JP2969482B2 - フッ化ポリキノキサリン、フッ化テトラアミン芳香族からのそれらの製造方法、およびそれらの適用方法 - Google Patents

フッ化ポリキノキサリン、フッ化テトラアミン芳香族からのそれらの製造方法、およびそれらの適用方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、以下に定義される一般
式（Ｉ）の反復単位を有するフッ化ポリアリールキノキ
サリンに関する。本発明はまた、テトラケトン芳香族お
よびフッ化ビスオルトジアミン芳香族からの、以下に定
義される一般式（Ｉ）のフッ化ポリアリールキノキサリ
ンの製造方法を対象とする。本発明はまた、以下に定義
される一般式（Ｉ）のフッ化ポリアリールキノキサリン
の電気工業および電子工業の分野における使用方法、よ
り詳しくは非常に高い熱安定性を有し、かつ水吸収容量
の小さい、比誘電率の低い誘電層を形成するための、こ
れらの生成物の使用方法を対象とする。
【０００２】本発明のもう１つの対象は、フッ化ポリア
リールキノキサリンの製造方法であって、これらの物質
は、以下に定義される一般式(III) のビス−（アルファ
−ジケトン）芳香族と、特別な方法によって2,2 −ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパ
ンから得られる、以下に定義される式(II)のフッ化ビス
−（オルト−ジアミン）芳香族との反応の結果生じる方
法に関する。
【０００３】
【従来技術および解決すべき課題】ポリフェニルキノキ
サリンは、多くの場合、略してPPQ と呼ばれるが、これ
らは、文献に非常に広範囲に記載されている、熱安定な
有機ポリマー類(classe)をなす。これらのポリマーに関
する第一の論文は、P.M. Hergenrother およびLevineに
よって、J. Polym. Sci. A-1, 5,1453 頁(1967 年）に
掲載され、特許US-A-3,766,141が、1973年に発行され
た。この型のポリマーについての研究に関する比較的詳
細な論文が２つあり、一方は1971年にP.M.Hergenrother
によって、J.Macromolecular Science, Reviews in Ma
cromolecular Chemistry, C6(1), 1-28 頁において、も
う一方は1984年にYe. S. Krongauz によって、Polymer
Science USSR, 26(2), 245-262頁において掲載された。
【０００４】PPQ は、そのうちの大部分が、優れた誘電
性と非常に良好な熱安定性を有するポリマーである。こ
れによって電気工業および電子工業において、とくに絶
縁体としてのそれらの使用を考えることができる。これ
らのPPQ は、特に集積回路の製造における電気絶縁体の
製造に用いられうる。このような化合物の例として、3,
3'−ジアミノベンジジンと1,4 −ビス−（フェニルグリ
オキシロイル）ベンゼン（または1,3 −体）（これの比
誘電率は、2.7 程度であり、誘電損失角の正接tgδは10
−４程度である）との縮合によって得られるPPQ が挙げ
られる。
【０００５】しかしながら現在の技術の状態では、工業
段階または前工業段階において開発され、かつ電気工業
および電子工業における電気絶縁体としての使用を考え
うるのに十分な誘電性に恵まれたPPQ は、それらのうち
大部分が、これらの工業において最も一般的に用いられ
る溶媒中に不溶であり、特にアミド型の溶媒中に不溶で
ある。これらのPPQ は通常、いくつかの特別な溶媒、例
えばクレゾール型の溶媒、またはクレゾール型の溶媒を
含む溶媒混合物中にしか溶解しない。このことによっ
て、この型の溶媒の特性（特に酸性度およびにおい）を
考慮に入れると、この適用の場合には、これらのポリマ
ーのあらゆる重要な開発が大巾に制限されるか、あるい
は除外されさえする。
【０００６】数年前から、電子工業によって許容される
様々な溶媒、特にアミド型の溶媒中に可溶な新規PPQ を
得るための研究が企てられている。考えられた解決法の
１つは、例えばHedrick およびLabadie が、1988年にMa
cromolecules 21 (6), 1883 頁に掲載された論文、およ
びPolym. Mater. Sci. Eng. 59, 42-45 頁に記載してい
るように、エーテル型の柔軟化基を高分子の骨格内に導
入することである。同様に、比較的最近、数人の研究者
によって提案されたもう１つの解決法は、高分子鎖内
で、キノキサリン環およびイミド環を交互にすることで
ある。例えばこれは、Hedrick らが、Polymer preprint
s 1988年, (2) 400 頁に、あるいはKorshak らが、Acta
Polymerica 1988年, 39(8), 413頁に記載したようなも
のである。鎖の構造のこれらの変更によって、特にＮ−
メチル−ピロリドン中に可溶なPPQ を得ることができ
る。しかしながらこれは、誘電性、熱安定性、およびポ
リマーの水再吸収容量を犠牲にしてである。この水再吸
収容量は、著しく増加する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
（Ｉ）で表わされる反復単位を有するフッ化ポリアリー
ルキノキサリンに関するものである。
【０００８】
【化３】
【０００９】（式中、Arは、1,3 −フェニレンまたは1,
4 −フェニレン基を表わす）。
【００１０】これらの化合物は、驚くべきことに、非常
に良好な誘電性、良好な熱安定性および工業において許
容しうる限度内に留まる水再吸収容量を保持しつつ、様
々な有機溶媒、特にアミド型溶媒、例えばＮ−メチル−
ピロリドンおよびジメチルフォルムアミドへの良好な溶
解性を有する。
【００１１】本発明のフッ化ポリアリールキノキサリン
は、重縮合度が、通常、約２〜約100 、最も多くの場
合、約５〜約50である。
【００１２】これらの化合物は、メタ−クレゾール（ｍ
−クレゾール）、アミド型溶媒、およびいくつかの炭化
水素溶媒、例えば塩化炭化水素、例えばクロロベンゼン
またはクロロフォルム、または熱トルエン、あるいはさ
らにはピリジン中、および熱ベンジルアルコールへの溶
解性が良好である。
【００１３】本発明のフッ化ポリアリールキノキサリン
は、従来の方法で得られた生成物であり、これらは一般
式（II）：
【００１４】
【化４】
【００１５】で表わされるフッ化ビス−（オルト−ジア
ミン）芳香族と、一般式（III)：
【００１６】
【化５】
【００１７】（式中Arは、1,3 −フェニレン基または1,
4 −フェニレン基を表わす）で表わされる、少なくとも
１つのビス−（アルファ−ジケトン）芳香族との反応の
結果生じる。
【００１８】反応は、有機溶媒の不存在下、例えば通
常、温度約100 〜約450 ℃での化合物の融解によって、
あるいは有機溶媒、例えばフェノール、ｍ−クレゾー
ル、クロロフェノール、1,1,2,2 −テトラクロロエタ
ン、クロロフォルムまたはベンジルアルコール中溶液と
して、より中程度の温度、例えば０〜約120 ℃、最も多
くの場合は20〜約80℃において実施されてもよい。用い
るのが好ましい溶媒は、ｍ−クレゾールである。同様
に、溶媒混合物、例えばｍ−クレゾール−キシレン混合
物を用いてもよい。
【００１９】本発明の対象のフッ化ポリアリールキノキ
サリンを得るための、少なくとも１つのケトンと、フッ
化アミンとの反応は、好ましくは有機溶媒中で、ケトン
／アミンモル比が約1:1 〜約1.1:1 、最も多くの場合約
1:1 〜約1.05:1であるような生成物の量を用いて実施さ
れる。このケトン／アミン比は、ほとんど常に化学量論
比に非常に近くなるように選ばれる。
【００２０】反応時間は、通常、約２時間〜約48時間で
あり、最も多くの場合、約４時間〜約24時間である。
【００２１】本発明のポリアリールキノキサリンの製造
のための出発物質として用いられる、一般式（II）のフ
ッ化ビス−（オルト−ジアミン）芳香族は、いくつかの
合成方法が文献に記載されている化合物である。ヘキス
ト(HOECHST) 名義の欧州特許出願EP-A-297570 は、特
に、この2,2 −ビス−（3,4 −ジアミノフェニル）−ヘ
キサフルオロプロパンの製造方法について記載してい
る。このフッ化テトラアミンのもう１つの合成方法につ
いては、より正確に下記の実施例に記載する。
【００２２】本発明はまた、前記の一般式（III)のビス
−（アルファ−ジケトン）芳香族と、下記工程からなる
方法によって、2,2 −ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−ヘキサフルオロプロパンから得られる2,2 −ビス
−（3,4 −ジアミノフェニル）−ヘキサフルオロプロパ
ンとの反応の結果生じる生成物としての、フッ化ポリア
リールキノキサリンをも対象とする： (a) 有機溶媒中において、窒素化有機塩基の存在下、過
剰の無水トリフルオロメタンスルフォン酸と、2,2 −ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘキサフルオロプロ
パン（ビスフェノールAF）との反応によって、2,2 −ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘキサフルオロプロ
パンのトリフルオロメタンスルフォン酸ジエステルを形
成する工程、 (b) 硫酸と硝酸の混酸によって、工程(a) で得られたジ
エステルのジニトロ化を実施する工程、 (c) 有機溶媒中で、工程(b) で得られた化合物とジベン
ジルアミンとの反応によって、工程(b) で得られたジニ
トロ−ジエステル化合物を、ジニトロ−ジ第三アミン化
合物に転換する工程、および (d) アミン官能基によってもたらされる２つの基の水素
化分解と、工程(c) で得られた生成物のニトロ基の水素
化とを同時に実施して、2,2 −ビス−（3,4 −ジアミノ
フェニル）−ヘキサフルオロプロパンを形成するように
する工程。
【００２３】フッ化テトラアミンの製造方法の工程(a)
で用いられた窒素化有機塩基として、非限定的に、複素
環式窒素化有機塩基、例えば最も従来のものしか挙げな
いが、ピリジンおよびルチジンを挙げることができる。
この工程で用いられる有機溶媒の選択は、通常、臨界的
ではない。通常、無水トリフルオロメタンスルフォン
酸、窒素化有機塩基、および2,2 −ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン（しばしばビ
スフェノールAFまたはビスフェノール6Fと呼ばれるも
の）を溶解できる溶媒を用いる。最も一般的に用いられ
る溶媒は、塩化炭化水素であり、例えばジクロロメタン
を挙げることができる。得られた生成物は、好ましくは
従来の方法で、例えば酸、最も多くの場合無機酸で希釈
された水溶液による処理後、有機溶媒による抽出、酸性
水溶液による洗浄、ついで水での洗浄、および有機溶媒
の蒸発、ついで場合によっては再結晶化によって単離さ
れる。
【００２４】工程(b) において、工程(a) において得ら
れた生成物のジニトロ化は、従来の方法で、硫酸と硝酸
の混酸によって実施される。
【００２５】工程(c) において、工程(b) において得ら
れたジニトロ−ジエステルは、有機溶媒、最も多くの場
合エーテル、好ましくは複素環式エーテル、例えばテト
ラヒドロフランまたはジオキサン中での、この化合物と
ジベンジルアミンとの反応によって、ジニトロ−ジ第三
アミノ化合物に転換される。ついで所望の生成物は、従
来の方法によって単離される。これは、例えば酸性水溶
液によって沈澱され、ついで有機溶媒、例えばエーテ
ル、例えばエチルエーテルによって抽出され、最後に有
機溶媒の蒸発によって得られる。
【００２６】工程(d) において、アミン官能基によって
もたらされる２つの基の水素化分解と、工程(c) におい
て得られた生成物のニトロ基の水素化とを同時に実施し
て、2,2 −ビス−（3,4 −ジアミノフェニル）−ヘキサ
フルオロプロパンを形成するようにする。この反応は、
通常、水素によって、加圧下、触媒例えば担体上のパラ
ジウム、特に炭素上のパラジウム触媒の存在下、場合に
よっては小さい割合の水を含む、アルコール、例えばエ
タノール中への、工程(c) において得られた生成物の懸
濁によって実施される。
【００２７】
【実施例】下記の実施例は本発明を例証するが、その範
囲を限定するものではない。実施例１は、本発明のフッ
化ポリフェニルキノキサリンの合成に用いられる出発フ
ッ化アミンの合成に関する。実施例２および３は比較例
として挙げられている。
【００２８】実施例１：2,2 −ビス−（3,4 −ジアミノ
フェニル）−ヘキサフルオロプロパンの製造工程(a) ：
ビスフェノールAFのトリフルオロメタンスルフォン酸ジ
エステルの合成無水トリフルオロメタンスルフォン酸10
0 ｇ（0.355 モル）を、アルゴン下、170 mlのジクロロ
メタンに溶解する。55ｇ（0.15モル）のビスフェノール
AFおよび250 mlの無水ピリジンの200 mlのジクロロメタ
ン中溶液を調製し、添加フラスコに入れる。無水トリフ
ルオロメタンスルフォン酸の溶液を−78℃で冷却し（ア
セトン−ドライアイス混合物）、一滴ずつ添加されたビ
スフェノールAFの溶液によって処理する。
【００２９】45分の添加後、溶液を１時間、低温（−78
℃）で攪拌し、ついでこれを周囲温度（22℃）に戻るま
まにする。さらに混合物を攪拌下、18時間、この温度に
放置する。ついでこの溶液を、５重量％の硫酸300 ml中
に注ぎ、ついでジクロロメタン60 ml で、３回、有機相
を抽出する。再び、５重量％の硫酸100 mlで２回洗浄
し、ついで水100 mlで、次に10重量％の炭酸水素ナトリ
ウム（ＮａＨＣＯ３）100 mlで、最後に水100 mlで洗浄
する。
【００３０】ジクロロメタンの蒸発後、ベージュ色のペ
ーストを回収する。これは硬化する。ヘキサン500 ml中
の再結晶化によって、実験式Ｃ１７Ｈ８Ｆ１２Ｏ６Ｓ２
の白い生成物86ｇ（収率＝95.4モル％）が生じる。これ
は、2,2 −ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘキサ
フルオロプロパンのトリフルオロメタンスルフォン酸ジ
エステルに対応する。これは、構造式(IV)：
【００３１】
【化６】
【００３２】で表わされ、98〜99℃で融解し、これの元
素分析の計算値および測定値は、下記のとおりである。
【００３３】 Ｃ Ｈ Ｆ Ｏ Ｓ 計算値(%) 34 1.33 38 16 10.66 測定値(%) 34.29 1.30 38.14 16.23 10.04 行程(b) ：ビスフェノールAFのトリフルオロメタンスル
フォン酸ジニトロ−ジエステルの合成濃縮硫酸330 ml中
の、工程(a) で得られた式（IV）の生成物43ｇ（7.17×
10− ２モル）を含む懸濁液に、発煙硝酸140 mlを添加す
る。溶液を100 ℃にし、３時間攪拌する。冷却および溶
液の１時間の放置後、結晶の形成が見られる。酸性溶液
を、水＋氷混合物中に注ぐ。ついで実験式Ｃ１７Ｈ６Ｆ
１２Ｎ２Ｏ１０Ｓ２の生成物の結晶48ｇを濾過する（収
率97モル％）。これは、2,2 −ビス−（３−ニトロ−４
−ヒドロキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパンのト
リフルオロメタンスルフォン酸ジエステルに対応する。
これは下記の構造式(VI)：
【００３４】
【化７】
【００３５】で表わされ、130 〜132 ℃で融解し、これ
の元素分析の計算値および測定値は下記のとおりであ
る。
【００３６】 Ｃ Ｈ Ｏ Ｎ Ｓ Ｆ 計算値(%) 29.56 0.87 23.19 4.058 9.27 33.04 測定値(%) 29.89 0.97 22.74 4.13 9.05 33.22 工程(c) ：2,2 −ビス−（３−ニトロ−４−ジベンジル
アミノフェニル）−ヘキサフルオロプロパンの合成テト
ラヒドロフラン140 ml中の、工程(b) で得られた式（V
I）の化合物49ｇ（0.071 モル）およびジベンジルアミ
ン70ｇ（0.355 モル）の溶液を、アルゴン下、45分間80
℃にする。次にこの溶液を、塩酸（1/3 酸＋2/3 水）１
リットル中に注ぐ。豊富な沈澱物が生じるが、これを濾
過する。
【００３７】沈澱物は、塩酸ジベンジルアミンと、所望
の有機物質からなる。これをエチルエーテルで抽出す
る。
【００３８】10重量％塩酸、ついで水での洗浄後、およ
び硫酸ナトリウムでの乾燥後、エーテル化相を回転蒸発
器に付すと油が生じ、これは冷却すると硬化する。
【００３９】この生成物にエタノールを添加して、細か
い粉末形態の生成物37ｇを結晶させる（収率67モル
％）。実験式Ｃ４３Ｈ３４Ｆ６Ｎ４Ｏ４のこの生成物
は、2,2 −ビス−（３−ニトロ−４−ジベンジルアミノ
フェニル）−ヘキサフルオロプロパンに対応する。これ
は下記の構造式(VII) ：
【００４０】
【化８】
【００４１】で表わされ、130 ℃で融解し、これの元素
分析の計算値および測定値は下記のとおりである。
【００４２】 Ｃ Ｈ Ｎ Ｏ Ｆ 計算値(%) 65.82 4.33 7.14 8.16 14.54 測定値(%) 64.20 4.28 6.73 9.26 15.53 工程(d) ：2,2 −ビス−（3,4 −ジアミノフェニル）−
ヘキサフルオロプロパンの合成アルゴンパージされた、
２リットルのステンレス製反応器に、工程(c) で得られ
た式(VII) の生成物35ｇ（0.044 モル）、水／エタノー
ル混合物（1/1 容量）10 ml 中懸濁液の炭上パラジウム
3.5 ｇ（パラジウム５重量％）、およびエタノール600
mlを導入する。
【００４３】ついで、３MPa の圧力下、水素を導入す
る。
【００４４】溶液の温度は18℃である。この温度で４時
間攪拌する。0.5 MPa の水素圧の低下が見られる。つい
でさらに２時間、溶液を40℃にする。反応の６時間経過
時に、全圧の低下は0.75 MPaであり、これはもう増加し
ない。溶液を水素下、１晩（16時間）放置する。ついで
触媒をアルゴン下濾過する。回収されたエタノール溶液
を蒸発する。油が得られ、これは硬化する。クロロベン
ゼン中での再結晶化後、実験式Ｃ１５Ｈ１４Ｆ６Ｎ４の
生成物の粉末を回収する（収率65モル％）。これは、2,
2 −ビス−（3,4 −ジアミノフェニル）−ヘキサフルオ
ロプロパンに対応する。これは下記の構造式(II)：
【００４５】
【化９】
【００４６】で表わされ、214 ℃で融解し、これの元素
分析の計算値および測定値は下記のとおりである。
【００４７】 実施例２：本発明に合致しないポリフェニルキノキサリ
ンの製造攪拌機を備えた２リットルのフラスコに、ｍ−
クレゾール0.6 リットルと、キシレン0.6 リットルを導
入する。ついで3,3'−ジアミノベンジジン85.60 ｇ（0.
4 モル）、ついで1,4 −ビス−（フェニルグリオキシロ
イル）ベンゼン137.48ｇ（0.402 モル）を連続的に添加
する。すなわちケトン／アミンモル比が、1.005 であ
る。フラスコ内の反応体の濃度は、20重量％である。混
合物を、３時間周囲温度で、ついで２時間60℃で攪拌す
る。得られたポリマーは、下記表ＩおよびIIに挙げられ
た特性を有する。出発ベンジジンは市販品であり、ケト
ンは、本出願人名義のフランス特許FR-B-2457274に記載
された方法によって、または特許US-A-3829497に記載さ
れた方法によって、あるいはさらにはP.M. Hergenrothe
r によって、Macromolecules 11 巻、２号、1978年、33
2 〜339 頁に記載された方法によって調製されうる。
【００４８】実施例３：本発明に合致しないポリフェニ
ルキノキサリンの製造実施例２と同じ条件下で操作を行
なうが、出発物質として、3,3'−ジアミノベンジジンの
代わりに、ビス−（3,4 −ジアミノフェニル）エーテル
を用いる。得られたポリマーは、下記表ＩおよびIIに挙
げられた特性を有する。
【００４９】実施例４：本発明に合致したポリフェニル
キノキサリンの製造攪拌機を備えた２リットルのフラス
コに、メタクレゾール1.2 リットルを導入する。ついで
2,2 −ビス−（3,4 −ジアミノフェニル）−ヘキサフル
オロプロパン127.4 ｇ（0.35モル）、ついで1,4 −ビス
（フェニルグリオキシロイル）ベンゼン122.09ｇ（0.35
6 モル）を連続的に添加する。すなわちケトン／アミン
モル比は、1.02である。フラスコ内の反応体の濃度は、
20重量％である。混合物を、３時間、周囲温度で、つい
で２時間60℃で攪拌する。得られたポリマーは、下記表
ＩおよびIIに挙げられた特性を有する。
【００５０】元素分析の計算値および測定値は、このポ
リマーの構造を確認する。
【００５１】 実施例５：本発明に合致したポリフェニルキノキサリン
の製造攪拌機を備えた２リットルのフラスコに、メタク
レゾール1.2 リットルを導入する。ついで2,2 −ビス−
（3,4 −ジアミノフェニル）−ヘキサフルオロプロパン
127.4 ｇ（0.35モル）、ついで1,3 −ビス−（フェニル
グリオキシロイル）ベンゼン122.09ｇ（0.356 モル）を
連続的に添加する。すなわちケトン／アミンモル比は、
1.02である。フラスコ内の反応体の濃度は、20重量％で
ある。混合物を、３時間周囲温度で、ついで２時間60℃
で攪拌する。ケトンは、本出願人名義のフランス特許FR
-B-2457274に記載された方法に従って、あるいはP.M. H
ergenrother によって、Macromolecules第11巻、２号、
1978年、332 〜339 頁に記載された方法に従って製造し
てもよい。得られたポリマーは、下記表ＩおよびIIに挙
げられた特性を有する。
【００５２】元素分析の計算値および測定値は、このポ
リマーの構造を確認する。
【００５３】
【００５４】
【表１】
【００５５】＊比較例 Tg℃：ガラス転移温度（℃） η：内部粘度（dl/ ｇ）（メタ−クレゾール中１ｇ／dl
の濃度の場合）PDT ：空気下の熱分解のしきい値(Seuil
de decomposition thermique sous air) ε´：比誘電率 tgδ：誘電損失角の正接 Ｄ：水の拡散係数（cm２×ｓ−１） Ｍｎ：数平均分子量（ゲル排除クロマトグラフィ(chrom
atographie d'exclusion sur gel) によって測定された
もの） Ｍｐ：重量平均分子量（ゲル排除クロマトグラフィによ
って測定されたもの） Ｉｐ：多分散指数 Ｍｚ：ゲル排除クロマトグラフィによって、Ｍｎおよび
Ｍｐで測定された粘度測定量
【００５６】
【表２】
【００５７】表ＩおよびＩＩに挙げられた結果は、本発
明によるポリマーが、特にアミド型の溶媒中への良好な
溶解性を保持しつつ、優れた誘電性を有することを示
す。
【００５８】
【効果】本発明によるポリマーは、様々な有機溶媒、特
にアミド型の溶媒中への良好な溶解性を保持しつつ、優
れた誘電性、良好な熱安定性および工業において許容し
うる限度内に留まる水再吸収容量を有する。これらの化
合物は、電気工業および電子工業の分野で、とくに絶縁
体として使用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルナール・シリヨン フランス国リヨン（69005）・リュ・ジ ョリオ・キュリー 93番地 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08G 61/00 - 61/12 C07D 241/40

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Arは、1,3 −フェニレンまたは1,4 −フェニレ
    ン基を表わす）で表わされる反復単位を含む、フッ化ポ
    リアリールキノキサリン。
  2. 【請求項２】 一般式（Ｉ）の反復単位２〜100 個を有
    する、請求項１によるフッ化ポリアリールキノキサリ
    ン。
  3. 【請求項３】 Arが1,4 −フェニレン基を表わす、請求
    項１または２によるフッ化ポリアリールキノキサリン。
  4. 【請求項４】 Arが1,3 −フェニレン基を表わす、請求
    項１または２によるフッ化ポリアリールキノキサリン。
  5. 【請求項５】 2,2 −ビス−（3,4 −ジアミノフェニ
    ル）−ヘキサフルオロプロパンと、一般式(III) ： 【化２】 （式中、Arは、1,3 −フェニレンまたは1,4 −フェニレ
    ン基を表わす）で表わされる少なくとも１つのビス−
    （アルファ−ジケトン）芳香族との反応の結果生じる生
    成物であることを特徴とする、請求項１または２による
    フッ化ポリアリールキノキサリン。
  6. 【請求項６】 ケトン／アミンのモル比1:1 〜1.1:1
    で、少なくとも１つのケトンと、フッ化アミンとの有機
    溶媒中での反応の結果生じる生成物であることを特徴と
    する、請求項５によるフッ化ポリアリールキノキサリ
    ン。
  7. 【請求項７】 温度０℃〜120 ℃で、メタクレゾール中
    における、少なくとも１つのケトンとフッ化アミンとの
    反応の結果生じる生成物であることを特徴とする、請求
    項６によるフッ化ポリアリールキノキサリン。
  8. 【請求項８】 一般式（III)の少なくとも１つのフッ化
    ビス−（アルファ−ジケトン）芳香族と、下記工程から
    なる方法によって、2,2 −ビス−（４−ヒドロキシフェ
    ニル）−ヘキサフルオロプロパンから得られる2,2 −ビ
    ス−（3,4 −ジアミノフェニル）−ヘキサフルオロプロ
    パンとの反応の結果生じる生成物であることを特徴とす
    る、請求項５〜７のうちの１つによって得られるフッ化
    ポリアリールキノキサリン： (a) 有機溶媒中において、窒素化有機塩基の存在下、過
    剰の無水トリフルオロメタンスルフォン酸と、前記2,2
    −ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘキサフルオロ
    プロパンとの反応によって、2,2 −ビス−（４−ヒドロ
    キシフェニル）−ヘキサフルオロプロパンのトリフルオ
    ロメタンスルフォン酸ジエステルを形成する工程、 (b) 硫酸と硝酸の混酸によって、工程(a) で得られたジ
    エステルのジニトロ化を実施する工程、 (c) 有機溶媒中で、工程(b) で得られた化合物とジベン
    ジルアミンとの反応によって、工程(b) で得られたジニ
    トロ−ジエステル化合物を、ジニトロ−ジ第三アミン化
    合物に転換する工程、および (d) アミン官能基によってもたらされる２つの基の水素
    化分解と、工程(c) で得られた生成物のニトロ基の水素
    化を同時に実施して、2,2 −ビス（3,4 −ジアミノフェ
    ニル）−ヘキサフルオロプロパンを形成するようにする
    工程。
  9. 【請求項９】 電気工業および電子工業の分野におい
    て、請求項１〜４のうちの１つによるフッ化ポリアリー
    ルキノキサリン、または請求項５〜８のうちの１つによ
    って得られたフッ化ポリアリールキノキサリンを使用す
    る方法。
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