JP2961491B2 - Preparation method of metal electrode material - Google Patents

Preparation method of metal electrode material

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JP2961491B2 JP11202094A JP11202094A JP2961491B2 JP 2961491 B2 JP2961491 B2 JP 2961491B2 JP 11202094 A JP11202094 A JP 11202094A JP 11202094 A JP11202094 A JP 11202094A JP 2961491 B2 JP2961491 B2 JP 2961491B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】工業電解用電極、センサ素子用電
極等に利用可能な、比表面積の大きく曲げ加工が可能
で、さらに水を含む電解溶液中でも経時劣化の少ない金
属電極材料の作製方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a metal electrode material which can be used for industrial electrolysis electrodes and sensor element electrodes, has a large specific surface area, can be bent, and has little deterioration over time even in an electrolytic solution containing water. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的な金属電極材料の表面は平滑とな
っている一方で、工業電解等に使用される金属電極材料
は、サンドブラスト法、化学的または電気化学的エッチ
ング方法などによってその表面を粗化した金属電極材料
が使われる。これは表面粗化による比表面積の拡大によ
って電気反応の過電圧を低下させ、金属電極反応の電解
効率あるいは電解反応速度を向上させることを目的とす
るものである。
2. Description of the Related Art While the surface of a general metal electrode material is smooth, the surface of a metal electrode material used for industrial electrolysis or the like is subjected to sandblasting, chemical or electrochemical etching, or the like. A roughened metal electrode material is used. The purpose of this is to reduce the overvoltage of the electric reaction by increasing the specific surface area due to the surface roughening, and to improve the electrolysis efficiency or the electrolysis reaction speed of the metal electrode reaction.

【0003】また比表面積の大きい金属電極材料とし
て、発泡金属、金属繊維または金属粉末の焼結体あるい
はアルミニウム電解コンデンサ用アルミニウムエッチド
箔なども知られており比表面積の拡大によって電解コン
デンサ、電池などの小型化、高性能化に利用されてい
る。
Also, as a metal electrode material having a large specific surface area, a foamed metal, a sintered body of metal fiber or metal powder, an aluminum etched foil for an aluminum electrolytic capacitor, and the like are known. It is used for miniaturization and high performance.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前述した従来方法によ
る表面粗化方法ではその表面積拡大効果は依然として十
分とは言いがたく、さらに比表面積を拡大する方法が求
められる。また比表面積の大きい発泡金属、金属繊維ま
たは金属粉末の焼結体においては比表面積の向上が図ら
れるものの、その作製方法のため薄厚化が困難であり、
さらに材料自体の屈曲性の乏しさゆえ曲げ加工には向か
ない等の問題点があった。
However, the surface roughening method according to the conventional method described above cannot be said to have a sufficient effect of increasing the surface area, and a method for further increasing the specific surface area is required. In addition, although the specific surface area of a sintered metal foam metal, a metal fiber or a metal powder having a large specific surface area is improved, it is difficult to reduce the thickness due to the manufacturing method thereof.
Further, there is a problem that the material itself is not suitable for bending because of its poor flexibility.

【0005】また、アルミニウムエッチド箔の場合に
は、曲げ加工性、薄厚化の点では金属焼結体の抱える問
題点を解決することが可能であるが、水を含む電解溶液
中においては、水和酸化物等の生成による経時劣化は避
けられなかった。
In the case of an aluminum-etched foil, it is possible to solve the problems of a metal sintered body in terms of bending workability and thickness reduction, but in an electrolytic solution containing water, Deterioration over time due to the formation of hydrated oxides and the like was inevitable.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】純度99%以上のアルミ
ニウムを、エッチング液に浸漬し、直流電流あるいは交
流電流を印加してエッチングを行い、ミクロピットを形
成し、アルミニウム箔の表面積を5〜150倍に拡大し
たアルミニウムエッチド箔の上に、金属メッキを施した
後、アルミニウムエッチド箔を溶解除去して前記ミクロ
ピットの形状を転写したこと特徴とする金属電極材料を
作製することを特徴とする。
Means for Solving the Problems Aluminum having a purity of 99% or more is immersed in an etching solution, and is etched by applying a direct current or an alternating current to form micropits and reduce the surface area of the aluminum foil to 5 to 150 nm. Metal plating is performed on the aluminum-etched foil that has been doubled in size, and then, the metal-etched foil is dissolved and removed, and the shape of the micropit is transferred to produce a metal electrode material. I do.

【0007】別の方法として、純度99%以上のアルミ
ニウムを、エッチング液に浸漬し、直流電流あるいは交
流電流を印加してエッチングを行い、ミクロピットを形
成し、アルミニウム箔の表面積を5〜150倍に拡大し
たアルミニウムエッチド箔の上に、金属メッキを施した
後、アルミニウムエッチド箔を溶解除去して前記ミクロ
ピットの形状を転写するとともに、金属メッキ層表面に
触媒作用を持つ物質をコーティングて金属電極材料を作
製することを特徴とする。
As another method, aluminum having a purity of 99% or more is immersed in an etching solution, and etching is performed by applying a direct current or an alternating current to form micropits, thereby increasing the surface area of the aluminum foil by 5 to 150 times. After applying metal plating on the aluminum etched foil expanded to, the aluminum etched foil is dissolved and removed to transfer the shape of the micro pits, and the surface of the metal plating layer is coated with a substance having a catalytic action. It is characterized by producing a metal electrode material.

【0008】また、金属メッキには、ニッケル、銅、白
金、パラジウム、ロジウム、鉛、錫、亜鉛より選択され
る1種または2種以上の金属よりなるメッキであると好
適である。
[0008] The metal plating is preferably a plating made of one or more metals selected from nickel, copper, platinum, palladium, rhodium, lead, tin and zinc.

【0009】[0009]

【作用】母型となるアルミニウムは、純度99%以上の
アルミニウムを、エッチング液に浸漬し、直流電流ある
いは交流電流を印加してエッチングを行い、ミクロピッ
トを形成するものであるが、アルミニウムに直流電流を
印加してエッチングした場合には、アルミニウムの結晶
構造の〔100〕方向にのみエッチングが進行するた
め、トンネル状のピットが、また交流電流を印加した場
合には、房状のピットを得ることができる。そのため
に、母型となるアルミニウムの表面積を5〜150倍に
拡大することができる。そして、この発明の金属電極材
料は、母型として使用した純度99%以上のアルミニウ
ムを、エッチング液に浸漬し、直流電流あるいは交流電
流を印加してエッチングを行い、ミクロピットを形成
し、アルミニウム箔の表面積を5〜150倍に拡大した
アルミニウムエッチド箔のミクロピットの形状を転写し
た表面形状を持っており、これにより比表面積の拡大を
図ることができる。なお、この表面積拡大倍率は母型と
して使用するアルミニウムエッチド箔の比表面積によっ
て任意に選択することができる。
The aluminum used as a matrix is formed by immersing aluminum having a purity of 99% or more in an etching solution and applying a direct current or an alternating current to perform etching to form micropits. When etching is performed by applying an electric current, etching proceeds only in the [100] direction of the aluminum crystal structure, so that tunnel-like pits are obtained, and when an AC current is applied, tuft-like pits are obtained. be able to. Therefore, the surface area of aluminum serving as a matrix can be increased by 5 to 150 times. The metal electrode material of the present invention is obtained by immersing aluminum having a purity of 99% or more used as a matrix in an etching solution, applying a direct current or an alternating current to perform etching, forming micropits, and forming an aluminum foil. Has a surface shape obtained by transferring the shape of micro-pits of an aluminum-etched foil whose surface area is increased by 5-150 times, whereby the specific surface area can be increased. The surface area enlargement magnification can be arbitrarily selected depending on the specific surface area of the aluminum-etched foil used as the matrix.

【0010】またアルミニウムエッチド箔に対して行な
う金属メッキ層の厚みを選択することによって薄厚化す
ることができ、これにより曲げ加工の可能な金属電極材
料を作製することができる。
The thickness of the metal plating layer formed on the aluminum-etched foil can be reduced by selecting the thickness of the metal plating layer, whereby a metal electrode material that can be bent can be manufactured.

【0011】[0011]

【実施例】本発明の金属電極材料の作製は大別して次の
連続した処理から構成されている。つまり電気化学的エ
ッチングにより得た高倍率のアルミニウムエッチド箔
を、酸洗浄処理後、触媒活性処理、無電解メッキ処理を
施し、さらに熱処理、アルミニウム溶解除去を得る方法
である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The preparation of the metal electrode material of the present invention is roughly divided into the following continuous processes. In other words, this is a method in which a high-magnification aluminum-etched foil obtained by electrochemical etching is subjected to a catalyst activation treatment and an electroless plating treatment after being subjected to an acid cleaning treatment, followed by heat treatment and aluminum dissolution removal.

【0012】ここで、用いられるアルミニウムエッチド
箔は、純度99%以上のアルミニウムを約100μmの
厚さに形成し、さらに、塩酸を主体とするエッチング液
に浸漬し、直流電流あるいは交流電流を印加すること等
により、アルミニウム箔の表面積を5〜150倍に拡大
してアルミニウムエッチド箔が形成される。
Here, the aluminum-etched foil used is formed of aluminum having a purity of 99% or more to a thickness of about 100 μm, immersed in an etching solution mainly containing hydrochloric acid, and applying a direct current or an alternating current. By doing so, the surface area of the aluminum foil is enlarged by a factor of 5 to 150 to form an aluminum-etched foil.

【0013】この拡面処理したアルミニウムエッチド箔
は、直流電流を印加してエッチングを行った場合では、
アルミニウムの結晶構造の〔100〕方向にのみエッチ
ングが進行するために、図6に示すようにアルミニウム
箔表面よりトンネル状にエッチングピットが形成され、
トンネルピット構造を持つアルミニウムエッチド箔とな
る。
[0013] This aluminum etched foil subjected to the surface enlargement is etched by applying a direct current,
Since etching proceeds only in the [100] direction of the aluminum crystal structure, etching pits are formed in a tunnel shape from the aluminum foil surface as shown in FIG.
Aluminum etched foil with tunnel pit structure.

【0014】また、交流電流を印加してアルミニウム箔
のエッチングを行った場合では、エッチングピットの形
状は図7に示すように微細な球状セルの連なった房状の
エッチングピットが得られ、房状のピット構造を持つア
ルミニウムエッチド箔となる。
When the aluminum foil is etched by applying an alternating current, the shape of the etching pits is as shown in FIG. Aluminum etched foil with a pit structure.

【0015】また、金属電極材料を作製するために使用
する各処理浴は、一般的に知られている酸、メッキ用活
性化処理浴、無電解メッキ浴、電解メッキ浴等を選択す
ることができ、例えば次の実施例1に示すような条件に
よって本発明の金属電極材料を作製できる。
As each of the treatment baths used for producing the metal electrode material, a generally known acid, an activation treatment bath for plating, an electroless plating bath, an electrolytic plating bath and the like can be selected. For example, the metal electrode material of the present invention can be manufactured under the conditions shown in the following Example 1.

【0016】(実施例1)トンネルピット構造を持つア
ルミニウムエッチド箔を、30vol%の硝酸に浸漬し
た後、以下に示す様な処理条件でメッキ用パラジウム活
性化処理を行なった。 浴1 PdCl2 ・2H2 O 0.1 g/L HCl 5 mg/L 60°Cにて1−5分浸漬 浴2 NaH2 PO2 ・H2 O 50 g/L 40°Cにて5分浸漬
Example 1 An aluminum-etched foil having a tunnel pit structure was immersed in 30% by volume of nitric acid, and then subjected to a palladium activating treatment for plating under the following treatment conditions. Bath 1 PdCl 2 .2H 2 O 0.1 g / L HCl 5 mg / L Immersion at 60 ° C. for 1-5 minutes Bath 2 NaH 2 PO 2 .H 2 O 50 g / L 5 minutes at 40 ° C. Immersion

【0017】次に、パラジウム処理後のアルミニウムエ
ッチド箔を次に示すような条件での無電解ニッケルメッ
キ処理により、アルミニウムエッチド箔のミクロピット
内にニッケルを充填した。 浴3 NiSO4 ・6H2 O 20 g/L NaH2 PO2 ・H2 O 15 g/L Na3 ・Citrate 15 g/L NaOH 5 g/L pH=6、40°Cにて5分浸漬
Next, the aluminum etched foil after the palladium treatment was subjected to electroless nickel plating under the following conditions to fill nickel into the micropits of the aluminum etched foil. Bath 3 NiSO 4 .6H 2 O 20 g / L NaH 2 PO 2 .H 2 O 15 g / L Na 3 .Citrate 15 g / L NaOH 5 g / L pH = 6, immersion at 40 ° C. for 5 minutes

【0018】さらに次に示すような条件で電解ニッケル
メッキ処理を行い、ニッケル層の厚みを増して最終的に
得られるブラシ形のニッケル電極材料の機械的強度を向
上した。 浴4 NiSO4 ・6H2 O 150 g/L NH4 Cl 15 g/L H3 BO3 15 g/L 添加剤 適量 pH=6、40°Cにてニッケル板を対極としてメッキ
を行なった。電流密度10mA/cm2 で30分間カソ
ード電解を行なった。
Further, electrolytic nickel plating was performed under the following conditions to increase the thickness of the nickel layer to improve the mechanical strength of the finally obtained brush-type nickel electrode material. Bath 4 NiSO 4 .6H 2 O 150 g / L NH 4 Cl 15 g / L H 3 BO 3 15 g / L Additives Appropriate amount At pH = 6, 40 ° C., plating was performed using a nickel plate as a counter electrode. Cathodic electrolysis was performed at a current density of 10 mA / cm 2 for 30 minutes.

【0019】以上のように処理した試料を350°Cに
て90分間熱処理を行った後、60°Cの10%水酸化
ナトリウム溶液に30分間浸漬してアルミニウムを溶解
除去した。アルミニウム溶解後に得られたブラシ形のニ
ッケル電極材料は約50ミクロンの厚みを持っていた。
The sample treated as described above was heat-treated at 350 ° C. for 90 minutes and then immersed in a 10% sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 30 minutes to dissolve and remove aluminum. The brush-shaped nickel electrode material obtained after dissolving aluminum had a thickness of about 50 microns.

【0020】得られたブラシ形のニッケル電極材料の表
面SEM写真を図1に示した。図より母型として使用し
たアルミニウムエッチド箔のトンネルピット形状をよく
転写していることが判る。
FIG. 1 shows an SEM photograph of the surface of the obtained brush-shaped nickel electrode material. From the figure, it can be seen that the tunnel pit shape of the aluminum-etched foil used as the master was well transferred.

【0021】図2はブラシ形のニッケル電極材料の3M
−水酸化カリウム溶液、25°Cにおけるカソード電流
−電位曲線である。また比較電極として平滑表面を持つ
圧延ニッケル箔電極、さらに交流電解によって表面粗化
した圧延ニッケル箔電極のカソード分極特性を示した。
図からブラシ形のニッケル電極材料は、比較した二種の
ニッケル電極よりも水素過電圧を低減できることが判っ
た。
FIG. 2 shows a brush type nickel electrode material of 3M.
-Potassium hydroxide solution, cathode current-potential curve at 25 ° C. The cathode polarization characteristics of a rolled nickel foil electrode having a smooth surface as a comparative electrode and a rolled nickel foil electrode whose surface was roughened by AC electrolysis were also shown.
From the figure, it was found that the brush-type nickel electrode material can reduce the hydrogen overvoltage more than the two kinds of nickel electrodes in comparison.

【0022】(実施例2)実施例1で作製したブラシ形
のニッケル電極に各種の電極反応において触媒作用を持
つ物質をコーティングすることで、さらにブラシ形電極
材料の高機能化が図られる。触媒作用を持つ物質として
は白金、鉛、水銀、ロジウム、パラジウム等の金属、ま
たはこれらの酸化物が上げられる。また、コーティング
は例えば次に示す様な処理によって、ブラシ形のニッケ
ル電極の表面に白金をコーティングできる。 浴5 H2 PtCl6 ・6H2 O 20 g/L HCl 300 mL/L 60°Cにて20秒間浸漬処理
(Example 2) By coating the brush-shaped nickel electrode prepared in Example 1 with a substance having a catalytic action in various electrode reactions, the function of the brush-type electrode material can be further enhanced. Examples of the substance having a catalytic action include metals such as platinum, lead, mercury, rhodium, and palladium, and oxides thereof. For the coating, platinum can be coated on the surface of the brush-shaped nickel electrode by the following treatment, for example. Bath 5 H 2 PtCl 6 · 6H 2 O 20 g / L HCl 20 seconds immersed in 300 mL / L 60 ° C

【0023】図3(b)に白金コート後のブラシ形のニ
ッケル電極材料の表面SEM写真を示した。白金の微粒
析出がみられ、これによりさらに比表面積の向上が図ら
れている。
FIG. 3B shows a surface SEM photograph of the brush-shaped nickel electrode material after platinum coating. Fine grain precipitation of platinum was observed, thereby further improving the specific surface area.

【0024】また、図2に白金コート後のブラシ形のニ
ッケル電極材料のカソード分極特性も示した。図から判
るように水素過電圧は実施例1と比較してさらに低減で
きたことが判る。
FIG. 2 also shows the cathode polarization characteristics of the brush-shaped nickel electrode material after platinum coating. As can be seen from the figure, it can be seen that the hydrogen overvoltage was further reduced as compared with Example 1.

【0025】(実施例3)実施例1と同様の方法でメッ
キ用パラジウム処理した後、例えば以下に示すような条
件によってアルミニウムエッチド箔のミクロピット形状
を転写した銅電極材料を作製できる。 浴6 CuSO4 ・5H2 O 5 g/L NaOH 7 g/L ロッシェル塩 25 g/L ホルマリン(37%) 10 mL/L 20°Cにて2分間の浸漬処理することで銅をミクロピ
ット内に充填した後、次の条件で電解銅メッキを行っ
た。 浴7 CuSO4 ・5H2 O 250 g/L H2 SO4 10 mL/L チオ尿素 0.75 g/L 40°C、銅板を対極とし電流密度50mA/cm2
40分間カソード電解した。この試料を実施例1と同様
の方法でアルミニウム溶解除去することで、ブラシ形銅
電極材料が得られた。
Example 3 After a palladium treatment for plating in the same manner as in Example 1, a copper electrode material in which the micropit shape of an aluminum-etched foil has been transferred can be produced, for example, under the following conditions. Bath 6 CuSO 4 .5H 2 O 5 g / L NaOH 7 g / L Rochelle salt 25 g / L Formalin (37%) 10 mL / L Dipping treatment at 20 ° C. for 2 minutes causes copper in the micro pit After that, electrolytic copper plating was performed under the following conditions. Bath 7 CuSO 4 .5H 2 O 250 g / L H 2 SO 4 10 mL / L Thiourea 0.75 g / L 40 ° C. Cathodic electrolysis was performed for 40 minutes at a current density of 50 mA / cm 2 using a copper plate as a counter electrode. This sample was dissolved and removed in the same manner as in Example 1 to obtain a brush-type copper electrode material.

【0026】このブラシ形銅電極を用いたカソード電流
−電位曲線を図5に示す。実施例1の場合と同様に平滑
な表面を持つ銅電極よりも水素過電圧が低減できること
が確認された。
FIG. 5 shows a cathode current-potential curve using the brush type copper electrode. As in the case of Example 1, it was confirmed that the hydrogen overvoltage can be reduced as compared with the copper electrode having a smooth surface.

【0027】さらに上記のニッケル、銅以外の金属で
も、白金、パラジウム、ロジウム、鉛、錫、亜鉛等より
選択される1種または2種以上の金属よりなるメッキ層
をアルミニウムエッチド箔に形成し、その後にアルミニ
ウムエッチド箔を溶解除去することにより、上記の実施
例と同様の表面積拡大効果を持つ金属電極材料を作製す
ることができる。
Further, even with the above metals other than nickel and copper, a plating layer made of one or more metals selected from platinum, palladium, rhodium, lead, tin, zinc and the like is formed on the aluminum-etched foil. Then, by dissolving and removing the aluminum-etched foil, a metal electrode material having the same surface area expanding effect as in the above embodiment can be manufactured.

【0028】さらに、上記の実施例ではトンネルピット
構造を持つアルミニウムエッチド箔を用いた場合につい
て記載してきたが、房状のピット構造を持つアルミニウ
ムエッチド箔の上に金属メッキを施して、その後にアル
ミニウムエッチド箔を溶解させて金属電極材料を形成す
ると、房状のピット構造を転写した金属電極材料が作製
される。この場合でも、作製された金属電極材料の表面
積はトンネルピット構造を持つ場合と同様に比表面積が
大きく、トンネルピット構造のアルミニウムエッチド箔
を用いた場合と同等の電気的特性の向上を図ることがで
きた。
Further, in the above embodiment, the case where an aluminum-etched foil having a tunnel pit structure is used has been described. However, metal plating is performed on the aluminum-etched foil having a tufted pit structure. When a metal electrode material is formed by dissolving an aluminum-etched foil into a metal electrode material, a metal electrode material in which a tuft-like pit structure is transferred is produced. Even in this case, the surface area of the produced metal electrode material has a large specific surface area as in the case of having the tunnel pit structure, and the electrical characteristics are to be improved at the same level as when aluminum etched foil having the tunnel pit structure is used. Was completed.

【0029】[0029]

【発明の効果】この発明により作製された金属電極材料
は比表面積を大きく形成することができるため、電解反
応におけるアノードあるいはカソードとして用いること
により、例えば水電解による水素ガス発生過電圧の低
減、酸素過電圧の低減などができ、ひいては電解反応の
省エネルギー化が図れる。
Since the metal electrode material produced according to the present invention can form a large specific surface area, it can be used as an anode or a cathode in an electrolytic reaction, for example, to reduce hydrogen gas generation overvoltage due to water electrolysis, and to reduce oxygen overvoltage. Can be reduced, and the energy consumption of the electrolytic reaction can be reduced.

【0030】また各種の金属、金属酸化物、触媒、酵素
等を付与した機能性素子用電極、センサー素子用電極等
の下地とすることによって素子の高感度化、小型化が可
能となり、また表面の微細形状から得られる投錨効果に
よって修飾物質の脱落防止による素子の長寿命化が可能
となる。
Further, the sensitivity and size of the element can be increased by using it as a base for functional element electrodes and sensor element electrodes to which various metals, metal oxides, catalysts, enzymes, etc. are added. The anchoring effect obtained from the fine shape of the above makes it possible to prolong the life of the device by preventing the modifier from falling off.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1で得られたブラシ形のニッケル電極材
料の表面SEM写真である。
FIG. 1 is a surface SEM photograph of a brush-shaped nickel electrode material obtained in Example 1.

【図2】実施例で得られたブラシ形ニッケル電極材料お
よび白金コートしたブラシ形ニッケル電極材料のカソー
ド電流−電位曲線のグラフである。
FIG. 2 is a graph showing a cathode current-potential curve of the brush-shaped nickel electrode material and the platinum-coated brush-shaped nickel electrode material obtained in Examples.

【図3】(a)は実施例1で得られたブラシ形のニッケ
ル電極材料の表面SEM写真、(b)は実施例2で得ら
れた白金コートしたブラシ形のニッケル電極材料の表面
SEM写真である。
3A is a surface SEM photograph of the brush-shaped nickel electrode material obtained in Example 1, and FIG. 3B is a surface SEM photograph of the platinum-coated brush-shaped nickel electrode material obtained in Example 2. It is.

【図4】実施例3で得られたブラシ形銅電極材料の表面
SEM写真である。
FIG. 4 is a surface SEM photograph of the brush-type copper electrode material obtained in Example 3.

【図5】実施例3で得られたブラシ形銅電極材料のカソ
ード電流−電位曲線である。
FIG. 5 is a cathode current-potential curve of the brush-type copper electrode material obtained in Example 3.

【図6】トンネルピット構造を持つアルミニウムエッチ
ド箔のオキサイドレプリカのSEM写真である。
FIG. 6 is an SEM photograph of an oxide replica of an aluminum-etched foil having a tunnel pit structure.

【図7】房状ピット構造を持つアルミニウムエッチド箔
のオキサイドレプリカのSEM写真である。
FIG. 7 is an SEM photograph of an oxide replica of an aluminum-etched foil having a tufted pit structure.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭50−141540(JP,A) 特開 昭63−171891(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C25B 11/00 - 11/20 C25D 1/00 C25D 1/04 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-50-141540 (JP, A) JP-A-63-171891 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C25B 11/00-11/20 C25D 1/00 C25D 1/04

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 純度99%以上のアルミニウムを、エッ
チング液に浸漬し、直流電流あるいは交流電流を印加し
てエッチングを行い、ミクロビットを形成し、アルミニ
ウム箔の表面積を5〜150倍に拡大したアルミニウム
エッチド箔の上に、金属メッキを施した後、アルミニウ
ムエッチド箔を溶解除去して前記ミクロピットの形状を
転写したこと特徴とする金属電極材料の作製方法。
1. An aluminum sheet having a purity of 99% or more is etched.
Immersion in a liquid, and apply DC or AC current
Etching to form microbits, aluminum
A metal electrode formed by applying metal plating on an aluminum-etched foil whose surface area is increased by 5-150 times, dissolving and removing the aluminum-etched foil, and transferring the shape of the micropits. How to make the material.
【請求項2】 純度99%以上のアルミニウムを、エッ
チング液に浸漬し、直流電流あるいは交流電流を印加し
てエッチングを行い、ミクロピットを形成し、アルミニ
ウム箔の表面積を5〜150倍に拡大したアルミニウム
エッチド箔の上に、金属メッキを施した後、アルミニウ
ムエッチド箔を溶解除去して前記ミクロピットの形状を
転写するとともに、金属メッキ層表面に触媒作用を持つ
物質をコーティングしたことを特徴とする金属電極材料
の作製方法。
2. An aluminum sheet having a purity of 99% or more is etched.
Immersion in a liquid, and apply DC or AC current
Etching to form micro pits, aluminum
After metal plating is performed on an aluminum-etched foil whose surface area is increased by 5-150 times , the aluminum-etched foil is dissolved and removed to transfer the shape of the micro-pits, and the metal plating layer surface A method for producing a metal electrode material, characterized in that a material having a catalytic action is coated on a substrate.
【請求項3】アルミニウムエッチド箔の上に施す金属メ
ッキは、ニッケル、銅、白金、パラジウム、ロジウム、
鉛、錫、亜鉛より選択される1種または2種以上の金属
よりなるメッキであることを特徴とする請求項1または
請求項2記載の金属電極材料の作製方法。
3. The metal plating applied on the aluminum-etched foil is nickel, copper, platinum, palladium, rhodium,
3. The method for producing a metal electrode material according to claim 1, wherein the plating is performed using one or more metals selected from the group consisting of lead, tin, and zinc.
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