JP3002142B2 - Moving stage device and semiconductor baking device - Google Patents

Moving stage device and semiconductor baking device

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JP3002142B2
JP3002142B2 JP26567796A JP26567796A JP3002142B2 JP 3002142 B2 JP3002142 B2 JP 3002142B2 JP 26567796 A JP26567796 A JP 26567796A JP 26567796 A JP26567796 A JP 26567796A JP 3002142 B2 JP3002142 B2 JP 3002142B2
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movable stage
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体焼付け装置
および工作機械などに適用される移動ステージ装置に関
し、特に、高速かつ高精度の位置決めを必要とする移動
ステージ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a moving stage device applied to a semiconductor printing apparatus and a machine tool, and more particularly to a moving stage device requiring high-speed and high-precision positioning.

【0002】[0002]

【従来の技術】図10は、この種の移動ステージ装置の
従来例の一つを示す上面図であり、図11は、図10の
E−E線に沿う拡大断面図である。
2. Description of the Related Art FIG. 10 is a top view showing a conventional example of this type of moving stage device, and FIG. 11 is an enlarged sectional view taken along line EE in FIG.

【0003】この移動ステージ装置は、床からの振動を
減衰させる剛性の低い定盤支持手段である2つのダンパ
1,62(図11参照)によって支持された定盤1と、
定盤1上の図10図示上端および下端にそれぞれ設けら
れた案内手段である2つの案内板311,312と、複数
個の流体静圧軸受(図10および図11には、流体静圧
軸受3211,3212,3213,3221,3222,3223
のみ図示。)を介して定盤1と各案内板311,312
によって非接触に支持された可動ステージ2と、定盤1
上に設けられた、可動ステージ2に推力を与える駆動手
段であるリニアモータ4(図11参照)とからなる。
[0003] This moving stage device comprises a surface plate 1 supported by two dampers 6 1 and 6 2 (see FIG. 11), which are low rigid surface plate support means for attenuating vibration from the floor;
And Figure 10 the two guide plates 31 1 a guide means provided respectively illustrated upper and lower ends, 31 2 on the platen 1, the plurality of fluid static bearing (10 and 11, the fluid static pressure Bearings 32 11 , 32 12 , 32 13 , 32 21 , 32 22 , 32 23
Only shown. ) And the movable stage 2 which is supported on a non-contact by the surface plate 1 and the guide plates 31 1, 31 2 via a base 1
A linear motor 4 (see FIG. 11), which is a driving means for applying a thrust to the movable stage 2, is provided above.

【0004】ここで、リニアモータ4は、可動ステージ
2の裏面(定盤1側の面)に固定された、矩形状の中空
部を有するヨーク42と、可動ステージ2の移動方向
(図10図示横方向)に一列に定盤1上に固定された、
ヨーク42の中空部を貫通する駆動コイル41群と、駆
動コイル41群を挟んでヨーク42の中空部に取付けら
れた一対の永久磁石431,432とから構成されてい
る。また、可動ステージ2は、リニアモータ4により推
力が与えられて各案内板311,312に沿って移動する
が、このときの可動ステージ2の移動量は、可動ステー
ジ2上に固定されたミラー52とレーザ測長器51とか
らなるレーザ測長系によって計測された可動ステージ2
の位置情報に基づいて制御される。さらに、各ダンパ6
1,62は、定盤1と床との間に設けられており、床から
の振動を定盤1に伝えないように共振周波数が下げられ
て剛性が低くされており、定盤1に生じた振動を減衰さ
せる特性を有する。
The linear motor 4 includes a yoke 42 having a rectangular hollow portion fixed to the back surface of the movable stage 2 (the surface on the surface plate 1 side) and a moving direction of the movable stage 2 (see FIG. 10). Fixed in a row in the horizontal direction on the surface plate 1,
A hollow drive coil 41 group through the yoke 42, and a pair of permanent magnets 43 1, 43 2 which attached to the hollow portion of the yoke 42 across the driving coil 41 group. Further, the movable stage 2, the guide plates 31 1 thrust is provided by a linear motor 4, 31 2 moves along the but, the amount of movement of the movable stage 2 in this case, fixed on the movable stage 2 Movable stage 2 measured by laser measuring system consisting of mirror 52 and laser measuring device 51
Is controlled on the basis of the position information. Furthermore, each damper 6
1, 6 2 is provided between the platen 1 and the floor, are less rigid and vibration from the floor is lowered the resonant frequency from being transmitted to the base 1, the base 1 It has characteristics to attenuate the generated vibration.

【0005】この移動ステージ装置では、可動ステージ
2の高速かつ高精度な位置決めを達成するため、図12
に示すように、たとえば、停止状態から目標位置近傍ま
での大移動には高速度の移動が可能な速度制御を用い、
目標位置近傍での正確な位置決めには位置制御を用いる
という駆動方法が採られる。ここで、前記速度制御にお
いて高速な移動を達成するため、リニアモータ4を用い
るとともに図12に示すように停止状態から急加速で速
度を立ち上げて目標位置直前で急減速することによっ
て、最高速度をできるだけ大きくしかつできるだけ長く
維持している。
In this moving stage apparatus, in order to achieve high-speed and high-precision positioning of the movable stage 2, FIG.
As shown in, for example, for a large movement from the stop state to the vicinity of the target position, using speed control capable of high-speed movement,
A driving method using position control is employed for accurate positioning near the target position. Here, in order to achieve a high-speed movement in the speed control, the linear motor 4 is used, and the speed is rapidly increased from a stop state as shown in FIG. As large and as long as possible.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の移動ステージ装置では、以下に示す問題があっ
た。
However, the above-described conventional moving stage apparatus has the following problems.

【0007】(1)可動ステージ2に推力を与える際の
反力を定盤1上のリニアモータ4の駆動コイル41群が
受けるとともに、各ダンパ61,62の剛性が低いため
に、速度制御時の可動ステージ2の加減速を急にすれば
するほどその反力を受けて定盤1が大きく揺れてしま
う。このため、位置制御時には残留した定盤1の振動に
よって可動ステージ2が揺すられ、却って最終的な位置
決めに時間がかかる。
(1) The reaction force when the thrust is applied to the movable stage 2 is received by the drive coils 41 of the linear motor 4 on the surface plate 1, and the rigidity of each of the dampers 6 1 and 6 2 is low. The steeper the acceleration / deceleration of the movable stage 2 during the control, the more the surface plate 1 shakes due to the reaction force. Therefore, at the time of position control, the movable stage 2 is shaken by the vibration of the remaining surface plate 1, and rather, it takes time for final positioning.

【0008】(2)定盤1の振動によって定盤1の姿勢
が変化し、それにより可動ステージ2の姿勢も変化す
る。このため、加工機械などに適用した場合には、加工
精度の悪化を招き、また、半導体焼き付け装置に適用し
た場合には、ステージの傾きによって焼き付け光の焦点
がずれて解像度が悪化するなどの影響がある。
(2) The posture of the base 1 changes due to the vibration of the base 1, and the posture of the movable stage 2 changes accordingly. For this reason, when applied to a processing machine or the like, the processing accuracy is deteriorated, and when applied to a semiconductor printing apparatus, the inclination of the stage deviates the focus of the printing light and deteriorates the resolution. There is.

【0009】(3)定盤1が一旦揺れてしまうと、その
振動を効果的に止める手段がなく、定盤1の振動の影響
がなくなるまで自然に振動が減衰するのを待つしかな
い。
(3) Once the platen 1 has shaken, there is no means to effectively stop the vibration, and there is no other way but to wait for the vibration to attenuate naturally until the influence of the vibration of the platen 1 disappears.

【0010】(4)大推力のリニアモータ4を用いて急
加減速を行うとリニアモータ4の発熱量が多くなり、こ
れによって可動ステージ2などが熱変形を起こす。この
ため、加工機械などに適用した場合には、可動ステージ
2の熱変形によりミラー52と加工点との間の距離が変
化して、加工精度の悪化を招く。また、半導体焼き付け
装置に適用した場合には、ミラー52と焼き付け位置と
の間の距離の変化によって、焼き付け精度が悪化する。
(4) When rapid acceleration / deceleration is performed using the linear motor 4 having a large thrust, the amount of heat generated by the linear motor 4 increases, thereby causing thermal deformation of the movable stage 2 and the like. For this reason, when applied to a processing machine or the like, the distance between the mirror 52 and the processing point changes due to thermal deformation of the movable stage 2, resulting in deterioration of processing accuracy. In addition, when the present invention is applied to a semiconductor printing apparatus, the printing accuracy deteriorates due to a change in the distance between the mirror 52 and the printing position.

【0011】(5)リニアモータ4の推力が定盤1を揺
するために使われてしまうので、エネルギーの無駄が生
じる。
(5) Since the thrust of the linear motor 4 is used to swing the surface plate 1, energy is wasted.

【0012】本発明の目的は、位置決めの高速化および
高精度化が図れる優れた移動ステージ装置を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an excellent moving stage device capable of achieving high-speed positioning and high accuracy.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の第1の移動ステージ装置は、ダンパ手段を介し
て支持された定盤と、前記定盤上を流体静圧軸受で非接
触に支持されてXY方向に二次元的に移動する可動ステ
ージと、該可動ステージに推力を与えてX方向に移動さ
せるための第1のXリニアモータと該第1のリニア
モータよりも大きな加減速を可能にする第2のリニア
モータと、前記可動ステージに推力を与えてY方向に移
動させるための第1のYリニアモータと、該第1のYリ
ニアモータよりも大きな加減速を可能にする第2のYリ
ニアモータとを有し、前記第1のXリニアモータ及び第
2のリニアモータはそれぞれ駆動コイル永久磁石
備え前記第1のXリニアモータ及び第2Yリニアモ
ータのいずれか一方が振動伝達に関して前記定盤とは独
立した支持手段で支持されており、前記第2のXリニア
モータ及び前記第2のYリニアモータによる前記可動ス
テージの加減速の反力を前記支持手段で受けることを特
徴とするものである。
In order to achieve the above object, a first moving stage device according to the present invention comprises a platen supported via a damper means, and a non-contacting hydrostatic bearing on the platen.
A movable stage which moves being supported by two-dimensionally in the XY direction to touch, a first X linear motor for moving giving thrust in the X direction movable stage, than the first X linear motor A second X linear motor that enables large acceleration and deceleration, and a thrust applied to the movable stage to move in the Y direction.
A first Y linear motor for moving the first Y linear motor;
A second Y-reset that allows for greater acceleration / deceleration than the near motor
And a linear motors, the first X linear motor and the second Y linear motor and a respective drive coils and permanent magnets, said first X linear motor and the 2Y Riniamo
One of the motors is supported by a support means independent of the surface plate with respect to the transmission of vibration, and the acceleration and deceleration of the movable stage by the second X linear motor and the second Y linear motor is suppressed. The force is received by the support means.

【0014】また、本発明の第2の移動ステージ装置
は、ダンパ手段を介して支持された定盤と、該定盤上を
流体静圧軸受で非接触に支持されてXY方向に二次元的
に移動する可動ステージと、該可動ステージに非接触で
推力を与えてX方向に移動させるためのXリニアモータ
と該Xリニアモータとは別に設けられたX駆動手段と、
前記可動ステージに非接触で推力を与えてY方向に移動
させるためのYリニアモータと該Yリニアモータとは別
に設けられたY駆動手段とを有し、前記X駆動手段及び
前記Y駆動手段はそれぞれ可動部と固定部とを持ち、前
記X駆動手段及び前記Y駆動手段のそれぞれの固定部
は、振動伝達に関して前記定盤からは独立した支持手段
で支持されており、前記X駆動手段及び前記Y駆動手段
による前記可動ステージの加減速の反力を前記支持手段
で受けることを特徴とする。 さらに、本発明の半導体焼
付け装置は、ダンパ手段を介して支持された定盤と、該
定盤上を流体静圧軸受で非接触に支持されてXY方向に
二次元的に移動する可動ステージと、該可動ステージに
非接触で推力を与えてX方向に移動させるためのXリニ
アモータと該Xリニアモータとは別に設けられたX駆動
手段と、前記可動ステージに非接触で推力を与えてY方
向に移動させるためのYリニアモータと該Yリニアモー
タとは別に設けられたY駆動手段とを有し、前記X駆動
手段及び前記Y駆動手段はそれぞれ可動部と固定部とを
持ち、前記X駆動手段及び前記Y駆動手段のそれぞれの
固定部は、振動伝達に関して前記定盤からは独立した支
持手段で支持されており、前記X駆動手段及び前記Y駆
動手段による前記可動ステージの加減速の反力を前記支
持手段で受けることを特徴とする移動ステージ装置を備
えたものである。
A second moving stage apparatus according to the present invention
Is a platen supported via damper means, and
Non-contact supported by hydrostatic bearing, two-dimensional in XY directions
Moving stage, and non-contact with the moving stage
X linear motor for moving in the X direction by applying thrust
And X driving means provided separately from the X linear motor;
Non-contact thrust is applied to the movable stage to move in the Y direction
And a separate Y linear motor
And a Y driving means provided in the
Each of the Y driving means has a movable portion and a fixed portion,
Fixed parts of the X driving means and the Y driving means
Is a support means independent of the surface plate with respect to vibration transmission.
And the X drive means and the Y drive means.
The reaction force of acceleration and deceleration of the movable stage due to
It is characterized by receiving at. Furthermore, the semiconductor firing of the present invention
The attaching device comprises: a platen supported via damper means;
Non-contact supported on the surface plate by hydrostatic bearings in the XY directions
A movable stage that moves two-dimensionally, and
X liner for moving in the X direction by applying thrust without contact
A motor and X drive provided separately from the X linear motor
Means and non-contact thrust to the movable stage
And a Y linear motor for moving the
Y driving means provided separately from the
The means and the Y drive means each include a movable part and a fixed part.
Each of the X drive means and the Y drive means
The fixed part supports the vibration transmission independently of the surface plate.
Holding means, and the X drive means and the Y drive
The reaction force of acceleration and deceleration of the movable stage by the
Equipped with a moving stage device characterized by being received by holding means
It is a thing.

【0015】上記のとおり構成された本発明では、可動
ステージを移動させるための駆動手段のうち、第1の発
明においては第1のリニアモータ及び第2のリニアモー
タのいずれか一方が振動伝達に関して定盤からは独立し
た支持手段で支持され、第2の発明においては駆動手段
が定盤からは独立した支持手段で支持されているので、
高速位置決めの際の大推力を必要とする速度制御、高
精度位置決めの際の大推力を必要としない位置制御とで
駆動手段の役割を分担させることができる。このよう
に、用途に応じた適切な駆動手段を用いることによっ
て、位置決めの高速化および高精度化が達成される。
かも、定盤はダンパ手段を介して支持されるとともに、
可動ステージは流体静圧軸受によって定盤上に非接触で
支持され、上記支持手段振動伝達に関して定盤とは独
立しているため、可動ステージの加減速の反力によって
床が振動したとしても、ダンパ手段があるので床の振動
は定盤には伝わらない。
In the present invention configured as described above, of the driving means for moving the movable stage , the first driving means is provided.
The first linear motor and the second linear motor
Is independent of the surface plate for vibration transmission.
In the second invention, the driving means
Is supported by independent support means from the surface plate ,
In the speed control, which requires a large thrust during high speed positioning, the position control, which requires no large thrust upon accurate positioning
The role of the driving means can be shared . As described above, by using an appropriate driving means according to the application, high-speed and high-accuracy positioning is achieved. I
The surface plate is supported via damper means,
The movable stage is non-contact on the surface plate by hydrostatic bearing
Since the supporting means is independent of the surface plate with respect to the vibration transmission, even if the floor vibrates due to the reaction force of acceleration and deceleration of the movable stage, the floor vibration is transmitted to the surface plate because of the damper means. Absent.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例について図
面を参照して説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0017】図1は、本発明の移動ステージ装置の第1
参考例を示す上面図であり、図2は、図1のA−A線
に沿う拡大断面図である。
FIG. 1 shows a first embodiment of a moving stage apparatus according to the present invention.
It is a top view showing a reference example of FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line A-A of FIG.

【0018】この移動ステージ装置は、以下に示す点で
図10に示した従来の移動ステージ装置と異なる。
This moving stage device differs from the conventional moving stage device shown in FIG. 10 in the following points.

【0019】(1)可動ステージ2に推力を与える駆動
手段として、リニアモータ4の他に、可動ステージ2の
図1図示上方に取付板76を介して取り付けられた第2
のリニアモータ7を有し、リニアモータ4を第1の駆動
手段として用い、第2のリニアモータ7を第2の駆動手
段として用いている。ここで、第2のリニアモータ7
は、図2に示すように、図示左側面が取付板76に取付
けられた、矩形状の中空部を有する第2のヨーク72
と、可動ステージ2の移動方向(図1図示横方向)に一
列に設けられた、第2のヨーク72の中空部を貫通する
第2の駆動コイル71群と、第2の駆動コイル71群を
挟んで第2のヨーク72内に取付けられた一対の第2の
永久磁石731,732とから構成されている。図1に示
すように、第2の駆動コイル71群の図示横方向の長さ
は駆動コイル41群の図示横方向の長さとほぼ等しく、
第2の駆動手段は第1の駆動手段と実質的に等しい範囲
にわたって可動ステージ2を移動させることができる。
(1) In addition to the linear motor 4 as a driving means for applying a thrust to the movable stage 2, a second motor attached via a mounting plate 76 above the movable stage 2 in FIG.
, The linear motor 4 is used as a first driving unit, and the second linear motor 7 is used as a second driving unit. Here, the second linear motor 7
As shown in FIG. 2, a second yoke 72 having a rectangular hollow portion and having a left side surface attached to an attachment plate 76 as shown in FIG.
And a second drive coil group 71 and a second drive coil group 71 provided in a row in the moving direction of the movable stage 2 (horizontal direction in FIG. 1) and penetrating the hollow portion of the second yoke 72. and a sandwich at second yoke pair mounted in 72 second permanent magnets 73 1, 73 2. As shown in FIG. 1, the illustrated horizontal length of the second drive coil 71 group is substantially equal to the illustrated horizontal length of the drive coil 41 group.
The second driving means can move the movable stage 2 over a range substantially equal to that of the first driving means.

【0020】(2)第2の駆動コイル71群の図1図示
左端および右端は、支持板81および支持板82により床
上にそれぞれ支持されている。ここで、各支持板81
2は定盤1とは独立したものであり、高い剛性をもつ
ように第2の駆動コイル71群を床に直接支持してい
る。
[0020] (2) FIG. 1 illustrates the left and right ends of the second driving coil 71 group are respectively supported on the floor by support plates 81 and the support plate 82. Here, each support plate 8 1 ,
8 2 are as independent of the surface plate 1, and the second driving coil 71 group supported directly on the floor to have a higher stiffness.

【0021】この移動ステージ装置においては、リニア
モータ4と第2のリニアモータ7とは、レーザ測長器5
1とミラー52とからなるレーザ測長系によって計測さ
れた可動ステージ2の位置情報に基づいて駆動される。
ここで、リニアモータ4の駆動コイル41とヨーク42
とは非接触であるから、駆動コイル41に電流を供給す
る電気回路をオン/オフする手段を設けておくことによ
り力の伝達および非伝達を切替えることがきる。第2の
リニアモータ7についても同様である。
In this moving stage device, the linear motor 4 and the second linear motor 7 are
The movable stage 2 is driven based on position information of the movable stage 2 measured by a laser length measuring system including the mirror 1 and the mirror 52.
Here, the drive coil 41 of the linear motor 4 and the yoke 42
Is non-contact, the transmission and non-transmission of force can be switched by providing a means for turning on / off an electric circuit for supplying a current to the drive coil 41. The same applies to the second linear motor 7.

【0022】図3は、図1に示した移動ステージ装置の
駆動方法を説明する図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a method of driving the moving stage device shown in FIG.

【0023】この移動ステージ装置の駆動方法は、高速
度の移動が可能な速度制御を用いて停止位置から目標位
置近傍までの大移動を行ったのち、位置制御を用いて目
標位置近傍での正確な位置決めを行う点については、図
12で説明した従来の移動ステージ装置の駆動方法と同
じであるが、次の点で異なる。
This driving method of the moving stage device is based on a method of performing a large movement from a stop position to a position near a target position using speed control capable of moving at a high speed, and then using a position control to accurately perform a movement near the target position. This is the same as the driving method of the conventional moving stage device described with reference to FIG. 12 except that the following positioning is performed.

【0024】(1)高速位置決めの際の大推力を必要と
する速度制御には、第2のリニアモータ7のみを使用す
る。
(1) Only the second linear motor 7 is used for speed control requiring a large thrust at the time of high-speed positioning.

【0025】(2)高精度位置決めの際の大推力を必要
としない位置制御には、リニアモータ4のみを使用す
る。
(2) Only the linear motor 4 is used for position control that does not require a large thrust for high-precision positioning.

【0026】すなわち、大推力を必要とする速度制御を
用いて可動ステージ2を移動させるときには、リニアモ
ータ4は使用せずに第2のリニアモータ7のみを使用し
て、図3左側に示す予め定めた速度指令曲線に従って目
標位置近傍まで可動ステージ2を移動する。このとき、
可動ステージ2は、図2に示す流体静圧軸受3211,3
21などの複数個の流体静圧軸受を介して定盤1に非接
触に支持されているとともに、図1に示す4つの流体静
圧軸受3212,3213,3222,3223を介して各案内
板311,312に非接触に支持されているため、可動ス
テージ2と定盤1および各案内板311,312との間に
は摩擦力などの力はほとんど働かない。また、リニアモ
ータ4の駆動コイル41群とヨーク42も非接触である
から、リニアモータ4を使用しなければ、可動ステージ
2と定盤1との間にはリニアモータ4を介して伝わる力
はほとんどない。したがって、定盤1とは別に設置され
た第2のリニアモータ7を使用して可動ステージ2を駆
動した場合には、定盤1は力学的に切離されており、従
来の駆動方法では生じた急加減速の反力による振動は起
こらない。また、このとき、第2のリニアモータ7の第
2の駆動コイル71群は各支持板81,82により高剛性
で支持されているため、急加減速の反力による振動は小
さく、エネルギーの無駄が少ない。
That is, when the movable stage 2 is moved using speed control requiring a large thrust, the linear motor 4 is not used, and only the second linear motor 7 is used. The movable stage 2 is moved to near the target position according to the determined speed command curve. At this time,
The movable stage 2 has a hydrostatic bearing 32 11 , 3 shown in FIG.
To the base 1 via a plurality of fluid hydrostatic bearing such 2 21 with being supported in a non-contact, via four fluid hydrostatic bearing 32 12, 32 13, 32 22, 32 23 shown in FIG. 1 because Te is supported in non-contact with each guide plates 31 1, 31 2, the force of friction force between the movable stage 2 and surface plate 1 and the guide plates 31 1, 31 2 will not work hardly. Further, since the drive coil 41 group of the linear motor 4 and the yoke 42 are also in non-contact, if the linear motor 4 is not used, the force transmitted via the linear motor 4 between the movable stage 2 and the base 1 is rare. Therefore, when the movable stage 2 is driven by using the second linear motor 7 installed separately from the surface plate 1, the surface plate 1 is mechanically separated, and the conventional driving method may cause such a problem. Vibration due to the reaction force of sudden acceleration / deceleration does not occur. At this time, the second drive coil 71 group of the second linear motor 7 is supported with high rigidity by the support plates 8 1 and 8 2. Less waste.

【0027】可動ステージ2が目標位置近傍に移動して
ほぼ停止したところで、速度制御を終了するため第2の
リニアモータ7を停止させる。このとき、第2のリニア
モータ7の第2の駆動コイル71群と第2のヨーク72
とは力学的に切離されるため、第2の駆動コイル71は
速度制御時の加減速の反力を受けて小さく振動するとと
もに、各支持板81,82が高剛性のため床からの振動が
伝わってくる。しかし、これ以後の位置決め時に、定盤
1と可動ステージ2とに第2の駆動コイル71の振動の
影響が及ぶことはない。また、定盤1上のリニアモータ
4を用いて位置制御を行えば、従来の加減速による振動
の影響を受けずに、高速かつ高精度の位置決めを行うこ
とができる。位置決め時に発生する加減速は、速度制御
による移動時に発生するものに比べ非常に小さいため、
位置決め時の加減速による反力の影響はほとんどない。
When the movable stage 2 has moved to the vicinity of the target position and has almost stopped, the second linear motor 7 is stopped to end the speed control. At this time, the second drive coil 71 group of the second linear motor 7 and the second yoke 72
The second driving coil 71 vibrates slightly due to the reaction force of acceleration and deceleration during speed control, and the support plates 8 1 and 8 2 have high rigidity. Vibration is transmitted. However, the vibration of the second drive coil 71 does not affect the surface plate 1 and the movable stage 2 during the subsequent positioning. Further, if position control is performed using the linear motor 4 on the surface plate 1, high-speed and high-accuracy positioning can be performed without being affected by vibration due to conventional acceleration / deceleration. Since the acceleration / deceleration that occurs during positioning is much smaller than that that occurs when moving by speed control,
There is almost no effect of reaction force due to acceleration / deceleration during positioning.

【0028】以上のことから、この駆動方法は以下に示
す利点がある。
From the above, this driving method has the following advantages.

【0029】(1)定盤1の振動がほとんど発生しない
ため、従来の駆動方法で生じていた定盤1の姿勢変化に
よる加工精度や焼き付け精度の悪化が起こらない。
(1) Since the vibration of the surface plate 1 hardly occurs, the processing accuracy and the printing accuracy due to the change in the posture of the surface plate 1 caused by the conventional driving method do not deteriorate.

【0030】(2)大推力を必要とする急加減速は、定
盤1外に設置された第2のリニアモータ7を使用して行
うため、位置決めに用いる定盤1上のリニアモータ4は
大きな推力を必要としない。このため、リニアモータ4
が発生する熱量は、従来の駆動方法の場合に比べて非常
に小さくなる。また、大量の熱を発生する第2のリニア
モータ7は定盤1や可動ステージ2から離れて支持され
ているため、定盤1や可動ステージ2が受ける熱量は従
来の駆動方法の場合より少なくなるため、熱変形による
加工精度や焼き付け精度の悪化を防ぐことができる。
(2) Since rapid acceleration / deceleration requiring large thrust is performed using the second linear motor 7 installed outside the surface plate 1, the linear motor 4 on the surface plate 1 used for positioning is Does not require large thrust. For this reason, the linear motor 4
Is much smaller than that of the conventional driving method. In addition, since the second linear motor 7 that generates a large amount of heat is supported separately from the surface plate 1 and the movable stage 2, the amount of heat received by the surface plate 1 and the movable stage 2 is smaller than in the conventional driving method. Therefore, it is possible to prevent processing accuracy and printing accuracy from deteriorating due to thermal deformation.

【0031】(3)何らかの原因で定盤1が振動してし
まった場合には、リニアモータ4と第2のリニアモータ
7とを同時に使用することにより、各支持板81,82
基準として定盤1の振動を止めることができる。このと
きの駆動手法としては、リニアモータ4と第2のリニア
モータ7とに同時にサーボロックを掛けて、各支持板8
1,82に対して可動ステージ2をサーボロックによって
固定してしまう手法、あるいは、一方のリニアモータを
サーボロックによって固定し、他方のリニアモータに制
振制御を掛ける手法がある。
(3) When the surface plate 1 vibrates for some reason, the linear motor 4 and the second linear motor 7 are used at the same time, so that the support plates 8 1 and 8 2 are referenced. The vibration of the surface plate 1 can be stopped. As a driving method at this time, a servo lock is simultaneously applied to the linear motor 4 and the second linear motor 7 so that each support plate 8
1, 8 2 thus fixing the movable stage 2 by a servo locked to approach or, one of the linear motor is fixed by a servo lock, there is a method of applying a damping control on the other of the linear motor.

【0032】図4は、本発明の移動ステージ装置の第2
の参考例を示す上面図であり、図5は、図4のB−B線
に沿う拡大断面図である。
FIG. 4 shows a second embodiment of the moving stage apparatus according to the present invention.
It is a top view showing a reference example of FIG. 5 is an enlarged sectional view taken along line B-B in FIG. 4.

【0033】この移動ステージ装置は、以下に示す点で
図1に示した移動ステージ装置と異なる。
This moving stage device differs from the moving stage device shown in FIG. 1 in the following points.

【0034】(1)案内手段として、第1の参考例の各
案内板311,312の代わりに、定盤1の図4図示上下
端付近にそれぞれ設けられた2つの摺動案内溝831
832を有する。
[0034] (1) as guide means, instead of the guide plates 31 1, 31 2 of the first reference example, the two slide guide grooves 83 respectively provided near the lower end on Figure 4 illustrates the platen 1 1 ,
With a 83 2.

【0035】(2)第2の駆動手段として、第1の参考
例の第2のリニアモータ7の代わりに、同図図示左方に
設けられた2つのプーリ841,842および同図図示右
方に設けられた2つのプーリ843,844と、各プーリ
841〜844に張設されたワイヤ85と、同図図示左下
側のプーリ842 を回転駆動するモータ81とを有す
る。ここで、ワイヤ85は、図5に示すように、コの字
形状の断面を有する可動ステージ2の内側壁とヨーク4
2の両側との間に形成された2つの空間部をそれぞれ通
るように設けられており、可動ステージ2の内側壁とヨ
ーク42の側壁との間に設けられたクランパ86でワイ
ヤ85を挟むことにより可動ステージ2に推力が伝達さ
れる。
(2) As the second driving means, instead of the second linear motor 7 of the first reference example, two pulleys 84 1 , 84 2 provided on the left side in FIG. and FIG right in the figure into two provided pulley 84 3, and 84 4, the wire 85 is stretched in the pulleys 84 1-84 4, a motor for rotating the pulley 84 2 of FIG shown lower left 81. Here, as shown in FIG. 5, the wire 85 is connected to the inner wall of the movable stage 2 having a U-shaped cross section and the yoke 4.
The wire 85 is sandwiched between clampers 86 provided between the inner side wall of the movable stage 2 and the side wall of the yoke 42. Thus, thrust is transmitted to the movable stage 2.

【0036】(3)支持手段として、第1の実施例の各
支持板81,82の代わりに、4つの支持ダンパ881
884を有する。ここで、図4図示左下側のプーリ842
を除く各プーリ841,843,844およびモータ81
は、各支持ダンパ881〜884により床上に支持されて
いる。また、各支持ダンパ881〜884は、駆動の反力
には剛性が高く、その他の方向には床からの振動を伝え
ないように、床に対して垂直にそれぞれ設けられてい
る。
[0036] (3) as supporting means, instead of the support plates 81, 82 of the first embodiment, four support damper 88 1 -
With a 88 4. Here, the pulley 84 2 on the lower left side in FIG.
Except for the pulleys 84 1 , 84 3 , 84 4 and the motor 81
Are supported on the floor by the respective support dampers 88 1 to 88 4 . Further, each of the support dampers 88 1 to 88 4 has a high rigidity against the reaction force of driving, and is provided perpendicularly to the floor so as not to transmit vibration from the floor in other directions.

【0037】なお、本例の移動ステージ装置も、先の第
1の実施例と同様、第1の駆動手段と第2の駆動手段は
実質的に等しい範囲にわたって可動ステージ2を移動さ
せることができる。
In the moving stage apparatus of this embodiment, similarly to the first embodiment, the first driving means and the second driving means can move the movable stage 2 over substantially the same range. .

【0038】この移動ステージ装置の駆動方法は、以下
のようにして行われる。
The driving method of the moving stage device is performed as follows.

【0039】(1)高速位置決めの際の大推力を必要と
する速度制御には、モータ81のみ使用する。
(1) Only the motor 81 is used for speed control requiring a large thrust at the time of high-speed positioning.

【0040】(2)高精度位置決めの際の大推力を必要
としない位置制御には、リニアモータ4のみ使用する。
(2) Only the linear motor 4 is used for position control that does not require a large thrust at the time of high-precision positioning.

【0041】すなわち、大推力を必要とする速度制御に
より可動ステージ2を移動させるときには、リニアモー
タ4は使用せずにモータ81のみを使用して、予め定め
た速度指令曲線に従って目標位置近傍まで可動ステージ
2を移動する。このとき、可動ステージ2は摺動方向の
摩擦が非常に小さい各摺動案内溝831,832を介して
定盤1に支持されているため、可動ステージ2の加減速
による反力や振動は定盤1にはほとんど伝わらない。そ
の後、クランパ86を離してワイヤ85と可動ステージ
2を切離すことにより、加減速の反力によるワイヤ8
5,各プーリ84 1〜844およびモータ81の振動が可
動ステージ2や定盤1に伝わることを防止することがで
きる。その後の位置決め時には、図1に示した移動ステ
ージ装置と同様に、定盤1上に設置されたリニアモータ
4を用いることにより、定盤1を振動させることなく高
速高精度の位置決めが可能となる。
That is, for speed control requiring a large thrust
When moving the movable stage 2 more,
The motor 4 is not used and only the motor 81 is used.
Movable stage near the target position according to the speed command curve
Move 2 At this time, the movable stage 2 moves in the sliding direction.
Each sliding guide groove 83 with very small friction1, 83TwoThrough
Acceleration / deceleration of the movable stage 2 because it is supported by the surface plate 1
The reaction force and the vibration due to are hardly transmitted to the surface plate 1. So
After that, release the clamper 86 and move the wire 85 and the movable stage.
2 to separate the wire 8 by the reaction force of acceleration / deceleration.
5, each pulley 84 1~ 84FourAnd vibration of motor 81
Can be prevented from being transmitted to the moving stage 2 and the surface plate 1.
Wear. At the time of subsequent positioning, the moving stage shown in FIG.
Linear motor installed on the surface plate 1
4, the surface plate 1 can be raised without vibrating.
Fast and accurate positioning is possible.

【0042】また、何らかの原因で定盤1が振動してし
まった場合には、クランパ86によってワイヤ85を挟
んだ状態で、モータ81とリニアモータ4とを同時に使
用することにより、定盤1の振動を効果的に止めること
ができる。
If the surface plate 1 vibrates for some reason, the motor 81 and the linear motor 4 are used simultaneously with the wire 85 sandwiched by the clamper 86, so that the surface plate 1 Vibration can be effectively stopped.

【0043】図6は、本発明の移動ステージ装置の第
の実施例を示す上面図であり、図7は、図6のC−C線
に沿う拡大断面図である。
[0043] Figure 6, the first movable stage device of the present invention
FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view taken along line CC of FIG. 6.

【0044】この移動ステージ装置は、図1に示した第
1の実施例の移動ステージ装置の可動ステージ2が図6
図示XY平面上を自由に移動できるようにしたもの(い
わゆる、XYステージ)である。すなわち、この移動ス
テージ装置では、可動ステージ2は、X軸方向リニアモ
ータ4X (不図示)および一組の第2のX軸方向リニア
モータ7X1,7X2によりX軸方向に移動され、また、Y
軸方向リニアモータ4 Y (不図示)および一組の第2の
Y軸方向リニアモータ7Y1,7Y2によりY軸方向に移動
される。
This moving stage device is similar to the moving stage device shown in FIG.
The movable stage 2 of the movable stage device of the first embodiment is shown in FIG.
A device that can move freely on the XY plane shown in FIG.
XY stage). In other words,
In the stage apparatus, the movable stage 2 is a linear motor in the X-axis direction.
Data 4X (Not shown) and a set of second X-axis linear
Motor 7X1, 7X2Is moved in the X-axis direction by
Axial linear motor 4 Y (Not shown) and a set of second
Y-axis direction linear motor 7Y1, 7Y2Moves in the Y-axis direction
Is done.

【0045】ここで、可動ステージ2の内部には、図7
図示上下で互いに交差する矩形状の中空部を有する2つ
のヨーク(X軸方向ヨーク42X とY軸方向ヨーク42
Y )が設けられており、図示上側のX軸方向ヨーク42
X はX軸方向リニアモータ4 X のヨークとして機能し、
また、図示下側のY軸方向ヨーク42Y はY軸方向リニ
アモータ4Y のヨークとして機能する。したがって、X
軸方向リニアモータ4 X は、X軸方向ヨーク42X と、
X軸方向に一列に固定された、X軸方向ヨーク42X
前記中空を貫通するX軸方向駆動コイル41X 群と、X
軸方向駆動コイル41X 群を挟んで対向するようX軸方
向ヨーク42X に取付られた一対のX軸方向永久磁石4
X1,43X2とからなる。
Here, inside the movable stage 2, FIG.
Two with rectangular hollow parts that cross each other at the top and bottom in the figure
Yoke (X-axis direction yoke 42)X And Y-axis direction yoke 42
Y ) Is provided, and the X-axis direction yoke 42 on the upper side in the figure is provided.
X Is the X-axis direction linear motor 4 X Function as a yoke,
Also, the Y-axis direction yoke 42 on the lower side in the figure is shown.Y Is Y-axis linear
Armor 4Y Function as a yoke. Therefore, X
Axial linear motor 4 X Is the X-axis direction yoke 42X When,
X-axis direction yoke 42 fixed in a row in the X-axis directionX of
X-axis direction driving coil 41 penetrating the hollowX Group and X
Axial drive coil 41X X-axis so that they face each other across the group
Yoke 42X A pair of X-axis direction permanent magnets 4 attached to
3X1, 43X2Consists of

【0046】X軸方向駆動コイル41X 群は、図6に示
すように、X軸方向駆動コイル41 X 群のX軸方向の両
端側にそれぞれ各足96X1,96X2を有し、各足9
X1,96X2は、定盤1上のX軸方向の両端部にそれぞ
れ固定された平行な一組のY軸方向案内板31Y1,31
Y2および定盤1に後述する流体静圧軸受を介して支持さ
れている。すなわち、図示左側の足96X1とY軸方向案
内板31Y1との間には2つの流体静圧軸受3211,32
12が設けられており、図示右側の足96X2とY軸方向案
内板31Y2との間には2つの流体静圧軸受3213,32
14が設けられている。また、図7に示すように、図示左
側の足96X1と定盤1との間には、2つの流体静圧軸受
3231,3232(流体静圧軸受3232は不図示)が設け
られており、図示右側の足96X2と定盤1との間には、
2つの流体静圧軸受3233,3234(流体静圧軸受32
34は不図示)が設けられている。さらに、図示していな
いが、X軸方向駆動コイル41X 群とX軸方向ヨーク4
X との左右の間にも、2つ流体静圧軸受がそれぞれ設
けられている。
X-axis direction drive coil 41X Groups are shown in FIG.
As shown in FIG. X Both in the X-axis direction of the group
Each foot 96 on the end sideX1, 96X2And each foot 9
6X1, 96X2Are placed at both ends in the X-axis direction on the surface plate 1.
A set of fixed and fixed parallel Y-axis guide plates 31Y1, 31
Y2And supported on the surface plate 1 via a hydrostatic bearing described later.
Have been. That is, the left leg 96X1And Y axis direction plan
Inner plate 31Y1Between the two hydrostatic bearings 3211, 32
12Are provided, and the right foot 96 shown in the figure is provided.X2And Y axis direction plan
Inner plate 31Y2Between the two hydrostatic bearings 3213, 32
14Is provided. Also, as shown in FIG.
Side feet 96X1Two fluid hydrostatic bearings between
3231, 3232(Hydrostatic bearing 3232(Not shown) is provided
And the right foot 96 shown in the drawing.X2And between surface plate 1
Two hydrostatic bearings 3233, 3234(Hydrostatic bearing 32
34(Not shown) are provided. In addition, not shown
However, the X-axis direction driving coil 41X Group and X-axis direction yoke 4
2X Two hydrostatic bearings are also provided between the right and left
Have been killed.

【0047】Y軸方向リニアモータ4Y は、Y軸方向ヨ
ーク42Y と、Y軸方向に一列に設けられた、Y軸方向
ヨーク42Y の中空部を貫通するY軸方向駆動コイル4
Y群と、Y軸方向駆動コイル41Y 群を挟んで対向す
るようY軸方向ヨーク42Yに取付けられた一対のY軸
方向永久磁石43Y1,43Y2とからなる。ここで、Y軸
方向駆動コイル41Y 群は、図6に示すように、Y軸方
向駆動コイル41Y 群のY軸方向の両端側にそれぞれ各
足96Y1,96Y2を有し、各足96Y1,96Y2は、定盤
1上のY軸方向の両端部にそれぞれ固定された平行な一
組のX軸方向案内板31X1,31X2および定盤1に後述
する流体静圧軸受を介して支持されている。すなわち、
同図図示上側の足96Y1とX方向案内板31X1との間に
は2つの流体静圧軸受3221,3222が設けられてお
り、図示右側の足96X2とX軸方向案内板31X2との間
には2つの流体静圧軸受3223,3224が設けられてい
る。また、図示していないが、同図図示上側の足96X1
と定盤1との間および図示下側の足96X2と定盤1との
間には、それぞれ流体静圧軸受が2つずつ設けられてい
る。さらに、Y軸方向駆動コイル41Y 群とY軸方向ヨ
ーク42Y との図7図示左右の間にも、2つの流体静圧
軸受3251,3252がそれぞれ設けられている。
The Y-axis direction linear motor 4 Y includes a Y-axis direction yoke 42 Y and a Y-axis direction drive coil 4 provided in a row in the Y-axis direction and penetrating through the hollow portion of the Y-axis direction yoke 42 Y.
The first Y group includes a pair of Y-axis permanent magnets 43 Y1 and 43 Y2 attached to the Y-axis direction yoke 42 Y so as to face each other with the Y-axis direction drive coil 41 Y group therebetween. Here, the Y-axis direction drive coil 41 Y group, as shown in FIG. 6, has a Y-axis direction drive coil 41 Y group in the Y-axis direction of the opposite ends to the side foot 96 Y1, 96 Y2, each foot 96 Y1 and 96 Y2 are a pair of parallel X-axis direction guide plates 31 X1 and 31 X2 fixed to both ends in the Y-axis direction on the surface plate 1 and a hydrostatic bearing described later on the surface plate 1. Supported through. That is,
Two fluid hydrostatic bearing 32 21, 32 22 are provided, the right side of the foot 96 X2 and X-axis direction guide plate 31 is provided between the drawing shown above the foot 96 Y1 and X-direction guide plate 31 X1 Two hydrostatic pressure bearings 32 23 and 32 24 are provided between the bearings X 2 and X 2 . Although not shown, the upper leg 96 X1
Two fluid hydrostatic bearings are provided between the base plate 1 and the lower plate 96X2 and the base plate 1 respectively. Further, two hydrostatic bearings 32 51 and 32 52 are also provided between the Y-axis direction drive coil 41 Y group and the Y-axis direction yoke 42 Y between the left and right in FIG.

【0048】各第2のX軸方向リニアモータ7X1,7X2
は、図1に示した第1の参考例の第2のリニアモータ7
と同様の構造を有し、各ヨークがY軸方向駆動コイル4
Y群の両端にそれぞれ取付られている。図6図示上側
の第2のX軸方向リニアモータ7X1の図示左端は支持板
X11 により支持され、図示右端は支持板8X12 により
支持されている。また、図示下側の第2のX軸方向リニ
アモータ7X2の図示左端は支持板8X21 により支持さ
れ、図示右端は支持板8X22 により支持されている。
Each second X-axis direction linear motor 7 X1 , 7 X2
Is the second linear motor 7 of the first reference example shown in FIG.
And each yoke has a Y-axis direction driving coil 4.
1 It is attached to both ends of the Y group, respectively. The left end in the drawing of the second X-axis direction linear motor 7 X1 on the upper side in FIG. 6 is supported by a support plate 8 X11 , and the right end in the drawing is supported by a support plate 8 X12 . Also, shown left end of the second X-axis direction linear motors 7 X2 shown lower is supported by a support plate 8 X21, it illustrated right end is supported by a supporting plate 8 X22.

【0049】各第2のY軸方向リニアモータ7Y1,7Y2
は、図1に示した第1の参考例の第2のリニアモータ7
と同様の構造を有し、各ヨークがX軸方向駆動コイル4
X群の両端にそれぞれ取付られている。図6図示左側
の第2のY軸方向リニアモータ7Y1はの図示上端は支持
板8Y11 により支持され、図示下端は支持板8Y12 によ
り支持されている。また、図示右側の第2のY軸方向リ
ニアモータ7Y2の図示上端は支持板8Y21 により支持さ
れ、図示下端は支持板8Y22 により支持されている。
Each second Y-axis direction linear motor 7 Y1 , 7 Y2
Is the second linear motor 7 of the first reference example shown in FIG.
And each yoke is provided with an X-axis direction driving coil 4.
Each is attached to both ends of the X group. The upper end of the second Y-axis direction linear motor 7Y1 shown in FIG. 6 is supported by a support plate 8Y11 , and the lower end thereof is supported by a support plate 8Y12 . The upper end of the second Y-axis direction linear motor 7Y2 on the right side in the drawing is supported by a support plate 8Y21 , and the lower end in the drawing is supported by a support plate 8Y22 .

【0050】X軸方向並びにY軸方向についてそれぞれ
設けた第1の駆動手段と第2の駆動手段は、それぞれの
方向で実質的に等しい範囲にわたって可動ステージ2を
移動させることができる。
The first driving means and the second driving means provided in the X-axis direction and the Y-axis direction can move the movable stage 2 over substantially the same range in each direction.

【0051】この移動ステージ装置の駆動方法は、以下
のようにして行われる。
The driving method of the moving stage device is performed as follows.

【0052】(1)高速位置決めの際の大推力を必要と
する速度制御には、一組の第2のX軸方向リニアモータ
X1,7X2と一組の第2のY軸方向リニアモータ7Y1
Y2とを使用する。
(1) For speed control requiring a large thrust at the time of high-speed positioning, a set of second X-axis linear motors 7 X1 and 7 X2 and a set of second Y-axis linear motors are used. 7 Y1 ,
7 Use Y2 .

【0053】(2)高精度位置決めの際の大推力を必要
としない位置制御には、X軸方向リニアモータ4X とY
軸方向リニアモータ4Y とを使用する。
(2) For position control that does not require a large thrust at the time of high-precision positioning, the X-axis direction linear motors 4 X and Y
An axial linear motor 4Y is used.

【0054】すなわち、大推力を必要とする速度制御に
より可動ステージ2をX軸方向およびY軸方向に移動さ
せるときには、X軸方向リニアモータ4X とY軸方向リ
ニアモータ4Y とは使用せずに、一組の第2のX軸方向
リニアモータ7X1,7X2と一組の第2のY軸方向リニア
モータ7Y1,7Y2とを使用して、予め定めた速度指令曲
線に従って目標位置近傍まで可動ステージ2を移動す
る。その後の位置決め時には、X軸方向リニアモータ4
X とY軸方向リニアモータ4Y とを使用することによ
り、定盤1を振動させることなく高速高精度の位置決め
が可能となる。
That is, when the movable stage 2 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction by speed control requiring a large thrust, the X-axis direction linear motor 4X and the Y-axis direction linear motor 4Y are not used. Then, using a set of second X-axis direction linear motors 7 X1 , 7 X2 and a set of second Y-axis direction linear motors 7 Y1 , 7 Y2 , the target position is determined according to a predetermined speed command curve. The movable stage 2 is moved to the vicinity. At the time of subsequent positioning, the X-axis direction linear motor 4
By using the X and Y axis direction linear motors 4 Y , high-speed and high-accuracy positioning can be performed without vibrating the surface plate 1.

【0055】また、何らかの原因で定盤1が振動してし
まった場合には、X軸方向リニアモータ4X とY軸方向
リニアモータ4Y と一組の第2のX軸方向リニアモータ
X1,7X2と一組の第2のY軸方向リニアモータ7Y1
Y2とを同時に使用することにより、定盤1の振動を止
めることができる。
If the base 1 vibrates for some reason, the X-axis linear motor 4 X and the Y-axis linear motor 4 Y are paired with a second X-axis linear motor 7 X1. , 7 X2 and a set of second Y-axis linear motors 7 Y1 ,
By using 7Y2 at the same time, the vibration of the surface plate 1 can be stopped.

【0056】なお、この移動ステージ装置においては、
X軸方向リニアモータ4X と一組の第2のX軸方向リニ
アモータ7X1,7X2とは、X軸方向レーザ測長器51X
とX軸方向ミラー52X とからなるX軸方向レーザ測長
系によって計測された可動ステージ2のX軸方向の位置
情報に基づいて駆動される。また、Y軸方向リニアモー
タ4Y と一組の第2のY軸方向リニアモータ7Y1,7Y2
とは、Y軸方向レーザ測長器51Y とY軸方向ミラー5
Y とからなるY軸方向レーザ測長系によって計測され
た可動ステージ2のY軸方向の位置情報に基づいて駆動
される。
In this moving stage device,
The X-axis direction linear motor 4 X and the pair of second X-axis direction linear motors 7 X1 and 7 X2 are connected to the X-axis direction laser length measuring device 51 X.
It is driven based on the X-axis direction position information of the movable stage 2 measured by the X-axis direction laser measuring system consisting of the X-axis direction mirror 52 X and. The second Y-axis direction linear motor 7 in the Y-axis direction linear motor 4 Y a set Y1, 7 Y2
Means the Y-axis direction laser length measuring device 51 Y and the Y-axis direction mirror 5
It is driven based on 2 Y and Y-axis direction laser measuring of the movable stage 2 measured by the length-based position information in the Y-axis direction consists.

【0057】図8は、本発明の移動ステージ装置の第
の実施例を示す上面図であり、図9は、図8のD−D線
に沿う拡大断面図である。
[0057] Figure 8 is a second movable stage device of the present invention
FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view taken along line DD of FIG. 8.

【0058】この移動ステージ装置は、以下に示す点
で、図6に示した移動ステージ装置と異なる。
This moving stage device is different from the moving stage device shown in FIG. 6 in the following points.

【0059】(1)図6に示したX軸方向駆動コイル4
X およびY軸方向駆動コイル41 Y の代わりに、X軸
方向梁101X およびY軸方向梁101Y がそれぞれ設
けられている。
(1) X-axis direction drive coil 4 shown in FIG.
1X And Y-axis drive coil 41 Y Instead of the X axis
Direction beam 101X And Y-axis beam 101Y Are set
Have been killed.

【0060】(2)Y軸方向梁101Y の図8図示上下
端にそれぞれ一つずつ取付けられた一組のX軸方向リニ
アモータ4X1,4X2と、X軸方向梁101X の図示左右
端にそれぞれ一つずつ取付けられた一組のY軸方向リニ
アモータ4Y1,4Y2とを有する。図8には詳しく示して
いないが、各X軸方向リニアモータ4X1,4X2は、X軸
方向駆動コイルの図示左端および右端と定盤1との間に
各支持板がそれぞれ設けられることにより、定盤1にそ
れぞれ支持されている。各Y軸方向リニアモータ4Y1
Y2についても同様である。
[0060] (2) and the Y-axis direction beam 101 Y 8 set of attached one by one respectively shown on the bottom X-axis direction linear motors 4 of X1, 4 X2, shown left and right X-axis direction beam 101 X It has a set of Y-axis direction linear motors 4 Y1 and 4 Y2 attached one at each end. Although not shown in detail in FIG. 8, each of the X-axis direction linear motors 4 X1 and 4 X2 is configured such that each support plate is provided between the left end and right end of the X-axis direction drive coil shown in the drawing and the surface plate 1. , And the platen 1 respectively. Each Y-axis direction linear motor 4 Y1 ,
The same applies to 4Y2 .

【0061】なお、本実施例の移動ステージ装置も、先
の第の実施例と同様、X軸方向並びにY方向について
それぞれ設けた第1の駆動手段と第2の駆動手段は、そ
れぞれの方向で実質的に等しい範囲にわたって可動ステ
ージ2を移動させることができる。
In the moving stage apparatus of this embodiment, as in the first embodiment, the first driving means and the second driving means provided in the X-axis direction and the Y direction, respectively, Can move the movable stage 2 over substantially the same range.

【0062】この移動ステージ装置の駆動方法は、以下
のようにして行われる。
The driving method of the moving stage device is performed as follows.

【0063】(1)高速位置決めの際の大推力を必要と
する速度制御には、一組の第2のX軸方向リニアモータ
X1,7X2と一組の第2のY軸方向リニアモータ7Y1
Y2とを使用する。
(1) For speed control requiring a large thrust at the time of high-speed positioning, a set of second X-axis linear motors 7 X1 and 7 X2 and a set of second Y-axis linear motors are used. 7 Y1 ,
7 Use Y2 .

【0064】(2)高精度位置決めの際の大推力を必要
としない位置制御には、一組のX軸方向リニアモータ4
X1X2と一組のY軸方向リニアモータ4Y1,4Y2とを使
用する。
(2) One set of X-axis linear motors 4
X1 and X2 and a set of Y-axis direction linear motors 4Y1 and 4Y2 are used.

【0065】すなわち、大推力を必要とする速度制御に
より可動ステージ2をX軸方向およびY軸方向に移動さ
せるときには、一組のX軸方向リニアモータ4X1X2
一組のY軸方向リニアモータ4Y1,4Y2とは使用せず、
一組の第2のX軸方向リニアモータ7X1,7X2と一組の
第2のY軸方向リニアモータ7Y1,7Y2とを使用して、
予め定めた速度指令曲線に従って目標位置近傍まで可動
ステージ2を移動する。その後の位置決め時には、一組
のX軸方向リニアモータ4X1X2と一組のY軸方向リニ
アモータ4Y1,4Y2とを用いることにより、定盤1を振
動させることなく高速高精度の位置決めが可能となる。
That is, when the movable stage 2 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction by speed control requiring a large thrust, one set of the X-axis direction linear motors 4 X1 , X2 and one set of the Y-axis direction linear motors are used. Not used with motors 4Y1 and 4Y2 ,
Using a set of second X-axis linear motors 7 X1 , 7 X2 and a set of second Y-axis linear motors 7 Y1 , 7 Y2 ,
The movable stage 2 is moved to near the target position according to a predetermined speed command curve. At the time of subsequent positioning, high-speed and high-precision positioning is performed without vibrating the surface plate 1 by using a set of X-axis linear motors 4 X1 and X 2 and a set of Y-axis linear motors 4 Y1 and 4 Y2. Becomes possible.

【0066】また、何らかの原因で定盤1が振動してし
まった場合には、一組のX軸方向リニアモータ4X1X2
と一組のY軸方向リニアモータ4Y1,4Y2と一組の第2
のX軸方向リニアモータ7X1,7X2と一組の第2のY軸
方向リニアモータ7Y1,7Y2とを同時に使用することに
より、定盤1の振動を止めることができる。
If the base 1 vibrates for some reason, a set of X-axis linear motors 4 X1 , X 2
And one set of Y-axis direction linear motors 4 Y1 and 4 Y2 and one set of second motors
By using the X-axis direction linear motors 7 X1 and 7 X2 and a pair of second Y-axis direction linear motors 7 Y1 and 7 Y2 at the same time, the vibration of the surface plate 1 can be stopped.

【0067】なお、この移動ステージ装置においては、
一組のX軸方向リニアモータ4X1 X2と一組の第2のX
軸方向リニアモータ7X1,7X2とは、X軸方向レーザ測
長器51X とX軸方向ミラー52X とからなるX軸方向
レーザ測長系によって計測された可動ステージ2のX軸
方向の位置情報に基づいて駆動される。また、一組のY
軸方向リニアモータ4Y1,4Y2と一組の第2のY軸方向
リニアモータ7Y1,7 Y2とは、Y軸方向レーザ測長器5
Y とY軸方向ミラー52Y とからなるY軸方向レーザ
測長系によって計測された可動ステージ2のY軸方向の
位置情報に基づいて駆動される。
In this moving stage device,
A set of X-axis linear motors 4X1, X2And a set of second X
Axial linear motor 7X1, 7X2Means laser measurement in the X-axis direction
Long arm 51X And X-axis direction mirror 52X X-axis direction consisting of
X-axis of movable stage 2 measured by laser length measurement system
It is driven based on the direction position information. Also, a set of Y
Axial linear motor 4Y1, 4Y2And a set of second Y-axis directions
Linear motor 7Y1, 7 Y2Is a Y-axis direction laser measuring device 5
1Y And Y-axis direction mirror 52Y Y-axis direction laser
In the Y-axis direction of the movable stage 2 measured by the length measuring system
Driven based on position information.

【0068】以上説明においては、可動ステージは床と
平行な面内を移動するものであったが、たとえば、シン
クロトロン放射光を光源とするX線露光装置(特開平2
−100311号公報)に用いられている、可動ステー
ジが床と垂直な面内を移動するものであってもよい。
In the above description, the movable stage moves in a plane parallel to the floor. For example, an X-ray exposure apparatus using synchrotron radiation as a light source (Japanese Patent Laid-Open No.
The movable stage used in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10000311) may move in a plane perpendicular to the floor.

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明は次の効果がある。The present invention has the following effects.

【0070】本発明の移動ステージ装置は用途に応じ
た適切な駆動手段を使い分けている。しかも支持手段
は振動伝達に関して定盤とは独立しているため、可動ス
テージの加減速の反力による振動が定盤に伝達されるの
を防止することができる。これにより、位置決めの高速
化および高精度化が図れる優れたステージ装置を提供す
ることができる。
[0070] movable stage device of the present invention, known by different suitable drive means depending on the application. In addition , the support means is independent of the surface plate with respect to vibration transmission ,
Vibration due to the reaction force of the acceleration and deceleration of the stage can and benzalkonium be prevented from being transmitted to the platen. This makes it possible to provide an excellent stage device that can achieve high-speed and high-accuracy positioning.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の移動ステージ装置の第1の参考例を示
す上面図である。
FIG. 1 is a top view showing a first reference example of a moving stage device according to the present invention.

【図2】図1のA−A線に沿う拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along the line AA of FIG.

【図3】図1に示した移動ステージ装置の駆動方法を説
明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a driving method of the moving stage device shown in FIG.

【図4】本発明の移動ステージ装置の第2の参考例を示
す上面図である。
FIG. 4 is a top view showing a second reference example of the moving stage device of the present invention.

【図5】図4のB−B線に沿う拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged sectional view taken along the line BB of FIG. 4;

【図6】本発明の移動ステージ装置の第の実施例を示
す上面図である。
FIG. 6 is a top view showing a first embodiment of the moving stage device of the present invention.

【図7】図6のC−C線に沿う拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged sectional view taken along line CC of FIG. 6;

【図8】本発明の移動ステージ装置の第の実施例を示
す上面図である。
FIG. 8 is a top view showing a moving stage apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図9】図8のD−D線に沿う拡大断面図である。FIG. 9 is an enlarged sectional view taken along line DD of FIG. 8;

【図10】この種の移動ステージ装置の従来例の一つを
示す上面図である。
FIG. 10 is a top view showing one conventional example of this type of moving stage device.

【図11】図10のE−E線に沿う拡大断面図である。11 is an enlarged sectional view taken along line EE of FIG.

【図12】図10に示した移動ステージ装置の駆動方法
を説明する図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating a driving method of the moving stage device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 定盤 2 可動ステージ 4 リニアモータ 61,62 ダンパ 7 第2のリニアモータ 7X1,7X2 第2のX軸方向リニアモータ 7Y1,7Y2 第2のY軸方向リニアモータ 81,82,8X11,8X12,8X21,8X22,8Y11
Y12,8Y21,8Y22 支持板311,312 案内板 31X1,31X2 X軸方向案内板 31Y1,31Y2 Y軸方向案内板 3211〜3213,3221〜3223,3231,3233,3
41,3242,3251,3252 流体静圧軸受 41 駆動コイル 41X X軸方向駆動コイル 41Y Y軸方向駆動コイル 42 ヨーク 42X X軸方向ヨーク 42Y Y軸方向ヨーク 431,432,43X1,43X2,43Y1,43Y2
久磁石 51 レーザ測長器 51X X軸方向レーザ測長器 51Y Y軸方向レーザ測長器 52 ミラー 52X X軸方向ミラー 52Y Y軸方向ミラー 71 第2の駆動コイル 72 第2のヨーク 731,732 第2の永久磁石 81 モータ 831,832 摺動案内溝 841〜844 プーリ 85 ワイヤ 86 クランパ 881〜884 支持ダンパ 96X1,96X2,96Y1,96Y2 足 101X X軸方向梁 101Y Y軸方向梁
Reference Signs List 1 surface plate 2 movable stage 4 linear motor 6 1 , 6 2 damper 7 second linear motor 7 X1 , 7 X2 second X-axis linear motor 7 Y1 , 7 Y2 second Y-axis linear motor 8 1 , 8 2 , 8 X11 , 8 X12 , 8 X21 , 8 X22 , 8 Y11 ,
8 Y12, 8 Y21, 8 Y22 supporting plates 31 1, 31 2 guide plate 31 X1, 31 X2 X-axis direction guide plate 31 Y1, 31 Y2 Y-axis direction guide plate 32 11-32 13, 32 21-32 23, 32 31 , 32 33 , 3
2 41 , 32 42 , 32 51 , 32 52 Hydrostatic bearing 41 Drive coil 41 X X axis drive coil 41 Y Y axis drive coil 42 Yoke 42 X X axis direction yoke 42 Y Y axis direction yoke 43 1 , 43 2 , 43 X1 , 43 X2 , 43 Y1 , 43 Y2 Permanent magnet 51 Laser length measuring device 51 X X axis direction laser length measuring device 51 Y Y axis direction laser length measuring device 52 Mirror 52 X X axis direction mirror 52 Y Y axis Directional mirror 71 Second drive coil 72 Second yoke 73 1 , 73 2 Second permanent magnet 81 Motor 83 1 , 83 2 Sliding guide groove 84 1 -84 4 Pulley 85 Wire 86 Clamper 88 1 -88 4 Support Damper 96 X1 , 96 X2 , 96 Y1 , 96 Y2 Foot 101 X X-axis beam 101 Y Y-axis beam

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−254681(JP,A) 特開 平3−142136(JP,A) 特開 昭59−115138(JP,A) 特公 昭63−20014(JP,B2) 米国特許4987526(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B23Q 1/00 - 1/76 B23Q 5/28 B23Q 11/00 H01L 21/68 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-62-254681 (JP, A) JP-A-3-142136 (JP, A) JP-A-59-115138 (JP, A) 20014 (JP, B2) US Patent 4,987,526 (US, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B23Q 1/00-1/76 B23Q 5/28 B23Q 11/00 H01L 21/68

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ダンパ手段を介して支持された定盤と、
該定盤上を流体静圧軸受で非接触に支持されてXY方向
に二次元的に移動する可動ステージと、該可動ステージ
に推力を与えてX方向に移動させるための第1のXリニ
アモータと該第1のXリニアモータよりも大きな加減速
を可能にする第2のXリニアモータと、前記可動ステー
ジに推力を与えてY方向に移動させるための第1のYリ
ニアモータと該第1のYリニアモータよりも大きな加減
速を可能にする第2のYリニアモータとを有し、前記第
2のXリニアモータ及び前記第2のYリニアモータはそ
れぞれ駆動コイルと永久磁石とを備え、一方が振動伝達
に関して前記定盤からは独立した支持手段で支持されて
おり、前記第2のXリニアモータ及び前記第2のYリニ
アモータによる前記可動ステージの加減速の反力を前記
支持手段で受けることを特徴とする移動ステージ装置。
A platen supported via a damper means;
A movable stage supported on the surface plate by a hydrostatic bearing in a non-contact manner and moving two-dimensionally in the XY directions, and a first X linear motor for applying a thrust to the movable stage and moving the movable stage in the X direction And a second X linear motor that enables greater acceleration and deceleration than the first X linear motor, a first Y linear motor for applying a thrust to the movable stage to move the movable stage in the Y direction, and the first X linear motor. A second Y linear motor that enables acceleration and deceleration greater than that of the Y linear motor, the second X linear motor and the second Y linear motor each include a drive coil and a permanent magnet, One of the supports is supported by a support means independent of the surface plate with respect to the vibration transmission, and the reaction force of acceleration and deceleration of the movable stage by the second X linear motor and the second Y linear motor is supported by the support means. receive The movable stage apparatus according to claim and.
【請求項2】 前記第1のXリニアモータおよび前記第
1のYリニアモータの固定部は、前記定盤によって支持
されている請求項1に記載の移動ステージ装置。
2. The moving stage device according to claim 1, wherein fixed portions of the first X linear motor and the first Y linear motor are supported by the surface plate.
【請求項3】 前記第1のXリニアモータ固定部
前記第2のYリニアモータの可動部に支持されているこ
とを特徴とする請求項1に記載の移動ステージ装置。
3. The fixed portion of the first X linear motor,
Movable stage apparatus according to claim 1, characterized in that it is supported on the movable portion of the second Y linear motors.
【請求項4】 前記第2のリニアモータの固定部は前
記駆動コイルを有し、前記第2のリニアモータの可動
部は前記永久磁石を有することを特徴とする請求項1な
いし3のいずれか1項に記載の移動ステージ装置。
Wherein the fixing portion of the second X linear motor has the driving coil, the movable portion of the second X linear motor according to claim 1 to 3, characterized in that it has the permanent magnet The moving stage device according to claim 1.
【請求項5】 ダンパ手段を介して支持された定盤と、
該定盤上を流体静圧軸受で非接触に支持されてXY方向
に二次元的に移動する可動ステージと、該可動ステージ
に非接触で推力を与えてX方向に移動させるためのXリ
ニアモータと該Xリニアモータとは別に設けられたX駆
動手段と、前記可動ステージに非接触で推力を与えてY
方向に移動させるためのYリニアモータと該Yリニアモ
ータとは別に設けられたY駆動手段とを有し、前記X駆
動手段及び前記Y駆動手段はそれぞれ可動部と固定部と
を持ち、前記X駆動手段及び前記Y駆動手段のそれぞれ
の固定部は、振動伝達に関して前記定盤からは独立した
支持手段で支持されており、前記X駆動手段及び前記Y
駆動手段による前記可動ステージの加減速の反力を前記
支持手段で受けることを特徴とする移動ステージ装置。
5. A surface plate supported via a damper means,
A movable stage that is supported in a non-contact manner on the surface plate by a hydrostatic bearing and moves two-dimensionally in the X and Y directions, and an X linear motor that applies a thrust to the movable stage in a non-contact manner to move the movable stage in the X direction And X driving means provided separately from the X linear motor,
A Y linear motor for moving in the direction, and a Y driving means provided separately from the Y linear motor. The X driving means and the Y driving means each have a movable portion and a fixed portion, and the X The fixed portions of the driving means and the Y driving means are supported by supporting means independent of the surface plate with respect to the transmission of vibration, and the X driving means and the Y driving means are fixed.
A moving stage device, wherein a reaction force of acceleration / deceleration of the movable stage by a driving unit is received by the supporting unit.
【請求項6】 ダンパ手段を介して支持された定盤と、
該定盤上を流体静圧軸受で非接触に支持されてXY方向
に二次元的に移動する可動ステージと、該可動ステージ
に非接触で推力を与えてX方向に移動させるためのXリ
ニアモータと該Xリニアモータとは別に設けられたX駆
動手段と、前記可動ステージに非接触で推力を与えてY
方向に移動させるためのYリニアモータと該Yリニアモ
ータとは別に設けられたY駆動手段とを有し、前記X駆
動手段及び前記Y駆動手段はそれぞれ可動部と固定部と
を持ち、前記X駆動手段及び前記Y駆動手段のそれぞれ
の固定部は、振動伝達に関して前記定盤からは独立した
支持手段で支持されており、前記X駆動手段及び前記Y
駆動手段による前記可動ステージの加減速の反力を前記
支持手段で受けることを特徴とする移動ステージ装置を
備えた半導体焼付け装置。
6. A surface plate supported via a damper means,
A movable stage that is supported in a non-contact manner on the surface plate by a hydrostatic bearing and moves two-dimensionally in the X and Y directions, and an X linear motor that applies a thrust to the movable stage in a non-contact manner to move the movable stage in the X direction And X driving means provided separately from the X linear motor,
A Y linear motor for moving in the direction, and a Y driving means provided separately from the Y linear motor. The X driving means and the Y driving means each have a movable portion and a fixed portion, and the X The fixed portions of the driving means and the Y driving means are supported by supporting means independent of the surface plate with respect to the transmission of vibration, and the X driving means and the Y driving means are fixed.
A semiconductor printing apparatus comprising a moving stage device, wherein a reaction force of acceleration and deceleration of the movable stage by a driving unit is received by the supporting unit.
【請求項7】 前記リニアモータ固定部は、前記定
盤によって支持されている請求項に記載の移動ステー
ジ装置。
7. The moving stage device according to claim 5 , wherein the fixed portion of the X linear motor is supported by the surface plate.
【請求項8】 前記リニアモータ固定部前記
駆動手段の可動部に支持されていることを特徴とする請
求項に記載の移動ステージ装置。
8. A fixing portion of the X linear motor, said Y
The moving stage device according to claim 5 , wherein the moving stage device is supported by a movable portion of the driving means.
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