JP2947782B1 - 薄膜シリコンの固定装置 - Google Patents
薄膜シリコンの固定装置Info
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- film silicon
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- silicon
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Abstract
【要約】
【課題】 太陽電池製造において、スクリーン印刷を用
いた際に起きる薄膜シリコンの割れ及びパターン乱れを
抑制する薄膜シリコンの固定装置および固定方法を提供
する。 【解決手段】 パターン乱れの原因となっていた薄膜シ
リコン１を直接真空吸着して印刷ステージ４へ固定する
ことをやめ、薄膜シリコン１の例えば四辺の縁を薄膜固
定治具１の庇部１ｂにより押さえ、この薄膜固定治具１
を真空吸着して印刷ステージ４へ固定するようにした。
またこのような薄膜固定治具１を印刷ステージ４に一体
に形成し、真空吸着を行わないようにした。
いた際に起きる薄膜シリコンの割れ及びパターン乱れを
抑制する薄膜シリコンの固定装置および固定方法を提供
する。 【解決手段】 パターン乱れの原因となっていた薄膜シ
リコン１を直接真空吸着して印刷ステージ４へ固定する
ことをやめ、薄膜シリコン１の例えば四辺の縁を薄膜固
定治具１の庇部１ｂにより押さえ、この薄膜固定治具１
を真空吸着して印刷ステージ４へ固定するようにした。
またこのような薄膜固定治具１を印刷ステージ４に一体
に形成し、真空吸着を行わないようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は薄膜シリコンの製
造に関し、特に太陽電池用等の薄膜シリコンの製造にお
いて、薄膜シリコンにスクリーン印刷によるパターン形
成を行う場合の薄膜シリコンの固定装置に関するもので
ある。
造に関し、特に太陽電池用等の薄膜シリコンの製造にお
いて、薄膜シリコンにスクリーン印刷によるパターン形
成を行う場合の薄膜シリコンの固定装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】図４は、例えばＭ．デグチ(M.Deguchi)
著、第７回国際光電科学技術会議の技術ダイジェスト、
第２４３頁(１９９３年)[Technical Digest of 7th Int
ernational Photovoltaic Science and Engineering Co
nference, PP.243(1993)]に示された、貫通孔を有する
薄膜シリコン太陽電池ＶＥＳＴセルの製造方法を示す図
である。以下にこのプロセスフローを簡単に示す。
著、第７回国際光電科学技術会議の技術ダイジェスト、
第２４３頁(１９９３年)[Technical Digest of 7th Int
ernational Photovoltaic Science and Engineering Co
nference, PP.243(1993)]に示された、貫通孔を有する
薄膜シリコン太陽電池ＶＥＳＴセルの製造方法を示す図
である。以下にこのプロセスフローを簡単に示す。
【０００３】図４の(ａ)の工程において、８は基板であ
り、例えばシリコンを用いる。９は基板８上に形成した
シリコン酸化膜(Ｓi０2)であり、この上に例えば溶融再
結晶化等により結晶粒の拡大された厚さ６０〜１００μ
ｍ程度のｐ型薄膜シリコン２が形成されている。
り、例えばシリコンを用いる。９は基板８上に形成した
シリコン酸化膜(Ｓi０2)であり、この上に例えば溶融再
結晶化等により結晶粒の拡大された厚さ６０〜１００μ
ｍ程度のｐ型薄膜シリコン２が形成されている。
【０００４】図４の(ｂ)の工程では、この薄膜シリコン
２を貫通する貫通穴であるバイアホール３を形成する。
スクリーン印刷を用いて薄膜シリコン２にバイアホール
３のパターニングをし、酸もしくはアルカリ系のエッチ
ング液を用いて、開口径１００〜２００μｍで１〜２ｍ
ｍピッチのバイアホール３を形成する。
２を貫通する貫通穴であるバイアホール３を形成する。
スクリーン印刷を用いて薄膜シリコン２にバイアホール
３のパターニングをし、酸もしくはアルカリ系のエッチ
ング液を用いて、開口径１００〜２００μｍで１〜２ｍ
ｍピッチのバイアホール３を形成する。
【０００５】図４の(ｃ)の工程では、弗酸(ＨＦ)でシリ
コン酸化膜９を全てエッチング除去し、基板８と薄膜シ
リコン２を分離する。この時、シリコン酸化膜９はバイ
アホール３を介してエッチングされる。図４の(ｄ)は、
分離した薄膜シリコン２を上から見た概略図である。
コン酸化膜９を全てエッチング除去し、基板８と薄膜シ
リコン２を分離する。この時、シリコン酸化膜９はバイ
アホール３を介してエッチングされる。図４の(ｄ)は、
分離した薄膜シリコン２を上から見た概略図である。
【０００６】図４の(ｅ)の工程では、分離された薄膜シ
リコン２にリンの熱拡散等によりｎ層１０を形成する。
次に図４の(ｆ)の工程では、ｎ層１０のパターニングを
スクリーン印刷を用いて行い、Ｐ-ｎ層を分離する。そ
して図４の(ｇ)の工程では、ｎ電極１１及びｐ電極１２
をスクリーン印刷を用いて形成する。
リコン２にリンの熱拡散等によりｎ層１０を形成する。
次に図４の(ｆ)の工程では、ｎ層１０のパターニングを
スクリーン印刷を用いて行い、Ｐ-ｎ層を分離する。そ
して図４の(ｇ)の工程では、ｎ電極１１及びｐ電極１２
をスクリーン印刷を用いて形成する。
【０００７】図５は、上記のプロセスでパターン形成を
行う際に用いた従来のスクリーン印刷のステージ部分を
示す断面図、すなわち従来の薄膜シリコンの固定装置を
示すものである。印刷ステージ４に真空吸着口５を有
し、バイヤホール３が形成された薄膜シリコン２を直接
印刷ステージ４に真空吸着させることにより、薄膜シリ
コン２を印刷ステージ４に固定しパターン形成を行う。
なお６は印刷マスクである。
行う際に用いた従来のスクリーン印刷のステージ部分を
示す断面図、すなわち従来の薄膜シリコンの固定装置を
示すものである。印刷ステージ４に真空吸着口５を有
し、バイヤホール３が形成された薄膜シリコン２を直接
印刷ステージ４に真空吸着させることにより、薄膜シリ
コン２を印刷ステージ４に固定しパターン形成を行う。
なお６は印刷マスクである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の薄
膜シリコンの固定装置および方法では、薄膜シリコン２
を直接印刷ステージ４に真空吸着するため、薄膜シリコ
ン２と印刷ステージ４の問に障害物があると吸着した際
に薄膜シリコン２が割れる恐れがあった。また、薄膜シ
リコン２を印刷ステージ４上に固定する際、真空吸着口
５とバイアホール３の位置が一致すると薄膜シリコン２
は真空吸着されないため、薄膜シリコン２の固定位置決
めに精度が要求された。
膜シリコンの固定装置および方法では、薄膜シリコン２
を直接印刷ステージ４に真空吸着するため、薄膜シリコ
ン２と印刷ステージ４の問に障害物があると吸着した際
に薄膜シリコン２が割れる恐れがあった。また、薄膜シ
リコン２を印刷ステージ４上に固定する際、真空吸着口
５とバイアホール３の位置が一致すると薄膜シリコン２
は真空吸着されないため、薄膜シリコン２の固定位置決
めに精度が要求された。
【０００９】さらに、印刷の際にバイアホール３を介し
て薄膜シリコン２印刷面上のインク又は印刷マスク６が
印刷ステージ４に吸引され、パターン乱れが起きる恐れ
があった。一方、吸着力を弱めると薄膜シリコン２は印
刷マスク６に張り付いてしまう。このように、従来の固
定装置および方法ではスループットの良い、高い歩留り
の薄膜シリコン、特に薄膜シリコン太陽電池の製造が行
えないという問題点があった。
て薄膜シリコン２印刷面上のインク又は印刷マスク６が
印刷ステージ４に吸引され、パターン乱れが起きる恐れ
があった。一方、吸着力を弱めると薄膜シリコン２は印
刷マスク６に張り付いてしまう。このように、従来の固
定装置および方法ではスループットの良い、高い歩留り
の薄膜シリコン、特に薄膜シリコン太陽電池の製造が行
えないという問題点があった。
【００１０】この発明は、上述のような課題を解決する
ためになされたもので、薄膜シリコンを真空吸着するこ
とによって起きるウエハ割れ及びパターン乱れを防ぎ、
歩留り低下を防止することができる薄膜シリコンの固定
装置を提供することを目的とする。
ためになされたもので、薄膜シリコンを真空吸着するこ
とによって起きるウエハ割れ及びパターン乱れを防ぎ、
歩留り低下を防止することができる薄膜シリコンの固定
装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記の目的に鑑み、この
発明は、薄膜シリコンを受け入れる開口部を有し、この
開口部に内側に向かって突出し薄膜シリコンの外周部分
を上方から押さえる庇部を設けた薄膜固定治具と、上記
開口部に薄膜シリコンを受け入れるようにして上記薄膜
固定治具および薄膜シリコンが載置されると共に上記薄
膜固定治具を真空吸着する真空吸着口を設けた印刷ステ
ージと、を備えたことを特徴とする薄膜シリコンの固定
装置にある。
発明は、薄膜シリコンを受け入れる開口部を有し、この
開口部に内側に向かって突出し薄膜シリコンの外周部分
を上方から押さえる庇部を設けた薄膜固定治具と、上記
開口部に薄膜シリコンを受け入れるようにして上記薄膜
固定治具および薄膜シリコンが載置されると共に上記薄
膜固定治具を真空吸着する真空吸着口を設けた印刷ステ
ージと、を備えたことを特徴とする薄膜シリコンの固定
装置にある。
【００１２】またこの発明は、上記薄膜固定治具が開口
部の内周の１周に渡って上記庇部を設けていることを特
徴とする薄膜シリコンの固定装置にある。
部の内周の１周に渡って上記庇部を設けていることを特
徴とする薄膜シリコンの固定装置にある。
【００１３】またこの発明は、上記薄膜固定治具が開口
部の内周に部分的に上記庇部を設けていることを特徴と
する薄膜シリコンの固定装置にある。
部の内周に部分的に上記庇部を設けていることを特徴と
する薄膜シリコンの固定装置にある。
【００１４】またこの発明は、薄膜シリコンを支持する
印刷ステージ上に、薄膜シリコンを受け入れる開口部を
有しこの開口部が上記薄膜シリコンの出入れのために側
面の一部が開放されており、さらにこの開口部の内側に
向かって突出し薄膜シリコンの外周部分を上方から押さ
える庇部を設けた薄膜固定治具部を一体に形成したこと
を特徴とする薄膜シリコンの固定装置にある。
印刷ステージ上に、薄膜シリコンを受け入れる開口部を
有しこの開口部が上記薄膜シリコンの出入れのために側
面の一部が開放されており、さらにこの開口部の内側に
向かって突出し薄膜シリコンの外周部分を上方から押さ
える庇部を設けた薄膜固定治具部を一体に形成したこと
を特徴とする薄膜シリコンの固定装置にある。
【００１５】またこの発明は、上記薄膜シリコンが複数
の貫通穴を有する太陽電池用の薄膜シリコンであること
を特徴とする薄膜シリコンの固定装置にある。
の貫通穴を有する太陽電池用の薄膜シリコンであること
を特徴とする薄膜シリコンの固定装置にある。
【００１６】
【００１７】
【００１８】
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１はこの発明の
一実施の形態による薄膜シリコンの固定装置を示す図で
あり、(ａ)は全体の断面図、(ｂ)は薄膜固定治具１を上
から見た平面図である。図において、１は薄膜固定治
具、１ａは薄膜シリコン２を受け入れる開口部、１ｂは
この開口部１ａに内側に向かって突出し薄膜シリコン２
の外周部分を上方から押さえるための庇部、２はバイヤ
ホール３が形成された薄膜シリコン太陽電池であるｐ型
の薄膜シリコン、３はバイヤホール(貫通穴)、４は印刷
ステージ、５は真空吸着口、６は印刷マスクである。
一実施の形態による薄膜シリコンの固定装置を示す図で
あり、(ａ)は全体の断面図、(ｂ)は薄膜固定治具１を上
から見た平面図である。図において、１は薄膜固定治
具、１ａは薄膜シリコン２を受け入れる開口部、１ｂは
この開口部１ａに内側に向かって突出し薄膜シリコン２
の外周部分を上方から押さえるための庇部、２はバイヤ
ホール３が形成された薄膜シリコン太陽電池であるｐ型
の薄膜シリコン、３はバイヤホール(貫通穴)、４は印刷
ステージ、５は真空吸着口、６は印刷マスクである。
【００１９】ここでは、印刷ステージ４上に薄膜シリコ
ン２を載せ、この周囲四辺を薄膜固定治具１の庇部１ｂ
で押さえることにより、薄膜シリコン２を印刷ステージ
４に固定しパターン形成を行う。薄膜固定治具１は印刷
ステージ４に吸着することにより固定する。
ン２を載せ、この周囲四辺を薄膜固定治具１の庇部１ｂ
で押さえることにより、薄膜シリコン２を印刷ステージ
４に固定しパターン形成を行う。薄膜固定治具１は印刷
ステージ４に吸着することにより固定する。
【００２０】図１の(ｂ)に示すように、薄膜固定治具１
の庇部１ｂは薄膜シリコン２の周囲をステージに固定さ
せる部分である。この治具は材質にはステンレスを使用
しており、例えば１０ｃｍ角の薄膜シリコンの場合、全
体の大きさ１５ｃｍ角、厚さ０.２ｍｍ、薄膜シリコン
２の周囲を押さえる庇部１ｂの幅を１ｍｍとした。これ
により、パターン乱れのない印刷を再現性良く行えるよ
うになった。
の庇部１ｂは薄膜シリコン２の周囲をステージに固定さ
せる部分である。この治具は材質にはステンレスを使用
しており、例えば１０ｃｍ角の薄膜シリコンの場合、全
体の大きさ１５ｃｍ角、厚さ０.２ｍｍ、薄膜シリコン
２の周囲を押さえる庇部１ｂの幅を１ｍｍとした。これ
により、パターン乱れのない印刷を再現性良く行えるよ
うになった。
【００２１】実施の形態２．図２の(ａ)および(ｂ)はこ
の発明による薄膜固定治具１の別の実施の形態のものを
示した平面図である。図１に示した薄膜固定治具では薄
膜シリコン２を周囲四辺で押さえることにより固定し
た。しかし、治具で押さえられている所には印刷できな
いため、印刷パターンに制約が課せられる。そのため、
押さえる庇部１ｂを図２の(ａ)および(ｂ)に示すように
開口部１ａの二又は三辺だけに設けるようにすることに
より、制約を軽減した。
の発明による薄膜固定治具１の別の実施の形態のものを
示した平面図である。図１に示した薄膜固定治具では薄
膜シリコン２を周囲四辺で押さえることにより固定し
た。しかし、治具で押さえられている所には印刷できな
いため、印刷パターンに制約が課せられる。そのため、
押さえる庇部１ｂを図２の(ａ)および(ｂ)に示すように
開口部１ａの二又は三辺だけに設けるようにすることに
より、制約を軽減した。
【００２２】実施の形態３．図３はこの発明の別の実施
の形態による薄膜シリコンの固定装置を示す図であり、
(ａ)は全体の断面図、(ｂ)は印刷ステージ４を上から見
た平面図である。図において、２はｐ型の薄膜シリコ
ン、３はバイヤホール(貫通穴)、４は印刷ステージで、
４ａはこの印刷ステージ４に一体に形成された薄膜固定
治具部、４ｂは薄膜シリコン２を受け入れかつ薄膜シリ
コン２の出入れのために側面の一部が開放されている開
口部、４ｃはこの開口部４に内側に向かって突出し薄膜
シリコン２の外周部分を上方から押さえるための庇部、
６は印刷マスクである。
の形態による薄膜シリコンの固定装置を示す図であり、
(ａ)は全体の断面図、(ｂ)は印刷ステージ４を上から見
た平面図である。図において、２はｐ型の薄膜シリコ
ン、３はバイヤホール(貫通穴)、４は印刷ステージで、
４ａはこの印刷ステージ４に一体に形成された薄膜固定
治具部、４ｂは薄膜シリコン２を受け入れかつ薄膜シリ
コン２の出入れのために側面の一部が開放されている開
口部、４ｃはこの開口部４に内側に向かって突出し薄膜
シリコン２の外周部分を上方から押さえるための庇部、
６は印刷マスクである。
【００２３】すなわちこの実施の形態では、薄膜固定治
具部４ａと印刷ステージ４を一体化した。そして薄膜シ
リコン２を押さえる辺は三辺とし、残りの一辺より薄膜
シリコン２を出入れすることにより印刷ステージ４上に
固定するようにした。このようにしても同等の効果が得
られる。また、印刷ステージ４に吸着機構が必要なくな
るので装置が簡略化される。
具部４ａと印刷ステージ４を一体化した。そして薄膜シ
リコン２を押さえる辺は三辺とし、残りの一辺より薄膜
シリコン２を出入れすることにより印刷ステージ４上に
固定するようにした。このようにしても同等の効果が得
られる。また、印刷ステージ４に吸着機構が必要なくな
るので装置が簡略化される。
【００２４】なお、上記実施の形態では薄膜シリコンを
四角形のものであるという前提で説明を行ったため、薄
膜固定治具および薄膜固定治具部を一体に設けた印刷ス
テージもそれぞれ四角形のものとして説明したが、この
発明はこれに限定されるものではなく、多角形、円形あ
るいは楕円形等の他の形状のものであってもよい。
四角形のものであるという前提で説明を行ったため、薄
膜固定治具および薄膜固定治具部を一体に設けた印刷ス
テージもそれぞれ四角形のものとして説明したが、この
発明はこれに限定されるものではなく、多角形、円形あ
るいは楕円形等の他の形状のものであってもよい。
【００２５】さらに、薄膜シリコンとして特にバイヤホ
ールが形成された太陽電池用の薄膜シリコンについて説
明したが、これに限定されるものではなく、壊れ易い薄
膜シリコン一般に適用でき、相当の効果が得られるもの
である。
ールが形成された太陽電池用の薄膜シリコンについて説
明したが、これに限定されるものではなく、壊れ易い薄
膜シリコン一般に適用でき、相当の効果が得られるもの
である。
【００２６】
【発明の効果】以上のようにこの発明では、薄膜シリコ
ンを受け入れる開口部を有し、この開口部に内側に向か
って突出し薄膜シリコンの外周部分を上方から押さえる
庇部を設けた薄膜固定治具と、上記開口部に薄膜シリコ
ンを受け入れるようにして上記薄膜固定治具および薄膜
シリコンが載置されると共に上記薄膜固定治具を真空吸
着する真空吸着口を設けた印刷ステージと、を備えた薄
膜シリコンの固定装置としたので、壊れ易い薄膜シリコ
ンを直接真空吸着することがなく、薄膜シリコンを真空
吸着することによって起きるウエハ割れ及びパターン乱
れを防ぎ、歩留り低下を防止することができる。
ンを受け入れる開口部を有し、この開口部に内側に向か
って突出し薄膜シリコンの外周部分を上方から押さえる
庇部を設けた薄膜固定治具と、上記開口部に薄膜シリコ
ンを受け入れるようにして上記薄膜固定治具および薄膜
シリコンが載置されると共に上記薄膜固定治具を真空吸
着する真空吸着口を設けた印刷ステージと、を備えた薄
膜シリコンの固定装置としたので、壊れ易い薄膜シリコ
ンを直接真空吸着することがなく、薄膜シリコンを真空
吸着することによって起きるウエハ割れ及びパターン乱
れを防ぎ、歩留り低下を防止することができる。
【００２７】またこの発明では、上記薄膜固定治具が開
口部の内周の１周に渡って上記庇部を設けているので、
より確実に薄膜シリコンの固定が行える。
口部の内周の１周に渡って上記庇部を設けているので、
より確実に薄膜シリコンの固定が行える。
【００２８】またこの発明では、上記薄膜固定治具が開
口部の内周に部分的に上記庇部を設けているので、治具
で押さえられている所には印刷ができないことからくる
印刷パターンの制約を軽減できる。
口部の内周に部分的に上記庇部を設けているので、治具
で押さえられている所には印刷ができないことからくる
印刷パターンの制約を軽減できる。
【００２９】またこの発明では、薄膜シリコンを支持す
る印刷ステージ上に、薄膜シリコンを受け入れる開口部
を有しこの開口部が上記薄膜シリコンの出入れのために
側面の一部が開放されており、さらにこの開口部の内側
に向かって突出し薄膜シリコンの外周部分を上方から押
さえる庇部を設けた薄膜固定治具部を一体に形成した薄
膜シリコンの固定装置としたので、真空吸着を使用しな
いので、薄膜シリコンを真空吸着することによって起き
るウエハ割れ及びパターン乱れを防ぎ、歩留り低下を防
止できると共に、吸着機構が不要なため装置の簡略化が
図れる。
る印刷ステージ上に、薄膜シリコンを受け入れる開口部
を有しこの開口部が上記薄膜シリコンの出入れのために
側面の一部が開放されており、さらにこの開口部の内側
に向かって突出し薄膜シリコンの外周部分を上方から押
さえる庇部を設けた薄膜固定治具部を一体に形成した薄
膜シリコンの固定装置としたので、真空吸着を使用しな
いので、薄膜シリコンを真空吸着することによって起き
るウエハ割れ及びパターン乱れを防ぎ、歩留り低下を防
止できると共に、吸着機構が不要なため装置の簡略化が
図れる。
【００３０】またこの発明では、上記薄膜シリコンが複
数の貫通穴を有する太陽電池用の薄膜シリコン、すなわ
ち薄膜シリコン太陽電池である場合には特に、薄膜シリ
コンを真空吸着することによって起きるウエハ割れ及び
パターン乱れを防ぎ、歩留り低下を防止することができ
る。
数の貫通穴を有する太陽電池用の薄膜シリコン、すなわ
ち薄膜シリコン太陽電池である場合には特に、薄膜シリ
コンを真空吸着することによって起きるウエハ割れ及び
パターン乱れを防ぎ、歩留り低下を防止することができ
る。
【００３１】
【００３２】
【図１】 この発明の一実施の形態による薄膜シリコン
の固定装置を示す(ａ)は全体の断面図、(ｂ)は薄膜固定
治具を上から見た平面図である。
の固定装置を示す(ａ)は全体の断面図、(ｂ)は薄膜固定
治具を上から見た平面図である。
【図２】 この発明による薄膜固定治具の別の実施の形
態のものを示した平面図である。
態のものを示した平面図である。
【図３】 この発明の別の実施の形態による薄膜シリコ
ンの固定装置を示す(ａ)は全体の断面図、(ｂ)は印刷ス
テージを上から見た平面図である。
ンの固定装置を示す(ａ)は全体の断面図、(ｂ)は印刷ス
テージを上から見た平面図である。
【図４】 薄膜シリコン太陽電池ＶＥＳＴセルの製造方
法を説明するための模式図である。
法を説明するための模式図である。
【図５】 従来の薄膜シリコンの固定装置を示す図であ
る。
る。
１ 薄膜固定治具、１ａ，４ｂ 開口部、１ｂ，４ｃ
庇部、２ 薄膜シリコン、３ バイアホール、４ 印刷
ステージ、４ａ 薄膜固定治具部、５ 真空吸着口、６
印刷マスク。
庇部、２ 薄膜シリコン、３ バイアホール、４ 印刷
ステージ、４ａ 薄膜固定治具部、５ 真空吸着口、６
印刷マスク。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/68
Claims (5)
- 【請求項１】 薄膜シリコンを受け入れる開口部を有
し、この開口部に内側に向かって突出し薄膜シリコンの
外周部分を上方から押さえる庇部を設けた薄膜固定治具
と、 上記開口部に薄膜シリコンを受け入れるようにして上記
薄膜固定治具および薄膜シリコンが載置されると共に上
記薄膜固定治具を真空吸着する真空吸着口を設けた印刷
ステージと、 を備えたことを特徴とする薄膜シリコンの固定装置。 - 【請求項２】 上記薄膜固定治具が開口部の内周の１周
に渡って上記庇部を設けていることを特徴とする請求項
１に記載の薄膜シリコンの固定装置。 - 【請求項３】 上記薄膜固定治具が開口部の内周に部分
的に上記庇部を設けていることを特徴とする請求項１に
記載の薄膜シリコンの固定装置。 - 【請求項４】 薄膜シリコンを支持する印刷ステージ上
に、薄膜シリコンを受け入れる開口部を有しこの開口部
が上記薄膜シリコンの出入れのために側面の一部が開放
されており、さらにこの開口部の内側に向かって突出し
薄膜シリコンの外周部分を上方から押さえる庇部を設け
た薄膜固定治具部を一体に形成したことを特徴とする薄
膜シリコンの固定装置。 - 【請求項５】 上記薄膜シリコンが複数の貫通穴を有す
る太陽電池用の薄膜シリコンであることを特徴とする請
求項１ないし４のいずれかに記載の薄膜シリコンの固定
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7054398A JP2947782B1 (ja) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | 薄膜シリコンの固定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7054398A JP2947782B1 (ja) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | 薄膜シリコンの固定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2947782B1 true JP2947782B1 (ja) | 1999-09-13 |
| JPH11274279A JPH11274279A (ja) | 1999-10-08 |
Family
ID=13434549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7054398A Expired - Fee Related JP2947782B1 (ja) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | 薄膜シリコンの固定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2947782B1 (ja) |
-
1998
- 1998-03-19 JP JP7054398A patent/JP2947782B1/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11274279A (ja) | 1999-10-08 |
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