JP2976060B2 - Film carrier for mounting electronic components - Google Patents
Film carrier for mounting electronic componentsInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品を搭載するた
めのフィルムキャリア、特に絶縁基材に形成したデバイ
ス穴側にインナーリードを突出させた電子部品搭載用フ
ィルムキャリアに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film carrier for mounting an electronic component, and more particularly to a film carrier for mounting an electronic component having inner leads protruding from a device hole formed in an insulating base material.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子部品搭載用フィルムキャリア(以下
単にフィルムキャリアということがある)は、絶縁基材
として可撓性を有する長尺なフィルム状物を主材として
形成されるものであり、そのメッキ等の加工を連続的に
行なえることから、近年においては、数多く採用されか
つ生産量も増加しつつあるものである。そして、フィル
ム状の絶縁基材を最終的に切断することにより、一つま
たは複数の電子部品を搭載するものとして個片状のフィ
ルムキャリアとされるのであるが、このフィルムキャリ
アには種々なタイプのものがある。2. Description of the Related Art A film carrier for mounting electronic components (hereinafter sometimes simply referred to as a film carrier) is formed mainly of a flexible and long film-like material as an insulating base material. In recent years, since plating and other processing can be performed continuously, many of them have been adopted and the amount of production has been increasing. Then, the film-shaped insulating base material is finally cut into individual film carriers on which one or more electronic components are mounted. Various types of film carriers are available. There are things.
【0003】中でも、電子部品のためのデバイス穴を有
するフィルムキャリアは、このデバイス穴内に電子部品
を収納できることから、全体を樹脂封止して所謂半導体
装置を構成する場合の簿型化を実現できて、非常に多く
採用されているものである。[0003] Among them, a film carrier having a device hole for an electronic component can accommodate an electronic component in the device hole, so that a so-called semiconductor device can be formed in a book form when the whole is sealed with resin. And are very often adopted.
【0004】ところで、この種のフィルムキャリアにあ
っては、その絶縁基材上に形成した各リードとデバイス
穴内の電子部品との電気的接続を行うために、各リード
の一端をデバイス穴側に突出させなければならない。こ
のデバイス穴側に突出した部分は一般にインナーリード
と呼ばれるが、このインナーリードは他に支えるものが
ないから非常に不安定な状態におかれるものであり、常
に折れ曲がり易くなっているものである。In this type of film carrier, one end of each lead is connected to the device hole in order to electrically connect each lead formed on the insulating base material to an electronic component in the device hole. Must be protruding. The portion protruding toward the device hole is generally called an inner lead, but since this inner lead has no other support, it is in a very unstable state, and is easily bent at all times.
【0005】また、このインナーリードを含むリード
は、フィルム状の絶縁基材上に設けた金属箔をエッチン
グすることにより形成されることが一般であり、そのエ
ッチングは金属箔の一方の面から行れることが多い。こ
のため、各リードの断面を観察してみると、図7に示す
ように、エッチングレジスト側(以下図示状態に従って
表面側という)が狭く絶縁基材側(以下図示状態に従っ
て裏面側という)が広い台形形状とならざるを得ないも
のとなるのである。そこで、電子部品の高密度化に対応
すべく各リードを高密度化しようとすると、各ピッチの
間隔を小さくしなければならないことは当然として、各
リードの断面が図7になることを見込んで、つまり各リ
ードの底辺部分が広がった状態となるからショートしな
いようにエッチングできるようにすることを見込んで、
エッチングレジストの幅を狭くしておかなければならな
い。A lead including the inner lead is generally formed by etching a metal foil provided on a film-like insulating base material, and the etching is performed from one side of the metal foil. Often. For this reason, when observing the cross section of each lead, as shown in FIG. 7, as shown in FIG. 7, the etching resist side (hereinafter referred to as the front side according to the illustrated state) is narrow and the insulating base side (hereinafter referred to as the rear side according to the illustrated state) is wide. The shape must be trapezoidal. Therefore, in order to increase the density of each lead in order to cope with the increase in the density of electronic components, it is natural that the interval of each pitch must be reduced, and it is anticipated that the cross section of each lead will be as shown in FIG. In other words, since the bottom part of each lead is in a spread state, it is anticipated that it can be etched so as not to short-circuit
The width of the etching resist must be reduced.
【0006】以上の実状から、この種のフィルムキャリ
ア上のリードが高密度化すればする程、各リードに連続
しているインナーリードの表面側はより一層幅挾まなも
のとなるのであり、これに対する電子部品の実装は困難
になってきているのである。特に、折れ曲がり易い各イ
ンナーリードに折れ曲がりが実際にあると、これに対す
る電子部品の実装は殆んど不可能である。From the above situation, the higher the density of the leads on this type of film carrier, the more the surface side of the inner leads connected to each lead becomes narrower. It is becoming more difficult to mount electronic components on a computer. In particular, if there is a bend in each of the inner leads that is easily bendable, it is almost impossible to mount electronic components on the inner leads.
【0007】そこで、本発明者等は、リードが高密度化
されてきても、これと一体的なインナーリードを折れ曲
がり等に対して確実に保護して、これに対する電子部品
の実装を常に十分に行えるようにするにはどうしたらよ
いかについて種々検討を重ねてきた結果、本発明を完成
したのである。Therefore, the present inventors have found that even if the leads have been densified, the inner leads integral with the leads are surely protected against bending or the like, and the mounting of electronic components on them is always sufficient. The present invention was completed as a result of various studies on how to make it possible.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な経緯に基づいてなされたもので、その解決しようとす
る課題は、フィルムキャリアにおけるインナーリードの
確実な保護と、これに対する電子部品の実装の信頼性向
上である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made on the basis of the above circumstances, and the problem to be solved is to reliably protect the inner leads in the film carrier and to prevent the electronic components from being protected. This is to improve the reliability of the mounting.
【0009】そして、本発明の目的とするところは、イ
ンナーリードを含むリードの保護を十分達成することが
できて、しかもこのインナーリードに対する電子部品の
電気的接続を常に確実に行うことのできる電子部品搭載
用フィルムキャリアを簡単な構成によって提供すること
にある。An object of the present invention is to provide an electronic device which can sufficiently protect leads including inner leads, and can always surely make an electrical connection of electronic components to the inner leads. An object of the present invention is to provide a component mounting film carrier with a simple configuration.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
めに、本発明の採った手段は、実施例において使用する
符号を付して説明すると、「フィルム状の絶縁基材11
に電子部品20のためのデバイス穴12を形成し、絶縁
基材11上に一端がデバイス穴12側に突出する多数の
リード13を形成して、これら各リード13の一端を電
子部品20との電気的接続を行うインナーリード14と
した電子部品搭載用フィルムキャリア10において、各
リード13の主としてインナーリード14間及びその表
面に絶縁被膜15を形成するとともに、デバイス穴12
側に突出するインナーリード14の裏面にメッキ層16
を形成したことを特徴とする電子部品搭載用フィルムキ
ャリア10」である。In order to solve the above problems, the means adopted by the present invention will be described with reference to the reference numerals used in the embodiments.
A device hole 12 for an electronic component 20 is formed on the insulating substrate 11, a number of leads 13 having one end protruding toward the device hole 12 are formed, and one end of each of the leads 13 is connected to the electronic component 20. In the electronic component mounting film carrier 10 serving as the inner leads 14 for making electrical connection, the insulating coating 15 is formed mainly between the inner leads 14 of the respective leads 13 and on the surface thereof.
Plating layer 16 on the back surface of the inner lead 14
And a film carrier 10 for mounting an electronic component.
【0011】[0011]
【発明の作用】以上のように構成した電子部品搭載用フ
ィルムキャリア10(以下単にフィルムキャリア10と
いう)の作用について説明すると、次の通りである。The operation of the electronic component mounting film carrier 10 (hereinafter simply referred to as the film carrier 10) constructed as described above will be described as follows.
【0012】まず、このフィルムキャリア10を構成す
るフィルム状の絶縁基材11上に形成された各リード1
3は、図1及び図2に示すように、その一端が絶縁基材
11のデバイス穴12に向けて突出させてあってこれが
インナーリード14となっているが、このインナーリー
ド14及びこれに連なる部分のリード13はその表面側
に形成した絶縁被膜15によって保護されている。すな
わち、絶縁被膜15が、図1及び図6の(ト)に示すよ
うに、各インナーリード14が対向する部分で連なった
ものであっても、また図5の(チ)に示すように分断さ
れたものであっても、いずれの場合も、絶縁被膜15
は、各インナーリード14及びこれに連なる部分のリー
ド13を、図3及び図4に示すように、包み込んでいる
のである。First, each lead 1 formed on a film-shaped insulating base material 11 constituting the film carrier 10 is formed.
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, reference numeral 3 denotes an inner lead 14 having one end protruding toward a device hole 12 of an insulating base material 11 and serving as an inner lead 14. Part of the lead 13 is protected by an insulating film 15 formed on the surface side. That is, even if the insulating film 15 is continuous at the portion where the inner leads 14 face each other as shown in FIG. 1 and FIG. 6 (g), it is also divided as shown in FIG. 5 (h). In any case, the insulating coating 15
In FIG. 3, the inner leads 14 and the leads 13 connected to the inner leads 14 are wrapped as shown in FIGS.
【0013】従って、特に各インナーリード14は、図
4に示したように、その間及び表面側に絶縁被膜15が
存在していることによって、その折れ曲がりが防止され
ているのであり、外気やその中に含まれる湿気等から隔
離されているのである。また、各リード13において
は、図3に示したように、その全表面が絶縁被膜15と
絶縁基材11とによって囲まれているから、外気等から
十分隔離されているだけでなく、例えば絶縁被膜15上
に電気的接続のためのハンダが付着したとしても、各リ
ード13がショートすることはない。Therefore, in particular, as shown in FIG. 4, each inner lead 14 is prevented from being bent by the presence of the insulating coating 15 between and on the surface side, so that the outer air and the inner air can be prevented from being bent. It is isolated from the moisture and the like contained in. Further, as shown in FIG. 3, the entire surface of each lead 13 is surrounded by the insulating coating 15 and the insulating base material 11, so that not only is it sufficiently isolated from the outside air and the like, Even if solder for electrical connection adheres to the coating 15, each lead 13 does not short-circuit.
【0014】また、各インナーリード14においては、
図4に示したように、その裏面側に電子部品20の接続
端子21に対する接続を行うためのメッキ層16が形成
してあるから、各インナーリード14間の間隔が小さく
なっても、つまり各リード13の高密度化がなされたと
しても、各インナーリード14に対する電子部品20の
実装は確実に行えるものとなっているのである。換言す
れば、本発明に係るフィルムキャリア10においては、
各インナーリード14の表面側よりも幅広な裏面側を電
子部品20に対する接続面としているので、各インナー
リード14の電子部品20に対する電気的接続がより確
実に行えるものとなっているのである。In each inner lead 14,
As shown in FIG. 4, the plating layer 16 for connecting the electronic component 20 to the connection terminal 21 is formed on the back surface side. Therefore, even if the interval between the inner leads 14 becomes small, Even if the density of the leads 13 is increased, the mounting of the electronic component 20 on each of the inner leads 14 can be surely performed. In other words, in the film carrier 10 according to the present invention,
Since the back surface wider than the front surface of each inner lead 14 is used as the connection surface for the electronic component 20, the electrical connection of each inner lead 14 to the electronic component 20 can be performed more reliably.
【0015】[0015]
【実施例】次に、本発明に係るフィルムキャリア10
を、図面に示した各実施例に従って、その製造方法をも
加味しながら説明する。Next, a film carrier 10 according to the present invention will be described.
Will be described in accordance with each embodiment shown in the drawings while also taking into account its manufacturing method.
【0016】まず、このフィルムキャリア10は、図1
〜図4に示すように、フィルム状の絶縁基材11を基に
して、この絶縁基材11を各電子部品20のための個片
状のものとすべく、図1の切断線19にて切断した場合
に略中央部となるデバイス穴12を絶縁基材11に形成
したものである。そして、このような絶縁基材11の表
面側に、一端にデバイス穴12側に突出するインナーリ
ード14を有した多数のリード13を形成して、さらに
少なくとも各インナーリード14の間及び表面側を被覆
する絶縁被膜15を形成したものである。なお、各リー
ド13の外端側は、図1に示した実施例のものの場合、
絶縁基材11のデバイス穴12を囲む外周部分に形成し
た開口18上に橋架されるものであり、これを図1の切
断線19にて切断することにより、当該フィルムキャリ
ア10に電子部品20を実装して樹脂封止した後に、こ
の封止樹脂の外方に突出するアウターリード17とする
ものである。First, the film carrier 10 shown in FIG.
As shown in FIG. 4 to FIG. 4, based on the film-shaped insulating base material 11, the insulating base material 11 is cut along a cutting line 19 in FIG. A device hole 12 which becomes a substantially central portion when cut is formed in the insulating base material 11. A large number of leads 13 having inner leads 14 projecting toward the device hole 12 at one end are formed on the surface side of the insulating base material 11, and at least the space between the inner leads 14 and the surface side are formed. The insulating film 15 to be coated is formed. Incidentally, the outer end side of each lead 13 is in the case of the embodiment shown in FIG.
The electronic component 20 is bridged on an opening 18 formed in an outer peripheral portion surrounding the device hole 12 of the insulating base material 11 and cut along a cutting line 19 in FIG. After mounting and resin sealing, the outer leads 17 project outward from the sealing resin.
【0017】尚、切断線19は開口18の外側近傍とし
てもよく、すなわち個片化されたフィルムキャリア10
の外周に絶縁基材11が残るようにしてもよいのであ
る。The cutting line 19 may be located near the outside of the opening 18, that is, the individualized film carrier 10
The insulating base material 11 may be left on the outer periphery of.
【0018】(実施例1)図5は、その(チ)に示すよ
うに、各インナーリード14の対向する部分が絶縁基材
11によってつながっていないフィルムキャリア10の
製造工程を順に追って示すものであり、このようなフィ
ルムキャリア10の製造方法を順に説明する。(Embodiment 1) FIGS. 5A and 5B sequentially show a manufacturing process of a film carrier 10 in which opposing portions of each inner lead 14 are not connected by an insulating base material 11 as shown in FIG. Yes, a method for manufacturing such a film carrier 10 will be described in order.
【0019】まず、図5の(イ)に示すように、その表
面側に接着剤を塗布したフィルム状の絶縁基材11の所
定位置に電子部品20を十分収納できる程度の大きさの
デバイス穴12や開口18等をパンチング加工等の手段
によって形成しリード13となるべき金属箔13aを一
体化する。なお、この工程及び以下の工程は、フィルム
状の絶縁基材11をリールに巻き付けあるいは巻き戻し
を行いながら連続的に行われるものである。First, as shown in FIG. 5A, a device hole large enough to accommodate the electronic component 20 at a predetermined position of the film-like insulating base material 11 coated with an adhesive on the surface side. The metal foil 13a to be the lead 13 is integrated by forming the openings 12, the openings 18 and the like by means such as punching. Note that this step and the following steps are performed continuously while winding or unwinding the film-shaped insulating base material 11 on a reel.
【0020】次に、図5の(ロ)に示すように、ハンダ
レジスト31を金属箔13aの表面にのみ形成してか
ら、図5の(ハ)に示すように、デバイス穴12内に露
出している金属箔13aの裏面にハンダメッキ30を形
成する。その後に、ハンダレジスト31を除去して、金
属箔13aの表面に所定パターンのエッチングレジスト
13bを図5の(ニ)に示すように形成する。このエッ
チングレジスト13bを利用して金属箔13aをエッチ
ングすることにより、図5の(ホ)に示すように、イン
ナーリード14をデバイス穴12側に突出させた状態の
リード13が形成されるのである。この場合、金属箔1
3aのデバイス穴12に対向する部分はハンダメッキ3
0によって被覆されているから、この部分が金属箔13
aのエッチング液によってエッチングされることはな
く、このようにするためにハンダメッキ30を存在させ
てあるのである。Next, as shown in FIG. 5B, a solder resist 31 is formed only on the surface of the metal foil 13a, and then exposed in the device hole 12 as shown in FIG. A solder plating 30 is formed on the back surface of the metal foil 13a. Thereafter, the solder resist 31 is removed, and an etching resist 13b having a predetermined pattern is formed on the surface of the metal foil 13a as shown in FIG. By etching the metal foil 13a using the etching resist 13b, the leads 13 are formed with the inner leads 14 protruding toward the device holes 12, as shown in FIG. . In this case, the metal foil 1
3a is solder plated 3
0 is covered with the metal foil 13
The etching is not performed by the etching solution a, and the solder plating 30 is provided for this purpose.
【0021】そして、図5の(ヘ)に示すように、少な
くとも各インナーリード14間及びその上面を被覆する
ように、絶縁被膜15を形成するのである。このとき、
絶縁被膜15の形成は、同図(ヘ)の(i)または(i
i)のいずれの方法を採用してもよいが、本実施例にお
いては(i)に示した方法、すなわち各インナーリード
14の互いに対向する端面にも絶縁被膜15を形成する
ようにしている。(ii)の場合は、各インナーリード
14の互いに対向する端面間を絶縁被膜15によって連
続させるものであり、例えば図1に示すように、デバイ
ス穴12上を絶縁被膜15によって完全に被覆したい場
合に採用される方法である。なお、本実施例における絶
縁被膜15の具体的材料は、ポリイミド樹脂である。Then, as shown in FIG. 5F, the insulating film 15 is formed so as to cover at least the space between the inner leads 14 and the upper surface thereof. At this time,
The formation of the insulating film 15 is performed by (i) or (i) in FIG.
Although any of the methods i) may be adopted, in the present embodiment, the method shown in the method (i), that is, the insulating coating 15 is formed on the end faces of the inner leads 14 facing each other. In the case of (ii), the end faces of the inner leads 14 facing each other are made continuous with the insulating coating 15. For example, as shown in FIG. 1, when it is desired to completely cover the device hole 12 with the insulating coating 15. This is the method that is adopted. The specific material of the insulating coating 15 in this embodiment is a polyimide resin.
【0022】その後、図5の(ト)に示すようにハンダ
メッキ30を剥離し、図5の(チ)に示すように、絶縁
被膜15と絶縁基材11とを言わばメッキレジストとし
ながら、各インナーリード14の裏面側に、スズ等によ
るメッキ層16を形成するのである。Thereafter, as shown in FIG. 5G, the solder plating 30 is peeled off, and as shown in FIG. 5H, each of the insulating coating 15 and the insulating base material 11 is formed as a plating resist. The plating layer 16 made of tin or the like is formed on the back surface of the inner lead 14.
【0023】なお、以上のようなメッキ層16の形成後
は、前述したように、図1の切断線19にて切断するこ
とにより、個片状のフィルムキャリア10が取り出され
るのである。After the formation of the plating layer 16 as described above, the individual film carrier 10 is taken out by cutting along the cutting line 19 in FIG. 1 as described above.
【0024】(実施例2)図6は、本発明に係るフィル
ムキャリア10の製造方法の二番目の実施例を示すもの
であり、この方法においては、電子部品20のためのデ
バイス穴12が最終段階において形成されるものであ
る。(Embodiment 2) FIG. 6 shows a second embodiment of the method of manufacturing the film carrier 10 according to the present invention. In this method, the device hole 12 for the electronic component 20 is finally formed. It is formed in stages.
【0025】すなわち、この製造方法においては、フィ
ルム状の絶縁基材11の表面に形成し(図6の(イ))
た金属箔13aを、エッチングレジストを利用した常法
によってエッチングすることにより、所望のリード13
を形成する(図6の(ロ))。その後に、同図(ハ)に
示すように、ポリイミドからなる絶縁被膜15を形成
し、同図(ニ)に示すようにこの絶縁被膜15及び絶縁
基材11を保護するためのレジスト13bを両面全体に
形成する。そして、図示下側に位置するレジスト13b
の、デバイス穴12が形成されるべき部分に開口を形成
し(同図(ホ))、この開口を通して絶縁基材11をエ
ッチングすることにより、絶縁基材11にデバイス穴1
2を形成するのである(同図(ヘ))。That is, in this manufacturing method, the film is formed on the surface of the insulating substrate 11 in the form of a film (FIG. 6A).
The metal lead 13a is etched by an ordinary method using an etching resist to obtain desired leads 13a.
Is formed ((b) in FIG. 6). Thereafter, as shown in FIG. 4C, an insulating film 15 made of polyimide is formed, and as shown in FIG. 4D, a resist 13b for protecting the insulating film 15 and the insulating base material 11 is coated on both sides. Formed all over. Then, the resist 13b located on the lower side in the figure
An opening is formed in a portion where the device hole 12 is to be formed (FIG. 5E), and the insulating substrate 11 is etched through the opening, so that the device hole 1 is
2 is formed (FIG. 6F).
【0026】最後に、デバイス穴12から露出した各イ
ンナーリード14の裏面に、図6の(ト)に示すよう
に、スズ等からなるメッキ層16を形成するのである。Finally, a plating layer 16 made of tin or the like is formed on the back surface of each inner lead 14 exposed from the device hole 12, as shown in FIG.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明においては、
上記各実施例にて例示した如く、「フィルム状の絶縁基
材11に電子部品20のためのデバイス穴12を形成
し、絶縁基材11上に一端がデバイス穴12側に突出す
る多数のリード13を形成して、これら各リード13の
一端を電子部品20との電気的接続を行うインナーリー
ド14とした電子部品搭載用フィルムキャリア10にお
いて、各リード13の主としてインナーリード14間及
びその表面に絶縁被膜15を形成するとともに、デバイ
ス穴12側に突出するインナーリード14の裏面にメッ
キ層16を形成した」ことにその特徴があり、これによ
り、インナーリードを含むリードの折れ曲がり等に対し
て保護を十分達成することができて、しかもこのインナ
ーリードに対する電子部品の電気的接続を常に確実に行
うことのできる電子部品搭載用フィルムキャリアを簡単
な構成によって提供することができるのである。As described in detail above, in the present invention,
As exemplified in each of the above-described embodiments, “a large number of leads each having a device hole 12 for an electronic component 20 formed in a film-shaped insulating base 11 and one end protruding toward the device hole 12 on the insulating base 11. In the electronic component mounting film carrier 10 in which one end of each of the leads 13 is formed as an inner lead 14 for making an electrical connection with the electronic component 20, the lead 13 is mainly provided between the inner leads 14 and on the surface thereof. In addition to the formation of the insulating film 15, the plating layer 16 is formed on the back surface of the inner lead 14 protruding toward the device hole 12 ", whereby the lead including the inner lead is protected from bending. That can sufficiently achieve the electrical connection of the electronic component to the inner lead at all times. It is possible to provide a goods mounting the film carrier with a simple configuration.
【0028】すなわち、本発明に係るフィルムキャリア
10によれば、特に各インナーリード14の幅広な面を
有効に利用しているから、電子部品20の接続端子21
に対する電気的接続を確実に行うことができるととも
に、その接続のための位置決めも容易に行うことができ
るのである。勿論、各インナーリード14は、その間及
び表面側に形成した絶縁被膜15によって互いに位置を
変えないよう保持されているとともに、外気等から十分
保護されているから、当該フィルムキャリア10に電子
部品20を実装して全体を樹脂封止するまでの間の各イ
ンナーリード14及びリード13への外部応力等に対す
る保護が十分行うことができるのである。That is, according to the film carrier 10 of the present invention, since the wide surface of each inner lead 14 is effectively used, the connection terminals 21 of the electronic component 20 are particularly effective.
Electrical connection to the device can be reliably performed, and positioning for the connection can be easily performed. Of course, the respective inner leads 14 are held so as not to be displaced from each other by the insulating coating 15 formed therebetween and on the surface side, and are sufficiently protected from the outside air or the like. Thus, the inner leads 14 and the leads 13 can be sufficiently protected from external stress and the like until the entire structure is sealed with resin.
【図1】本発明に係るフィルム状の絶縁基材の拡大平面
図である。FIG. 1 is an enlarged plan view of a film-shaped insulating substrate according to the present invention.
【図2】図1の1線部の部分拡大断面図である。FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view taken along line 1 of FIG.
【図3】図2の2−2線に沿ったみたフィルムキャリア
の部分拡大断面図である。FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of the film carrier, taken along line 2-2 of FIG. 2;
【図4】図2の3−3線に沿ってみたフィルムキャリア
の部分拡大断面図である。FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view of the film carrier taken along line 3-3 in FIG.
【図5】本発明に係るフィルムキャリアを製造する第一
方法を示す部分拡大断面図である。FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view showing a first method of manufacturing a film carrier according to the present invention.
【図6】本発明に係るフィルムキャリアを製造する第二
方法を示す部分拡大断面図である。FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view showing a second method of manufacturing a film carrier according to the present invention.
【図7】金属箔をエッチングしてリードを形成する場合
の状態を示した部分拡大断面図である。FIG. 7 is a partially enlarged sectional view showing a state in which leads are formed by etching a metal foil.
10 電子部品搭載用フィルムキャリア 11 フィルム状の絶縁基材 12 デバイス穴 13 リード 14 インナーリード 15 絶縁被膜 16 メッキ層 20 電子部品 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Film carrier for electronic component mounting 11 Film-shaped insulating base material 12 Device hole 13 Lead 14 Inner lead 15 Insulating coating 16 Plating layer 20 Electronic component
Claims (1)
のデバイス穴を形成し、前記絶縁基材上に一端が前記デ
バイス穴側に突出する多数のリードを形成して、これら
各リードの前記一端を前記電子部品との電気的接続を行
うインナーリードとした電子部品搭載用フィルムキャリ
アにおいて、前記各リードの主としてインナーリード間
及びその表面に絶縁被膜を形成するとともに、前記デバ
イス穴側に突出するインナーリードの裏面にメッキ層を
形成したことを特徴とする電子部品搭載用フィルムキャ
リア。1. A device hole for an electronic component is formed in a film-like insulating base material, and a large number of leads having one end protruding toward the device hole side are formed on the insulating base material. In the electronic component mounting film carrier, one end of which is an inner lead for making an electrical connection with the electronic component, an insulating film is formed mainly between the inner leads and on the surface of each of the leads, and the lead protrudes toward the device hole. A film carrier for mounting electronic components, wherein a plating layer is formed on the back surface of the inner lead.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP3153410A JP2976060B2 (en) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | Film carrier for mounting electronic components |
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JP3153410A JP2976060B2 (en) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | Film carrier for mounting electronic components |
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JPH053226A JPH053226A (en) | 1993-01-08 |
JP2976060B2 true JP2976060B2 (en) | 1999-11-10 |
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ID=15561882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP3153410A Expired - Lifetime JP2976060B2 (en) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | Film carrier for mounting electronic components |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2976060B2 (en) |
-
1991
- 1991-06-25 JP JP3153410A patent/JP2976060B2/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
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JPH053226A (en) | 1993-01-08 |
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