JP3008962B2 - Dielectric multilayer filter - Google Patents

Dielectric multilayer filter

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、光ファイバによる通
信などに用いられ、特に薄片形状で使用する場合のため
の誘電体多層膜フィルタに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dielectric multilayer filter for use in communication using an optical fiber, especially for use in a flake shape.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光ファイバ通信において、光ファ
イバ中の伝搬光の波長成分や偏光成分を分離したり、或
いは不要な波長の光や偏光成分を除去するには、誘電体
多層膜フィルタが用いられている。この場合、誘電体多
層膜フィルタの実装方法としては、光ファイバと光ファ
イバとの間に間隙を設けて、その間に誘電体多層膜フィ
ルタを挿入する方法、光ファイバと受光器の間に誘電体
多層膜フィルタを配設する方法等が提案されている。上
記諸方法において、誘電体多層膜フィルタ薄片として波
長がλ1の光を透過させ、波長がλ2の光を反射させる特
性のものを用いれば、光ファイバ中を伝搬する2つの波
長成分λ1、λ2のうち不要な波長成分λ2を除去し、必
要な波長成分λ1のみを伝搬させることができる。光フ
ァイバと光ファイバの間に誘電体多層膜フィルタを挿入
する場合、その間隙によって光の回折による損失が生じ
るが、この回折損失を小さくするためには、誘電体多層
膜フィルタを挿入する間隙をできるだけ狭くしなければ
ならない。例えば、間隙が数十μm以下であれば、間隙
によって隔てられた光ファイバの間の結合損失は0.5
dB以下に抑えることができる。すなわち、上記構成に
おいて結合損失を0.5dB以下とするには、少なくと
も厚さが数十μm以下の誘電体多層膜フィルタが必要不
可欠となる。一方、光ファイバと受光器の間に誘電体多
層膜フィルタを配設する場合にも、光ファイバからの出
射光を高い効率で受光面に集めるためには、光ファイバ
の端面と受光器の受光面の間隙は可能な限り狭くする必
要があり、厚さが薄い誘電体多層膜フィルタが必要とな
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, in optical fiber communication, a dielectric multilayer filter is used to separate a wavelength component and a polarization component of light propagating in an optical fiber or to remove light and a polarization component of an unnecessary wavelength. Used. In this case, as a mounting method of the dielectric multilayer filter, a method of providing a gap between the optical fibers and inserting the dielectric multilayer filter therebetween, a method of mounting the dielectric multilayer filter between the optical fiber and the light receiver. A method of disposing a multilayer filter has been proposed. In the above methods, if a dielectric multilayer filter flake having characteristics of transmitting light having a wavelength of λ 1 and reflecting light having a wavelength of λ 2 is used, two wavelength components λ 1 propagating in the optical fiber are used. , Λ 2 , unnecessary wavelength component λ 2 can be removed, and only necessary wavelength component λ 1 can be propagated. When a dielectric multilayer filter is inserted between optical fibers, loss due to light diffraction occurs due to the gap.To reduce this diffraction loss, a gap for inserting the dielectric multilayer filter is required. Must be as narrow as possible. For example, if the gap is several tens μm or less, the coupling loss between the optical fibers separated by the gap is 0.5.
dB or less. That is, in order to reduce the coupling loss to 0.5 dB or less in the above configuration, a dielectric multilayer filter having a thickness of at least several tens of μm is indispensable. On the other hand, even when a dielectric multilayer filter is provided between the optical fiber and the light receiver, in order to collect light emitted from the optical fiber on the light receiving surface with high efficiency, the end face of the optical fiber and the light receiving surface of the light receiver are required. The gap between the surfaces must be as narrow as possible, and a dielectric multilayer filter having a small thickness is required.

【0003】従来、誘電体多層膜フィルタは、図4に示
すように、基板10および誘電体多層膜11によって構
成される。上記基板10は、透明でかつ表面が平滑であ
り、またある程度の強度が要求されるため平板状の光学
ガラス、例えば合成石英ガラス、BK−7ガラス等が用
いられ、その厚さは通常0.5mm以上である。また、誘
電体多層膜11は、低屈折率誘電体層12と高屈折率誘
電体層13を交互に積層させたものである。これらの膜
厚や積層構成を変えることによって所望の波長選択性や
偏光依存性を得ることができ、誘電体多層膜11の厚さ
は、設計によって数μmから数十μmのものが造られ
る。また誘電体多層膜11は、上記のように2種類の誘
電体層のみでなく、低屈折率誘導体層12、高屈折率誘
導体層13のほかに、その間の屈折率を有する誘電体層
をくわえる等、3種以上の誘電体物質を用いたものもあ
る。
Conventionally, a dielectric multilayer film filter includes a substrate 10 and a dielectric multilayer film 11, as shown in FIG. The substrate 10 is transparent, has a smooth surface, and requires a certain level of strength. For this reason, a flat optical glass, for example, synthetic quartz glass, BK-7 glass, or the like is used. 5 mm or more. The dielectric multilayer film 11 is formed by alternately stacking low-refractive-index dielectric layers 12 and high-refractive-index dielectric layers 13. Desired wavelength selectivity and polarization dependency can be obtained by changing the film thickness and the lamination structure, and the thickness of the dielectric multilayer film 11 is several μm to several tens μm depending on the design. The dielectric multilayer film 11 includes not only the two types of dielectric layers as described above, but also a dielectric layer having a refractive index between them, in addition to the low-refractive-index derivative layer 12 and the high-refractive-index derivative layer 13. Some use three or more types of dielectric materials.

【0004】しかしながら、上記光学ガラスを用いた基
板10は、その誘電体多層膜11が存在しない裏側から
研磨して所望の厚さとし、ついで所定の大きさに切断さ
れている。そのため、研磨加工に熟練した人手を要し、
誘電体多層膜フィルタは極めて高価なものとなった。さ
らに誘電体多層膜フィルタ全体としての厚さが数十μ以
下となると、光学ガラスを用いた基板10の厚さは極め
て薄くなるため、割れ易く、表面の清浄作業や取り付け
作業に熟練した多大の労力を必要とした。以上説明した
ように、基板に光学ガラスを用いると、誘電体多層膜フ
ィルタが高価となり、しかも高度に熟練した人手を必要
としたので、光通信用光部品全体の低価格化には限界が
あった。これらの問題を解決するため、この発明者等は
誘電体多層膜フィルタの基板10として、透明なポリイ
ミド薄膜を用いる方法を特願平3ー12277号で提案
した。この方法によれば、光学ガラスを用いた方法に比
較し、研磨工程が省略できるため、誘電体多層膜フィル
タの低価格がはかれる。
However, the substrate 10 using the optical glass is polished from the back side where the dielectric multilayer film 11 does not exist to a desired thickness, and then cut into a predetermined size. Therefore, skilled labor is required for polishing,
Dielectric multilayer filters have become extremely expensive. Further, when the thickness of the entire dielectric multilayer filter becomes several tens μm or less, the thickness of the substrate 10 using the optical glass becomes extremely thin, so that it is easily broken, and a great deal of skill is required for surface cleaning work and mounting work. It took effort. As described above, when optical glass is used for the substrate, the dielectric multilayer filter becomes expensive and requires highly skilled personnel, so there is a limit to the reduction in the price of the entire optical component for optical communication. Was. In order to solve these problems, the present inventors have proposed a method using a transparent polyimide thin film as the substrate 10 of the dielectric multilayer filter in Japanese Patent Application No. 3-12277. According to this method, the polishing step can be omitted as compared with the method using optical glass, so that the cost of the dielectric multilayer filter can be reduced.

【0005】一方、図5は光学ガラス基板上にTiO2
/SiO2の多層膜を形成した誘電体多層膜フィルタ
と、ポリイミド薄膜上に同様の多層膜と形成した誘電体
多層膜フィルタの分光特性を示すスペクトルであり、縦
軸は透過率、横軸は波長、破線は光学ガラス基板を用い
た誘電体多層膜フィルタ、実線はポリイミド基板を用い
た誘電体多層膜フィルタを示す。カットオフ波長、透過
率などの分光特性に関する限り、両者の誘電体多層膜フ
ィルタはほぼ等しい分光特性を示している。
On the other hand, FIG. 5 shows TiO 2 on an optical glass substrate.
FIG. 9 is a spectrum showing the spectral characteristics of a dielectric multilayer filter having a multilayer film of / SiO 2 formed thereon and a dielectric multilayer filter having a similar multilayer film formed on a polyimide thin film. The wavelength and the broken line indicate a dielectric multilayer filter using an optical glass substrate, and the solid line indicates a dielectric multilayer filter using a polyimide substrate. As far as the spectral characteristics such as the cut-off wavelength and the transmittance are concerned, the two dielectric multilayer filters show almost the same spectral characteristics.

【0006】ところで、光通信においては、今後より長
波長の光、例えば波長1.65μmも通信システムにお
いて利用することが考えられている。この場合、従来の
ポリイミド基板を用いた誘電体多層膜フィルタでは問題
が生じてくる。図5でもわかるように、ポリイミド基板
を用いた誘電体多層膜フィルタは波長1.65μm付近
に光透過率の減少を示す小さなくぼみがある。この光透
過率の減少は、ポリイミド材料基板の光吸収に依存して
いる。図6は従来のポリイミド材料の光吸収特性を示す
スペクトルであり、波長1.65μm付近にポリイミド
分子構造に起因する大きな光吸収があり、これがポリイ
ミド基板を用いた誘電体多層膜フィルタの光透過率の減
少の原因となっている。図5における光透過率の減少は
大きなものではないが、光通信においては、各光部品の
光損失をできる限り低く抑えることが極めて重要であ
り、より長波長領域においても使用できる誘電体多層膜
フィルタ用の基板として光透過性が高く、誘電体多層膜
フィルタを低価格にする材料が望まれている。
[0006] In optical communications, it is considered that light having a longer wavelength, for example, a wavelength of 1.65 μm, will be used in a communication system in the future. In this case, a problem arises in a conventional dielectric multilayer filter using a polyimide substrate. As can be seen from FIG. 5, the dielectric multilayer filter using the polyimide substrate has a small dent near the wavelength of 1.65 μm indicating a decrease in light transmittance. This decrease in light transmittance depends on the light absorption of the polyimide material substrate. FIG. 6 is a spectrum showing the light absorption characteristics of a conventional polyimide material. There is large light absorption due to the polyimide molecular structure around a wavelength of 1.65 μm, which is the light transmittance of a dielectric multilayer filter using a polyimide substrate. Is causing the decline. Although the decrease in light transmittance in FIG. 5 is not great, it is extremely important in optical communication to keep the optical loss of each optical component as low as possible, and a dielectric multilayer film that can be used in a longer wavelength region. There is a demand for a material having a high light transmittance as a substrate for a filter and making the dielectric multilayer filter inexpensive.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】よって、この発明にお
ける課題は、安価で、取り扱い易く、かつ広範囲の波長
領域で使用可能な誘電体多層膜フィルタを提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a dielectric multilayer filter which is inexpensive, easy to handle, and can be used in a wide wavelength range.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】かかる課題は、基板上に
屈折率の異なる2種以上の誘電体からなる層を2層以上
積層した誘電体多層膜フィルタにおいて、基板として全
フッ素化ポリイミドもしくはこれを主成分とする混合物
あるいは共重合物の薄膜を用いることによって解決され
る。以下、この発明を詳しく説明する。この発明は従来
のポリイミド薄膜における長波長領域、例えば1.65
μmにおける光吸収が、そのポリイミド分子構造中存在
するCーH結合に起因することをつきとめたことによっ
てなされたものである。そして、ポリイミド分子構造中
のすべてのCーH結合をCーF結合に置き換えた全フッ
素化ポリイミドを基板材料として用いることにより、よ
り広範囲の波長領域で光吸収のない基板が作製できる。
この基板を用いることによって高い光透過性をもつ誘電
体多層膜フィルタが安価に得ることができる。図1はこ
の発明に用いられる全フッ素化ポリイミドの光吸収特性
を示すスペクトルである。この図1に示した吸収スペク
トルを有する全フッ素化ポリイミドの構造式(I)を以
下に示す。
The object of the present invention is to provide a dielectric multilayer filter in which two or more dielectric layers having different refractive indices are laminated on a substrate. The problem is solved by using a thin film of a mixture or a copolymer mainly composed of Hereinafter, the present invention will be described in detail. The present invention relates to a conventional polyimide thin film in a long wavelength region, for example, 1.65.
This was achieved by finding that the light absorption at μm was caused by C—H bonds existing in the polyimide molecular structure. By using as a substrate material a perfluorinated polyimide in which all C—H bonds in the polyimide molecular structure are replaced by C—F bonds, a substrate having no light absorption in a wider wavelength range can be manufactured.
By using this substrate, a dielectric multilayer filter having high light transmittance can be obtained at low cost. FIG. 1 is a spectrum showing the light absorption characteristics of the perfluorinated polyimide used in the present invention. The structural formula (I) of the perfluorinated polyimide having the absorption spectrum shown in FIG. 1 is shown below.

【0009】[0009]

【化1】 Embedded image

【0010】図1からも明らかなように、全フッ素化ポ
リイミドは長波長領域における光損失はほとんどなく、
光透過性が高い。また、図6の従来の誘電体多層膜フィ
ルタ用のポリイミドの光吸収特性と比較すれば、その光
透過性がいかに優れているかは明らかである。上記理由
により、この発明では誘電体多層膜フィルタの基板とし
て、下記一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有
する全フッ素化ポリイミドを主成分とするものを用い
る。
As is clear from FIG. 1, the perfluorinated polyimide has almost no light loss in the long wavelength region.
High light transmittance. In addition, when compared with the light absorption characteristics of the conventional polyimide for a dielectric multilayer filter shown in FIG. 6, it is clear how excellent the light transmittance is. For the above-mentioned reasons, in the present invention, a substrate having a main component of perfluorinated polyimide having a repeating unit represented by the following general formula (II) is used as the substrate of the dielectric multilayer filter.

【0011】[0011]

【化2】 Embedded image

【0012】図2はこの発明の誘電体多層膜フィルタの
一例を示すもので、図中符号51は、誘電体多層膜フィ
ルタの基板となる全フッ素化ポリイミド薄膜である。こ
の全フッ素化ポリイミド薄膜51の上面には誘電体多層
膜52が形成され、誘電体多層膜フィルタ53が構成さ
れている。このような誘電体多層膜フィルタ53を得る
には、液状の全フッ素化ポリイミドを表面が平坦な仮基
板上に所用の厚さに塗布した後、乾燥、硬化させて全フ
ッ素化ポリイミド薄膜51を形成し、ついで誘電体多層
膜52を仮基板上のポリイミド薄膜51の表面に形成さ
せた後、上記仮基板を誘電体多層膜52が形成された全
フッ素化ポリイミド薄膜51から剥離することによって
所望の誘電体多層膜フィルタ53を得ることができる。
FIG. 2 shows an example of a dielectric multilayer filter according to the present invention. In the figure, reference numeral 51 denotes a perfluorinated polyimide thin film serving as a substrate of the dielectric multilayer filter. A dielectric multilayer film 52 is formed on the upper surface of the perfluorinated polyimide thin film 51, and a dielectric multilayer filter 53 is formed. In order to obtain such a dielectric multilayer film filter 53, a liquid perfluorinated polyimide is applied to a temporary substrate having a flat surface to a required thickness, then dried and cured to form a perfluorinated polyimide thin film 51. After forming the dielectric multilayer film 52 on the surface of the polyimide thin film 51 on the temporary substrate, the temporary substrate is peeled off from the perfluorinated polyimide thin film 51 on which the dielectric multilayer film 52 is formed. Can be obtained.

【0013】[0013]

【実施例1】仮基板として、表面が平滑な20mm×20
mm、厚さ0.3mmのシリコン基板を使用した。この上面
に、下記構造式(I):
Example 1 A temporary substrate of 20 mm × 20 with a smooth surface
A silicon substrate having a thickness of 0.3 mm and a thickness of 0.3 mm was used. On this upper surface, the following structural formula (I):

【0014】[0014]

【化3】 Embedded image

【0015】を繰り返し単位とする全フッ素化ポリイミ
ドの厚さ約10μmの薄膜を形成した。この上面にTi
2/SiO2多層膜31層、総厚約10μmからなる長
波長透過多層膜を形成させた後、上記シリコン基板を全
フッ素化ポリイミド薄膜から剥離させて誘電体多層膜を
作製した。図3はこの誘電体多層膜フィルタの分光特性
を示すスペクトルである。波長1.55μm以上でほぼ
100%の光透過率を示し、優れた分光特性が得られ
た。
A thin film of a perfluorinated polyimide having a thickness of about 10 μm was formed using the above as a repeating unit. Ti
After forming a long wavelength transmission multilayer film having 31 O 2 / SiO 2 multilayer films and a total thickness of about 10 μm, the silicon substrate was peeled off from the perfluorinated polyimide thin film to prepare a dielectric multilayer film. FIG. 3 is a spectrum showing the spectral characteristics of this dielectric multilayer filter. At a wavelength of 1.55 μm or more, the light transmittance was almost 100%, and excellent spectral characteristics were obtained.

【0016】[0016]

【実施例2】実施例1と同様の仮基板を用いた。この上
面に、実施例1で示したポリイミド(I)と下記構造式
(III):
Example 2 The same temporary substrate as in Example 1 was used. On this upper surface, the polyimide (I) shown in Example 1 and the following structural formula (III):

【0017】[0017]

【化4】 Embedded image

【0018】で表されるポリイミドを、それぞれ組成比
がポリイミド(I)/ポリイミド(III)=2/1に
なるように混合し、厚さ約10μmの薄膜を形成し、実
施例1と同様の構成の誘電体多層膜フィルタを作製し
た。この場合も実施例1と同様の分光特性が得られた。
ポリイミド(III)はCーH結合を含み、波長1.6
5μm付近に光吸収を有するが、上記ポリイミド混合物
中に占めるCーH結合の数が少なく、ポリイミド基板の
厚さが数10μm以下と薄いので図5にみられるような
光透過率の減少が生じていない。
The polyimide represented by the formula (1) is mixed so that the composition ratio becomes polyimide (I) / polyimide (III) = 2/1, and a thin film having a thickness of about 10 μm is formed. A dielectric multilayer filter having the above configuration was manufactured. Also in this case, the same spectral characteristics as in Example 1 were obtained.
Polyimide (III) contains a CH bond and has a wavelength of 1.6.
Although it has light absorption around 5 μm, the number of C—H bonds in the above polyimide mixture is small and the thickness of the polyimide substrate is as thin as tens of μm or less, so that the light transmittance decreases as shown in FIG. Not.

【0019】[0019]

【実施例3】実施例1と同様の仮基板を用いた。この上
面に、実施例1で示されたポリイミド(I)と実施例2
で示されたポリイミド(III)の共重合物、組成比は
ポリイミド(I)/ポリイミド(III)=2/1から
なる厚さ約10μmの薄膜を形成し、実施例1と同様の
構成の誘電体多層膜フィルタを作製した。この場合も実
施例1と同様の分光特性が得られた。
Embodiment 3 The same temporary substrate as in Embodiment 1 was used. On this upper surface, the polyimide (I) shown in Example 1 and Example 2
The polyimide (III) copolymer represented by the formula (1) and having a composition ratio of polyimide (I) / polyimide (III) = 2/1 was formed into a thin film having a thickness of about 10 μm. A multi-layer film filter was manufactured. Also in this case, the same spectral characteristics as in Example 1 were obtained.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明の誘電体多
層膜フィルタは、基板として全フッ素化ポリイミドもし
くはこれを主成分とする混合物あるいは共重合物の薄膜
を用いたことにより、安価で、取り扱い易く、かつ広範
囲の波長領域で使用可能な誘電体多層膜フィルタが得ら
れ、また波長1.55μm以上の光を利用する高性能の
光通信用光部品が安価で得られるという利点がある。
As described above, the dielectric multilayer filter of the present invention is inexpensive and can be handled at a low cost by using a thin film of a perfluorinated polyimide or a mixture or copolymer containing the same as a main component as a substrate. There is an advantage that a dielectric multilayer filter which is easy and can be used in a wide wavelength range can be obtained, and a high-performance optical communication optical component using light having a wavelength of 1.55 μm or more can be obtained at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に用いた全フッ素化ポリイミドの光吸
収特性の一例を示すスペクトルである。
FIG. 1 is a spectrum showing an example of light absorption characteristics of a perfluorinated polyimide used in the present invention.

【図2】この発明の誘電体多層膜フィルタの構成を示す
概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a configuration of a dielectric multilayer filter of the present invention.

【図3】この発明の実施例1の誘電体多層膜フィルタの
分光特性の一例を示すスペクトルである。
FIG. 3 is a spectrum illustrating an example of spectral characteristics of the dielectric multilayer filter according to the first embodiment of the present invention.

【図4】従来の光学ガラス基板を用いた誘電体多層膜フ
ィルタの構成を示す概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a conventional dielectric multilayer filter using an optical glass substrate.

【図5】従来の光学ガラス基板を用いた誘電体多層フィ
ルタおよびポリイミド基板を用いた誘電体多層膜フィル
タの分光特性の一例を示すスペクトルである。
FIG. 5 is a spectrum showing an example of spectral characteristics of a conventional dielectric multilayer filter using an optical glass substrate and a dielectric multilayer filter using a polyimide substrate.

【図6】従来の誘電体多層膜フィルタ用のポリイミドの
光吸収特性を示すスペクトルである。
FIG. 6 is a spectrum showing light absorption characteristics of a conventional polyimide for a dielectric multilayer filter.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

51 全フッ素化ポリイミド薄膜 52 誘電体多層膜 53 誘電体多層膜フィルタ 51 Perfluorinated polyimide thin film 52 Dielectric multilayer film 53 Dielectric multilayer film filter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安藤 慎治 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (72)発明者 小口 泰介 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−261422(JP,A) 特開 平1−182324(JP,A) 特開 平1−217037(JP,A) 特開 昭51−93237(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 5/28 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shinji Ando 1-1-6 Uchisaiwai-cho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Taisuke Oguchi 1-1-6 Uchisaiwai-cho, Chiyoda-ku, Tokyo Japan (56) References JP-A-1-261422 (JP, A) JP-A-1-182324 (JP, A) JP-A-2,17037 (JP, A) JP-A-51-93237 ( JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G02B 5/28

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板上に屈折率の異なる2種以上の誘電
体からなる層を2層以上積層した誘電体多層膜フィルタ
において、基板として全フッ素化ポリイミド薄膜を用い
たことを特徴とする誘電体多層膜フィルタ。
1. A dielectric multilayer filter in which two or more dielectric layers having different refractive indices are laminated on a substrate, wherein a perfluorinated polyimide thin film is used as the substrate. Body multilayer filter.
【請求項2】 請求項1の誘電体多層膜フィルタにおい
て、基板として全フッ素化ポリイミドを主成分とする混
合物あるいは共重合物の薄膜を用いたことを特徴とする
誘電体多層膜フィルタ。
2. The dielectric multilayer filter according to claim 1, wherein a thin film of a mixture or a copolymer containing perfluorinated polyimide as a main component is used as the substrate.
JP3125451A 1991-04-26 1991-04-26 Dielectric multilayer filter Expired - Fee Related JP3008962B2 (en)

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