JP3031625B2 - Heat ray absorbing reflector - Google Patents
Heat ray absorbing reflectorInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、照明器具に用いられる反射鏡に関するもの
である。さらに詳しくは、本発明は、可視光を反射する
一方で、赤外線の反射を抑制した反射鏡に関するもので
ある。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a reflector used for a lighting fixture. More specifically, the present invention relates to a reflector that reflects visible light while suppressing reflection of infrared light.
［発明の技術的背景および従来技術］ ハロゲンランプ等を光源とした照明器具には、光源か
らの光を充分に照明光として利用するために、光源の背
面に反射鏡が設けられていることが多い。この反射鏡
は、可視光は反射する一方、照明によって照らされる物
が高温にならないように赤外線は反射しないような工夫
がされているのが普通である。このような工夫が施され
た反射鏡は、熱線吸収反射鏡あるいは冷光反射鏡（コー
ルドミラー）などと呼ばれている。[Technical Background of the Invention and Prior Art] In a lighting fixture using a halogen lamp or the like as a light source, a reflecting mirror is provided on the rear surface of the light source in order to sufficiently use light from the light source as illumination light. Many. In general, the reflecting mirror is designed so that it reflects visible light but does not reflect infrared rays so that an object illuminated by illumination does not become hot. The reflecting mirror thus devised is called a heat ray absorbing reflecting mirror or a cold light reflecting mirror (cold mirror).
上記のような熱線吸収反射鏡は、従来より、ガラス基
体表面に可視光は反射するが赤外線は透過する多層反射
膜を設け、光源から発せられた光のうち可視光成分を反
射する一方で、赤外線は反射することなく、基体のガラ
スを通して背面から外部へと逃がすような工夫がされて
いた。ところが、このような反射鏡は基体としてガラス
を用いているために、製作する上で形状に制限があるだ
けでなく、重量も重く、さらに衝撃にも弱いという欠点
があった。Conventionally, the above-mentioned heat ray absorbing and reflecting mirror is provided with a multilayer reflective film that reflects visible light but transmits infrared light on the surface of the glass substrate, while reflecting the visible light component of the light emitted from the light source, Infrared rays have been designed to escape from the back to the outside through the glass of the substrate without being reflected. However, since such a reflecting mirror uses glass as a base, not only its shape is restricted in its manufacture, but also its drawback is that it is heavy, and it is also vulnerable to impact.
これに対して最近、ステンレスなどの金属を基体とし
た熱線吸収反射鏡が開発されてきた。On the other hand, a heat ray absorbing and reflecting mirror based on a metal such as stainless steel has recently been developed.
金属基体を有する熱線吸収反射鏡は、通常、可視光に
対しては反射率が高く、赤外線に対しては透過率の高い
誘電体膜層と、この誘電体膜層を透過してきた赤外線を
吸収し熱へと変換して金属基体に伝える働きをする吸収
層とを金属基体表面上に設けることによって上記のよう
な性能が得られるようにされている。たとえば、特開昭
64−90401号公報には、吸収層としてケイ素、チタンお
よびクロムからなる群より選ばれる元素の黒色酸化物の
薄膜を用い、誘電体膜層として高屈折率物質膜と低屈折
率膜との交互積層膜を用いた反射鏡が開示されている。
また、特開昭63−269101号公報には、金属基体の表面を
予め酸化処理して、熱放射特性の良い酸化物膜を基体自
体に形成して吸収層とした反射鏡が開示されている。さ
らには、基体金属表面を黒色化処理（たとえば、アルミ
ニウム基体の場合ならば、黒色アルマイト処理）して、
この黒色被膜を吸収層とすることも提案されている（実
公平１−16081号公報参照）。A heat-absorbing reflector having a metal substrate usually has a dielectric film layer that has a high reflectance for visible light and a high transmittance for infrared light, and absorbs infrared light transmitted through the dielectric film layer. The above-described performance is obtained by providing an absorption layer which converts heat into heat and transmits the heat to the metal substrate on the surface of the metal substrate. For example,
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-90401, a thin film of a black oxide of an element selected from the group consisting of silicon, titanium and chromium is used as an absorption layer, and a high refractive index material film and a low refractive index film are alternately used as a dielectric film layer. A reflector using a laminated film is disclosed.
JP-A-63-269101 discloses a reflector in which the surface of a metal substrate is previously oxidized, and an oxide film having good heat radiation characteristics is formed on the substrate itself and used as an absorption layer. . Further, the surface of the base metal is blackened (for example, in the case of an aluminum base, black alumite processing),
It has also been proposed to use this black coating as an absorbing layer (see Japanese Utility Model Publication No. 1-10881).
ところが、上記のような金属酸化物からなる吸収層は
いずれも、赤外線を熱へと変換し、その熱を基体金属へ
と伝える能力は優れているものの、耐久性という面では
問題がある。すなわち、前記酸化物吸収層の上に誘電体
多層膜を蒸着した場合、金属基体が熱膨張を起こすと該
吸収層と誘電体膜との間の付着力が弱い界面から剥離を
生じる。特に、ハロゲンランプ等の高輝度ランプの反射
鏡として使用する場合、点灯時と消灯時における温度差
が大きいために金属酸化物と誘電体との熱膨張の差も大
きく、点灯消灯の繰返しによってしばしば上記の剥離が
生じる。また、照明器具が湿度の高い環境で使用される
場合、この傾向はさらに顕著なものとなる。However, any of the above-described metal oxide absorbing layers has excellent ability to convert infrared rays into heat and transmit the heat to the base metal, but has a problem in durability. That is, when a dielectric multilayer film is deposited on the oxide absorbing layer, if the metal substrate undergoes thermal expansion, peeling occurs from the interface where the adhesive force between the absorbing layer and the dielectric film is weak. In particular, when used as a reflector of a high-intensity lamp such as a halogen lamp, the difference in thermal expansion between the metal oxide and the dielectric is large due to the large temperature difference between when the lamp is turned on and when the lamp is turned off. The above separation occurs. Further, when the lighting equipment is used in a humid environment, this tendency becomes more remarkable.
一方、金属酸化物を用いずに、なんらかの方法で基体
金属表面を黒色化処理し、これを吸収層とする場合、黒
色化面には再研磨されない限り微細な凹凸が存在するの
で、この上に蒸着された誘電体膜は鏡面にならず白濁し
てしまうという問題がある。On the other hand, when the base metal surface is blackened by any method without using a metal oxide and this is used as an absorption layer, fine unevenness exists on the blackened surface unless it is polished again. There is a problem that the deposited dielectric film does not have a mirror surface and becomes cloudy.
［発明の要旨］ 本発明は、耐久性に優れ、しかも誘電体膜を白濁させ
ることのない熱線吸収反射鏡を提供することを目的とす
るものである。[Summary of the Invention] An object of the present invention is to provide a heat ray absorbing and reflecting mirror which is excellent in durability and does not cloud the dielectric film.
本発明の目的は、金属基体と、この金属基体表面上に
設けられた金属クロム薄膜および、該金属クロム薄膜表
面上に直接設けられた高屈折率物質と低屈折率物質とが
交互に積層されてなる誘電体多層膜とからなり、誘電体
多層膜を、可視光の波長領域である400〜700nmの範囲内
で設定した、短波長側中心波長と長波長側中心波長との
それぞれに対して1/4となるような光学膜厚を持つ、上
側多層膜部分と下側多層膜部分とから構成し、かつ金属
クロム薄膜と下側多層膜部分との間の誘電体膜、下側多
層膜部分と上側多層膜部分との間の誘電体膜、そして上
側多層膜部分の頂部の誘電体膜のそれぞれがいずれも、
上記の短波長側中心波長および長波長側中心波長に対し
て1/4となる光学膜厚とならないような光学膜厚とし、8
00〜1400nmの波長範囲における反射率の最大値を15％以
下としたことを特徴とする熱線吸収反射鏡を提供するに
ある。An object of the present invention is to alternately laminate a metal substrate, a metal chromium thin film provided on the surface of the metal substrate, and a high refractive index material and a low refractive index material provided directly on the metal chromium thin film surface. The dielectric multilayer film is formed within the range of 400 to 700 nm, which is the wavelength region of visible light, for each of the short wavelength side center wavelength and the long wavelength side center wavelength. A dielectric film between the chromium metal thin film and the lower multilayer film, comprising an upper multilayer film portion and a lower multilayer film portion having an optical film thickness of 1/4, and a lower multilayer film. Each of the dielectric film between the portion and the upper multilayer portion, and each of the dielectric films on top of the upper multilayer portion,
The optical film thickness is set so that the optical film thickness does not become 1/4 of the above-mentioned central wavelength on the short wavelength side and the central wavelength on the long wavelength side, and 8
It is another object of the present invention to provide a heat ray absorbing and reflecting mirror characterized in that the maximum value of the reflectance in the wavelength range of 00 to 1400 nm is set to 15% or less.
本発明の反射鏡は、吸収層として、金属基体および誘
電体膜のいずれにも付着力の大きいクロム金属薄膜を用
いているので、吸収層が金属基体や誘電体膜から剥離す
ることが少ない。また、クロム金属薄膜の表面は滑らか
であるから、この上に直接形成される誘電体膜が白濁す
ることもない。Since the reflecting mirror of the present invention uses a chromium metal thin film having a large adhesive force for both the metal substrate and the dielectric film as the absorption layer, the absorption layer is less likely to be peeled off from the metal substrate and the dielectric film. Further, since the surface of the chromium metal thin film is smooth, the dielectric film directly formed thereon does not become cloudy.
本発明の反射鏡においては、クロム金属膜の上に直接
形成する誘電体多層膜の各層の膜厚を、800nm〜1400nm
の波長範囲における反射率の最大値が15％以下になるよ
うに精密に調節することで、クロム金属膜による赤外線
の反射を抑制している。In the reflector of the present invention, the thickness of each layer of the dielectric multilayer film directly formed on the chromium metal film, 800nm ~ 1400nm
The reflection of infrared rays by the chromium metal film is suppressed by precisely adjusting the maximum value of the reflectance in the wavelength range of 15% or less.
本発明の熱線吸収反射鏡は、赤外線の反射率が低く、
耐久性に優れているのでハロゲンランプの反射鏡だけで
なく、さらに高出力の光源ランプの反射鏡としても利用
できる。The heat ray absorbing and reflecting mirror of the present invention has a low infrared reflectance,
Because of its excellent durability, it can be used not only as a reflecting mirror of a halogen lamp but also as a reflecting mirror of a light source lamp of higher output.
本発明における好ましい態様を以下に示す。 Preferred embodiments of the present invention are described below.
（１）上記800nm〜1400nmの波長範囲における反射率の
最大値が10％以下であることを特徴とする熱線吸収反射
鏡。(1) A heat ray absorbing and reflecting mirror, wherein the maximum value of the reflectance in the wavelength range from 800 nm to 1400 nm is 10% or less.
（２）上記誘電体多層膜の層数が18層から36層の範囲で
あることを特徴とする熱線吸収反射鏡。(2) A heat ray absorbing and reflecting mirror, wherein the number of layers of the dielectric multilayer film is in the range of 18 to 36 layers.
［発明の詳しい記述］ まず、添付図面を参照しながら、本発明の構成につい
て説明する。[Detailed Description of the Invention] First, the configuration of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
第１図に、本発明の熱線吸収反射鏡の一例の断面図を
模式的に示す。第１図において、１は基体金属であるア
ルミニウム、２は吸収層であるクロム金属薄膜、３は誘
電体多層膜５を構成する高屈折率透明誘電体である硫化
亜鉛（ZnS）膜、４は硫化亜鉛（ZnS）膜３とともに誘電
体多層膜５を構成する低屈折率透明誘電体であるフッ化
マグネシウム（MgF2）膜、５は誘電体多層膜である。FIG. 1 schematically shows a cross-sectional view of an example of the heat ray absorbing and reflecting mirror of the present invention. In FIG. 1, 1 is aluminum as a base metal, 2 is a chromium metal thin film as an absorption layer, 3 is a zinc sulfide (ZnS) film as a high-refractive-index transparent dielectric constituting the dielectric multilayer film 5, and 4 is A magnesium fluoride (MgF 2 ) film, which is a low-refractive-index transparent dielectric constituting the dielectric multilayer film 5 together with the zinc sulfide (ZnS) film 3, is a dielectric multilayer film.
第１図に示した反射鏡は、誘電体多層膜５が光源に面
するように使用される。光源から発せられた光のうち、
可視光は誘電体多層膜５によって反射され再び光源の方
向に向う一方、赤外線は誘電体多層膜５を透過し、クロ
ム金属薄膜の吸収層２に吸収され、熱へと変換される。
この熱は金属基体１へと伝えられて、外部へと放出され
る。The reflecting mirror shown in FIG. 1 is used so that the dielectric multilayer film 5 faces the light source. Of the light emitted from the light source,
The visible light is reflected by the dielectric multilayer film 5 and returns to the direction of the light source, while the infrared light passes through the dielectric multilayer film 5 and is absorbed by the chromium metal thin film absorbing layer 2 and is converted into heat.
This heat is transmitted to the metal base 1 and released to the outside.
次に本発明の反射鏡の各部分について述べる。 Next, each part of the reflecting mirror of the present invention will be described.
金属基体としては、アルミニウム、鉄、ステンレスな
ど従来の金属基板を用いたコールドミラーに用いること
のできるものであれば、いかなるものでも用いることが
できる。As the metal substrate, any material that can be used for a cold mirror using a conventional metal substrate such as aluminum, iron, and stainless steel can be used.
吸収層であるクロム金属薄膜は、真空蒸着、スパッタ
リングなど一般に行なわれる方法によって成膜すること
ができる。たとえば、粒状の金属クロムを原料とし、タ
ングステンボートなどの抵抗加熱蒸発源や電子ビーム蒸
発源を用いて、150℃から220℃に加熱された金属基体上
に毎秒0.25nm程度の速さで形成することができる。ま
た、金属基体の形状が曲率の大きな曲面などの場合は、
１×10-3Torr程度のアルゴンガスを導入することによっ
て金属基体表面に均一なクロム膜を形成することができ
る。膜厚の制御は光学モニターまたは水晶振動子モニタ
ーまたはこれらを併用することで容易に行なえる。クロ
ム膜の膜厚は、幾何学的膜厚（実際の膜厚）で50nm〜50
0nmの範囲である。The chromium metal thin film serving as the absorption layer can be formed by a commonly used method such as vacuum evaporation and sputtering. For example, using a granular metal chromium as a raw material, a resistive heating evaporation source such as a tungsten boat or an electron beam evaporation source is used to form a metal substrate heated at 150 to 220 ° C. at a rate of about 0.25 nm per second. be able to. When the shape of the metal base is a curved surface having a large curvature,
By introducing an argon gas of about 1 × 10 −3 Torr, a uniform chromium film can be formed on the surface of the metal substrate. The film thickness can be easily controlled by using an optical monitor, a quartz oscillator monitor, or a combination thereof. The thickness of the chromium film is 50 nm to 50 in geometric film thickness (actual film thickness).
The range is 0 nm.
誘電体多層膜は高屈折率の誘電体と低屈折率の誘電体
とが交互に積層された構造を有している。高屈折率の誘
電体としては、硫化亜鉛（ZnS）、二酸化チタン（Ti
O2）、酸化ジルコニウム（ZrO2）などが用いられ、また
低屈折率の誘電体としては、フッ化マグネシウム（Mg
F2）、二酸化ケイ素（SiO2）、Na3AlF6などを用いるこ
とができる。The dielectric multilayer film has a structure in which high-refractive-index dielectrics and low-refractive-index dielectrics are alternately stacked. Zinc sulfide (ZnS), titanium dioxide (Ti
O 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), etc. are used, and magnesium fluoride (Mg
F 2 ), silicon dioxide (SiO 2 ), Na 3 AlF 6 and the like can be used.
誘電体多層膜の層数は18層から36層の範囲であり、膜
厚は可視光の波長領域（400nm〜700nm）で反射率が100
％程度になり、赤外線の波長領域（800nm〜1400nm）で
反射率の最大値が15％以下となるように設計される。こ
の800nm〜1400nmの波長範囲における反射率の最大値は1
0％以下であることがさらに好ましい。実際の膜厚の算
出はコンピュターによるシュミレーションによって行な
われ、各膜厚は、シュミレーションの結果による逐次近
似によって決定される。The number of dielectric multilayer films ranges from 18 to 36 layers, and the film thickness is 100 in the visible light wavelength region (400 nm to 700 nm).
%, And the maximum reflectance is designed to be 15% or less in the infrared wavelength region (800 nm to 1400 nm). The maximum value of the reflectance in the wavelength range of 800 nm to 1400 nm is 1
More preferably, it is 0% or less. The calculation of the actual film thickness is performed by simulation using a computer, and each film thickness is determined by successive approximation based on the simulation result.
誘電体多層膜の成膜は、クロム金属薄膜の場合と同
様、常法により行なう。すなわち、クロム金属薄膜の吸
収層の上に目的とする膜を順に、所定膜厚となるまで成
膜する。成膜は真空蒸着、スパッタリングなど一般に行
なわれる方法によって行ない、膜厚の制御も、クロム金
属薄膜の場合と同様、光学モニター、水晶振動子モニタ
ーなどを用いて行なうことができる。The formation of the dielectric multilayer film is performed by a conventional method as in the case of the chromium metal thin film. That is, a target film is formed in order on the absorption layer of the chromium metal thin film until a predetermined thickness is obtained. The film is formed by a commonly used method such as vacuum evaporation and sputtering, and the film thickness can be controlled by using an optical monitor, a crystal oscillator monitor, or the like, similarly to the case of the chromium metal thin film.
以下、第１図に示したような、高屈折率物質として硫
化亜鉛（ZnS）を、低屈折率物質としてフッ化マグネシ
ウム（MgF2）を用い、各層の膜厚を下記第１表に示した
ようにした本発明の反射鏡（誘電体多層膜の層数:22）
を例にとって誘電体多層膜についてさらに説明する。た
だし、第１表に示した各膜厚は、実際の膜厚（幾何学的
膜厚）に各物質の屈折率を乗じた光学的膜厚である。Hereinafter, as shown in FIG. 1, zinc sulfide (ZnS) was used as a high-refractive-index substance, and magnesium fluoride (MgF 2 ) was used as a low-refractive-index substance. Reflection mirror of the present invention (number of layers of dielectric multilayer film: 22)
The dielectric multilayer film will be further described with reference to FIG. However, each film thickness shown in Table 1 is an optical film thickness obtained by multiplying the actual film thickness (geometric film thickness) by the refractive index of each substance.
第２図には、この反射鏡の分光反射率特性を示す反射
スペクトルを示す。 FIG. 2 shows a reflection spectrum showing the spectral reflectance characteristics of the reflector.
誘電体多層膜は、一般に、可視光波長領域の長波長側
を反射するための部分（スタック：積層部分）と可視光
波長領域の短波長側を反射するためのスタックから成っ
ている。第１表に示した反射鏡の場合、No.2〜No.11の
スタックが長波長側を反射し、No.12〜No.23のスタック
が短波長側を反射するように設計されている。In general, the dielectric multilayer film includes a portion for reflecting the long wavelength side of the visible light wavelength region (stack: laminated portion) and a stack for reflecting the short wavelength side of the visible light wavelength region. In the case of the reflectors shown in Table 1, the stacks No. 2 to No. 11 are designed to reflect the long wavelength side, and the stacks No. 12 to No. 23 are designed to reflect the short wavelength side. .
従来の金属酸化物を吸収層とした反射鏡では、これら
スタックを構成する各層は、光学的膜厚が反射しようと
する波長領域の中心波長の1/4となるように設計され
る。ところが、本発明の反射鏡は、吸収層としてクロム
金属薄膜を用いているので、従来のように中心波長の1/
4となるようにスタックの光学的膜厚を設計すると赤外
線の反射率を低く抑えることができない。このことを示
すために、第３図には吸収層としてクロム金属薄膜を用
い、誘電体多層膜の膜厚を従来のようにした反射鏡の分
光反射率特性を示す。第３図に示したように、上記のよ
うな反射鏡では800nm〜1400nmの波長範囲における反射
率の最大値は30％以上になる。In a conventional reflecting mirror using a metal oxide as an absorbing layer, each layer constituting the stack is designed so that the optical film thickness is / 4 of the center wavelength of the wavelength region to be reflected. However, since the reflecting mirror of the present invention uses a chromium metal thin film as the absorbing layer, it is 1/1 of the center wavelength as in the related art.
If the optical film thickness of the stack is designed to be 4, the infrared reflectance cannot be kept low. To show this, FIG. 3 shows the spectral reflectance characteristics of a reflector in which a chromium metal thin film is used as an absorption layer and the dielectric multilayer film has a conventional thickness. As shown in FIG. 3, the maximum value of the reflectance in the wavelength range from 800 nm to 1400 nm is 30% or more in the above-described reflecting mirror.
従って、本発明の反射鏡においては、誘電体多層膜の
膜厚はコンピュターによるシュミレーションによって精
密に決定される。第１表に示した反射鏡の場合、No.2、
No.12、No.21、No.22およびNo.23の各層の膜厚を精密に
調節することによって赤外線の反射を抑制している。Therefore, in the reflecting mirror of the present invention, the thickness of the dielectric multilayer film is precisely determined by simulation using a computer. In the case of the reflector shown in Table 1, No. 2,
The reflection of infrared rays is suppressed by precisely adjusting the thickness of each layer of No. 12, No. 21, No. 22 and No. 23.
次に本発明の実施例を記載する。ただし、これらの各
例は本発明を限定するものではない。なお、以下の実施
例は、すべて上記の真空蒸着法による常法によって作成
した。Next, examples of the present invention will be described. However, these examples do not limit the present invention. The following examples were all prepared by a conventional method using the above-described vacuum deposition method.
［実施例１］ 第１図に断面図を示したような、高屈折率物質として
硫化亜鉛（ZnS）を、低屈折率物質としてフッ化マグネ
シウム（MgF2）を用い、各層の膜厚を下記第１表に示し
たようにした本発明の反射鏡（誘電体多層膜の層数:2
2）を製作した。Example 1 As shown in the cross-sectional view of FIG. 1, zinc sulfide (ZnS) was used as a high-refractive-index substance, and magnesium fluoride (MgF 2 ) was used as a low-refractive-index substance. The reflecting mirror of the present invention as shown in Table 1 (the number of layers of the dielectric multilayer film: 2)
2) was made.
この熱線吸収反射鏡の分光反射特性を測定した結果を
第２図に示した。第２図に示したように、この反射鏡の
800nm〜1400nmの波長範囲における反射率の最大値は10
％以下であった。また、可視光の反射を妨げる白濁も生
じていなかった。FIG. 2 shows the result of measuring the spectral reflection characteristics of the heat ray absorbing and reflecting mirror. As shown in FIG.
The maximum value of the reflectance in the wavelength range from 800 nm to 1400 nm is 10
% Or less. In addition, there was no cloudiness that hinders reflection of visible light.
さらに、この熱線吸収反射鏡について、330℃、2000
時間の連続加熱試験、熱湯による30分以上の煮沸試験、
粘着テープによる引き離し試験および25℃、湿度100
％、260時間の環境試験を行なったところ、これらいず
れの耐久試験においても反射鏡に剥離が生じることはな
かった。Furthermore, about 330 degreeC, 2000
Time continuous heating test, boiling test for more than 30 minutes with boiling water,
Peeling test with adhesive tape and 25 ° C, humidity 100
%, An environmental test of 260 hours showed no peeling of the reflector in any of these durability tests.
以上の各実施例より明らかなように、本発明の熱線吸
収反射鏡は耐久性に優れ、赤外線の吸収にも優れたもの
である。As is clear from each of the above embodiments, the heat ray absorbing and reflecting mirror of the present invention has excellent durability and excellent infrared absorption.
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の熱線吸収反射鏡の一例の断面を模式的
に示した図である。 第２図は本発明の熱線吸収反射鏡の一例の分光反射特性
を示す反射スペクトルである。 第３図はクロム金属薄膜の吸収層と従来の誘電体多層膜
とを有する熱線吸収反射鏡の分光反射特性を示す反射ス
ペクトルである。 1:基体金属、2:クロム金属薄膜吸収層、 3:高屈折率透明誘電体膜 4:低屈折率透明誘電体膜 5:誘電体多層膜BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross section of an example of the heat ray absorbing and reflecting mirror of the present invention. FIG. 2 is a reflection spectrum showing the spectral reflection characteristics of an example of the heat ray absorbing and reflecting mirror of the present invention. FIG. 3 is a reflection spectrum showing a spectral reflection characteristic of a heat ray absorbing reflector having an absorption layer of a chromium metal thin film and a conventional dielectric multilayer film. 1: Base metal, 2: Chromium metal thin film absorbing layer, 3: High refractive index transparent dielectric film 4: Low refractive index transparent dielectric film 5: Dielectric multilayer film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原 和雄 神奈川県川崎市宮前区有馬１丁目10番３ 号 (56)参考文献 特開 平１−251503（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−288008（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−90401（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−269102（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−61501（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 5/08 F21V 7/22 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Kazuo Hara 1-10-3 Arima, Miyamae-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture (56) References JP-A-1-251503 (JP, A) JP-A-2-288008 ( JP, A) JP-A-64-90401 (JP, A) JP-A-63-269102 (JP, A) JP-A-61-61501 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , (DB name) G02B 5/08 F21V 7/22
Claims (2)
れた金属クロム薄膜および、該金属クロム薄膜表面上に
直接設けられた高屈折率物質と低屈折率物質とが交互に
積層されてなる誘電体多層膜とからなり、誘電体多層膜
を、可視光の波長領域である400〜700nmの範囲内で設定
した、短波長側中心波長と長波長側中心波長とのそれぞ
れに対して1/4となるような光学膜厚を持つ、上側多層
膜部分と下側多層膜部分とから構成し、かつ金属クロム
薄膜と下側多層膜部分との間の誘電体膜、下側多層膜部
分と上側多層膜部分との間の誘電体膜、そして上側多層
膜部分の頂部の誘電体膜のそれぞれがいずれも、上記の
短波長側中心波長および長波長側中心波長に対して1/4
となる光学膜厚とならないような光学膜厚とし、800〜1
400nmの波長範囲における反射率の最大値を15％以下と
したことを特徴とする熱線吸収反射鏡。A metal substrate, a metal chromium thin film provided on the surface of the metal substrate, and a high refractive index material and a low refractive index material provided directly on the metal chromium thin film are alternately laminated. And a dielectric multilayer film, which is set within the visible light wavelength range of 400 to 700 nm, for each of the short wavelength side center wavelength and the long wavelength side center wavelength. A dielectric film between the upper chromium metal thin film and the lower multilayer film portion, the lower multilayer film portion comprising an upper multilayer film portion and a lower multilayer film portion having an optical film thickness of / 4. Each of the dielectric film between the upper multilayer film portion and the dielectric film at the top of the upper multilayer film portion is 1/4 of the above-mentioned short wavelength center wavelength and long wavelength side center wavelength.
Optical thickness that does not result in an optical thickness of
A heat ray absorbing reflector characterized in that the maximum value of the reflectance in the wavelength range of 400 nm is 15% or less.
物質がフッ化マグネシウムである特許請求の範囲第１項
記載の熱線吸収反射鏡。2. The heat ray absorbing and reflecting mirror according to claim 1, wherein the high refractive index substance is zinc sulfide and the low refractive index substance is magnesium fluoride.
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| JP1243764A JP3031625B2 (en) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | Heat ray absorbing reflector |
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