JP3014146B2 - ビス−インドリルマレイミド類の合成 - Google Patents

ビス−インドリルマレイミド類の合成

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JP3014146B2 JP8529734A JP52973496A JP3014146B2 JP 3014146 B2 JP3014146 B2 JP 3014146B2 JP 8529734 A JP8529734 A JP 8529734A JP 52973496 A JP52973496 A JP 52973496A JP 3014146 B2 JP3014146 B2 JP 3014146B2
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Description

【発明の詳細な説明】 プロテインキナーゼC(PKC)に対するキナーゼ選択性
とPKCイソ酵素選択性の両方を持つ拮抗薬は、治療上、
潜在的に有用な薬理物質である。Hartenstein,J.H.ら
「Perspectives in Medicinal Chemistry」99−118(19
93)VCH Publishers,ニューヨーク。プロテインキナー
ゼCの上記拮抗薬は、PKCが関係付けられている疾患状
態の処置に有用だろう。Lester,D.S.ら「Protein Kinas
e C:Currentconcepts and Future Perspectives」Ellis
Horwood,ニューヨーク(1992)。癌(Ahmedら,Mol.Pha
rma.,43,858−86(1993))、アルツハイマーなどのCNS
疾患(Demaerschalckら,Biochem.Biohpys.Acta.1181,21
4−218(1993))、心血管疾患(Natarajanら,Mol.Cel
l.Endo.,101,59−66(1994))及び糖尿病合併症(King
ら,Proc.Natl.Acad.Science(USA)88:22,11059−63(1
992))には、プロテインキナーゼCの特定のイソ酵素
が関係付けられている。
最近、一群の化合物(本明細書ではビス−インドリル
マレイミド類という)が、PKCの強力かつ効果的な阻害
剤であると同定された。この種類の化合物は、例えばDa
visら,米国特許5,057,614(1991)、Barthら,欧州特
許出願397 060(1992)、Schultzら,pct出願WO91/1307
0、Barthら,米国特許5,380,746、米国特許出願番号08/
163,060(欧州特許公開0 657 458)、米国特許出願番号
08/324,948(PCT特許公開WO95/171,82)及び米国特許出
願番号08/316,973(欧州特許公開0 657 458)に記述さ
れている。この種類の化合物は、一般に、下記の式Iで
表される。
[X、Y及びRは任意置換基を表す] 本発明は、式Iの化合物の新規製造法を提供する。よ
り具体的には、本発明は、式IIのα−ケトインドリル
酸: [R1は水素、C1−C4アルキル又はベンジルを表し、R、
X及びYは任意置換基を表す] を反応させて、式IIIの新規ビス−インドリルマレイン
酸: を製造する効率のよい方法を提供する。式IIIの化合物
は、式Iのビス−インドリルマレイミドに容易に変換さ
れる。
ケトンとアルデヒドを低原子価チタン試薬で処理する
と還元的に二量化してオレフィンが生じることは、当該
技術分野で知られており、J.E.McMurry,Chem.Rev.89;15
13−24(1989)に概説されている。この反応はJ.E.McMu
rryら,J.Am.Chem.Soc.105;1660−61(1982)にも記述さ
れており、この文献では、類似の条件下におけるケトエ
ステル環化が立証されている。しかし、本発明以前に
は、低原子価チタンが式IIのα−ケトインドリル酸を効
率よくカップリングすることは知られていなかった。し
たがって、本明細書に記載の条件下に、効率のよい方法
で高収率に、式Iの化合物を製造することができる。
本発明は、ビス−インドリルマレイン酸又はそのエス
テルの製造法であって、式IIのインドリル酸: [R1は水素、C1−C4アルキル又はベンジルを表し、R、
X及びYは任意置換基を表す] を低原子価チタン試薬の存在下に反応させて、式IIIの
ビス−インドリルマレイン酸又はそのエステル: を形成させることからなる方法を提供する。
さらに本発明は、上記ビス−インドリルマレイン酸を
ビス−インドリルマレイミドに変換する方法であって、
式IIIの酸化合物を加水分解(hydrolize)して式IVの無
水物: を形成させ、その無水物(IV)を式Iのビス−インドリ
ルマレイミドに変換することからなる方法をも提供す
る。
本明細書で本発明の開示、請求に用いる用語は、次の
ように定義される。
本明細書で用いる用語「ハロ」は、フッ素、塩素、臭
素又はヨウ素を表す。
用語「C1−C4アルキル」は、1〜4炭素原子を持つシ
クロ、直鎖又は分岐鎖アルキル基を表し、例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、シクロプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブ
チルなどである。ハロアルキルとは、1以上のハロ原子
(好ましくは1〜3個のハロ原子)で置換された上記ア
ルキルをいう。ハロアルキルの一例はトリフルオロメチ
ルである。C1−C4アルコキシとは、−O−結合によって
共有結合したC1−C4アルキル基をいう。
用語「アリール」は、置換又は非置換フェニル若しく
は置換又は非置換ナフチルを表す。アリールは、ヒドロ
キシ、カルボキシ、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキ
ル、ハロアルキル、ニトロ、−NR4R5、−NHCO(C1−C4
アルキル)、−NHCO(ベンジル)、−NHCO(フェニ
ル)、SH、S(C1−C4アルキル)、−OCO(C1−C4アル
キル)、−SO2(NR4R5)、−SO2(C1−C4アルキル)、
−SO2(フェニル)又はハロから独立に選択される1又
は2個の基で置換されていてもよい。アリールオキシと
は、−O−結合によって共有結合した上記アリールをい
う。(CH2アリールという用語は、ベンジル又はフ
ェニルであることが好ましい。
という表記は、任意結合を示す。即ち、XとYは互いに
結合していてもよい。
(X)、(Y)及びRは、薬理的に活性なビス−イン
ドリルマレイミド上で許容できると当該分野で認められ
る任意置換基である。例えば、参考文献として本明細書
の一部を構成する米国特許5,057,614では、(X)と
(Y)は独立に水素、アルキル、アリール、アラルキ
ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロア
ルキル、アミノアルキル、モノアルキルアミノアルキ
ル、ジアルキルアミノアルキル、トリアルキルアミノア
ルキル、アミノアルキルアミノアルキル、アジドアルキ
ル、アシルアミノアルキル、アシルチオアルキル、アル
キルスルホニルアミノアルキル、アリールスルホニルア
ミノアルキル、メルカプトアルキル、アルキルチオアル
キル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホ
ニルアルキル、アルキルスルホニルオキシアルキル、ア
ルキルカルボニルオキシアルキル、シアノアルキル、ア
ミジノアルキル、イソチオシアナートアルキル、グルコ
ピラノシル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニ
ルアルキル、アミノカルボニルアルキル、ヒドロキシア
ルキルチオアルキル、メルカプトアルキルチオアルキ
ル、アリールチオアルキル又はカルボキシアルキルチオ
アルキルを表す。また、Rは水素、ハロゲン、アルキ
ル、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ハロア
ルキル、ニトロ、アミノ、アシルアミノ、モノアルキル
アミノ、ジアルキルアミノ、アルキルチオ、アルキルス
ルフィニル又はアルキルスルホニルである。これらの位
置について当該分野で容認される他の置換基は、参考文
献として本明細書の一部を構成する米国特許5,380,746
に認めることができる。
好ましい態様として、米国特許出願番号08/316,973
(欧州特許0 657 458として公開)に開示されているよ
うに、XとYを互いに結合させる。最も好ましくは、X
とYは一体となって下記式I aの6〜9原子大員環を形
成する。
[Zは−O−、−S−、−NR3、−CONH−又はNHCO−を
表す。
Rは独立に水素、ハロ、C1−C4アルキル、ヒドロキ
シ、C1−C4アルコキシ、ハロアルキル、ニトロ、NR4R5
又は−NHCO(C1−C4アルキル)を表す。
R2は水素、C1−C4アルキル、−(CH2nC1−C4アルコ
キシ、(CH2アリール、(CH2アリールオキシ、
−(CH2ヒドロキシ、−(CH2カルボキシ、−
(CH2nCOO(C1−C4アルキル)、−(CH2)COO((C
H2アリール)、−(CH2nCO(C1−C4アルキル)、
−(CH2nNR4R5、−(CH2)NH(CF3)、−(CH2)N
(CF3)(CH3)、(CH2(NR4R5)(OR4)、−(C
H2nNH(CH2アリール、−(CH2nNH(CH2
リジル、−(CH2nCONH((CH2アリール)、−(C
H2nCONH(C1−C4アルキル)、−(CH2nNHCO(C1−C
4アルキル)、−(CH2nNHCO(CH2アリール、−
(CH2nOCONH(C1−C4アルキル)、−(CH2nOCONH
(CH2アリール、−(CH2nNHCOO(アルキル)、−
(CH2nNHCOO(ベンジル)、−(CH2nNHSO2(C1−C4
アルキル)、−(CH2nNHSO2(CH2アリール、−
(CH2nCN、−(CH2nSH、−(CH2nS(C1−C4アル
キル)、−(CH2nS(アリール)、−(CH2nSO2(NR
4R5)、−(CH2nSO2(C1−C4アルキル)又は−(C
H2nSO(C1−C4アルキル)を表す。
R3は水素、(CH2アリール又はC1−C4アルキルを
表す。
R4とR5は独立に水素、メチル、フェニル、ベンジルを
表すか、若しくはそれらが結合している窒素と一体とな
って飽和又は不飽和の5又は6員環を形成する。
nは独立に1、2又は3を表す。] 最も好ましい式I aの化合物は、Rが水素、R2が−CH2
NR4R5、nが1、R4とR5がメチルを表すものである。
式I aの化合物は米国特許出願番号08/316,973(欧州
特許0 657 458として公開)に開示されている。
上述のように、本発明は、ビス−インドリルマレイン
酸の製造法であって、式IIのインドリル酸: [R1は水素、C1−C4アルキル又はベンジルを表し、R、
X及びYは任意置換基を表す] を低原子価チタン試薬の存在下に反応させて、式IIIの
ビス−インドリルマレイン酸: を形成させることからなる方法を提供する。
さらに本発明は、上記ビス−インドリルマレイン酸を
ビス−インドリルマレイミドに変換する方法であって、
式IIIの化合物を加水分解して式IVの無水物: を形成させ、その無水物(IV)を式Iのビス−インドリ
ルマレイミドに変換することからなる方法をも提供す
る。
式IIのビス−インドリル酸の製造は、次のように行わ
れる。
反応式1において、R1、R、X及びYは既に定義した
通りである。R1はC1−C4アルキルであることが好まし
い。式IIのインドリル酸の形成は、当該分野が知られる
条件下で行われ、G.W.Gibbleら,J.Org.Chem.57:3636−4
2(1992)、M.Giuaら,Chim.Ital.54,593(1924)、M.E.
Speederら,J.Am.Chem.Soc.76:6208(1954)及びA.G.Gud
mundsonら,J.Org.Chem.23:1171(1958)に記述されてい
る。
好ましくは、THFやエーテルなどの不活性溶媒中、−3
0℃〜周囲温度で、約2〜12等量の塩化オキサリルを滴
下しながら、式Vの化合物を反応させて、3−インドリ
ルグリオキシリルクロリドを形成させる。反応はメタノ
ールでクエンチする。酸の添加によって生成物を沈殿さ
せ、それを集めて再懸濁し、塩基を加えて中和すること
によって、式IIの化合物を得る。
次に、反応式2に従って、式IIの化合物を新しい方法
で反応させる。
反応式2は、式IIの化合物と低原子価チタン試薬の反
応による式IIIの化合物の生成を表している。この反応
は、当業者に知られる1以上の不活性溶媒中で行われ
る。例えば、この反応は次に挙げる溶媒の1以上の中で
行なうことができる:エーテル、THF、塩化メチレン、D
MF、DME又はピリジン。この溶媒は、DME、塩化メチレン
及びTHFであることが好ましい。
反応式2の反応は、1モルの化合物IIにつき約2〜約
40等量の低原子価チタン試薬を用いて行われる。好まし
くは、この反応を、1モルの化合物IIにつき約2〜20等
量の低原子価チタン試薬を用いて行なう。この反応は、
−20℃からその反応混合物の還流温度までにわたる温度
で行なうことができる。好ましくは、この反応を0℃〜
還流温度で行なう。この反応は一般に、約10分〜約48時
間で完了する。
低原子価チタン試薬とは、そのTi(O)、Ti(I)、
Ti(II)酸化状態にあるチタン又はこれら酸化状態の混
合状態にあるチタンをいう。この試薬は、TiCl3又はTiC
l4を、チタンをそのTi(O)、Ti(I)、Ti(II)の酸
化状態又はこれら酸化状態の混合状態に還元しうる第2
の還元剤と反応させることによって、系中(in situ)
で調製される。したがって、条件にある第2還元剤とし
ては、LiAlH4、Li、Zn−Cu、Znなどが挙げられる。好ま
しい還元剤としては、ZnとZn−Cuが挙げられる。TiCl3
の添加後に添加するのであれば、Zn−Feも使用できる。
好ましい還元剤はZnとZn−Cuである。必要な還元剤の量
は、選択した還元剤と反応条件とに依存する。一般的に
は、1mmolのTiCl3につき15mg〜1500mgの還元剤(好まし
くは1モルのTiCl3につき75mg〜500mgの還元剤)で行い
うる。
表1は、種々の還元剤による反応を表す。
表1 1M TiCl32:1CH2Cl2/THFによる還元的カップリング 反応 還元剤 時間(時間) 単離収率 1 Zn 16 35% 2 Zn−Cu 16 33% 3 Zn−Fe 16 8% 4 Zn 48 51% 5 Zn−Cu 48 33% 7 Zn 16 38% 8 Zn−Cu 16 48% 9 Zn−Cu 2 48% 表1では、全ての反応を室温で行なった。反応1、
2、3、6及び7はDME中で行なった。反応4と5は、D
ME中の25%CH2Cl2中で行なった。反応4と5では、DME/
CH2Cl2(4:1)中の化合物IIを、攪拌したTiCl3とZnのス
ラリーに10時間かけて加えた。反応6と7では、TiC
l3、化合物II及びZnをDMEに懸濁し、攪拌した。表1
は、使用する還元剤が本発明にとって決定的な問題では
ないことを証明している。当業者は、添加順序や反応時
間などの反応パラメーターを変えてみることによって、
チタンをその低原子価酸化状態に還元できる還元剤なら
どれでも使用できることを理解するだろう。
意外なことに、本明細書に記述するこの新規反応が、
第2還元剤を加えなくても進行することがわかった。つ
まり、反応式2の反応は、2〜500等量のTiCl3を用いれ
ば、Zn、Zn−Cu及びZn−Feのような第2還元剤を加えな
くとも、TiCl3で行なうことができる。この反応は、不
活性溶媒中、−40℃からその反応混合物の還流温度まで
にわたる温度で行われる。最も好ましくは、−30℃〜室
温で2〜10等量のTiCl3を用いてこの反応を行なう。3
−インドリル−αケトエステルの3−インドリル酢酸エ
ステルへの過還元をさらに最小に抑えるには、この反応
を第2還元剤の不在下に行なうことが好ましい。
新規中間体(III)は、クロマトグラフィー、トリチ
ュレーション、結晶化、ろ過又はそれらの組み合わせ、
若しくは当該技術分野で知られる他の技術を含む標準的
な技術で単離、精製できる。
式IIIの化合物は、反応式3に従って、式Iのビス−
インドリルマレイミドに容易に変換される。
上記反応式において、R1、R、X及びYは既に定義し
た通りである。式IIIの化合物は、強い酸性又は塩基性
条件下に加水分解されて、式IVの無水物を形成する。
式IIIの化合物を加水分解して無水物を得るのに必要
な条件は、エステルの加水分解について当該分野で認識
されている。好ましくは、水性溶媒中の塩基(水酸化ナ
トリウムなど)と、それに続く酸性の後処理条件を用い
て、無水物を形成させる。
式IVの無水物は、P.D.Davisら,Tetrahedron Lett.31:
5201−04(1990)と米国特許5,057,614に記載の当該分
野で知られる技術によって、式Iのビス−インドリルマ
レイミドに変換される。例えば、上記無水物を、極性非
プロトン性溶媒(DMFなど)中、室温で、過剰のヘキサ
メチルジシラザン又はアンモニウム塩(酢酸アンモニウ
ム、臭化アンモニウム又は塩化アンモニウム)及びC1
C4アルコール(好ましくはメタノール)と反応させる。
好ましくは、ヘキサメチルジシラザン又はアンモニウム
塩を、無水物の約5:1等量より大きい比率で反応させ
る。
既に述べたように、ケトンとアルデヒドが低原子価チ
タン試薬の存在下に還元的二量化を受けてオレフィンを
生じる反応は、当該分野で知られており、J.E.McMurry
ら,Chem.Rev.89:1513−24(1989)に概説されている。
しかし、本発明以前には、低原子価チタンが式IIのα−
ケトインドリル酸を高収率で効率よくカップリングする
ことは知られていなかった。この反応は、本明細書に記
述する条件下に、化学選択的(chemoselective)に進行
する。この反応の化学選択性は、類似の条件下でケトエ
ステル環化がシクロアルカノンを形成することを立証し
ているJ.E.McMurryら,J.Am.Chem.Soc.105:1660−61(19
82)を考慮すると、極めて意外である。さらに、XとY
が互いに結合している、5原子以下からなる場合を除い
て、3−インドリル−αケトエステルの3−インドリル
酢酸エステルへの過還元は観測されない。
したがって、本発明方法は、式Iの化合物を製造する
際に有用である。式Iの化合物はPKC阻害剤であり、PKC
が関係する疾患の治療、具体的には真性糖尿病、より具
体的には糖尿病合併症の治療に有効である。式Iの化合
物の投与量は、哺乳動物内のPKC活性を阻害できる量で
ある。本発明に従って投与される化合物の特定の投与量
は、もちろん、その症例を取り巻く特定の状況(投与さ
れる化合物、投与経路、処置される特定の状態などの考
慮を含む)によって決定されるだろう。
以下の実施例と製造例は、本発明をさらに例示するた
めに記載するにすぎない。本発明の範囲が以下の実施例
のみからなるとは解されない。以下の実施例と製造例で
は、融点、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル、シ
リカゲル高圧液体クロマトグラフィー、N,N−ジメチル
ホルムアミド、チャコール上のパラジウム、テトラヒド
ロフラン及び酢酸エチルを、それぞれ、M.Pt.、NMR、M
S、HPLC、DMF、Pd/C、THF及びEtOAcと略記する。「NM
R」及び「MS」という用語は、そのスペクトルが所望の
構造と合致したことを示す。
製造例1 1−6ビスインドールヘキサン 還流冷却器を装着した乾燥三口フラスコに、NaH(2.7
0g,68mmol,油中60%分散液)を入れ、それをヘキサンで
洗浄して油を除いた。次に、洗浄したNaHをDMF(40mL)
に懸濁し、0℃で激しく攪拌した。この懸濁液に、DMF
(40mL)中のインドール(5.3g,45mmol)を加えた。得
られた混合物を0℃で1時間攪拌した後、DMF(40mL)
中の1,6−ジブロミドヘキサン(3.5mL,22.5mmol)を30
分間かけて滴下した。次に、この混合物を室温に温め、
終夜攪拌した。過剰のNaHを過剰のMeOHを添加すること
によって破壊した。次に、その混合物をエーテル(250m
L×3)で抽出した。合わせた有機層をブライン(20m
L)で洗浄した後、MgSO4で乾燥し、濃縮して粗生成物を
得、それを短いシリカカラム(ヘキサン中の5%酢酸エ
チルで溶出)に通して、純粋な1−6−ビスインドール
ヘキサン(6.84g,96%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ7.66(d,J=10Hz,2H,C−2インドー
ル),7.56−7.03(m,6H,インドール),6.50(d,2H,C−
3インドール),4.06(t,J=7Hz,4H,NCH2(CH2−CH
2N)1.90−1.73(m,4H,NCH2CH2(CH22CH2CH2N),1.36
−1.26(m,4H,N(CH2)CH2CH2(CH22N) 製造例2 1,6ビス(3−メチルグリオキセートインドール)ヘキ
サン 0℃のTHF(65mL)中の1,6−ビス(3−メチルグリオ
キセートインドール)ヘキサン(2.00g,6.31mmol)の攪
拌溶液に、塩化オキサリル(1.4mL,15.79mmol)を5分
間かけて滴下した。次に、得られた溶液を3時間攪拌し
たところ、反応混合物のTLCが出発物質の消費を示し
た。中間体モノメトキシル化出発物質が最終生成物に変
換したことを確かめるには、反応混合物の一部をMeOHで
クエンチし、TLC(ヘキサン中の25%酢酸エチル)で分
析する必要があった。その混合物をHClでpH3に酸性化し
たところ、生成物のHCl塩が沈殿した。これらの沈殿物
をろ過し、ヘキサンで洗浄した。次に、これらの洗浄し
た沈殿物をTHFに懸濁し、pHが〜7になるまで1M NaOHを
加えたところ、その懸濁液が透明になった。得られた溶
液を酢酸エチル(50mL×3)で抽出し、MgSO4で乾燥
し、減圧下に濃縮して粗生成物を得、それを短いシリカ
カラム(ヘキサン中の50%酢酸エチルで溶出)に通して
精製することにより、純粋な1,6−ビス(3−メチルグ
リオキセートインドール)ヘキサン(3.12g,80%)を得
た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ8.50−8.43(m,2H,C−7インドー
ル),7.40−7.30(m,6H,インドール),4.16(t,J=7Hz,
4H,NCH2(CH24CH2N),3.96(s,6H,COOCH3),1.96−1.
83(m,4H,NCH2CH2(CH22CH2N),1.43−1.30(m,4H,N
(CH22CH2CH2(CH22N) 製造例3 1,7−ビスインドールヘプタン 磁気攪拌子の入った乾燥250mL丸底フラスコに、NaHの
60分分散液(油中,4.02g,100.60mmol)を入れた。次
に、乾燥ヘキサン(〜10mL)を用いて過剰の油を洗浄し
た後、乾燥DMF(150mL)を加えた。得られたスラリーを
氷槽で0℃に冷却した後、DMF(50mL)中のインドール
(9.06g,77.42mmol)を滴下した。その反応混合物を室
温に温め、1時間攪拌した。この混合物に1−7ジブロ
モヘプタン(10g,38.71mmol)を5分間かけて加えた。
得られた混合物をさらに24時間攪拌した後、水(〜20m
L)を滴下し、エーテル(50mL×3)で抽出した。合わ
せた有機層をブライン(50mL)で洗浄し、MgSO4で乾燥
し、減圧下に濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物を
短いシリカゲルカラム(ヘキサン中の10%酢酸エチルで
溶出)に通すことによって浄化して、純粋な1,7−ビス
インドールヘプタン(11.5g,90%)を得た。MS。1H NMR
(CDCl3,250MHz)δ7.83(d,J=7.5Hz,2H,Ar),7.52−
7.14(m,8H,Ar),6.68(d,J=5.00Hz,2H,Ar),4.18(t,
J=6.87Hz,4H,NCH2(CH25CH2N),2.00−1.82(m,4H,N
CH2CH2(CH23CH2−CH2N),1.44−1.33(m,4H,N(C
H22CH2CH2CH2(CH22N),1.18−1.00(m,2H,N(C
H23CH2(CH23N)。
製造例4 1,7−ビス(3−メチルグリオキセートインドール)ヘ
プタン THF(65mL)中のビスインドールヘプタン(2g,6.31mm
ol)の攪拌溶液に、0℃で塩化オキサリル(1.4mL,15.7
9mmol)を5分間かけて滴下した。その混合物を0℃で
3時間攪拌したところ、TLCが出発物質の完全な消費を
示した。次に、その反応をMeOH(766μL,18.93mmol)で
クエンチし、さらに1時間攪拌した。この混合物を0.2N
HCl水溶液でpH1に酸性化したところ、生成物が溶液か
ら沈殿した。これらの沈殿物をろ過し、水で洗浄してHC
lを完全に除去した後、風乾して、純粋な生成物(3.12
g,80%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3,250MHz)δ8.48−8.39(m,2H,Ar),8.32
(s,2H,Ar),7.36−7.27(m,6H,Ar),4.10(t,J=8.25H
z,4H,NCH2(CH25CH2N),3.92(s,6H,COO−CH3),1.93
−1.78(m,4H,NCH2CH2(CH23CH2CH2N),1.38−1.22
(m,6H,NCH2CH2(CH23CH2CH3N 製造例5 ビスインドール−トリチルエーテル 0℃の乾燥DMF(100mL)中のNaH(6.08g,0.15mol,60
%分散液)のスラリーを攪拌し、それに、DMF(200mL)
中のインドール(8.92g,0.07mol)の溶液を、カニュー
レを通して5分間かけて加えた。得られた混合物を室温
で1時間攪拌した時点で、CH2Cl2(200mL)中のビスメ
シレート(10.40g,0.02mol)の溶液を、カニューレを通
して10分間かけて加えた。次に、この混合物を終夜攪拌
した時点で、TLC分析が出発物質の完全な消費を示し
た。その反応を飽和NH4Cl水溶液(100mL)でクエンチし
た後、エーテル(500mL)で希釈した。その有機層を分
離し、水層をさらにエーテル(100mL×3)で抽出し
た。次に、合わせた有機層をブライン(100mL)で1回
洗浄し、MgSO4で乾燥し、ろ過し、減圧下に濃縮して粗
生成物を得、それをHPLCで精製して、純粋なビスインド
ール(10.02g,85%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ7.72−6.92(m,23H,Ar),6.56(d,J
=4.9Hz,1H,Ar),6.48(d,J=4.9Hz,1H,Ar),6.31(d,J
=4.9Hz,1H,Ar),4.36−4.26(m,2H,NCH2CH2O),3.98−
3.76(m,3H,NCH2CH2CHとNCH2CH2O),3.63−3.33(m,1H,
NHC2CH2O),3.16−3.03(m、3H,OCHCH2OTrとOCHCH2OT
r),2.03−1.89(m,2H,CH2CH2CH(CH2−)O) 製造例6 ビス(3−メチルグリオキサレート−インドール)−ト
リチルエーテル 0℃の乾燥THF(5mL)中のビスインドール(70mg,0.1
1mmol)の攪拌溶液に、TEA(100μL,0.70mmol)を加え
た後、(COCl)(30μL,0.35mmol)を加えた。得られ
た混合物を4時間攪拌した時点で、TLC分析(1:1酢酸エ
チル/ヘキサン)が出発物質の完全な消費を示した。次
に、その反応をMeOH(5mL)でクエンチした。得られた
混合物を室温で終夜攪拌した後、減圧下で濃縮した。そ
の残渣を酢酸エチル(10mL)に再溶解し、水(5mL)で
洗浄した後、ブライン(5mL)で洗浄した。次に、その
有機層をMgSO4で乾燥し、ろ過し、減圧下に濃縮して粗
生成物を得、それをシリカゲルクロマトグラフィーで浄
化して、純粋な生成物(21mg,30%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ8.53(s,1H,Ar),8.49−8.36(m,2H,
Ar),8.15(s,1H,Ar),7.49−7.06(m,20H,Ar),7.00−
6.93(m,1H,Ar),4.36−4.26(m,2H,NCH2CH2O),4.16−
3.76(m,9H,COOCH3,COOCH3,NCH2CH2CH,NCH2CH2O),3.69
−3.56(m,1H,NCH2CH2O),3.16−3.00(m,3H,OCH(CH2O
Tr)CH2,OCH(CH2OTr)CH2,2.06−1.93(m,2H,CHCH2CH2
N) 製造例7 ビスインドールアルコール 室温のCH2Cl2(50mL)とMeOH(50mL)中のビスインド
ール(6.82g,0.01mol)の攪拌溶液に、濃HClを数滴加し
た。得られた溶液(赤紫色に変化)を、TLC分析(ヘキ
サン中の50%酢酸エチル)が出発物質の完全な消費を示
すまで攪拌した。飽和NaHCO3水溶液の添加によって反応
をクエンチした後、減圧下に濃縮して油状残渣を得、そ
れを酢酸エチル(100mL)に溶解し、水(50mL×3)と
ブライン(50mL)で洗浄した。次に、その有機層をMgSO
4で乾燥し、ろ過し、濃縮して粗ビスインドールアルコ
ールを得、それを短いシリカパット(ヘキサン中の10%
酢酸エチルから酢酸エチルへ)に通して純粋なアルコー
ル(3.50,87%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ7.73−7.56(m,2H,Ar),7.46−7.00
(m,7H,Ar),6.61(d,J=4.9Hz,1H,Ar),6.58(d,J=4.
9Hz,1H,Ar),6.38(d,J=4.9Hz,1H,Ar),4.63(t,J=7.
4Hz,2H,NCH2CH2O),4.09−3.08(m、3H,NCH3CH2CHとNC
H2CH2O),3.74−3.66(m,1H,NCH2CH2O),3.54−3.44
(m,1H,OCH(CH2OH)CH2),3.37−3.24(m,1H,OCH(CH2
OH)CH2),3.13−3.03(m,1H,OCH(CH2OH)CH2),2.06
−1.86(m,2H,NCH2CH2CH)。
製造例8 ビスインドール−ジメチルアミン 0℃のCH2Cl2(20mL)中のアルコール(1g,2.87mmo
l)の攪拌溶液に、ピリジン(2mL)を加えた後、固形メ
タンスルホン酸無水物(650mg,3.73mmol)を加えた。得
られた混合物を30分間かけてゆっくりと室温に温めた時
点で、TLC分析(ヘキサン中の50%酢酸エチル)が、出
発物質の消費を伴う、より極性の低い新しい生成物の形
成を示した。さらに30分の後、出発物質が完全に消費さ
れたことが、TLC分析によって示された。飽和NH4Cl水溶
液の添加によって反応を停止した後、その有機層を分離
した。得られた有機層をCH2Cl2(5mL×3)で抽出し
た。合わせた有機層をMgSO4で乾燥し、ろ過し、減圧下
に濃縮して粗生成物を得、それを短いシリカパットに通
すことによって精製し、きれいなビスインドールメチル
スルホン(968mg,79%)を得た。
密閉フラスコ中、40%ジメチルアミン水溶液(10mL)
中のビスインドールメチルスルホネート(968mg,2.27mm
ol)の攪拌懸濁液を、50℃に16時間加熱した。次に、そ
の反応混合物を真空下に濃縮して油状残渣を得、それを
CH2Cl2(25mL)に溶解した。その溶液を水(10mL×2)
で洗浄し、MgSO4で乾燥し、ろ過し、減圧下に濃縮して
粗生成物を得、それをシリカゲルクロマトグラフィー
(酢酸エチルを最初の溶出液とし、その後CH2Cl2中の10
%メタノールを使用)で精製して、きれいなビスインド
ールジメチルアミン(773mg,90%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ7.66−7.55(m,2H,Ar),7.40−7.33
(m,1H,Ar),7.26−7.03(m,6H,Ar),7.22(d,J=4.9H
z,1H,Ar),6.51(d,J=4.9Hz,1H,Ar),6.38(d,J=4.9H
z,1H,Ar),4.34−4.26(m、2H,NCH2CH2O),3.90−3.80
(m,3H,NCH2CH2CHとNCH2CH2O),3.73−3.63(m,1H,nCH2
CH2),3.58−3.49(m,1H,OCHCH2),2.76(s,3H,NHC3),
2.68(s,3H,NCH3),2.40−2.33(m,2H,CHCH2N(C
H3)),2.09−1.83(m,2H,NCH2CH2CH)。
製造例9 0℃のTHF(25mL)中のビスインドールジメチルアミ
ン(1.37g,3.69mmol)の攪拌溶液に、(COCl)(1.6m
L,18.45mmol)を3分間かけて加えた。得られた溶液を
0℃で4時間攪拌した時点で、TLC分析(CHCl3中の30%
MeOH)が出発物質の完全な消費を示した。その反応をMe
OH(25mL)の添加によってクエンチし、得られた反応混
合物を室温で終夜攪拌した。その反応液を減圧下に濃縮
乾固した。その残渣をMeOH(5mL)と水(20mL)に再溶
解し、その溶液のpHを0.02N NaOHの添加によって8に調
節した。得られた混合物をCH2Cl2(20mL×4)ですばや
く抽出した。合わせた有機層をMgSO4で乾燥し、濃縮
し、カラムクロマトグラフィーで精製して、純粋な生成
物(3.17g,86%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ8.54(s,1H,インドールC−2),8.4
9−8.40(m,2H,Ar),8.28(s,1H,インドールC−2),
7.46−7.26(m,4H,Ar),7.20(t,J=7.5Hz,1H,Ar),7.0
9(d,J=9.9Hz,1H,Ar),4.43−4.36(m,2H,NCH2CH2O),
4.16−3.99(m,3H,NCH2CH2CHとNCH2CH2O),3.96(s,3H,
OOCH3),3.92(s,3H,OOCH3),3.69−3.23(m,1H,OCH(C
H2−)CH2)。
製造例10 ビスインドール−tert−ブチルジフェニルシリルエーテ
CH2Cl2(10mL)中の攪拌アルコール溶液(500mg,1.43
mmol)に、固形イミダゾール(195mg,2.86mmol)を加え
た後、CH2Cl2(2mL)中のTPSCl(510mg,1.85mmol)を加
えた。得られた溶液を終夜攪拌した後、イミダゾール塩
酸塩をろ別した。そのろ液をエーテル(20mL)で希釈
し、水(20mL×2)とブライン(10mL)で洗浄した。得
られた有機層をMgSO4で乾燥し、ろ過し、減圧下に濃縮
して粗生成物を得、それをシリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製して、純粋なシリルエーテル(789mg,94%)を
得た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ7.76−6.93(m,19H,Ar),6.51(d,4.
9Hz,1H,Ar),6.43(d,4.9Hz,1H,Ar),6.29(d,4.9Hz,1
H,Ar),4.26−4.20(m,2H,NCH2CH2O),3.97−3.69(m,3
H,NCH2CH2CHとNCH2CH2O),3.56−3.41(m,3H,NCH2CH2O
とCH2OTPS),3.03−2.93(m,1H,OCH(CH2−)CH2),2.0
9−1.94(m,1H,NCH2CH2CH),1.89−1.76(m,1H,NCH2CH2
CH),0.96(s,9H,OSiC(CH3)。
製造例11 ビス(3−メチルグリオキサレート−インドール)−te
rt−ブチルジフェニルシリルエーテル THF(20mL)中のTPSエーテル(621mg,1.05mmol)の攪
拌溶液に、TEA(1.5mL,10.5mmol)を加えた後、(CDD
l)(275mL,3.15mmol)を〜2分間かけて加えられ
た。得られた混合物を0℃で4時間攪拌した時点で、TL
C分析(1:1酢酸エチル/ヘキサン)が出発物質の完全な
消費を示した。MeOH(10mL)の添加によって反応をクエ
ンチし、得られた混合物を室温で終夜攪拌した。その反
応混合物を濃縮乾固し、その残渣を酢酸エチル(20mL)
に再溶解した。その溶液を水(10mL×3)とブライン
(10mL)で洗浄した。得られた有機層をMgSO4で乾燥
し、ろ過し、減圧下に濃縮して粗生成物を得、それをク
ロマトグラフィーで精製して、きれいな生成物(527mg,
66%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ8.50(s,1H,インドールC−2),8.4
8−8.38(m,2H,Ar),8.20(s,1H,インドールC−2),
7.56−7.44(m,4H,Ar),7.43−7.24(m,10H,Ar),7.11
(t,7.5Hz,1H,Ar),6.96(d,J=9.9Hz,1H,Ar),4.31−
4.24(m,2H,NCH2CH2O),4.06−3.08(m,9H,COOCH3,COOH
3,NCH2CH2CH及びNCH2CH2O),3.60−1.88(m,2H,NCH2C
H),0.96(s,9H,OSiC(CH3)。
実施例1 大環状ジエステル DME(15mL)中のZn−Cu対(Zn−Cu couple)(60mg)
の攪拌したスラリーに、TiCl3(400mL,0.4mmol,2:1CH2/
Cl2:THF中の1M溶液)を加えた。得られた混合物を10分
間攪拌した後、DME(10mL)中のジケトン(53mg,0.1mmo
l)を添加した。その混合物を室温で1時間攪拌したと
ころ、反応混合物のtlc分析が出発物質の完全な消費を
示した。その混合物をさらに1時間攪拌した後、NaHCO3
水溶液(2mL)とEDTA水溶液でその混合物をクエンチし
た。次に、その混合物を酢酸エチルで希釈し、有機層を
分離し、水層を酢酸エチル(10mL×3)で抽出した。合
わせた有機層をMgSO4で乾燥し、減圧下に濃縮して粗生
成物(物質収支48mg)を得、それを、ヘキサン中の10%
酢酸エチルを用いるカラムクロマトグラフィーで精製し
て、純粋な生成物(21.8mg,48%)を得た。MS。1 H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.56−7.50(m,2H,C−7イン
ドール),7.36−7.33(m,6H,インドール),6.70(s,2H,
C−3インドール),4.03−3.96(m,4H,NCH2(CH24CH2
N),3.86(s,6H,COOH3),1.90−1.80(m,4H,NCH2CH2(C
H22CH2N),1.03−0.96(m,4H,N(CH22CH2CH2(C
H22N)。IRvmax1716α−β不飽和COOMe str. 実施例2 大環状無水物 ジオキサン(10mL)とMeOH(10mL)中のビスメチルエ
ステル(105mg,0.22mmol)の攪拌溶液に、5N NaOH水溶
液(4mL)を加えた。その反応混合物を50℃で終夜攪拌
した後、濃HClでpH1に酸性化した。次に、得られた混合
物を酢酸エチル(10mL×4)で抽出した。合わせた有機
層(濃赤色)をMgSO4で乾燥し、減圧下に濃縮して粗無
水物を得た。その粗無水物を短いシリカカラム(酢酸エ
チルで溶出)に通すことによって浄化して、純粋な大環
状無水物(66mg,73%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3,300MHz)δ8.01−8.00(m,2H,Ar),7.38
−7.25(m,8H,Ar),4.12−4.08(m,4H,NCH2(CH24CH2
N),1.95−1.92(m,4H,NCH2CH2(CH22CH2CH2N),1.19
−1.18(m,N(CH22CH2CH2(CH22N)。
実施例3 大環状マレイミド 乾燥DMF(15mL)中の大環状無水物(66mg,0.16mmol)
の攪拌溶液に、ヘキサメチルジシラザン(340mL,1.60mm
ol)を加えた後、MeOH(32mL,0.8mmol)を加えた。得ら
れた反応混合物を50℃で48時間攪拌すると、反応混合物
のtlc(ヘキサン中の25%酢酸エチル)分析が出発物質
の完全な消費を示した。次に、その反応混合物を減圧下
に濃縮し、その残渣をEtOAc(20mL)に再溶解し、それ
を水(10mL)とブライン(10mL)で1回洗浄した。得ら
れた有機層をMgSO4で乾燥した後、減圧下に濃縮して粗
大環状マレイミドを得、それを短いシリカゲルカラム
(酢酸エチルで溶出)に通すことによって浄化して、純
粋なマレイミド(47mg,73%)を得た。MS。NMR。1 H NMR(CDCl3,300MHz)δ8.00−7.97(m,2H,Ar),7.35
−7.10(m,8H,Ar),4.13−3.96(m,4H,NCH2(CH24CH2
N),2.00−1.86(m,2H,NCH2CH2(CH22CH2CH2N),1.23
−1.06(m,2H,N(CH22CH2CH2(CH22N)。
実施例4 大環状ジエステル DME(10mL)中のZn−Cu対(103mg,1.59mmol)の攪拌
したスラリーに、CH2Cl2とTHF(2:1)中のTiCl3の1M溶
液(790μL,0.79mmol)を加えた。得られた暗色溶液を1
0分間攪拌した時点で、それに、DME(10mL)中の1,7−
ビス(3−メチルグリオキセートインドール)ヘプタン
(100mg,0.19mmol)を一度に加えた。次に、この反応混
合物を室温で終夜撹拌した。水(2mL)の添加によって
反応を停止した後、酢酸エチル(20mL)で希釈した。得
られた混合物に、飽和K2CO3水溶液(20mL)を加え、酢
酸エチル(20mL×4)で抽出した。その抽出物を水(10
mL×2)とブライン(10mL)で洗浄した後、MgSO4で乾
燥した。次に、この乾燥有機層を減圧下に濃縮した後、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン中の10
%酢酸エチル、次いでヘキサン中の25%酢酸エチルで溶
出させる)で精製して、純粋な7炭素結合大員環(38m
g,43%)を得た。1 H NMR(CDCl3,250MHz)δ7.61−7.53(m,2H,Ar),7.32
−7.02(m,6H,Ar),6.75(s,2H,Ar),3.95−3.88(m,4
H,NCH2(CH25CH2N),3.82(s,6H,COOCH3),1.88−1.7
2(m,4H,NCH2CH2(CH23CH2CH2N),1.60−1.44(m,6H,
NCH2CH2(CH23CH2CH2N)。
実施例5 大員環化−トリチルエーテル −30℃の乾燥DME(5mL)中のジケトン(100mg,0.13mm
ol)の攪拌溶液に、TiCl3の1M THF/CH2Cl2(2:1)溶液
(500μL,0.50mmol)を一度に加えた。得られた反応混
合物を自然に室温まで温まらせた時点(〜2時間)で、
TLC分析が出発物質の完全な消費と、より極性の低い新
しい生成物を示した。NaHCO3水溶液(2mL)で反応をク
エンチした後、EtOAc(5mL×3)で抽出した。合わせた
有機層をNaCl水溶液(5mL)で1回洗浄し、MgSO4で乾燥
し、ろ過し、減圧下に濃縮して粗生成物を得、それをク
ロマトグラフィーで浄化して、きれいな大員環(<1m
g)を得た。FD−MS:C47H42N2O6に関する計算値:730.8、
実測値:730.7。
実施例6 大員環化−ジメチルアミン −30℃の乾燥DME(5mL)中のジケトン(100mg,0.18mm
ol)の攪拌溶液に、TiCl3の1M THF/CH2Cl2(2:1)溶液
(750μL,0.75mmol)を一度に加えた。得られた反応混
合物を自然に室温まで温まらせた時点(〜2時間)で、
TLC分析が出発物質の完全な消費と、より極性の低い新
しい生成物を示した。NaHCO3水溶液(2mL)で反応をク
エンチした後、EtOAc(5mL×3)で抽出した。合わせた
有機層をNaCl水溶液(5mL)で1回洗浄し、MgSO4で乾燥
し、ろ過し、減圧下に濃縮して粗生成物を得、それをク
ロマトグラフィーで浄化して、きれいな大員環(23mg,2
4%)を得た。MS。1 H NMR(CDCl3)δ7.67−6.93(m,8H,Ar),6.78(s,1H,
インドールC−3),6.49(s,1H,インドールC−3),
4.34−3.43(m,12H,COOCH3,COOCH3及びNCH2CH2OCHCH2CH
2N),2.36−1.96(m,10H,NCH2CH2CH及びCH2N(C
H3)。
実施例7 大員環化−tert−ブチルジフェニルシリルエーテル −30℃の乾燥DME(5mL)中のジケトン(10mg,0.13mmo
l)の攪拌溶液に、TiCl3の1M THF/CH2Cl2(2:1)溶液
(500μL,0.50mmol)を一度に加えた。得られた反応混
合物を自然に室温まで温まらせた時点(〜2時間)で、
TLC分析が出発物質の完全な消費と、より極性の低い新
しい生成物を示した。NaHCO3水溶液(2mL)で反応をク
エンチした後、EtOAc(5mL×3)で抽出した。合わせた
有機層をNaCl水溶液(5mL)で1回洗浄し、MgSO4で乾燥
し、ろ過し、減圧下に濃縮して粗生成物を得、それをク
ロマトグラフィーで浄化して、きれいな大員環(37mg,4
0%)を得た。MS1 H NMR(CDCl3)δ7.66−7.07(m,18H,Ar),6.69(s,1
H,インドールC−2),6.36(s,1H,インドールC−
2),4.03−3.36(m,14H,NCH2CH2OCH(CH2OTPS)CH2CH2
N),COOCH3,COOCH3),3.09−3.00(m,1H,NCH2CH2CH),
1.91−1.80(m,1H,NCH2CH2CH),0.96(s,9H,OSiC(C
H3)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シン,アップインダー アメリカ合衆国46208インディアナ州 インディアナポリス、ゲーブル・レイ ン・コート 2042番 アパートメント 911 (56)参考文献 J.Am.Chem.Soc.,Vo l.105,(1983),p.1660−1661 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) REGISTRY(STN) CA(STN)

Claims (14)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式: [R1はH、C1−C4アルキル又はベンジルを表し、R、X
    及びYは任意置換基を表す] のインドリル酸をTiCl3の存在下に反応させて、式: のビス−インドリルマレイン酸を得ることからなる、ビ
    ス−インドリルマレイン酸エステルの製造法。
  2. 【請求項2】式: [R1は水素、C1−C4アルキル又はベンジルを表し、R、
    X及びYは任意置換基を表す] のインドリル酸を低原子価チタン試薬の存在下に反応さ
    せて、式: のビス−インドリルマレイン酸を得ることからなる、ビ
    ス−インドリルマレイン酸エステルの製造法。
  3. 【請求項3】低原子価チタン試薬がTiCl3又はTiCl4と第
    2還元剤から系中で調製される請求項2の方法。
  4. 【請求項4】R1がH又はC1−C4アルキルである請求項3
    の方法。
  5. 【請求項5】第2還元剤がZn、Zn−Cu又はその混合物で
    ある請求項4の方法。
  6. 【請求項6】(X)と(Y)が一体となって式: [Zは−O−、−NR3−、−CONH−又は−NHCO−を表
    す。 R2は水素、−(CH2nC1−C4アルコキシ、−(CH2nNR
    4R5、−(CH2nNH(CF3)、−(CH2nN(CF3)(C
    H3)、−(CH2nNH(CH2アリール、−(CH2nNH
    (CH2ピリジル、−(CH2nCONH((CH2アリー
    ル)、−(CH2nCONH(C1−C4アルキル)、−(CH2n
    NHCO(C1−C4アルキル)、−(CH2nNHCO(CH2
    リール、−(CH2nOCONH(C1−C4アルキル)、−(C
    H2nOCONH(CH2アリール、−(CH2nNHCOO(アル
    キル)、−(CH2nNHCOO(ベンジル)、−(CH2nNHS
    O2(C1−C4アルキル)、−(CH2nNHSO2(CH2アリ
    ール、−(CH2nCN、−(CH2nSO2(NR4R5)、−(CH
    2nSO2(C1−C4アルキル)又は−(CH2nSO(C1−C4
    アルキル)を表す。 R3は水素、(CH2アリール又はC1−C4アルキルを表
    す。 R4とR5は独立に水素、メチル、フェニル、ベンジルを表
    すか、若しくはそれらが結合している窒素と一体となっ
    て飽和又は不飽和の5又は6員環を形成する。 nは独立に1、2又は3を表す。] の6〜9原子部分を形成する請求項5の方法。
  7. 【請求項7】Zが−O−であり、RがHであり、R2がNR
    4R5であり、nが1であり、R4とR5がメチルである請求
    項6の方法。
  8. 【請求項8】さらに、請求項1のビス−インドリルマレ
    イン酸化合物を加水分解して式: の無水物を形成させ、その無水物を式: のビス−インドリルマレイミドに変換することからな
    る、請求項1の方法。
  9. 【請求項9】製造される化合物が式: [Zは−O−、−NR3−、−CONH−又は−NHCO−を表
    す。 Rは独立に水素、ハロ、C1−C4アルキル、ヒドロキシ、
    C1−C4アルコキシ、ハロアルキル、ニトロ、NR4R5又は
    −NHCO(C1−C4アルキル)を表す。 R2は水素、−(CH2nC1−C4アルコキシ、−(CH2nNR
    4R5、−(CH2nNH(CF3)、−(CH2nN(CF3)(C
    H3)、−(CH2nNH(CH2アリール、−(CH2nNH
    (CH2ピリジル、−(CH2nCONH((CH2mアリー
    ル)、−(CH2nCONH(C1−C4アルキル)、−(CH2n
    NHCO(C1−C4アルキル)、−(CH2nNHCO(CH2
    リール、−(CH2nOCONH(C1−C4アルキル)、−(C
    H2nOCONH(CH2アリール、−(CH2nNHCOO(アル
    キル)、−(CH2nNHCOO(ベンジル)、−(CH2nNHS
    O2(C1−C4アルキル)、−(CH2nNHSO2(CH2アリ
    ール、−(CH2nCN、−(CH2nSO2(NR4R5)、−(CH
    2nSO2(C1−C4アルキル)又は−(CH2nSO(C1−C4
    アルキル)を表す。 R3は水素、(CH2アリール又はC1−C4アルキルを表
    す。 R4とR5は独立に水素、メチル、フェニル、ベンジルを表
    すか、若しくはそれらが結合している窒素と一体となっ
    て飽和又は不飽和の5又は6員環を形成する。 nは独立に1、2又は3を表す。] の化合物である請求項8の方法。
  10. 【請求項10】Rが水素であり、Zが−O−であり、R2
    がNR4R5であり、nが1であり、R4とR5がメチルである
    請求項9の方法。
  11. 【請求項11】式: [Zは−O−、−NR3−、−CONH−又は−NHCO−を表
    す。 Rは独立に水素、ハロ、C1−C4アルキル、ヒドロキシ、
    C1−C4アルコキシ、ハロアルキル、ニトロ、NR4R5又は
    −NHCO(C1−C4アルキル)を表す。 R1はC1−C4アルキルを表す。 R2は水素、−(CH2nC1−C4アルコキシ、−(CH2nNR
    4R5、−(CH2nNH(CF3)、−(CH2nN(CF3)(C
    H3)、−(CH2nNH(CH2アリール、−(CH2nNH
    (CH2ピリジル、−(CH2nCONH((CH2アリー
    ル)、−(CH2nCONH(C1−C4アルキル)、−(CH2n
    NHCO(C1−C4アルキル)、−(CH2nNHCO(CH2
    リール、−(CH2nOCONH(C1−C4アルキル)、−(C
    H2nOCONH(CH2アリール、−(CH2nNHCOO(アル
    キル)、−(CH2nNHCOO(ベンジル)、−(CH2nNHS
    O2(C1−C4アルキル)、−(CH2nNHSO2(CH2アリ
    ール、−(CH2nCN、−(CH2nSO2(NR4R5)、−(CH
    2nSO2(C1−C4アルキル)又は−(CH2nSO(C1−C4
    アルキル)を表す。 R3は水素、(CH2アリール又はC1−C4アルキルを表
    す。 R4とR5は独立に水素、メチル、フェニル、ベンジルを表
    すか、若しくはそれらが結合している窒素と一体となっ
    て飽和又は不飽和の5又は6員環を形成する。 nは独立に1、2又は3を表す。] の化合物。
  12. 【請求項12】Rが水素であり、R2が−(CH2nNR
    4R5、−(CH2nNH(CF3)又は−(CH2nN(CF3)(CH
    3)であり、R4とR5が独立に水素又はメチルであり、n
    が1又は2である請求項11の化合物。
  13. 【請求項13】R2が−(CH2)NCH3CH3である請求項12の
    化合物。
  14. 【請求項14】nが1である請求項13の化合物。
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