JP2949819B2 - 超伝導量子干渉素子 - Google Patents

超伝導量子干渉素子

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JP2949819B2 JP2257703A JP25770390A JP2949819B2 JP 2949819 B2 JP2949819 B2 JP 2949819B2 JP 2257703 A JP2257703 A JP 2257703A JP 25770390 A JP25770390 A JP 25770390A JP 2949819 B2 JP2949819 B2 JP 2949819B2
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靖 東野
勝男 溝渕
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明はスクイッド磁束計に用いられる超伝導量子干
渉素子に関し,更に詳しくはQ値が高く分解能の向上を
はかった超伝導量子干渉素子に関する。
<従来の技術> スクイッド磁束計は,ジョセフソン接合を有する超伝
導リングとLC共振回路を含んで構成されており,超伝導
リングに加わる外部磁界に対し磁束量子φ(2.07×10
-15wb)を周期とした電圧信号を出力するもので,高感
度で磁束測定を行うことが出来る。
第6図はこの様なスクイッド磁束計を示す一般的な構
成図である。図において,1はジョセフソン接合部JCを有
する超伝導リング,2はこの超伝導リング1に結合するイ
ンダクタンスL1のインプットコイル,21,22は超伝導材料
で出来たインプットコイル2の端子,3はインダクタンス
Lpのピックアップコイルで,インプットコイル2ととも
に超伝導閉ループを構成するように端子21,22を介して
直列に接続されている。6は超伝導リング1に結合する
LC共振回路,7はこのLC共振回路からの出力電圧を増幅す
る増幅器である。ここで,超伝導リング1,インプットコ
イル2,端子21,22,ピックアップコイル3およびLC共振回
路6はいずれも例えばクライオスタット8内に収納され
液体ヘリウム温度に維持される。
ところで,上記構成のスクイッド磁束計に用いられる
超伝導リングは従来数10MHz程度の高周波を用いていた
がrf−スクイッドの分解能を決める素子の雑音磁束のス
ペクトル密度(Sφ)は Sφ∝1/ωRf(ωRf;駆動角周波数) なる関係があり,ωRfを高めることにより一般に分解能
は向上する(ただしアンプのノイズは一定の場合)。
<発明が解決しようとする課題> 上記のことから高周波(例えば430MHzや9GHz)で駆動
したということが文献…A.Long,et al“High−Performa
nce UHF SQUID magnetometor"Rev.Sci.Instrum.50('7
9)1376)や“High Sensitivity Microwave SQUID"(IE
EE Trans MAG−15('79)P474に掲載されている。
しかしながら上記の文献ではいずれもバルク状の超伝
導体を用いたポイントコンタクト型の接合を用い,マイ
クロ波の結合としては空洞共振器等を用いている。その
結果,構造的に大きくなり,かつ,ポイントコンタクト
接合のヒートサイクル(使用しないときには常温,使用
時には4.2Kとなる)に対する再現性や信頼性に問題があ
る。
本発明は上記問題点に鑑みて成されたもので,基板上
にマイクロ波帯スクイッドを薄膜で形成し,薄膜のジョ
セフソン接合を用いることにより信頼性が高く再現性の
高いrf−スクイッドを提供することを目的とするもので
ある。
<課題を解決するための手段> 上記課題を解決するための本発明の構成は,基板上に
超伝導薄膜グランドプレーン,誘電体薄膜が順次積層し
て形成され,前記誘電体薄膜上に超伝導部材により一つ
のジョセフソン接合を有する超伝導リング及びストリッ
プライン形成したrf超伝導量子干渉素子であって、 超伝導リングの駆動周波数(f0)を下式により決定した
ことを特徴とするものである。
記 f0=(Vp/L)・N Vp;超伝導リング内の電磁波の位相速度 L ;リングの周長 N ;リング内に立つ波の数 <実施例> 第1図は本発明の一実施例を示す構成斜視図である。
図において30は誘電率の小さなAl2O3,MgO,石英などの厚
さ1mm程度の基板であり,31はこの基板30の上にスパッタ
等により形成された例えばNbなどの超伝導薄膜グランド
プレーンであり,数100nm程度の厚さに形成される。32
はグランドプレーン31上にスパッタなどにより形成され
たSiO2やAl2O3などの誘電体薄膜である。33は誘電体薄
膜上に形成された超伝導リングで,このリングの途中に
ブリッジ形ジョセフソン接合34を有している。35は同じ
く誘電体薄膜上に形成され,超伝導リング33に所定の距
離を設けて形成されたストリップラインである。
第2図は第1図に示す超伝導リング33上に形成される
インプットコイル37及び変調コイル38を示すもので,は
じめに絶縁体薄膜(例えばSiO2)36を数μmの厚さに形
成した上でスパッタなどにより形成するが各コイルが交
差の(Aの一点鎖線で囲った部分)する部分は絶縁膜を
介して形成する。なお,これら各コイルは超伝導部材を
用いて薄膜により形成する。
上記構成において,超伝導リング33の駆動周波数f0は 超伝導リング内の 電磁波の位相速度を υp リングの周長を L とすると, f0=(υp/L)・N(N=1,2,3…リング内に立つ波の
数)で決定される。
第3図はこの様な超伝導量子干渉素子を用いた磁束検
出回路の構成例を示すものである。図において,40はマ
イクロ波発振器,41はマイクロ波発振器40の出力端に接
続され入力電圧の調整を行う減衰器,42は入力端が減衰
器41に他端がストリップライン35に接続された方向性結
合器としての機能を有するサーキュレータである。
43はミキサーでサーキュレータ42の出力側及びマイク
ロ波発振器40に一端が接続された位相器44に接続されて
いる。45は増幅器で入力側にミキサー43の出力端が接続
され,出力側には同期検波器46が接続されている。47は
変調用発振器でその出力は変調コイル38の一端に接続さ
れるとともに位相器48を介して同期検波器46の入力端に
接続されている。50は検波器46の出力端と変調コイル38
の一端に帰還抵抗Rを介して接続された電圧/電流変換
器である。なお,上記のマイクロ波発振器40の発振周波
数f0と変調用発振器47の発振周波数fMは f0>>fMとされる。
上記構成において,マイクロ波発振器40からの出力周
波数(f0)は一つは減衰器41,サーキュレータ42及びマ
イクロストリップライン35を介して超伝導リング33に加
えられる。また,変調用発振器47から変調コイル38にfM
なる電流を流して超伝導リング33に磁束を与える。
その結果,スクイッドから発生するf0にfMなる振幅変
調を受けた周波数信号はストリップライン35及びサーキ
ュレータ42を経てミキサー43に入力する。一方このミキ
サー43にはマイクロ波発振器40から移相器44を経て加え
られるf0の周波数信号が入力されており,ストリップラ
イン35からの信号との間でミキシングがおこなわれfM
成分のみが出力される。この出力は増幅器45に入力し,
ここで増幅された信号は同期検波器46に入力して移相器
48を介して入力された変調用発振器47からのfMの参照信
号で同期検波される。この同期検波された信号は電圧電
流変換器50に入力され,その電流信号は帰還抵抗Rを介
して変調コイル38の一端に接続される。帰還抵抗Rの両
端の電圧変化が測定すべき磁束の変化に比例する量とな
る。
第4図は同期検出器46からの超伝導素子の出力電圧Vs
と外部磁束Φxの関係を示す図である。図において変調
コイル38から発生する変調磁束(振幅Φm)によって生
ずるスクイッドの出力電圧はΦxがの値のときは′
の様に2fmの周波数成分を持ち,の値のときは′の
様にfm成分となる。従ってfm成分の同期検波を行い,そ
の信号量を電圧/電流変換器50を介して変調コイル38に
負帰還をかけることによりこの電流はΦxがの値から
の値に戻るまで続く。従って帰還抵抗Rの電圧値は外
部磁束の変化量ΔΦxに比例し,磁束変化が電圧変化と
してリニアライズされることになる。
なお,本実施例においてはストリップライン35を一本
のみ示したが,例えば第5図に示す様に2本配置しても
よい。その場合,第3図におけるサーキュレータは不要
となり,ストリップラインの出力ポート35Bをミキサー4
3の入力端子に接続する(即ち,1ポートのときは入出力
が混ざっているので,反射してくる信号はサーキュレー
タで分岐させるが2ポートの場合は入出力が分離できる
ので不要となる)。
なお,本実施例においてはジョセフソン接合をブリッ
ジ形として図示したが,トンネル接合形であっても良
い。
<発明の効果> 以上実施例とともに具体的に説明したように本発明に
よれば,マイクロ波帯超伝導量子干渉素子を薄膜で形成
し,マイクロストリップラインと薄膜のブリッジ形ジョ
セフソン接合を用いるので,共振器全体として見たとき
のQの値は従来例に比較して1000倍程度に大きくなるこ
とが期待出来分解能を高めるとともに信頼性が高く再現
性の高いrf−スクイッドを実現することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図,第2図は第1
図上に絶縁膜を介して積層する変調コイル及びインプッ
トコイルを示す斜視図,第3図は本発明の超伝導量子干
渉素子を用いた磁束検出回路の構成例を示す図,第4図
は超伝導量子干渉素子の出力電圧と外部磁束Φxの関係
を示す図,第5図は他の実施例を示す図,第6図は従来
例を示す図である。 30……基板,31……グランドプレーン,32……誘電体薄
膜,33……超伝導リング,34……ジョセフソン接合,35…
…ストリップライン,36……絶縁膜,37……インプットコ
イル,38……変調コイル。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−89876(JP,A) 特開 昭60−200580(JP,A) 特開 平2−126173(JP,A) 特開 平1−190001(JP,A) 実開 昭52−145778(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 39/00 H01L 39/22 H01L 39/24 G01R 33/035

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板上に超伝導薄膜グランドプレーン,誘
    電体薄膜が順次積層して形成され,前記誘電体薄膜上に
    超伝導部材により一つのジョセフソン接合を有する超伝
    導リング及びストリップライン形成したrf超伝導量子干
    渉素子であって、 超伝導リングの駆動周波数(f0)を下式により決定した
    ことを特徴とするrf超伝導量子干渉素子。 記 f0=(Vp/L)・N Vp;超伝導リング内の電磁波の位相速度 L ;リングの周長 N ;リング内に立つ波の数
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