsion with 2 parts by weight of the polyaniline having a sulfone group in the aromatic ring and an aqueous system
PE-0410 "(manufactured by Asahi Denka Kogyo KK) 50 parts by weight,
0.5 part by weight of ammonia was stirred and mixed with 100 parts by weight of water at room temperature to prepare a conductive emulsion composition. The solution thus obtained was applied on a glass substrate having a thickness of 1 mm by spin coating, and dried at 100 ° C. for 2 minutes. The component (d) remaining in the formed film is 1% or less based on the weight of the film. As a result, a film having a smooth surface resistance of 1.5 × 10 6 Ω / □ having a thickness of 2.0 μm was obtained.

【0045】実施例4 実施例2で合成したスルホン化ポリアニリンに関してス
ルホン化ポリアニリン2重量部、水系でエマルジョンを
形成するウレタン樹脂「アデカボンタイター232」
(旭電化工業(株)製)50重量部、トリエチルアミン
40重量部を水100重量部に室温で撹拌混和し導電性
エマルジョン組成物を調製した。このようにして得られ
た溶液をガラス基板上にスピンコート法により塗布し、
100℃で乾燥させた。膜厚3μmの表面の平滑な表面
抵抗値6.5×109Ω/□のフィルムが得られた。
Example 4 With respect to the sulfonated polyaniline synthesized in Example 2, 2 parts by weight of the sulfonated polyaniline, a urethane resin "Adekabon Titer 232" which forms an emulsion in an aqueous system
50 parts by weight (manufactured by Asahi Denka Kogyo KK) and 40 parts by weight of triethylamine were stirred and mixed at room temperature with 100 parts by weight of water to prepare a conductive emulsion composition. The solution thus obtained is applied on a glass substrate by a spin coating method,
Dried at 100 ° C. A film having a smooth surface resistance of 6.5 × 10 9 Ω / □ on the surface having a thickness of 3 μm was obtained.

【0046】比較例1 実施例3で合成したスルホン化ポリアニリンに関してス
ルホン化ポリアニリン3重量部、トリメチルアミン1.
3重量部、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸
0.05重量部を水100重量部に室温で撹拌溶解し、
導電性組成物を調製した。このようにして得られた溶液
をガラス基板上にスピンコート法により塗布し、100
℃で乾燥させた。膜厚0.3μmの表面の円滑な表面抵
抗値1.5×106Ω/□のフイルムが得られたが、水
溶性高分子化合物を添加した組成物を使用して得られた
実施例3のフイルムに比較してガラス基板との接着性が
著しく悪化し、耐摩擦性が低下した。
Comparative Example 1 With respect to the sulfonated polyaniline synthesized in Example 3, 3 parts by weight of the sulfonated polyaniline and trimethylamine 1.
3 parts by weight, 0.05 parts by weight of perfluoroalkylbenzenesulfonic acid were dissolved in 100 parts by weight of water at room temperature with stirring.
A conductive composition was prepared. The solution thus obtained was applied on a glass substrate by spin coating,
Dry at ℃. A film having a smooth surface resistance of 1.5 × 10 6 Ω / □ on the surface having a thickness of 0.3 μm was obtained, but Example 3 was obtained using a composition to which a water-soluble polymer compound was added. The adhesiveness to the glass substrate was remarkably deteriorated, and the abrasion resistance was lowered as compared with the film No.

【0047】比較例2 実施例2で合成したスルホン化ポリアニリンに関してス
ルホン化ポリアニリン2重量部、水系でエマルジョンを
形成するウレタン樹脂「アデカボンタイター232」
〔旭電化工業(株)製〕50重量部、水酸化ナトリウム
1.5重量部を水100重量部に室温で撹拌混和し導電
性エマルジョン組成物を調製した。このようにして得ら
れた溶液をガラス基板上にスピンコート法により塗布
し、100℃で乾燥させた。膜厚0.3μmの表面の円
滑なフイルムが得られたが、アンモニアを使用する実施
例2で得られたフイルムに比較して表面抵抗値が増大
し、1.0×1012Ω/□以上の表面抵抗値を有する。
Comparative Example 2 With respect to the sulfonated polyaniline synthesized in Example 2, 2 parts by weight of the sulfonated polyaniline, an urethane resin “Adekabon titer 232” forming an emulsion in an aqueous system
[Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.] 50 parts by weight and 1.5 parts by weight of sodium hydroxide were stirred and mixed at room temperature with 100 parts by weight of water to prepare a conductive emulsion composition. The solution thus obtained was applied on a glass substrate by a spin coating method, and dried at 100 ° C. Although a 0.3 μm thick film having a smooth surface was obtained, the surface resistance was increased as compared with the film obtained in Example 2 using ammonia, and was 1.0 × 10 12 Ω / □ or more. Having a surface resistance value of

【0048】以下、本発明の実施の態様を示す。 1.スルホン基を全芳香環に対して15〜80%の割合
で含有するアニリン系導電性ポリマー類(a)、水溶性
高分子化合物及び水系でエマルジヨンを形成する高分子
化合物よりなる群から選ばれた少なくとも一種の高分子
化合物(b)、水(c)とアンモニア、アミン類及び第
四級アンモニウム塩類よりなる群から選ばれた少なくと
も一種の含窒素化合物(d)を含有することを特徴とす
るエマルジョン導電性組成物。 2.前記アニリン系導電性ポリマー(a)が、アニリ
ン、N−アルキルアニリンおよびフェニレンジアミン類
よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物(A)
と、アミノベンゼンスルホン酸(C)との共重合体のス
ルホン化物であることを特徴とするアニリン系共重合体
スルホン化物である前記1の導電性組成物。 3.(A)グループモノマーと(C)グループモノマー
との重量比が、(A)グループモノマー100重量部に
対してCグループモノマー10〜500重量部である前
記2の導電性組成物。 4.前記アニリン系導電性ポリマー(a)が、アニリ
ン、N−アルキルアニリンおよびフェニレンジアミン類
よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物(A)
と、アミノベンゼンスルホン酸(C)との共重合体のス
ルホン化物であることを特徴とするアニリン系共重合体
スルホン化物である前記1〜3の導電性組成物。 5.アニリン、N−アルキルアニリンおよびフェニレン
ジアミン類よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化
合物(A)と、アルコキシ置換基アミノベンゼンスルホ
ン酸類(B)とを共重合させたことにより得られたスル
ホン基を全芳香環に対して15〜80%の割合で含有す
るアニリン系導電性ポリマー(f)、水溶性高分子化合
物及び水系でエマルジョンを形成する高分子化合物より
なる群から選ばれた少なくとも一種の高分子化合物
(b)、水(c)とアミン類及び第四級アンモニウム塩
類よりなる群から選ばれた少なくとも一種の含窒素化合
物(d)を含有することを特徴とする導電性組成物。 6.(A)グループモノマーと(B)グループモノマー
との重量比は、A:B=8:2〜1:9、好ましくは
A:B=7:3〜2:8である前記5の導電性組成物。 7.界面活性剤(e)を含有させた前記1〜5の導電性
組成物。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. 1. It is selected from the group consisting of aniline-based conductive polymers (a) containing a sulfone group at a ratio of 15 to 80% with respect to the total aromatic ring, water-soluble polymer compounds, and polymer compounds forming an emulsion in an aqueous system. An emulsion comprising at least one polymer compound (b), water (c) and at least one nitrogen-containing compound (d) selected from the group consisting of ammonia, amines and quaternary ammonium salts. Conductive composition. 2. The aniline-based conductive polymer (a) is at least one compound (A) selected from the group consisting of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamines
The conductive composition according to 1 above, which is a sulfonated aniline-based copolymer, which is a sulfonated product of a copolymer of aniline-based copolymer and aminobenzenesulfonic acid (C). 3. The conductive composition according to the above 2, wherein the weight ratio of the (A) group monomer to the (C) group monomer is 10 to 500 parts by weight of the C group monomer with respect to 100 parts by weight of the (A) group monomer. 4. The aniline-based conductive polymer (a) is at least one compound (A) selected from the group consisting of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamines
The conductive composition according to any one of the above items 1 to 3, which is a sulfonated aniline-based copolymer, which is a sulfonated product of a copolymer of aniline-based copolymer with aminobenzenesulfonic acid (C). 5. A sulfone group obtained by copolymerizing at least one compound (A) selected from the group consisting of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamines with an alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acid (B) At least one selected from the group consisting of an aniline-based conductive polymer (f) containing 15 to 80% of a total aromatic ring, a water-soluble polymer compound, and a polymer compound which forms an emulsion in an aqueous system. A conductive composition comprising a polymer compound (b), water (c), and at least one nitrogen-containing compound (d) selected from the group consisting of amines and quaternary ammonium salts. 6. The weight ratio of the (A) group monomer to the (B) group monomer is A: B = 8: 2-1: 9, preferably A: B = 7: 3-2: 8. Stuff. 7. The conductive composition according to any one of the above 1 to 5, further comprising a surfactant (e).

【0049】8.前記成分(a)または(f)と成分
(b)の使用割合(重量割合)は、(a)または(f)
/(b)=0.025/100〜100/0.5、好ま
しくは(a)または(f)/(b)=0.15/100
〜100/1である前記1〜7の導電性組成物。 9.前記成分(a)または(f)と成分(c)の使用割
合は、(c)成分100重量部に対して0.1〜20重
量部、好ましくは0.5〜15重量部である前記1〜8
の導電性組成物。 10.成分(b)と成分(c)の使用割合は、成分
(b)が成分(c)100重量部に対して、0.1〜4
00重量部、好ましくは0.5〜300重量部である前
記1〜9の導電性組成物。 11.成分(d)と成分(c)の使用割合は、成分
(d)が成分(c)100重量部に対して、0.01〜
30重量部、好ましくは0.5〜20重量部である前記
1〜10の導電性組成物。 12.成分(e)と成分(c)の使用割合は、成分
(e)が成分(c)100重量部に対して0〜10重量
部、好ましくは0〜5重量部である前記1〜11の導電
性組成物。
8. The use ratio (weight ratio) of the component (a) or (f) and the component (b) is (a) or (f)
/(B)=0.025/100 to 100 / 0.5, preferably (a) or (f) / (b) = 0.15 / 100
The conductive composition according to any one of the above items 1 to 7, which is 100 to 100/1. 9. Component (a) or (f) and component (c) are used in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 15 parts by weight, per 100 parts by weight of component (c). ~ 8
A conductive composition. 10. Component (b) and component (c) are used in an amount of 0.1 to 4 based on 100 parts by weight of component (b).
The conductive composition according to 1 to 9 above, which is 00 parts by weight, preferably 0.5 to 300 parts by weight. 11. Component (d) and component (c) are used in an amount of 0.01 to 100 parts by weight of component (c).
The conductive composition according to any one of the above 1 to 10, which is 30 parts by weight, preferably 0.5 to 20 parts by weight. 12. Component (e) and component (c) are used in an amount of 0 to 10 parts by weight, preferably 0 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of component (c). Composition.

【0050】13.前記1〜12の導電性高分子膜から
形成されたものであることを特徴とする導電体あるいは
帯電防止体。 14.前記1〜12の導電性組成物を成膜してなる透明
導電性高分子膜を形成した後、常温で放置あるいは加熱
処理することによって作製された前記12の導電体ある
いは帯電防止体。 15.前記アニリン系導電性ポリマーが、アニリン、N
−アルキルアニリンおよびフェニレンジアミン類よりな
る群から選ばれた少なくとも1種の化合物(A)と、ア
ルコキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸類(B)とを
共重合させたことにより得られたアニリン系導電性ポリ
マーである前記13〜14の導電体あるいは帯電防止
体。 16.(A)グループモノマーと(C)グループモノマ
ーとの重量比が、(A)グループモノマー100重量部
に対してCグループモノマー10〜500重量部である
前記15の導電体あるいは帯電防止体。 17.前記アニリン系導電性ポリマーが、アニリン、N
−アルキルアニリンおよびフェニレンジアミン類よりな
る群から選ばれた少なくとも1種の化合物(A)と、ア
ルコキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸類(B)とを
共重合させたことにより得られたスルホン基を全芳香環
に対して15〜80%の割合で含有するアニリン系導電
性ポリマーである前記13〜14の導電体あるいは帯電
防止体。 18.(A)グループモノマーと(B)グループモノマ
ーとの重量比は、A:B=8:2〜1:9、好ましくは
A:B=7:3〜2:8である前記17の導電体あるい
は帯電防止体。 19.導電体あるいは帯電防止体が工業用包装材である
前記13〜18の導電体あるいは帯電防止体。 20.導電体が帯電防止フィルム、オーディオテープ、
ビデオテープ、コンピュータ用テープ、フロッピイディ
スクなどの帯電防止磁気記録用テープである前記13〜
18の導電体あるいは帯電防止体。
13. A conductor or an antistatic body, which is formed from the conductive polymer film of 1 to 12 above. 14. 12. The conductor or antistatic body of 12 produced by forming a transparent conductive polymer film formed by forming a film of the conductive composition of 1 to 12, and then leaving or heating at normal temperature. 15. The aniline-based conductive polymer is aniline, N
An aniline-based conductive polymer obtained by copolymerizing at least one compound (A) selected from the group consisting of alkyl anilines and phenylenediamines with an alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acid (B) 13. The conductor or antistatic body of 13 to 14 above. 16. 15. The conductor or antistatic body according to the above 15, wherein the weight ratio of the (A) group monomer to the (C) group monomer is 10 to 500 parts by weight of the C group monomer with respect to 100 parts by weight of the (A) group monomer. 17. The aniline-based conductive polymer is aniline, N
A sulfone group obtained by copolymerizing at least one compound (A) selected from the group consisting of alkyl anilines and phenylenediamines and an alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acid (B) with a wholly aromatic compound; 13. The conductor or antistatic body according to 13 to 14, which is an aniline-based conductive polymer contained at a ratio of 15 to 80% with respect to the ring. 18. The weight ratio of the group monomer (A) to the group monomer (B) is A: B = 8: 2 to 1: 9, preferably A: B = 7: 3 to 2: 8, or 17 Antistatic body. 19. The conductor or antistatic body according to 13 to 18, wherein the conductor or the antistatic body is an industrial packaging material. 20. Conductors are antistatic film, audio tape,
The above 13 to 13, which are antistatic magnetic recording tapes such as video tapes, computer tapes, floppy disks, etc.
18 conductors or antistatic bodies.

【0051】21.基材の少なくとも一つの面上に、前
記1〜12の導電性組成物を成膜してなる導電性高分子
膜が形成されたものであることを特徴とする導電体ある
いは帯電防止体。 22.基材の少なくとも一つの面上に、前記1〜12の
導電性組成物を塗布して導電性高分子膜を形成した後、
常温で放置あるいは加熱処理することによって作製され
た前記21の導電体、あるいは帯電防止体。 23.加熱処理を40〜250℃の温度範囲で行い、成
分(c)および成分(d)を除去するものである前記2
1〜22の導電体あるいは帯電防止体。 24.前記アニリン系導電性ポリマー類が、アニリン、
N一アルキルアニリンおよびフェニレンンアミン類より
なる群から選ばれた少なくとも1種の化合物(A)と、
アミノベンゼンスルホン酸(C)との共重合体のスルホ
ン化物である前記21〜23の導電体あるいは帯電防止
体。 25.(A)グループモノマーと(C)グループモノマ
ーとの重量比が、(A)グループモノマー100重量部
に対してCグループモノマーが10〜500重量部であ
る前記24の導電体あるいは帯電防止体。 26.前記アニリン系導電性ポリマー類が、アニリン、
N−アルキルアニリンおよびフェニレンンアミンよりな
る群から選ばれた少なくとも1種の化合物(A)と、ア
ルコキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸類(B)とを
共重合させたことにより得られたアニリン系導電性ポリ
マーである前記21〜23の導電体あるいは帯電防止
体。 27.(A)グループモノマーと(B)グループモノマ
ーとの重量比は、A:B=8:2〜19、好ましくは
A:B=7:3〜2:8である前記26の導電体あるい
は帯電防止体。 28.基材がポリマーフィルムである前記21〜27の
導電体あるいは帯電防止体。 29.基材が工業用包装材である前記21〜28の導電
体あるいは帯電防止体。 30.基材がオーディオテープ、ヒデオテープ、コンピ
ュータ用テープ、フロッピイディスクなどの帯電防止磁
気記録用テープである前記21〜28の導電体あるいは
帯電防止体。 31.基材がオーバーヘッドプロジェクタ用フィルム、
スライドフィルム等の電子写真記録材料である前記21
〜28の導電体あるいは帯電防止体。 32.基材が透明タッチパネル、エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイ、液晶ディスプレイなどの入力及び表
示デバイスである前記21〜28の導電体あるいは帯電
防止体。
21. A conductive or antistatic body comprising a conductive polymer film formed by forming a film of the conductive composition of 1 to 12 on at least one surface of a substrate. 22. After forming the conductive polymer film by applying the conductive composition of 1 to 12, on at least one surface of the substrate,
21. The conductor or antistatic body according to 21 above, which is produced by standing or heating at room temperature. 23. The heat treatment is performed in a temperature range of 40 to 250 ° C. to remove the component (c) and the component (d).
1 to 22 conductors or antistatic bodies. 24. The aniline-based conductive polymers, aniline,
At least one compound (A) selected from the group consisting of N-alkylanilines and phenyleneamines;
21. The conductor or antistatic of the above-mentioned 21 to 23, which is a sulfonated product of a copolymer with aminobenzenesulfonic acid (C). 25. The conductor or antistatic body according to the above item 24, wherein the weight ratio of the (A) group monomer to the (C) group monomer is 10 to 500 parts by weight of the C group monomer per 100 parts by weight of the (A) group monomer. 26. The aniline-based conductive polymers, aniline,
Aniline-based conductivity obtained by copolymerizing at least one compound (A) selected from the group consisting of N-alkylaniline and phenylenamine with an alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acid (B) 21. The conductor or antistatic body of the above 21 to 23 which is a polymer. 27. The weight ratio of (A) group monomer to (B) group monomer is A: B = 8: 2 to 19, preferably A: B = 7: 3 to 2: 8. body. 28. The conductor or antistatic member according to any one of the items 21 to 27, wherein the substrate is a polymer film. 29. The conductor or antistatic body according to any one of the items 21 to 28, wherein the base material is an industrial packaging material. 30. The conductor or antistatic body of 21 to 28, wherein the base material is an antistatic magnetic recording tape such as an audio tape, a videotape, a computer tape, a floppy disk and the like. 31. Substrate is film for overhead projector,
The above-mentioned 21 which is an electrophotographic recording material such as a slide film;
To 28 conductors or antistatic bodies. 32. The conductor or antistatic body according to any one of the items 21 to 28, wherein the base material is an input and display device such as a transparent touch panel, an electroluminescent display, or a liquid crystal display.

【0052】33.基材がガラス板である21〜27の
導電体あるいは帯電防止体。 34.基材上に前記1〜12の導電性組成物の膜を形成
した後、常温で放置あるいは加熱処理することを特徴と
する帯電防止法。 35.加熱処理を40〜250℃の温度範囲で行い、
(c)および(d)成分を除去するものである前記34
の帯電防止法。 36.基材が工業用包装材である前記34〜35の帯電
防止法。 37.基材がオーディオテープ、ヒデオテープ、コンピ
ュータ用テープ、フロッピイディスクなどの磁気記録用
テープである前記34〜35の帯電防止法。 38.基材がオーバーヘッドプロジェクタ用フィルム、
スライドフィルム等の電子写真記録材料である前記34
〜35の帯電防止法。
33. The conductor or antistatic body of 21 to 27, wherein the substrate is a glass plate. 34. An antistatic method comprising forming a film of the conductive composition of 1 to 12 above on a substrate, and then leaving the film at room temperature or heating. 35. Performing a heat treatment in a temperature range of 40 to 250 ° C.,
(34) for removing the components (c) and (d)
Antistatic method. 36. The antistatic method according to any of the above items 34 to 35, wherein the base material is an industrial packaging material. 37. The antistatic method according to any one of the above items 34 to 35, wherein the base material is a magnetic recording tape such as an audio tape, a video tape, a computer tape, and a floppy disk. 38. Substrate is film for overhead projector,
34, which is an electrophotographic recording material such as a slide film.
To 35 antistatic methods.

【0053】[0053]

【効果】1.本発明よる導電性組成物は、溶剤として水
が使用可能であり、該組成物を適当な基材に塗布、スプ
レー、キャスト、ディップ及び加熱処理のみで湿度依存
性がなく高い導電性を発現し成膜性、成形性、透明性に
優れた導電性薄膜を得ることができる。 2.本発明においては、スルホン基を含有するアニリン
系導電性ポリマー類及び高分子化合物を含んでなる成膜
性、成形性、透明性に優れた透明導電性高分子膜を、適
当な基材に塗布、スプレー、キャスト、ディップなどの
加工により形成後、常温で放置あるいは加熱処理のみで
湿度依存性がなく高い導電性を発現し、表面抵抗のばら
つきが小さい導電体を得ることができる。
[Effect] 1. Water can be used as a solvent for the conductive composition according to the present invention, and the composition is applied to an appropriate substrate, sprayed, cast, dipped, and exhibits high conductivity without humidity dependence only by heat treatment. A conductive thin film having excellent film-forming properties, moldability, and transparency can be obtained. 2. In the present invention, a transparent conductive polymer film having excellent film formability, moldability, and transparency comprising an aniline-based conductive polymer containing a sulfone group and a polymer compound is applied to an appropriate substrate. After forming by a process such as spraying, casting, or dipping, it is possible to obtain a conductor which exhibits high conductivity without humidity dependency and has a small variation in surface resistance only by being left at room temperature or subjected only to heat treatment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1におけるスルホン化ポリアニリンのI
Rスペクトル図である。
FIG. 1 shows the I of the sulfonated polyaniline in Example 1.
It is an R spectrum figure.

【図2】実施例2におけるスルホン化ポリアニリンのI
Rスペクトル図である。
FIG. 2 shows I of sulfonated polyaniline in Example 2.
It is an R spectrum figure.

【図3】実施例3におけるスルホン化ポリアニリンのI
Rスペクトル図である。
FIG. 3 shows the I of the sulfonated polyaniline in Example 3.
It is an R spectrum figure.

【図4】実施例4におけるスルホン化ポリアニリンのI
Rスペクトル図である。
FIG. 4 shows the I of the sulfonated polyaniline in Example 4.
It is an R spectrum figure.

【図5】実施例5におけるスルホン化ポリアニリンのI
Rスペクトル図である。
FIG. 5 shows I of sulfonated polyaniline in Example 5.
It is an R spectrum figure.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 国際公開92/18987(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08L 79/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References WO 92/18987 (WO, A1) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C08L 79/00

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 スルホン酸基を全芳香環に対して15〜
80%の割合で含有するアニリン系導電性ポリマー
(a)、水溶性高分子化合物および水系でエマルジョン
を形成する高分子化合物よりなる群より選ばれた少なく
とも1種の高分子化合物(b)、水(c)と、前記
(a)の繰り返し単位の総モル数に対して1〜30倍モ
ルのアミン類及び第四級アンモニウム塩類よりなる群か
ら選ばれた少なくとも1種の含窒素化合物(d)を含有
させ、(a)が溶液中に均一に溶解していることを特徴
とする導電性エマルション組成物。
1. The method according to claim 1, wherein the sulfonic acid group is 15 to
At least one polymer compound (b) selected from the group consisting of an aniline-based conductive polymer (a), a water-soluble polymer compound, and a polymer compound that forms an emulsion in an aqueous system; (C) and the above
1 to 30 times the total number of moles of the repeating unit (a)
At least one nitrogen-containing compound (d) selected from the group consisting of amines and quaternary ammonium salts of (a) , wherein (a) is uniformly dissolved in the solution. Emulsion composition.
【請求項2】 前記アニリン系導電性ポリマー類(a)
が、アニリン、N−アルキルアニリンおよびフェニレン
ジアミン類よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化
合物(A)と、アミノベンゼンスルホン酸(C)との共
重合体のスルホン化物であることを特徴とするアニリン
系共重合体スルホン化物である請求項1記載の導電性エ
マルジョン組成物。
2. The aniline-based conductive polymers (a)
Is a sulfonated product of a copolymer of at least one compound (A) selected from the group consisting of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamines and aminobenzenesulfonic acid (C). 2. The conductive emulsion composition according to claim 1, which is a sulfonated aniline copolymer.
【請求項3】 アニリン、N−アルキルアニリン及びフ
ェニレンジアミン類よりなる群より選ばれた少なくとも
1種の化合物(A)と、アルコキシ基置換アミノベンゼ
ンスルホンン酸(B)とを共重合させたことにより得ら
れたスルホン基を全芳香環に対して15〜80%の割合
で含有するアニリン系導電性ポリマ一類(f)、水溶性
高分子化合物及び水系でエマルションを形成する高分子
化合物よりなる群より選ばれた少なくとも1種の高分子
化合物(b)、水(c)と、前記(f)の繰り返し単位
の総モル数に対して1〜30倍モルのアミン類及び第四
級アンモニウム塩類よりなる群から選ばれた少なくとも
1種の含窒素化合物(d)を含有させ、(f)が溶液中
に均一に溶解していることを特徴とする導電性組成物。
3. A method of copolymerizing at least one compound (A) selected from the group consisting of aniline, N-alkylaniline and phenylenediamines with an alkoxy-substituted aminobenzenesulfonic acid (B). Group consisting of an aniline-based conductive polymer (f) containing the sulfone group obtained by the above at a ratio of 15 to 80% based on the total aromatic ring, a water-soluble polymer compound, and a polymer compound which forms an emulsion in an aqueous system. At least one polymer compound (b) selected from the group consisting of water (c) and a repeating unit (f)
At least one nitrogen-containing compound (d) selected from the group consisting of amines and quaternary ammonium salts in an amount of 1 to 30 moles with respect to the total number of moles of (f).
A conductive composition characterized by being uniformly dissolved in water.
【請求項4】 請求項1、2または3記載の導電性組成
物を成膜してなる透明導電性高分子膜から形成されたこ
とを特徴とする導電体。
4. A conductor formed from a transparent conductive polymer film formed by forming the conductive composition according to claim 1, 2 or 3.
【請求項5】 基材の少なくとも一つの面上に、請求項
1、2または3記載の導電性組成物を成膜してなる透明
導電性高分子膜が形成されたものであることを特徴とす
る導電体。
5. A transparent conductive polymer film formed by forming the conductive composition according to claim 1, 2 or 3 on at least one surface of a substrate. Conductor.
【請求項6】 基材の少なくとも一つの面上に、請求項
1,2または3記載の導電性組成物を塗布し透明導電性
高分子膜を形成した後、常温で放置あるいは加熱処理し
溶剤と含窒素化合物を除去することを特徴とする請求
項5記載の導電体の製造法。
6. A transparent conductive polymer film is formed on at least one surface of a substrate by applying the conductive composition according to claim 1, 2, or 3, and then left at room temperature or heated. 6. The method according to claim 5, wherein the solvent and the nitrogen-containing compound are removed .
【請求項7】 加熱処理を40〜250℃の温度範囲で
行い、(c)および(d)成分を除去するものである請
求項6記載の導電体の製造法。
7. The method for producing a conductor according to claim 6, wherein the heat treatment is performed in a temperature range of 40 to 250 ° C. to remove the components (c) and (d).
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