JP2946034B1 - 低級オレフィンの製造法 - Google Patents
低級オレフィンの製造法Info
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Abstract
チレン、プロピレン等の低級オレフィンを製造するに際
し、触媒が反応条件下で水蒸気、炭酸ガスに対し安定で
あり、かつ芳香族炭化水素、重質物等の副生成物の生成
を抑制し、低級オレフィンをエネルギーコスト的に有利
に製造する方法を提供する。 【解決手段】 炭化水素原料を、一般式M2O2CO
3(式中、Mは希土類元素を示す)で表される希土類元
素オキシカーボネート触媒を使用し、酸素の存在下に接
触分解させることを特徴とする低級オレフィンの製造方
法。
Description
数2〜30のパラフィン(但し、炭素数3以下のものを
除く)又はこれを10wt%以上含有する炭化水素原料
を使用して接触分解する事により、低級オレフィン、主
としてエチレン及びプロピレンを製造する方法に関す
る。
ンは石油化学工業の基礎原料として重要な物質である。
従来、これらの低級オレフィンの製造方法としては、エ
タン、プロパン、ブタン等のガス状炭化水素あるいはナ
フサ等の液状炭化水素を原料とし、外熱式の管状炉内で
水蒸気雰囲気下に加熱分解する方法が広く実施されてい
る。しかし、この方法ではガス化率を高めるために80
0℃以上の高温を必要とし、高価な装置材料を使用しな
ければならないこと、また、重質物等の副生が多いこ
と、さらに、分解時に析出する炭素が分解炉内でコーキ
ングする等の問題があった。これらの問題を解決する手
段として、水蒸気存在下で以下のような種々の触媒を利
用した接触分解法が提案されている。酸化クロム、酸化
マグネシウム混合物に、酸化アルミニウム、二酸化ケイ
素、酸化鉄、酸化カルシウム、酸化カリウムの一種を添
加した触媒を用いる方法(特公昭53−23806
号)、水蒸気存在下、希土類酸化物20〜100wt%
含有する触媒を用いる方法(特公昭56−29919
号)、アルカリ土類酸化物のチタン酸塩に、酸化リチウ
ム、酸化ナトリウム、酸化カリウムの一種を添加した触
媒を用いる方法(特公昭57−42672号)、酸化チ
タン等の担体に周期律表第VIb族金属酸化物とアルカ
リ金属からなる触媒を用いる方法(特公昭59−193
834号)、マンガンまたは鉄の酸化物と、マグネシウ
ム、ランタン系金属もしくはニオブの少なくとも一種の
酸化物からなる触媒を用いる方法(特公平7−6815
1号)等である。これらの方法はコーキングの発生を低
減し、原料ガス化率を高めることができるという効果を
有するものであった。しかし、触媒活性発現のため、加
熱分解と同程度の高い反応温度を必要とし、さらに、原
料とほぼ同量のスチームを混合するために、スチームの
発生に多大なエネルギーを必要とすること等、エネルギ
ー消費効率の点で課題が存在した。。一方、特開昭61
−7218号、特開平6−192134号、特公平4−
171 65号に見られるようなゼオライト系触媒にお
いては、比較的低温で、しかも反応にスチームを必要す
ることなくオレフィン類を製造することができるが、い
ずれも芳香族系炭化水素の選択率が高く、エチレン、プ
ロピレン等の低級オレフィンを選択的に製造するには不
適当であった。
て炭素数2〜30のパラフィン(但し、炭素数3以下の
ものを除く)又はこれを10wt%以上含有する炭化水
素原料を接触分解してエチレン、プロピレン等の低級オ
レフィンを製造するに際し、触媒が反応条件下で水蒸
気、炭酸ガスに対し安定であり、かつ芳香族炭化水素、
重質物等の副生成物の生成を抑制し、低級オレフィンを
エネルギーコスト的に有利に製造する方法を提供するこ
とをその課題とする。
を解決すべく鋭意研究を進めた結果、希土類オキシカー
ボネートを主成分とする触媒を使用し、酸素の存在下で
炭素数2〜30のパラフィン(但し、炭素数3以下のも
のを除く)又はこれを10wt%以上含有する炭化水素
原料を接触分解することにより、工業的に有利な低温
で、かつ高選択的にエチレン及びプロピレンを製造でき
ることを見出し本発明を完成した。すなわち、本発明に
よれば、炭素数2〜30のパラフィン(但し、炭素数3
以下のものを除く)又はこれを10wt%以上含有する
炭化水素原料を、一般式M2O2CO3(式中、Mは希土
類元素を示す)で表される希土類元素オキシカーボネー
ト触媒を使用し、酸素の存在下に接触分解させることを
特徴とする低級オレフィンの製造方法が提供される。ま
た、本発明によれば、炭素数2〜30のパラフィン(但
し、炭素数3以下のものを除く)又はこれを10wt%
以上含有する炭化水素原料を、アルカリ金属及び/又は
アルカリ土類金属を含有する一般式M2O2CO3(式
中、Mは希土類元素を示す)で表される希土類元素オキ
シカーボネートを触媒に用い、酸素の存在下に接触分解
させることを特徴とする低級オレフィンの製造法が提供
される。
のパラフィン(但し、炭素数3以下のものを 除く)又は
これを10wt%以上含有する炭化水素原料としては、
常温、常圧でガス状又は液状の炭化水素類が使用でき
る。一般的には、炭素数2〜30、好ましくは、2〜2
0のパラフィン又はこれを主成分(10wt%以上)と
する炭素数2〜30のパラフィン(但し、炭素数3以下
のものを除く)又はこれを10wt%以上含有する炭化
水素原料が用いられる。このような炭化水素原料として
は、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン等のパラフィ
ン類、あるいはナフサ、軽油等の軽質炭化水素留分を挙
げることができる。また、原料成分は飽和炭化水素に限
定されるものではなく、不飽和炭化水素を有する成分を
含有するものでも使用できる。
ネートを主成分とする。この場合のオキシカーボネート
は、一般式M2O2CO3(式中、Mは希土類元素を示
す)で表されるものである。希土類元素としては、どの
ようなものでも使用可能であるが、好ましくはランタ
ン、ネオジウム、サマリウム、プラセオジウム、ユウロ
ピウム、ガドリニウム、ジスプロシウム、ホルミウム等
を挙げることができ、これらをオキシカーボネート化し
て使用する。希土類オキシカーボネートは、それぞれ単
独で使用しても、また、2種類以上を混合して使用して
もよい。希土類元素オキシカーボネート触媒の調製は、
種々の希土類元素の酸化物に、二酸化炭素を付加させる
ことにより、また、希土類元素の炭酸塩、シュウ酸塩、
酢酸塩などを、空気中または二酸化炭素雰囲気中にて、
およそ400〜950度で焼成、熱分解する事によって
得ることができる。さらに、希土類元素の硝酸塩を過剰
の炭酸ナトリウムで沈殿させる方法、希土類元素の炭酸
塩を水熱処理することにより調製した、希土類元素ヒド
ロキシカーボネートを500〜600℃で焼成する方法
などの方法を用いて製造することができる。これらのオ
キシカーボネートは、調製条件、または出発物質によ
り、結晶系の違うタイプ(例えばII型、IA型、I
型)が生じる。触媒としては、そのいずれの結晶系でも
よいが、特にIA型が好ましい(Gmelin Han
dbook of Inorganic and Or
ganometallic Chemistry; R
are Earth Elements)。アルカリ土
類金属酸化物等の化合物は、二酸化炭素を吸収すること
により炭酸塩化し、触媒活性は消失する。しかし、希土
類元素オキシカーボネートは、二酸化炭素を結晶格子の
層間に取り込んでいるために、二酸化炭素による触媒活
性の低下などの問題は避けられる。
トからなる触媒は、助触媒として、アルカリ金属及び/
又はアルカリ土類金属を含有することができる。この様
な助触媒の使用により、エチレン、プロピレンの選択率
をさらに高めることができる。前記助触媒において、ア
ルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム
およびセシウムが挙げられ、アルカリ土類金属として
は、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム及びバ
リウムが挙げられる。本発明の触媒において、助触媒は
酸化物、水酸化物の他、炭酸塩等の金属化合物の形態で
存在することができる。本発明の触媒において、助触媒
の使用割合は、1つの希土類元素当たり、アルカリ金属
の場合、0.01〜10原子、好ましくは0.1〜5原
子であり、アルカリ土類金属の場合、0.01〜100
原子、好ましくは0.1〜50原子の割合である。
ネートからなる触媒の調製法としては、粉末混合法、湿
式混合法、含浸法、共沈法、ゾルゲル法などが用いられ
る。本発明の触媒の形状は特に限定されず、粉末や成型
品などのいずれの形状のものでもよい。また、これらの
触媒にはシリカ、アルミナ、マグネシアあるいは石英等
の担体、充填剤を混合して使用してもよい。
本発明触媒の存在下、炭素数2〜30のパラフィン(但
し、炭素数3以下のものを除く)又はこれを10wt%
以上含有する炭化水素原料を酸素の存在下に分解反応さ
せる方法である。この場合、酸素を反応系に存在させる
ことにより重質物の生成を抑制、コーキングを防止し、
さらには低温における触媒の活性を高めることができ
る。酸素源としては、特に高純度の酸素に限定されるも
のではなく、空気を用いてもよい。炭素数2〜30のパ
ラフィン(但し、炭素数3以下のものを除く)又はこれ
を10wt%以上含有する炭化水素原料と酸素の混合比
は、酸素/炭化水素の原子比で0.01〜3の範囲、好
ましくは0.1〜2の範囲であり、通常は爆発範囲の範
囲外である。酸素/炭素比を3より高くすると、一酸化
炭素及び二酸化炭素の生成量が増加するために低級オレ
フィンの選択率が低下し、また0.01より低いと触媒
の活性が低く原料のガス化率が低下するか、又は、反応
温度が高い場合には通常の加熱分解と同様の結果とな
り、コーキングの発生を招くことになる。
等の形式の反応器を使用し、上記の触媒を充填した触媒
層へ炭素数2〜30のパラフィン(但し、炭素数3以下
のものを除く)又はこれを10wt%以上含有する炭化
水素原料と酸素の混合流体を供給することにより行われ
る。このとき混合流体は、窒素、水蒸気、ヘリウムある
いはアルゴン等で希釈されてもよい。反応温度は500
〜800℃、好ましくは550〜650℃の範囲であ
る。800℃以上では、オキシカーボネートの分解が起
こるので好ましくない。本発明では低温でも充分な触媒
活性が発現できるため、上記範囲の反応温度で充分であ
り、コーキングの発生を問題にすることはない。反応圧
力は常圧、減圧下のいずれでも実施できるが、通常は常
圧が採用される。以上のような条件下に本発明の方法を
実施すれば、低温で炭素数2〜30のパラフィン(但
し、炭素数3以下のものを除く)又はこれを10wt%
以上含有する炭化水素原料を効率よく分解でき、コーキ
ング等の問題を回避してエチレン、プロピレン等の低級
オレフィンを選択的に製造することができる。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
ーボネート)2.0gと石英砂2.2gを混合し、充填
した。これをヘリウム雰囲気で600℃に昇温後、この
触媒層に対し、n−ブタン1.4体積%、酸素1.5体
積%、窒素5.7体積%、ヘリウム91.4体積%の混
合流体(酸素/炭素原子比=0.5)を、反応温度60
0℃、流量96ml/minで流通し反応を行った。反
応生成物の分析はガスクロマトグラフィーにより行い、
生成ガス収率(炭素収率)、原料転化率及び酸素転化率
を次式により算出した。 生成ガス収率(重量%)=各成分炭素重量/供給原料炭素重量×100 原料転化率(%)=(1−未反応原料重量/供給原料重量)×100 酸素転化率(%)=(1−未反応原料重量/供給酸素重量)×100 触媒であるランタンオキシカーボネートは、蓚酸ランタ
ンを530℃、空気中で96時間焼成して調製した。X
RDにおいて、生成物がLa2O2CO3(IA)である
ことを確認し反応に用いた。その結果を表1に示す。
かは、実施例1と同様にして反応を行った。触媒である
Naランタンオキシカーボネートは、炭酸ナトリウム溶
液に硝酸ランタンを滴下して生成した沈殿物を濾別、洗
浄し、空気中530℃にて168時間焼成して調製し
た。生成物はNa/La2O2CO3(II)であった。
反応結果を表1に併せて示す。
ランタン(和光製)又は石英砂を、それぞれ単独で充填
した場合の結果を表1に併せて示す。
合には、エチレン、プロピレンの収率が高く、原料を効
率よく分解することがわかる。
ラフィン又はこれを10wt%以上含有する炭化水素原
料(但し、炭素数3以下のものを除く)を原料とし、重
質物等の副生を少なくし、コーキングの発生を防止し
て、エチレン、プロピレン等の低級オレフィンを選択的
に製造することができる。さらに、従来の加熱分解法に
比較すると、反応温度を100℃以上低下することが可
能である。
Claims (5)
- 【請求項1】 炭素数2〜30のパラフィン(但し、炭
素数3以下のものを除く)又はこれを10wt%以上含
有する炭化水素原料を、一般式M2O2CO3(式中、M
は希土類元素を示す)で表される希土類元素オキシカー
ボネートからなる触媒を使用し、酸素の存在下に接触分
解させることを特徴とする低級オレフィンの製造方法。 - 【請求項2】 炭素数2〜30のパラフィン(但し、炭
素数3以下のものを除く)又はこれを10wt%以上含
有する炭化水素原料を、アルカリ金属及び/又はアルカ
リ土類金属を含有する一般式M2O2CO3(式中、Mは
希土類元素を示す)で表される希土類元素オキシカーボ
ネートからなる触媒を使用し、酸素の存在下に接触分解
させることを特徴とする低級オレフィンの製造方法。 - 【請求項3】 該アルカリ金属及び/又はアルカリ土類
金属が、酸化物、水酸化物又は炭酸塩である請求項2に
記載の方法。 - 【請求項4】 炭素数2〜30のパラフィン(但し、炭
素数3以下のものを除く)又はこれを10wt%以上含
有する炭化水素原料と酸素の混合比が、酸素/炭素の原
子比で0.01〜3の範囲である請求項1〜3のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項5】 接触分解反応を、500〜800℃の反
応温度で行う請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6229498A JP2946034B1 (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 低級オレフィンの製造法 |
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JPH11246446A JPH11246446A (ja) | 1999-09-14 |
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US8940955B2 (en) | 2008-12-19 | 2015-01-27 | Uop Llc | Fluid catalytic cracking system and process |
-
1998
- 1998-02-26 JP JP6229498A patent/JP2946034B1/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
"Catalysis Letters"、第6巻、第2号、p.231−238、1990年 |
"Chem.Lett."、第12号、p.2185−2188、1989年 |
"Ind.Eng.Chem.Res."、第30号、p.1016−1023、1991年 |
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