JP3018830B2 - Electronic component and method of manufacturing the same - Google Patents

Electronic component and method of manufacturing the same

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JP3018830B2 JP5141631A JP14163193A JP3018830B2 JP 3018830 B2 JP3018830 B2 JP 3018830B2 JP 5141631 A JP5141631 A JP 5141631A JP 14163193 A JP14163193 A JP 14163193A JP 3018830 B2 JP3018830 B2 JP 3018830B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、印刷配線板等に表面実
装され、種々の電子回路を構成するコンデンサ、インダ
クタあるいはフィルタ等の電子部品及びその製造方法
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic component such as a capacitor, an inductor or a filter, which is surface-mounted on a printed wiring board or the like and constitutes various electronic circuits, and a method of manufacturing the same .

【0002】[0002]

【従来の技術と課題】通常、従来の電子部品の内部導体
は、導電性ペーストを絶縁性基板の表面に印刷塗布した
後、乾燥、焼付けをすることにより形成されていた。こ
うして得られる内部導体は、最小線路幅及び最小線路間
隔が100〜200μ程度であり、線路幅及び線路間隔
の寸法ばらつきも大きく、高密度化に限界があった。ま
た、安定した特性を有する内部導体を形成するために
は、高温焼成タイプの導電性ペーストを使用する必要が
あり、電子部品を高温にすることによる特性劣化の対応
が必要であった。
2. Description of the Related Art Conventionally, the internal conductor of a conventional electronic component has been formed by printing and applying a conductive paste on the surface of an insulating substrate, followed by drying and baking. The inner conductor obtained in this manner has a minimum line width and a minimum line interval of about 100 to 200 μ, a large dimensional variation in the line width and the line interval, and there is a limit in increasing the density. In addition, in order to form an internal conductor having stable characteristics, it is necessary to use a high-temperature sintering-type conductive paste, and it is necessary to cope with characteristic deterioration caused by raising the temperature of an electronic component.

【0003】一方、電子部品の外部導体は、通常、導電
性ペーストを基材表面に塗布した後、乾燥、焼付けし、
その上に電解めっきや無電解めっきをすることにより形
成されていた。しかしながら、導電性ペーストを使用す
る場合は、前述したように電子部品を高温にすることに
よる特性劣化の対応が必要であった。また、めっきをす
る場合は、電子部品を反応性のあるめっき液に浸漬する
ことによる特性劣化が問題であった。
On the other hand, the outer conductor of an electronic component is usually dried and baked after applying a conductive paste to the surface of a substrate.
It was formed by electroplating or electroless plating thereon. However, when a conductive paste is used, as described above, it is necessary to cope with the characteristic degradation caused by the high temperature of the electronic component. In the case of plating, there has been a problem of deterioration of characteristics due to immersing the electronic component in a reactive plating solution.

【0004】そこで、本発明の課題は、寸法精度が優れ
た内部導体を有し、内部導体及び外部導体を形成する際
に部品の特性が劣化するおそれがない電子部品及びその
製造方法を提供することにある。
[0004] Therefore, an object of the present invention has an inner conductor having excellent dimensional accuracy, the electronic components and the characteristics of components in forming the inner and outer conductors is no possibility to degrade
It is to provide a manufacturing method .

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段と作用】以上の課題を解決
するため、本発明に係る電子部品は、 (a)絶縁性基板の表面に形成された内部導体が、接着
層とこの接着層の表面に設けられた導体層にて構成さ
れ、 (b)前記絶縁性基板の少なくとも端部に形成された
部導体が、接着層とこの接着層の表面に設けられた半田
くわれ防止層とこの半田くわれ防止層の表面に設けられ
た酸化防止層にて構成され、 (c)前記内部導体の接着層と前記外部導体の接着層と
が同一材料からなり、前記接着層同士が接続し、 (d) 前記各接着層と前記導体層と前記半田くわれ防止
層と前記酸化防止層が、それぞれ乾式めっき層である、
ことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, an electronic component according to the present invention comprises: (a) an internal conductor formed on the surface of an insulating substrate ; (B) an outer conductor formed at least at an end portion of the insulating substrate includes an adhesive layer and a solder provided on the surface of the adhesive layer; And (c) an adhesive layer for the internal conductor and an adhesive layer for the external conductor.
Are made of the same material, and the adhesive layers are connected to each other; (d) each of the adhesive layers, the conductor layer, the solder crack preventing layer, and the oxidation preventing layer is a dry plating layer,
It is characterized by the following.

【0006】また、本発明に係る電子部品は、 (e)内部導体を表裏面にそれぞれ設けた絶縁性基板
と、内部導体を表裏いずれか一方の面に設けた絶縁性基
板とを、絶縁性接着剤にて貼り合わせた構造体を有し、
該構造体の端部に外部導体を設け、 (f)前記内部導体が、接着層とこの接着層の表面に設
けられた導体層にて構 成され、 (g)前記外部導体が、接着層とこの接着層の表面に設
けられた半田くわれ防止層とこの半田くわれ防止層の表
面に設けられた酸化防止層にて構成され、 (h)前記内部導体の接着層と前記外部導体の接着層と
が同一材料からなり、前記接着層同士が接続し、 (i)前記接着層と前記導体層と前記半田くわれ防止層
と前記酸化防止層が、それぞれ乾式めっき層である、
とを特徴とする。
Further, the electronic component according to the present invention includes: (e) an insulating substrate having an inner conductor provided on each of the front and back surfaces.
And an insulating substrate with an internal conductor on either side
A structure with a plate and an insulating adhesive bonded together,
An outer conductor is provided at an end of the structure; and (f) the inner conductor is provided on an adhesive layer and a surface of the adhesive layer.
Consists in vignetting conductor layer, (g) said outer conductor, set on the surface of the adhesive layer and the adhesive layer
Table of the solder crack prevention layer and the solder crack prevention layer
It is composed of antioxidant layer provided on the surface, and the adhesive layer of the outer conductor and the adhesive layer (h) the inner conductor
Are made of the same material, the adhesive layers are connected to each other, and (i) the adhesive layer, the conductor layer, and the solder crack preventing layer.
And the antioxidant layer are each a dry plating layer, this
And features.

【0007】また、本発明に係る電子部品の製造方法
は、 (j)絶縁性基板の表面に、接着層膜、導体層膜を乾式
めっき法により形成した後、前記接着層膜及び前記導体
層膜の一部をエッチング処理して、接着層とこの接着層
の表面に設けられた導体層にて構成された所望の内部導
体を形成する工程と、 (k)前記絶縁性基板の少なくとも端部に、それぞれが
乾式めっき層からなる、接着層とこの接着層の表面に設
けられた半田くわれ防止層とこの半田くわれ防止層の表
面に設けられた酸化防止層にて構成された所望の外部導
体を形成する工程とを備え、 (l)前記内部導体の接着層と前記外部導体の接着層と
が同一材料からなり、前記接着層同士が接続し、かつ、
前記接着層によって前記内部導体、前記絶縁性基板及び
前記外部導体が接着していること、 を特徴とする。
Further, the method for manufacturing an electronic component according to the present invention includes: (j) forming an adhesive layer film and a conductor layer film on a surface of an insulating substrate by a dry plating method; Etching a part of the film to form a desired inner conductor composed of an adhesive layer and a conductor layer provided on the surface of the adhesive layer; and (k) at least an end of the insulating substrate. In addition, each of which consists of a dry plating layer, a desired layer comprising an adhesive layer, an anti-scratch layer provided on the surface of the adhesive layer, and an antioxidant layer provided on the surface of the anti-solder layer Forming an outer conductor ; (l) an adhesive layer of the inner conductor and an adhesive layer of the outer conductor;
Are made of the same material, the adhesive layers are connected to each other, and
The adhesive layer, the inner conductor, the insulating substrate and
The external conductor is adhered .

【0008】さらに、本発明に係る電子部品の製造方法
は、外部導体の形成に不要な部分をマスキングした後、
接着層、半田くわれ防止層、酸化防止層を順に乾式めっ
き法により形成して、接着層とこの接着層の表面に設け
られた半田くわれ防止層とこの半田くわれ防止層の表面
に設けられた酸化防止層にて構成された所望の外部導体
を形成する。あるいは、接着層膜、半田くわれ防止層
膜、酸化防止層膜を順に乾式めっき法により形成した
後、前記接着層膜、前記半田くわれ防止層膜及び前記酸
化防止層膜の一部をエッチング処理して、接着層とこの
接着層の表面に設けられた半田くわれ防止層とこの半田
くわれ防止層の表面に設けられた酸化防止層にて構成さ
れた所望の外部導体を形成する。
Further, a method for manufacturing an electronic component according to the present invention.
After masking the unnecessary parts for forming the outer conductor,
Dry the adhesive layer, solder crack prevention layer and oxidation prevention layer in order.
Formed on the adhesive layer and provided on the surface of the adhesive layer.
Solder crack prevention layer and the surface of this solder crack prevention layer
Desired external conductor composed of an antioxidant layer provided on
To form Or adhesive layer film, solder crack prevention layer
A film and an antioxidant layer film were sequentially formed by a dry plating method.
Thereafter, the adhesive layer film, the solder crack preventing layer film and the acid
A part of the anti-oxidation layer film is etched to
Anti-scratch layer provided on the surface of the adhesive layer and this solder
It consists of an antioxidant layer provided on the surface of
The desired outer conductor is formed.

【0009】接着層の材料としては、絶縁性部材との密
着性に優れた材料、例えばニクロム、チタン、クロム、
ニッケル等が使用される。導体層の材料としては、導電
性に優れた材料、例えば銀、銅等が使用される。半田く
われ防止層の材料としては、半田耐熱性及び導電性に優
れた材料、例えばモネル等が使用される。酸化防止層の
材料としては、半田付け性及び導電性に優れた材料、例
えば銀等が使用される。ここに、乾式めっき層は、スパ
ッタリングや蒸着等によって形成された層である。
As a material of the adhesive layer, a material having excellent adhesion to an insulating member, for example, nichrome, titanium, chromium,
Nickel or the like is used. As a material for the conductor layer, a material having excellent conductivity, for example, silver, copper, or the like is used. As a material for the solder crack preventing layer, a material having excellent solder heat resistance and conductivity, such as Monel, is used. As the material of the antioxidant layer, a material having excellent solderability and conductivity, for example, silver or the like is used. Here, the dry plating layer is a layer formed by sputtering, vapor deposition, or the like.

【0010】以上の構成により、内部導体と絶縁性基板
との良好な接合性は接着層によって確保され、内部導体
の良好な導電性は導体層によって確保される。また、外
部導体と基材表面との良好な接合性は接着層によって確
保され、外部導体の良好な半田耐熱性は半田くわれ防止
層によって確保され、外部導体の良好な半田付け性は酸
化防止層によって確保され、外部導体の良好な導電性は
半田くわれ防止層及び酸化防止層によって確保される。
[0010] With the above configuration, good bonding between the inner conductor and the insulating substrate is ensured by the adhesive layer, and good conductivity of the inner conductor is ensured by the conductor layer. In addition, good bonding between the outer conductor and the substrate surface is ensured by an adhesive layer, good solder heat resistance of the outer conductor is ensured by a solder tear prevention layer, and good solderability of the outer conductor is antioxidant. The good conductivity of the outer conductor is ensured by the anti-soldering layer and the anti-oxidation layer.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明に係る電子部品及びその製造方
の実施例について添付図面を参照して説明する。な
お、以下の各実施例において、同一部品及び同一部分に
は同じ符号を付した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an electronic component according to the present invention and a method of manufacturing the same will be described.
An embodiment of the method will be described with reference to the accompanying drawings. In the following embodiments, the same components and the same portions are denoted by the same reference numerals.

【0012】[第1実施例、図1〜図7] 第1実施例は、電子部品として高周波帯域用チップフィ
ルタを例にし、ニクロムからなる接着層と銀からなる導
体層にて構成された内部導体と、ニクロムからなる接着
層とモネルからなる半田くわれ防止層と銀からなる酸化
防止層にて構成された外部電極を備えたものについて説
明する。図1ないし図3に示すように、チップフィルタ
1は、絶縁性基板2、絶縁性基板2の上面に設けられた
一対の内部導体3,4、絶縁性基板2の下面に設けられ
たグランド用内部導体5、絶縁性基板2の上下面を被覆
した絶縁性コーティング膜8,9、フィルタ1の両端部
に設けられた入出力外部電極12,13及びフィルタ1
の両側面部のそれぞれに設けられたグランド外部電極1
4にて構成されている。
[First Embodiment, FIGS. 1 to 7] In a first embodiment, a chip filter for a high-frequency band is used as an example of an electronic component, and an internal part formed of an adhesive layer made of nichrome and a conductor layer made of silver. A description will be given of a case including a conductor, an external electrode composed of an adhesive layer made of nichrome, a solder crack preventing layer made of monel, and an oxidation preventing layer made of silver. As shown in FIGS. 1 to 3, the chip filter 1 includes an insulating substrate 2, a pair of internal conductors 3 and 4 provided on an upper surface of the insulating substrate 2, and a grounding filter provided on a lower surface of the insulating substrate 2. The inner conductor 5, insulating coating films 8 and 9 covering the upper and lower surfaces of the insulating substrate 2, input / output external electrodes 12 and 13 provided at both ends of the filter 1, and the filter 1
Ground external electrodes 1 provided on both side surfaces of the
4.

【0013】内部導体3は引出し部3c,3dを介して
入出力外部電極12及びグランド外部電極14に電気的
に接続されている。内部導体4は引出し部4c,4dを
介して入出力外部電極13及びグランド外部電極14に
電気的に接続されている。グランド用内部導体5は引出
し部5c,5dを介してグランド外部電極14に電気的
に接続されている。内部導体3,4,5は、それぞれニ
クロムからなる接着層3a,4a,5aとこの接着層3
a,4a,5aの表面に設けられた銀からなる導体層3
b,4b,5bにて構成された2層構造になっている。
ニクロムは絶縁性部材との密着性に優れた金属であるた
め、内部導体3〜5と絶縁性基板2は接着層3a〜5a
によって良好に接合する。また、ニクロムは、チタンや
クロム等の金属と比較して、有害なエッチング液を使用
しなくてすみ、エッチング廃液の処理も比較的容易であ
る。さらに、ニクロムはチタン等より安価であり、製造
コストを抑えることができる。銀は導電性に優れた金属
であるため、内部導体3〜5は導体層3b〜5bによっ
て良好な導電性を有し、良好度Qが優れたフィルタが得
られる。
The internal conductor 3 is electrically connected to the input / output external electrode 12 and the ground external electrode 14 through the lead portions 3c and 3d. The internal conductor 4 is electrically connected to the input / output external electrode 13 and the ground external electrode 14 through the lead portions 4c and 4d. The ground inner conductor 5 is electrically connected to the ground external electrode 14 via the lead portions 5c and 5d. The inner conductors 3, 4, and 5 are respectively composed of adhesive layers 3a, 4a, 5a made of nichrome and the adhesive layers 3a, 4a, 5a.
a, a conductive layer 3 made of silver provided on the surface of 4a, 5a
b, 4b, and 5b.
Since nichrome is a metal having excellent adhesion to the insulating member, the inner conductors 3 to 5 and the insulating substrate 2 are bonded to the adhesive layers 3a to 5a.
Good bonding. Nichrome does not require the use of a harmful etchant as compared with metals such as titanium and chromium, and is relatively easy to treat etching waste liquid. Furthermore, nichrome is cheaper than titanium or the like, and can reduce manufacturing costs. Since silver is a metal having excellent conductivity, the internal conductors 3 to 5 have good conductivity due to the conductor layers 3b to 5b, and a filter having excellent quality Q can be obtained.

【0014】絶縁性コーティング膜8,9は耐熱性が優
れた絶縁性材料、例えばポリイミド樹脂等からなる。入
出力外部電極12,13及びグランド外部電極14は、
それぞれニクロムからなる接着層12a,13a,14
aとこの接着層12a,13a,14aの表面に設けら
れたモネルからなる半田くわれ防止層12b,13b,
14bとこの半田くわれ防止層12b,13b,14b
の表面に設けられた銀からなる酸化防止層12c,13
c,14cにて構成された3層構造になっている。電極
12〜14と絶縁性基板2や絶縁性コーティング膜8,
9は、接着層12a〜14aによって良好に接合する。
モネルは半田耐熱性及び導電性に優れた金属であるた
め、外部電極12〜14は半田くわれ防止層12b〜1
4bによって良好な半田耐熱性と導電性を有する。銀は
半田付け性と導電性に優れた金属であるため、外部電極
12〜14は酸化防止層12c〜14cによって良好な
半田付け性と導電性を有する。
The insulating coating films 8 and 9 are made of an insulating material having excellent heat resistance, such as a polyimide resin. The input / output external electrodes 12 and 13 and the ground external electrode 14
Adhesive layers 12a, 13a, 14 each made of nichrome
a and the solder crack preventing layers 12b, 13b, made of Monel provided on the surfaces of the adhesive layers 12a, 13a, 14a.
14b and the solder crack preventing layers 12b, 13b, 14b
Antioxidant layers 12c and 13 made of silver provided on the surface of
c, 14c. The electrodes 12 to 14 and the insulating substrate 2 or the insulating coating film 8,
9 is satisfactorily joined by the adhesive layers 12a to 14a.
Since Monel is a metal having excellent solder heat resistance and conductivity, the external electrodes 12 to 14 are provided with solder break prevention layers 12b to 1b.
4b has good solder heat resistance and conductivity. Since silver is a metal having excellent solderability and conductivity, the external electrodes 12 to 14 have good solderability and conductivity due to the antioxidant layers 12c to 14c.

【0015】次に、図4〜図6を参照して内部導体3〜
5の形成方法について説明する。図4に示すように、絶
縁性基板2の上下面に、ニクロム膜20、銀膜21の順
に金属膜をスパッタリング、あるいは蒸着等の乾式めっ
き手段により形成する。次に、銀膜21の全面をレジス
ト膜にて覆った後、不必要な部分のレジスト膜を剥がし
て銀膜21の表面の一部を露出させる。次に、図5に示
すように、銀のエッチング液にて、露出された銀膜21
の部分をエッチングし、内部導体3〜5の導体層3b〜
5bを形成する。次に、図6に示すように、レジスト膜
及び導体層3b〜5bをレジスト膜として利用して、ニ
クロムのエッチング液にて、露出しているニクロム膜2
0の部分をエッチングし、内部導体3〜5の接着層3a
〜5aを形成した後、残りのレジスト膜を剥がす。こう
して得られた内部導体3〜5は寸法精度が優れ、高周波
帯域用チップフィルタに適したものである。
Next, referring to FIG. 4 to FIG.
The method for forming No. 5 will be described. As shown in FIG. 4, a metal film is formed on the upper and lower surfaces of the insulating substrate 2 in the order of the nichrome film 20 and the silver film 21 by dry plating such as sputtering or vapor deposition. Next, after covering the entire surface of the silver film 21 with a resist film, an unnecessary portion of the resist film is peeled off to expose a part of the surface of the silver film 21. Next, as shown in FIG. 5, the exposed silver film 21 is etched with a silver etchant.
Are etched to form conductor layers 3b to
5b is formed. Next, as shown in FIG. 6, using the resist film and the conductor layers 3b to 5b as a resist film, the exposed nichrome film 2 is etched with a nichrome etchant.
0 is etched, and the adhesive layer 3a of the internal conductors 3 to 5 is etched.
After forming ~ 5a, the remaining resist film is peeled off. The inner conductors 3 to 5 thus obtained have excellent dimensional accuracy and are suitable for high frequency band chip filters.

【0016】次に、外部電極12〜14の形成方法につ
いて説明する。図7に示すように、絶縁性基板2の上下
面を絶縁性コーティング膜8,9にて被覆する。次に、
外部電極12〜14の形成に不要な部分をマスキング材
にて覆った後、乾式めっき手段により外部電極12〜1
4のニクロムからなる接着層12a〜14aを、次にモ
ネルからなる半田くわれ防止層12b〜14bを、さら
に銀からなる酸化防止層12c〜14cを順に形成する
(図2参照)。こうして得られた外部電極12〜14は
寸法精度が優れたものである。
Next, a method of forming the external electrodes 12 to 14 will be described. As shown in FIG. 7, the upper and lower surfaces of the insulating substrate 2 are covered with insulating coating films 8 and 9. next,
After covering unnecessary portions for forming the external electrodes 12 to 14 with a masking material, the external electrodes 12 to 1 are dry-plated.
No. 4, the adhesion layers 12a to 14a made of nichrome, then the solder crack prevention layers 12b to 14b made of monel, and the oxidation prevention layers 12c to 14c made of silver are formed in this order (see FIG. 2). The external electrodes 12 to 14 thus obtained have excellent dimensional accuracy.

【0017】以上のように、内部導体3〜5及び外部電
極12〜14をそれぞれ接着層と導体層の2層構造及び
接着層と半田くわれ防止層と酸化防止層の3層構造にす
ることにより、内部導体3〜5及び外部電極12〜14
を比較的低温で処理することができ、高温処理や反応性
あるめっき液浸漬に起因する部品の特性劣化を防止する
ことができる。
As described above, each of the internal conductors 3 to 5 and the external electrodes 12 to 14 has a two-layer structure of an adhesive layer and a conductor layer, and a three-layer structure of an adhesive layer, a solder crack preventing layer, and an oxidation preventing layer. The inner conductors 3 to 5 and the outer electrodes 12 to 14
Can be treated at a relatively low temperature, and deterioration of the characteristics of components due to high-temperature treatment and immersion in a reactive plating solution can be prevented.

【0018】[第2実施例、図8〜図10] 第2実施例は、図8〜図10に示すように、第1実施例
において説明した内部導体3〜5を上下面に設けた絶縁
性基板2と、内部導体33を上面に設けた絶縁性基板3
2とをポリイミド樹脂系等の絶縁性接着剤36にて貼り
合わせた構造のチップフィルタ31について説明する。
このチップフィルタ31は両端部に設けられた入出力外
部電極42,43及び両側面部のそれぞれに設けられた
グランド外部電極44を備えている。
[Second Embodiment, FIGS. 8 to 10] In a second embodiment, as shown in FIGS. 8 to 10, an insulation in which the internal conductors 3 to 5 described in the first embodiment are provided on the upper and lower surfaces. Substrate 2 and insulating substrate 3 provided with internal conductor 33 on the upper surface
A description will be given of a chip filter 31 having a structure in which 2 is bonded with an insulating adhesive 36 such as a polyimide resin.
The chip filter 31 has input / output external electrodes 42 and 43 provided on both ends and ground external electrodes 44 provided on both side surfaces.

【0019】絶縁性基板32の上面に設けられた内部導
体33は、ニクロムからなる接着層33aと銀からなる
導体層33bにて構成された2層構造になっている。そ
して、外部電極42〜44は、それぞれニクロムからな
る接着層42a〜44aとモネルからなる半田くわれ防
止層42b〜44bと銀からなる酸化防止層42c〜4
4cにて構成された3層構造になっている。37,38
はポリイミド樹脂等からなる絶縁性コーティング膜であ
る。
The internal conductor 33 provided on the upper surface of the insulating substrate 32 has a two-layer structure including an adhesive layer 33a made of nichrome and a conductor layer 33b made of silver. The external electrodes 42 to 44 are respectively composed of adhesive layers 42a to 44a made of nichrome, solder fray prevention layers 42b to 44b made of monel, and oxidation prevention layers 42c to 4 made of silver.
4c has a three-layer structure. 37,38
Is an insulating coating film made of a polyimide resin or the like.

【0020】次に、外部電極42〜44の形成方法につ
いて説明する。なお、内部導体33は第1実施例の内部
導体3〜5と同様の方法によって形成するため、説明を
省略する。絶縁性基板2と32を貼り合わせて一体化し
たフィルタ31の上下面を絶縁性コーティング膜37,
38にて被覆する。つぎに、外部電極42〜44の形成
に不要な部分をマスキングし、ニクロムからなる接着層
42a〜44a、モネルからなる半田くわれ防止層42
b〜44b、銀からなる酸化防止層42c〜44cの順
にスパッタリングあるいは蒸着等の乾式めっき手段によ
り形成する。
Next, a method for forming the external electrodes 42 to 44 will be described. Since the internal conductor 33 is formed by the same method as the internal conductors 3 to 5 of the first embodiment, the description is omitted. The upper and lower surfaces of the filter 31 in which the insulating substrates 2 and 32 are bonded together to form an integral body,
Cover at 38. Next, portions unnecessary for forming the external electrodes 42 to 44 are masked, and the adhesive layers 42a to 44a made of nichrome and the solder fray prevention layer 42 made of monel are masked.
The anti-oxidation layers 42c to 44c made of silver are formed in this order by dry plating means such as sputtering or vapor deposition.

【0021】また、以下の方法により外部電極42〜4
4の形成をしてもよい。まず、フィルタ31の上下面の
全面にニクロム膜、モネル膜、銀膜の順に金属膜をスパ
ッタリング、あるいは蒸着等の乾式めっき手段により形
成する。次に銀膜の全面をレジスト膜にて覆った後、不
必要な部分のレジスト膜を剥がして銀膜の表面の一部を
露出させる。次に、銀のエッチング液にて露出された銀
膜の部分をエッチングして外部電極42〜44の酸化防
止層42c〜44cを形成する。このとき、モネル膜の
一部も銀のエッチング液にてエッチングされる。次に、
レジスト膜及び酸化防止層42c〜44cをレジスト膜
として利用してニクロムのエッチング液にてモネル膜及
びニクロム膜をエッチングして半田くわれ防止層42b
〜44b、接着層42a〜44aを形成する。この場
合、モネル膜は銀のエッチング液とニクロムのエッチン
グ液の両者によってエッチングされるため、外部電極4
2〜44の寸法精度は第1実施例のフィルタの場合より
若干低下するが、実用上は問題ない。その後、残りのレ
ジスト膜を剥がす。
The external electrodes 42 to 4 are formed by the following method.
4 may be formed. First, a metal film is formed on the entire upper and lower surfaces of the filter 31 in the order of a nichrome film, a monel film, and a silver film by dry plating such as sputtering or vapor deposition. Next, after covering the entire surface of the silver film with a resist film, an unnecessary part of the resist film is peeled off to expose a part of the surface of the silver film. Next, the exposed portions of the silver film are etched with a silver etchant to form antioxidant layers 42c to 44c of the external electrodes 42 to 44. At this time, a part of the monel film is also etched by the silver etchant. next,
The resist film and the antioxidant layers 42c to 44c are used as resist films to etch the monel film and the nichrome film with a nichrome etching solution to prevent the solder from being removed.
To 44b and adhesive layers 42a to 44a. In this case, since the monel film is etched by both the silver etchant and the nichrome etchant, the external electrode 4
Although the dimensional accuracy of 2 to 44 is slightly lower than that of the filter of the first embodiment, there is no problem in practical use. After that, the remaining resist film is peeled off.

【0022】こうして得られたチップフィルタ31は、
第1実施例のチップフィルタ1と同様の作用、効果を奏
する。
The chip filter 31 thus obtained is
The same operation and effect as those of the chip filter 1 of the first embodiment are obtained.

【0023】[他の実施例] 本発明に係る電子部品及びその製造方法は前記実施例に
限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変形
することができる。特に、前記実施例においては高周波
帯域用チップフィルタを例にして説明したが必ずしもこ
れに限るものではなく、コンデンサやインダクタ等の電
子部品であってもよい。
[Other Embodiments] The electronic component and the method of manufacturing the same according to the present invention are not limited to the above embodiment, but can be variously modified within the scope of the invention. In particular, in the above-described embodiment, a high frequency band chip filter has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and electronic components such as capacitors and inductors may be used.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、内部導体を乾式めっきの接着層と導体層にて構
成し、外部導体を乾式めっきの接着層と半田くわれ防止
層と酸化防止層にて構成したので、内部導体及び外部導
体を比較的低温状態で形成することができ、高温処理や
反応性あるめっき液浸漬に起因する部品の特性劣化を防
止することができる。さらに、内部導体及び外部導体を
多層構造とすることにより、基材への密着性、半田耐熱
性、半田付け性及び導電性が優れた内部導体及び外部導
体を得ることができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the inner conductor is constituted by the adhesive layer of dry plating and the conductor layer, and the outer conductor is constituted by the adhesive layer of dry plating and the solder crack preventing layer. And the anti-oxidation layer, the inner conductor and the outer conductor can be formed at a relatively low temperature, and the characteristic deterioration of components due to high-temperature treatment and immersion in a reactive plating solution can be prevented. Further, by forming the inner conductor and the outer conductor into a multilayer structure, it is possible to obtain an inner conductor and an outer conductor having excellent adhesion to a substrate, solder heat resistance, solderability, and conductivity.

【0025】また、乾式めっきによって形成される内部
導体及び外部導体の寸法精度は、導電性ペーストを印刷
塗布することによって形成される導体の寸法精度より優
れており、電気特性のばらきつが少ない電子部品が得ら
れる。
Further, the dimensional accuracy of the inner conductor and the outer conductor formed by dry plating is superior to the dimensional accuracy of the conductor formed by printing and applying a conductive paste, and the electronic conductor has less variation in electrical characteristics. Parts are obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る電子部品の第1実施例の外観を示
す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of a first embodiment of an electronic component according to the present invention.

【図2】図1のII−II垂直断面図。FIG. 2 is a vertical sectional view taken along line II-II of FIG.

【図3】図1に示した電子部品の内部を示す水平断面
図。
FIG. 3 is a horizontal sectional view showing the inside of the electronic component shown in FIG. 1;

【図4】図1に示した電子部品の製造方法を説明するた
めの垂直断面図。
FIG. 4 is a vertical sectional view for explaining a method of manufacturing the electronic component shown in FIG.

【図5】図4に続く製造方法を説明するための垂直断面
図。
FIG. 5 is a vertical sectional view for explaining the manufacturing method following FIG. 4;

【図6】図5に続く製造方法を説明するための垂直断面
図。
FIG. 6 is a vertical sectional view for explaining the manufacturing method following FIG. 5;

【図7】図6に続く製造方法を説明するための垂直断面
図。
FIG. 7 is a vertical sectional view for explaining the manufacturing method following FIG. 6;

【図8】本発明に係る電子部品の第2実施例の外観を示
す斜視図。
FIG. 8 is a perspective view showing the appearance of a second embodiment of the electronic component according to the present invention.

【図9】図8のIX−IX垂直断面図。FIG. 9 is a vertical sectional view taken along the line IX-IX of FIG. 8;

【図10】図8に示した電子部品の内部を示す水平断面
図。
FIG. 10 is a horizontal sectional view showing the inside of the electronic component shown in FIG. 8;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…チップフィルタ2…絶縁性基板 3,4,5…内部導体 3a,4a,5a…接着層 3b,4b,5b…導体層 12,13,14…外部電極 12a,13a,14a…接着層 12b,13b,14b…半田くわれ防止層 12c,13c,14c…酸化防止層 31…チップフィルタ32…絶縁性基板 33…内部導体 33a…接着層 33b…導体層 42,43,44…外部電極 42a,43a,44a…接着層 42b,43b,44b…半田くわれ防止層 42c,43c,44c…酸化防止層DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chip filter 2 ... Insulating substrate 3,4,5 ... Inner conductor 3a, 4a, 5a ... Adhesive layer 3b, 4b, 5b ... Conductor layer 12,13,14 ... External electrode 12a, 13a, 14a ... Adhesive layer 12b , 13b, 14b: anti-scratch layer 12c, 13c, 14c: antioxidant layer 31: chip filter 32: insulating substrate 33: internal conductor 33a: adhesive layer 33b: conductor layer 42, 43, 44: external electrode 42a, 43a, 44a: adhesive layer 42b, 43b, 44b: anti-scratch layer 42c, 43c, 44c: antioxidant layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−121957(JP,A) 特開 昭56−167318(JP,A) 特開 平5−47585(JP,A) 特開 平4−357807(JP,A) 特開 昭60−195916(JP,A) 特公 昭63−9647(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 1/00 - 1/017 H01G 13/00 - 13/06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-49-121957 (JP, A) JP-A-56-167318 (JP, A) JP-A-5-47585 (JP, A) JP-A-4- 357807 (JP, A) JP-A-60-195916 (JP, A) JP-B-63-9647 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01G 1 / 00-1 / 017 H01G 13/00-13/06

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 絶縁性基板の表面に形成された内部導体
が、接着層とこの接着層の表面に設けられた導体層にて
構成され、前記絶縁性基板の少なくとも端部に形成された 外部導体
が、接着層とこの接着層の表面に設けられた半田くわれ
防止層とこの半田くわれ防止層の表面に設けられた酸化
防止層にて構成され、前記内部導体の接着層と前記外部導体の接着層とが同一
材料からなり、前記接着層同士が接続し、 前記各接着層と前記導体層と前記半田くわれ防止層と前
記酸化防止層が、それぞれ乾式めっき層である、 ことを特徴とする電子部品。
An internal conductor formed on a surface of an insulating substrate is composed of an adhesive layer and a conductor layer provided on a surface of the adhesive layer, and an external conductor formed on at least an end of the insulating substrate. The conductor is composed of an adhesive layer, a solder crack preventing layer provided on the surface of the adhesive layer, and an oxidation preventing layer provided on the surface of the solder crack preventing layer. Same as the conductor adhesive layer
An electronic component comprising a material, wherein the adhesive layers are connected to each other, and each of the adhesive layers, the conductor layer, the solder crack preventing layer, and the oxidation preventing layer is a dry plating layer.
【請求項2】(2) 内部導体を表裏面にそれぞれ設けた絶縁Insulation with internal conductors on each side
性基板と、内部導体を表裏いずれか一方の面に設けた絶The conductive board and the inner conductor are provided on either side.
縁性基板とを、絶縁性接着剤にて貼り合わせた構造体をA structure in which an edge substrate is bonded with an insulating adhesive
有し、該構造体の端部に外部導体を設け、Having an external conductor at the end of the structure, 前記内部導体が、接着層とこの接着層の表面に設けられThe inner conductor is provided on an adhesive layer and a surface of the adhesive layer.
た導体層にて構成され、Composed of conductive layers, 前記外部導体が、接着層とこの接着層の表面に設けられThe external conductor is provided on an adhesive layer and a surface of the adhesive layer.
た半田くわれ防止層とこの半田くわれ防止層の表面に設The solder crack prevention layer and the surface of this solder crack prevention layer
けられた酸化防止層にて構成され、It consists of an antioxidant layer 前記内部導体の接着層と前記外部導体の接着層とが同一The adhesive layer of the inner conductor and the adhesive layer of the outer conductor are the same
材料からなり、前記接着層同士が接続し、Made of a material, the adhesive layers are connected to each other, 前記接着層と前記導体層と前記半田くわれ防止層と前記The adhesive layer, the conductor layer, the solder crack preventing layer,
酸化防止層が、それぞれ乾式めっき層である、The oxidation prevention layer is a dry plating layer, ことを特徴とする電子部品。An electronic component, characterized in that:
【請求項3】 絶縁性基板の表面に、接着層膜、導体層
膜を順に乾式めっき法により形成した後、前記接着層膜
及び前記導体層膜の一部をエッチング処理して、接着層
とこの接着層の表面に設けられた導体層にて構成された
所望の内部導体を形成する工程と、 前記絶縁性基板の少なくとも端部に、 それぞれが乾式め
っき層からなる、接着層とこの接着層の表面に設けられ
た半田くわれ防止層とこの半田くわれ防止層の表面に設
けられた酸化防止層にて構成された所望の外部導体を形
成する工程とを備え、 前記内部導体の接着層と前記外部導体の接着層とが同一
材料からなり、前記接着層同士が接続し、かつ、前記接
着層によって前記内部導体、前記絶縁性基板及び前記外
部導体が接着していること、 を特徴とする電子部品の製造方法。
3. An adhesive layer film and a conductor layer film are sequentially formed on a surface of an insulating substrate by a dry plating method, and a part of the adhesive layer film and the conductor layer film is subjected to an etching treatment to form an adhesive layer and a conductor layer film. A step of forming a desired internal conductor constituted by a conductor layer provided on the surface of the adhesive layer; and an adhesive layer and at least an end portion of the insulating substrate, each comprising a dry plating layer. Forming a desired external conductor composed of a solder crack preventing layer provided on the surface of the substrate and an oxidation preventing layer provided on the surface of the solder crack preventing layer, and an adhesive layer for the internal conductor. And the adhesive layer of the outer conductor are the same
The adhesive layers are connected to each other, and
The inner conductor, the insulating substrate, and the outer
A method for manufacturing an electronic component, wherein the partial conductors are bonded .
【請求項4】 絶縁性基板の表面の外部導体の形成に不
要な部分をマスキングした後、接着層、半田くわれ防止
層、酸化防止層を順に乾式めっき法により形成して、接
着層とこの接着層の表面に設けられた半田くわれ防止層
とこの半田くわれ防止層の表面に設けられた酸化防止層
にて構成された所望の外部導体を形成し、前記内部導体
の接着層と前記外部導体の接着層とが同一材料からな
り、前記接着層同士が接続し、かつ、前記接着層によっ
て前記内部導体、前記絶縁性基板及び前記外部導体が接
着していることを特徴とする請求項3記載の電子部品の
製造方法。
4. After masking an unnecessary portion of the surface of the insulating substrate for forming an external conductor, an adhesive layer, a solder crack preventing layer, and an oxidation preventing layer are sequentially formed by a dry plating method. the desired outer conductor is constituted by provided the solder leach prevention layer provided on the surface of the adhesive layer on the surface of the solder leach prevention layer antioxidant layer is formed, the inner conductor
The adhesive layer of the external conductor and the adhesive layer of the external conductor are made of the same material.
The adhesive layers are connected to each other, and
The inner conductor, the insulating substrate and the outer conductor
The method for manufacturing an electronic component according to claim 3, wherein the electronic component is worn .
【請求項5】 絶縁性基板の表面に、接着層膜、半田く
われ防止層膜、酸化防止層膜を順に乾式めっき法により
形成した後、前記接着層膜、前記半田くわれ防止層膜及
び前記酸化防止層膜の一部をエッチング処理して、接着
層とこの接着層の表面に設けられた半田くわれ防止層と
この半田くわれ防止層の表面に設けられた酸化防止層に
て構成された所望の外部導体を形成し、前記内部導体の
接着層と前記外部導体の接着層とが同一材料からなり、
前記接着層同士が接続し、かつ、前記接着層によって前
記内部導体、前記絶縁性基板及び前記外部導体が接着し
ていることを特徴とする請求項3記載の電子部品の製造
方法。
5. An adhesive layer film, a solder crack preventing layer film and an oxidation preventing layer film are sequentially formed on a surface of an insulating substrate by a dry plating method, and then the adhesive layer film, the solder crack preventing layer film and A part of the antioxidant layer film is etched to form an adhesive layer, a solder crack preventing layer provided on the surface of the adhesive layer, and an antioxidant layer provided on the surface of the solder crack preventing layer. To form a desired outer conductor,
The adhesive layer and the adhesive layer of the outer conductor are made of the same material,
The adhesive layers are connected to each other, and
The inner conductor, the insulating substrate and the outer conductor are adhered to each other.
The method for manufacturing an electronic component according to claim 3, wherein
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