JP2978501B2 - Logic circuit - Google Patents

Logic circuit

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JP2978501B2 JP63326831A JP32683188A JP2978501B2 JP 2978501 B2 JP2978501 B2 JP 2978501B2 JP 63326831 A JP63326831 A JP 63326831A JP 32683188 A JP32683188 A JP 32683188A JP 2978501 B2 JP2978501 B2 JP 2978501B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は論理回路に関し、特にMOSトランジスタとバ
イポーラトランジスタとを組合せて構成した論理回路の
レイアウトに関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a logic circuit, and more particularly to a layout of a logic circuit configured by combining a MOS transistor and a bipolar transistor.

(従来の技術) 一般に、LSI論理回路のレイアウト設計においては、
多大な工数を必要としているので、従来一定の高さを有
する複数種類の基本論理ゲートを予めレイアウト設計し
ておき、これらの多数の基本論理ゲートを自動レイアウ
トツールを用いて配置および配線を行なうスタンダード
セル等のレイアウト手法が、多く利用されている。
(Prior Art) Generally, in the layout design of an LSI logic circuit,
Since a large number of man-hours are required, conventional layouts of a plurality of types of basic logic gates having a fixed height are conventionally designed in advance, and these many basic logic gates are arranged and routed using an automatic layout tool. Many layout methods such as cells are used.

また一方、最近ではLSIの速度性能を高めるために、M
OSトランジスタとバイポーラトランジスタを組合せたBi
CMOSの基本論理ゲートが注目されている。かかるBiCMOS
ゲートはNチャネル型およびPチャネル型の一対のMOS
トランジスタからなるCMOSゲートの低消費電力性と、バ
イポーラトランジスタの高速性とを兼ね備えているた
め、今後のLSIに有望な論理ゲートである。
On the other hand, recently, in order to improve the speed performance of LSI, M
Bi combining OS transistor and bipolar transistor
CMOS basic logic gates are attracting attention. Such BiCMOS
The gate is a pair of N-channel and P-channel MOS.
The combination of low power consumption of CMOS gates composed of transistors and high speed of bipolar transistors makes this a promising logic gate for future LSIs.

例えば、かかる従来のBiCMOSゲートで構築されたスタ
ンダードセルにおいては、CMOS部の上部あるいは下部に
バイポーラ部を付加した構成が特開昭61−171150号公報
に記載されている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-171150 discloses a configuration in which a bipolar portion is added to the upper or lower portion of a CMOS portion in a standard cell constructed with such a conventional BiCMOS gate.

(発明が解決しようとする課題) 上述した従来のBiCMOSゲートは、多数の論理ゲートや
長い配線等の大負荷容量を駆動する場合、CMOSゲートに
比べ高速駆動が可能であるが、小さな負荷容量の駆動に
対してはCMOSゲートに比べ低速駆動である。また、一般
にLSI内部の大部分の論理ゲートは1mm以下の短い配線に
より二,三のわずかの論理ゲートとしか接続されていな
い。このため、全ての論理ゲートをBiCMOSゲートで構成
すると、十分な速度性能を得られないという問題があ
る。そこでこの問題を解決し高速化をはかるために、従
来は大きなファンアウト数や長い配線長を有する論理回
路のみをBiCMOSゲートで構成し、しかも残りの大部分の
論理回路をCMOSゲートで構成する方法が有利である。
(Problems to be Solved by the Invention) The above-described conventional BiCMOS gate can drive at a higher speed than a CMOS gate when driving a large load capacitance such as a large number of logic gates or long wirings. The driving speed is lower than that of the CMOS gate. In general, most of the logic gates inside the LSI are connected to only a few logic gates by a short wiring of 1 mm or less. Therefore, if all the logic gates are constituted by BiCMOS gates, there is a problem that sufficient speed performance cannot be obtained. In order to solve this problem and increase the speed, conventionally, only logic circuits with a large number of fanouts and long wiring lengths are configured with BiCMOS gates, and most of the remaining logic circuits are configured with CMOS gates. Is advantageous.

しかしながら、従来のBiCMOSゲートによるスタンダー
ドセルはCMOS部の上部にバイポーラ部を付加した構成に
なっているので、かかるBiCMOSゲートとCMOSゲートのス
タンダード・セルを混在して配置したときには、高さが
そろわず且つ未使用領域が増大し、チップサイズの増大
を招くという欠点があり、しかも従来のBiCMOSゲートの
レイアウト方法によれば、チップサイズの増大による価
格上昇をもたらすという欠点がある。
However, conventional BiCMOS gate standard cells have a configuration in which a bipolar part is added to the top of the CMOS part. In addition, there is a drawback that an unused area increases and a chip size increases, and further, according to the conventional BiCMOS gate layout method, there is a drawback that a price increase due to an increase in the chip size occurs.

本発明の目的は、かかるCMOSゲートとBiCMOSゲートを
混在して配置する際の未使用領域を減少させ、LSIのチ
ップサイズを縮小させるとともに低価格でレイアウトす
ることのできる論理回路を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a logic circuit capable of reducing an unused area when arranging such a CMOS gate and a BiCMOS gate in a mixed manner, reducing the chip size of an LSI, and laying out at low cost. is there.

(課題を解決するための手段) 本発明は、MOSトランジスタおよびバイポーラトラン
ジスタにより構成される論理回路において、第一および
第二の一対の電源配線ラインを平行に配置し、前記一対
の電源配線ライン間の領域内で且つ前記第一の電源配線
ライン側に第一極性のMOSトランジスタを配置するとと
もに、前記第二の電源配線ライン側に第二極性のMOSト
ランジスタを配置し、前記バイポーラトランジスタを前
記一対の電源配線ライン間の領域内で且つ前記一対の電
源配線ラインの長さ方向に配置することを特徴としてい
る。
(Means for Solving the Problems) According to the present invention, in a logic circuit composed of a MOS transistor and a bipolar transistor, a first and a second pair of power supply wiring lines are arranged in parallel with each other, and And a MOS transistor of a first polarity is arranged on the side of the first power supply wiring line, and a MOS transistor of a second polarity is arranged on the side of the second power supply wiring line. In a region between the power supply wiring lines and in the length direction of the pair of power supply wiring lines.

また、本発明は、MOSトランジスタとバイポーラトラ
ンジスタとにより構成される論理回路において、第一お
よび第二の一対の電源配線ラインを平行に配置し、前記
一対の電源配線ライン間の領域内で且つ前記第一の電源
配線ライン側に第一極性のMOSトランジスタを配置する
とともに、前記第二の電源配線ライン側に第二極性のMO
Sトランジスタを配置し、長方形コンタクトの長さが異
なる複数の前記バイポーラトランジスタを、前記長方形
コンタクトの長さ方向が前記一対の電源配線ラインと平
行にして且つ前記一対の電源配線間の領域内に配置する
ことを特徴としている。
Further, according to the present invention, in a logic circuit including a MOS transistor and a bipolar transistor, a first and a second pair of power supply wiring lines are arranged in parallel, and in a region between the pair of power supply wiring lines and A first polarity MOS transistor is arranged on the first power supply line side, and a second polarity MO transistor is disposed on the second power supply line side.
An S transistor is arranged, and a plurality of the bipolar transistors having different rectangular contact lengths are arranged in a region between the pair of power supply lines such that the length direction of the rectangular contact is parallel to the pair of power supply lines. It is characterized by doing.

(作用) 本発明の論理回路は、CMOSゲートとBiCMOSゲートのス
タンダードセルを同一の高さにすることにより、自動レ
イアウトでスタンダードセルの配置、配線を行なった場
合、CMOSゲートとBiCMOSゲートでの凹凸が無くなり、未
使用領域が少なくなる。
(Operation) In the logic circuit of the present invention, by setting the standard cells of the CMOS gate and the BiCMOS gate to the same height, when the standard cells are arranged and wired by the automatic layout, the unevenness between the CMOS gate and the BiCMOS gate is obtained. And unused areas are reduced.

また、バイポーラ部のコンタクトの長さ方向を電源ラ
インと平行になるように配置することにより、バイポー
ラ部の駆動能力を高める場合、コンタクトを電源ライン
と平行に延長すれば良いため、高さを変えずに駆動能力
の高いBiCMOSゲートを実現することになる。
Also, if the driving direction of the bipolar section is increased by arranging the length direction of the bipolar section parallel to the power supply line, the contact may be extended parallel to the power supply line. The result is a BiCMOS gate with high driving capability.

(実施例) 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
(Example) Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を説明するための論理回路
の基本的なレイアウト図である。
FIG. 1 is a basic layout diagram of a logic circuit for explaining an embodiment of the present invention.

第1図に示すように、本実施例におけるBiCMOSゲート
は相互に平行に引かれた第一の電源配線1と第二の電源
配線2とを設け、この第一の電源配線1と第二の電源配
線2との間にCMOS部3とバイポーラ部4が設けられる。
通常、この第一の電源配線1には5V(ボルト)が印加さ
れ、第二の電源配線2はグランドとして用いられる。
As shown in FIG. 1, the BiCMOS gate in this embodiment is provided with a first power supply wiring 1 and a second power supply wiring 2 which are drawn in parallel with each other. A CMOS section 3 and a bipolar section 4 are provided between the power supply wiring 2 and the CMOS section 3.
Normally, 5V (volt) is applied to the first power supply wiring 1, and the second power supply wiring 2 is used as a ground.

このように配置されたBiCMOSゲートは、CMOSゲートと
同じ高さであるため、BiCMOSゲートとCMOSゲートを混在
して配置しても、第一の電源配線1と第二の電源配線2
とを平行に引くことができる。従って、複数の論理ゲー
トを接続した場合、未使用領域が少なくなり、チップサ
イズを縮小することができる。
Since the BiCMOS gate arranged in this manner has the same height as the CMOS gate, even if the BiCMOS gate and the CMOS gate are mixedly arranged, the first power supply wiring 1 and the second power supply wiring 2
And can be drawn in parallel. Therefore, when a plurality of logic gates are connected, the unused area is reduced, and the chip size can be reduced.

第2図は第1図に示すレイアウトで表わされる論理回
路の構成図、また第3図は第1図および第2図における
論理回路の具体的レイアウト図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a logic circuit represented by the layout shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a specific layout diagram of the logic circuit in FIG. 1 and FIG.

以下、第2図および第3図を用い、本実施例について
詳細に説明する。
Hereinafter, this embodiment will be described in detail with reference to FIG. 2 and FIG.

第2図に示すように、本実施例の論理回路は、Pチャ
ネル型の第一のMOSトランジスタ5およびNチャネル型
の第二のMOSトランジスタ6からなるCMOSインバータ
と、Nチャネル型の第三のMOSトランジスタ7およびNPN
型のバイポーラトランジスタ8からなるBiCMOSインバー
タ回路とを入力端子9および出力端子10間に接続して構
成したものである。
As shown in FIG. 2, the logic circuit of this embodiment includes a CMOS inverter including a P-channel type first MOS transistor 5 and an N-channel type second MOS transistor 6, and an N-channel type third MOS transistor. MOS transistor 7 and NPN
And a BiCMOS inverter circuit comprising a bipolar transistor 8 of the same type connected between an input terminal 9 and an output terminal 10.

この論理回路において、入力端子9に高電位が印加さ
れると、第二および第三のMOSトランジスタ6,7が導通
し、出力端子10は低電位となる。一方、入力端子9に低
電位が印加されると、第一のMOSトランジスタ5と共に
バイポーラトランジスタ8が導通し、出力端子10は高電
位となる。すなわち、出力端子10は低い導通抵抗を有す
るバイポーラトラジスタ8を介して電源端子Vに接続さ
れる。従って、かかる論理回路を用いれば、大容量負荷
に対しても高速駆動が可能になる。
In this logic circuit, when a high potential is applied to the input terminal 9, the second and third MOS transistors 6, 7 conduct, and the output terminal 10 goes to a low potential. On the other hand, when a low potential is applied to the input terminal 9, the bipolar transistor 8 conducts together with the first MOS transistor 5, and the output terminal 10 becomes high potential. That is, the output terminal 10 is connected to the power supply terminal V via the bipolar transistor 8 having a low conduction resistance. Therefore, the use of such a logic circuit enables high-speed driving even for a large-capacity load.

第3図に示すように、上述した論理回路を構成するト
ランジスタは第一の電源配線11と第二の電源配線12との
間に配置されている。まず、P型拡散層13とゲート電極
14は、第2図で前述した第一のMOSトランジスタ5を形
成し、N型拡散層15とゲート電極14は、同様に第二のMO
Sトランジスタ6と第三のMOSトランジスタ7を形成す
る。次に、第一乃至第五のコンタクト16A〜16Eは、それ
ぞれP型拡散層13と第一の電源配線11、N型拡散層15と
第二の電源配線12、P型拡散層13と第一層メタル配線1
7、N型拡散層15と第一層メタル配線17、N型拡散層15
と第一層メタル配線17とを接続している。また、第三お
よび第四のコンタクト16C、16Dとバイポーラトランジス
タのベースコンタクト18は第一層メタル配線17で接続さ
れ、バイポーラトランジスタのコレクタコンタクト19は
第一の電源配線11と接続される。さらに、バイポーラト
ランジスタのエミッタコンタクト20は第一層メタル配線
17と第五のコンタクト16Eおよびスルーホールコンタク
ト21を介してN型拡散層15および第二層メタル配線22と
接続されている。従って、上述したゲート電極14が第2
図に示す入力端子9となり、第二層メタル配線22が出力
端子10となる。
As shown in FIG. 3, the transistors constituting the above-described logic circuit are arranged between the first power supply wiring 11 and the second power supply wiring 12. First, the P-type diffusion layer 13 and the gate electrode
14 forms the first MOS transistor 5 described above with reference to FIG. 2, and the N-type diffusion layer 15 and the gate electrode 14
An S transistor 6 and a third MOS transistor 7 are formed. Next, the first to fifth contacts 16A to 16E are respectively connected to the P-type diffusion layer 13 and the first power supply wiring 11, the N-type diffusion layer 15 and the second power supply wiring 12, and the P-type diffusion layer 13 and the first power supply wiring 12, respectively. Layer metal wiring 1
7, N-type diffusion layer 15 and first-layer metal wiring 17, N-type diffusion layer 15
And the first-layer metal wiring 17. Further, the third and fourth contacts 16C and 16D and the base contact 18 of the bipolar transistor are connected by a first layer metal wiring 17, and the collector contact 19 of the bipolar transistor is connected to the first power supply wiring 11. In addition, the emitter contact 20 of the bipolar transistor is the first layer metal wiring
It is connected to the N-type diffusion layer 15 and the second-layer metal wiring 22 via a fifth contact 16E and a through-hole contact 21. Therefore, the above-described gate electrode 14 is
The input terminal 9 shown in the figure is used, and the second-layer metal wiring 22 is used as the output terminal 10.

このように、第一電源配線11および第二の電源配線12
の間にトランジスタを形成しコンタクト16A〜16Eおよび
18〜21を介して接続することにより、第2図に示した論
理回路を実現することができる。
Thus, the first power supply wiring 11 and the second power supply wiring 12
A transistor is formed between the contacts 16A to 16E and
By connecting via the lines 18 to 21, the logic circuit shown in FIG. 2 can be realized.

上述したように、ベースコンタクト18、コレクタコン
タクト19およびエミッタコンタクト20で表現されるバイ
ポーラトランジスタはP型拡散層13の横に配置されてい
る。このため、BiCMOSゲートの高さをCMOSゲートの高さ
と同じにすることができるので、未使用領域が減少し、
チップサイズの縮小を可能にする。
As described above, the bipolar transistor represented by the base contact 18, the collector contact 19, and the emitter contact 20 is disposed beside the P-type diffusion layer 13. This allows the height of the BiCMOS gate to be the same as the height of the CMOS gate, reducing unused area,
Enables chip size reduction.

一方、かかるバイポーラトランジスタの導通抵抗は長
方形コンタクト(ベースコンタクト18、コレクトタコン
タクト19、エミッタコンタクト20)の長さを延ばすこと
により、小さくすることができる、すなわち、この導通
抵抗を小さくできれば、バイポーラトランジスタの駆動
能力を高めることができる。本実施例は、第3図に示し
たように、長方形コンタクト18〜20の長さ方向の第一の
電源配線11と平行になるように配置することにより、Bi
CMOSゲートの高さを変えずに長方形コンタクト18〜20の
長さを延ばすことが可能になる。要するに、種々の駆動
能力を有するBiCMOSゲートをCMOSゲートの高さと同一の
高さで実現できる。
On the other hand, the conduction resistance of such a bipolar transistor can be reduced by extending the length of the rectangular contacts (base contact 18, collector contact 19, emitter contact 20). That is, if this conduction resistance can be reduced, the bipolar transistor Driving ability can be increased. In this embodiment, as shown in FIG. 3, by arranging the rectangular contacts 18 to 20 so as to be parallel to the first power supply wiring 11 in the longitudinal direction, Bi
It is possible to increase the length of the rectangular contacts 18-20 without changing the height of the CMOS gate. In short, BiCMOS gates having various driving capabilities can be realized at the same height as the CMOS gate.

(発明の効果) 以上説明したように、本発明の論理回路は、CMOSゲー
トと同じ高さのBiCMOSゲートを実現することができ、ま
た、バイポーラトランジスタのコンタクトの長さ方向を
電源ラインと平行に配置することにより、種々の駆動能
力を有するBiCMOSゲートをCMOSと同じ高さで実現するこ
とができるので、CMOSゲートとBiCMOSゲートを混在して
配置した場合、未使用領域を減少させ且つLSIのチップ
サイズの縮小すなわち低価格化を達成することができる
という効果がある。
(Effects of the Invention) As described above, the logic circuit of the present invention can realize a BiCMOS gate having the same height as a CMOS gate, and can set the length direction of the contact of the bipolar transistor in parallel with the power supply line. By arranging, it is possible to realize BiCMOS gates with various driving capabilities at the same height as CMOS, so if CMOS gates and BiCMOS gates are mixedly arranged, the unused area is reduced and the LSI chip There is an effect that the size can be reduced, that is, the price can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例を説明するための論理回路の
基本的なレイアウト図、第2図は第1図に示すレイアウ
トで形成される論理回路の構成図、第3図は第1図およ
び第2図における論理回路の具体的なレイアウト図であ
る。 1,11……第一の電源配線、 2,12……第二の電源配線、3……CMOS部、 4……バイポーラ部、 5〜7……MOSトランジスタ、 8……バイポーラトランジスタ、9……入力端子、 10……出力端子、13……P型拡散層、 14……ゲート電極、15……N型拡散層、 16A〜16E……コンタクト、 17……第一層メタル配線、 18……ベースコンタクト、 19……コレクタコンタクト、 20……エミッタコンタクト、 21……スルーホールコンタクト、 22……第二層メタル配線。
FIG. 1 is a basic layout diagram of a logic circuit for explaining one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a configuration diagram of a logic circuit formed by the layout shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 3 is a specific layout diagram of the logic circuit in FIG. 2 and FIG. 2; 1,11 ... first power supply wiring, 2,12 ... second power supply wiring, 3 ... CMOS part, 4 ... bipolar part, 5-7 ... MOS transistor, 8 ... bipolar transistor, 9 ... ... Input terminal, 10 ... Output terminal, 13 ... P-type diffusion layer, 14 ... Gate electrode, 15 ... N-type diffusion layer, 16A ~ 16E ... Contact, 17 ... First-layer metal wiring, 18 ... ... Base contact, 19 ... Collector contact, 20 ... Emitter contact, 21 ... Through hole contact, 22 ... Second layer metal wiring.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】CMOSゲートとBiCMOSゲートとが混在し、平
行に配置された第一および第二の一対の電源配線ライン
の電源配線間隔がCMOSゲート回路で決定される論理回路
のBiCMOSゲート回路において、前記一対の電源配線ライ
ン間の領域内で且つ前記第1の電源配線ライン側に第一
極性のMOSトランジスタを配置するとともに、前記第2
の電源配線ライン側に第二極性のMOSトランジスタを配
置し、長方形コンタクトの長さが異なる複数のバイポー
ラトランジスタを、前記長方形コンタクトの長さ方向が
前記一対の電源配線ラインと平行にして且つ前記一対の
電源配線間領域内に配置することを特徴とする論理回
路。
In a BiCMOS gate circuit of a logic circuit in which a CMOS gate and a BiCMOS gate are mixed and a power supply wiring interval between a pair of first and second power supply wiring lines arranged in parallel is determined by the CMOS gate circuit. A MOS transistor having a first polarity is disposed in a region between the pair of power supply wiring lines and on the side of the first power supply wiring line;
A plurality of bipolar transistors having different rectangular contact lengths are arranged on the side of the power supply wiring line, and the length direction of the rectangular contact is made parallel to the pair of power supply wiring lines, and A logic circuit, wherein the logic circuit is arranged in a region between power supply wirings.
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