JP2939494B2 - Metallized film capacitors - Google Patents
Metallized film capacitorsInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、保安機構を有する金
属蒸着化プラスチックフィルム(以下、金属化フィルム
と称する)を使用したコンデンサに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a capacitor using a metallized plastic film having a security mechanism (hereinafter referred to as a metallized film).
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の高圧コンデンサは、誘電体として
紙又はプラスチックフィルムあるいはこれらを併用した
ものを使用し、前記誘電体とアルミ箔電極を交互に重ね
合わせ巻回してコンデンサ素子としたものが採用されて
いた。また一部の分野では、金属化紙又は金属化フィル
ムを用いたものも採用されている。2. Description of the Related Art A conventional high-voltage capacitor uses a paper or plastic film or a combination thereof as a dielectric, and employs a dielectric element and an aluminum foil electrode alternately stacked and wound to form a capacitor element. It had been. In some fields, those using metallized paper or metallized film are also employed.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】コンデンサの誘電体は
厚さ数μm〜数十μmと薄く、また面積も大きい。その
ため誘電体に耐電圧上の欠陥が入り易く、コンデンサの
設計においては、この欠陥部分を考慮した設計が必要で
あった。The dielectric of the capacitor is as thin as several μm to several tens μm and has a large area. For this reason, a dielectric is likely to have a defect in withstand voltage, and a capacitor must be designed in consideration of the defect.
【0004】従来の設計では、誘電体を数枚重ね合わせ
ることにより、1枚の誘電体の欠陥部分を他の誘電体が
カバーする方法が採用されてきた。この方法は、誘電体
の重ね合わせ枚数を増すほど効果があったが、誘電体の
厚みを増すと電極間の厚みが厚くなり、電極の端面より
部分放電が発生してコンデンサの寿命を短くするという
弊害が生じたり、誘電体の厚みの増加に伴うコンデンサ
構成素子体積の増加により、近年のコンデンサに対する
小型・軽量化の要望に対応するのが困難であるという問
題があった。In the conventional design, a method has been adopted in which a plurality of dielectrics are overlapped to cover a defective portion of one dielectric with another dielectric. This method was effective as the number of superposed dielectrics was increased, but when the thickness of the dielectric was increased, the thickness between the electrodes was increased, and partial discharge was generated from the end faces of the electrodes to shorten the life of the capacitor. There is a problem that it is difficult to respond to recent demands for miniaturization and lightening of capacitors due to an increase in the volume of capacitor components due to an increase in the thickness of the dielectric.
【0005】また他の欠陥対策として、金属蒸着電極の
採用により、誘電体の欠陥部周辺の電極金属を絶縁破壊
時の放電電流により蒸発飛散させ、絶縁を回復させる方
法(絶縁欠陥部周辺の蒸着電極金属が瞬時短絡によるエ
ネルギーで蒸発・飛散し、コンデンサの機能部分から切
り離され、コンデンサの機能が回復する、自己回復現象
を利用した方法)もあるが、高圧コンデンサでは絶縁破
壊時の電流遮断が困難なために実用化には至っていな
い。As another countermeasure against defects, a method of recovering insulation by vaporizing and scattering an electrode metal around a defective portion of a dielectric by a discharge current at the time of dielectric breakdown by adopting a metal deposition electrode (deposition around an insulating defective portion). The electrode metal evaporates and scatters with the energy due to momentary short-circuit, and is separated from the functional part of the capacitor, and the function of the capacitor is recovered. Due to the difficulty, it has not been put to practical use.
【0006】この発明は、上述の従来の問題点や欠点を
解決するためになされたものであって、その目的は、保
安機構付きコンデンサの金属蒸着電極に改良を加え、ヒ
ューズ効果により絶縁破壊時の電流を遮断して蒸着フィ
ルムの絶縁回復特性を高め、通常の使用状態においての
ヒューズ動作等による容量減少を最小にしつつ、万一の
異常時においても短絡モードの故障を確実に回避し、絶
縁破壊に対する信頼性を格段に向上させた、金属化フィ
ルムを使用したコンデンサ(以下、金属化フィルムコン
デンサと称する)を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems and disadvantages. It is an object of the present invention to improve a metal deposition electrode of a capacitor having a security mechanism, and to use a fuse effect to prevent dielectric breakdown. In order to improve the insulation recovery characteristics of the deposited film by interrupting the current, minimize the capacity decrease due to the fuse operation, etc. under normal use conditions, and reliably avoid short-circuit mode failure even in the event of abnormalities, It is an object of the present invention to provide a capacitor using a metallized film (hereinafter, referred to as a metallized film capacitor) with significantly improved reliability against destruction.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】そこで請求項1の金属化
フィルムコンデンサは、片面に金属蒸着を施したプラス
チックフィルムを2枚一対とするか、両面に金属蒸着を
施したプラスチックフィルムと金属蒸着を施さないプラ
スチックフィルムとを2枚一対として巻回し、上記一対
2面の蒸着面の少なくとも1面は、蒸着金属のない格子
状の第1スリットにより単位金属蒸着電極に細分化さ
れ、第1スリット間に形成された第1ヒューズ部により
単位金属蒸着電極が接続され、細分化された各単位金属
蒸着電極の蒸着面積が10〜1000mm2、各単位金
属蒸着電極を接続する第1ヒューズ部の寸法を最狭部で
0.05mm以上で1.5mm以下とし、かつ第1ヒュ
ーズ部により各単位金属蒸着電極が互いに接続されたコ
ンデンサとしての機能部分の蒸着金属と、金属の溶射等
により導通を得るための電極引き出し部分の蒸着金属と
を、フィルムの長手方向に延びる蒸着金属のない第2ス
リットにより分離し、その第2スリットにより分離され
たコンデンサの機能部分の蒸着金属と電極引き出し部分
の蒸着金属とが、第2スリット間に形成された第2ヒュ
ーズ部により接続されており、第1ヒューズ部と第2ヒ
ューズ部の最狭部の寸法比率が、第1ヒューズ部を1と
した時に第2ヒューズ部が2〜20の範囲内であること
を特徴としている。Therefore, the metallized film capacitor according to claim 1 is a pair of two plastic films with metal vapor deposition on one side or a plastic film with metal vapor deposition on both surfaces. Two uncoated plastic films are wound as a pair, and at least one of the paired two-sided vapor deposition surfaces is subdivided into a unit metal vapor deposition electrode by a grid-like first slit having no vapor deposition metal, and the first slit is formed. The unit metal deposition electrode is connected by the first fuse part formed in the above, the deposition area of each subdivided unit metal deposition electrode is 10 to 1000 mm 2 , and the size of the first fuse part connecting each unit metal deposition electrode is In the narrowest part, 0.05 mm or more and 1.5 mm or less, and each unit metal deposition electrode is connected as a capacitor by the first fuse part. The deposited metal of the active portion and the deposited metal of the electrode lead portion for obtaining conduction by thermal spraying of the metal are separated by a second slit having no deposited metal extending in the longitudinal direction of the film, and separated by the second slit. The deposited metal of the functional part of the capacitor and the deposited metal of the electrode lead-out part are connected by the second fuse part formed between the second slits, and the narrowest part of the first fuse part and the second fuse part is formed. The dimensional ratio is characterized in that the second fuse portion is in the range of 2 to 20 when the first fuse portion is set to 1.
【0008】また請求項2の金属化フィルムコンデンサ
は、第2スリットにより分離された電極引き出し部分の
蒸着金属は、その被膜抵抗値が、コンデンサの機能部分
の蒸着金属の被膜抵抗値よりも低く、かつ第2ヒューズ
部は、コンデンサの機能部分よりも低い被膜抵抗値の蒸
着金属の領域内にあることを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided the metallized film capacitor, wherein the deposited metal of the electrode lead portion separated by the second slit has a coating resistance lower than that of the deposited metal of the functional portion of the capacitor. Further, the second fuse portion is characterized in that the second fuse portion is located in a region of the deposited metal having a lower film resistance value than the functional portion of the capacitor.
【0009】さらに請求項3の金属化フィルムコンデン
サは、定格電圧充電時における各単位金属蒸着電極で形
成される各単位コンデンサの充電エネルギーが0.05
J以下であることを特徴としている。Further, in the metallized film capacitor according to the third aspect, the charging energy of each unit capacitor formed by each unit metal deposition electrode during charging at the rated voltage is 0.05.
J or less.
【0010】請求項4の金属化フィルムコンデンサは、
直流用途におけるプラスチックフィルムの電位傾度を1
30V/μm以上で350V/μm以下に設定すること
を特徴としている。[0010] The metallized film capacitor of claim 4 is:
Potential gradient of plastic film for DC application is 1
It is characterized in that the voltage is set at 30 V / μm or more and 350 V / μm or less.
【0011】請求項5の金属化フィルムコンデンサは、
交流用途におけるプラスチックフィルムの電位傾度を実
効値で60V/μm以上で120V/μm以下に設定す
ることを特徴としている。[0011] The metallized film capacitor of claim 5 is:
It is characterized in that the potential gradient of the plastic film in AC applications is set to an effective value of 60 V / μm or more and 120 V / μm or less.
【0012】[0012]
【作用】上記請求項1の金属化フィルムコンデンサで
は、金属蒸着電極を未蒸着の格子状の第1スリットによ
って複数個の単位金属蒸着電極(以下セグメントと称す
る)に細分化し、各セグメントを第1スリット間に形成
された第1ヒューズ部を介して接続し、フィルムの欠陥
部における放電に対し、その放電エネルギーを小さくし
て放電時の衝撃力による破壊部を小さくすると共に、絶
縁破壊時の短絡電流をヒューズ機能によって遮断し、絶
縁破壊部分のセグメントを切り離すことによってコンデ
ンサとしての機能を喪失することを免れるものであり、
また万一、絶縁破壊時の短絡電流を第1ヒューズ部のヒ
ューズ機能により遮断することができないような異常の
場合でも、コンデンサの機能部分の蒸着金属と電極引き
出し部分の蒸着金属とを接続する第2ヒューズ部のヒュ
ーズ機能によって異常が発生したコンデンサの機能部分
を切り離して開放することにより、絶縁破壊による短絡
故障を確実に回避するものである。In the metallized film capacitor according to the first aspect of the present invention, the metal-deposited electrode is subdivided into a plurality of unit metal-deposited electrodes (hereinafter, referred to as segments) by the first non-evaporated grid-like slits, and each segment is formed into the first metal-deposited electrode. Connected via the first fuse section formed between the slits, the discharge energy at the defective portion of the film is reduced to reduce the destruction part due to the impact force at the time of the discharge, and the short circuit at the time of the dielectric breakdown The current is cut off by the fuse function, and the function of the capacitor is prevented from being lost by separating the segment of the dielectric breakdown,
Even in the case of an abnormality in which the short-circuit current at the time of dielectric breakdown cannot be cut off by the fuse function of the first fuse portion, the second connection between the deposited metal of the functional portion of the capacitor and the deposited metal of the electrode lead portion is made. By separating and opening the functional part of the capacitor in which an abnormality has occurred due to the fuse function of the two fuse part, a short circuit failure due to insulation breakdown is reliably avoided.
【0013】また従来は、例えば特開平4−35941
6号に開示されたもののように、セグメントを形成する
スリットがフィルム幅1方向にのみ設けられているもの
が多かった。このようなスリットでは、本発明のコンデ
ンサの性能上必要とされるセグメントの細分化(10〜
1000mm2)は、特に50mm以上のフィルム幅で
は以下の理由で実用上問題が多い。それは第1には、ス
リット間の幅が極端に狭くなり、加工技術上制約が多く
なるということであり、また第2には、スリットの増加
による容量減少が大きくなるということである。これに
対して本願のものにおける格子状のスリットは、これら
の制約がより少なく、任意に細分化されたセグメントを
形成することができる。Conventionally, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-35941
As disclosed in No. 6, many slits are provided only in one direction of the film width to form a segment. In such a slit, segment segmentation (10 to 10) required for the performance of the capacitor of the present invention is performed.
1000 mm 2 ) has many practical problems especially for a film width of 50 mm or more for the following reasons. The first is that the width between the slits is extremely narrow, and there are many restrictions on the processing technology. The second is that the decrease in capacity due to the increase in the number of slits is large. In contrast, the grid-like slits of the present application have fewer of these restrictions and can form arbitrarily segmented segments.
【0014】各セグメント間を接続する第1ヒューズ部
の寸法は、最狭部で0.05〜1.5mmが適正であ
る。0.05mm未満では通常電流による誤動作が多
く、静電容量の安定性を欠き、また1.5mmを超過す
ればヒューズ部の感度が悪く、誘電体の損傷が生じて絶
縁破壊に対する信頼性を欠くためである。An appropriate dimension of the first fuse portion connecting the segments is 0.05 to 1.5 mm at the narrowest portion. If the thickness is less than 0.05 mm, malfunctions due to normal current are common, and the stability of the capacitance is lacking. If the thickness exceeds 1.5 mm, the sensitivity of the fuse portion is poor, and the dielectric is damaged, resulting in a lack of reliability against dielectric breakdown. That's why.
【0015】またコンデンサの機能部分の蒸着金属と電
極引き出し部分の蒸着金属とを接続する第2ヒューズ部
の寸法は、第1ヒューズ部の最狭部との寸法比率で、第
1ヒューズ部が1に対して第2ヒューズ部が2〜20の
範囲内が適正である。第1ヒューズ部の最狭部との寸法
比率が2未満では電極引き出し部分からの電流集中によ
る誤動作が多く、静電容量の安定性を欠き、また20を
超過すればヒューズ部の感度が悪く、第1ヒューズ部の
ヒューズ機能により絶縁破壊時の短絡電流を遮断できな
いような異常の場合に、第2ヒューズ部によりコンデン
サの機能部分を切り離して開放することができず、絶縁
破壊による短絡故障を確実に回避できないためである。The dimension of the second fuse section connecting the deposited metal of the functional part of the capacitor and the deposited metal of the electrode lead-out part is a dimension ratio of the narrowest part of the first fuse part. It is appropriate that the second fuse portion is in the range of 2 to 20. If the dimensional ratio of the first fuse portion to the narrowest portion is less than 2, malfunctions due to current concentration from the electrode lead-out portion often occur, the stability of the capacitance is lacked, and if it exceeds 20, the sensitivity of the fuse portion is poor. In the case of an abnormality in which the short-circuit current at the time of insulation breakdown cannot be cut off by the fuse function of the first fuse section, the function section of the capacitor cannot be separated and opened by the second fuse section, and short-circuit failure due to insulation breakdown can be ensured. This is because it cannot be avoided.
【0016】セグメントの面積については、10〜10
00mm2が適当である。10mm2未満では、スリッ
トの静電容量損失分が大きいのと、ヒューズ部を含む加
工技術上、及び経済性に難点があり得策でないし、また
1000mm2を超過すれば、1回のヒューズ動作時に
減少する静電容量が大きくなり、コンデンサの静電容量
寿命で電位傾度が制約され得策でないためである。The area of the segment is 10 to 10
00 mm 2 is appropriate. Is less than 10 mm 2, and the large capacitance loss of slits, the processing techniques including fuse portion, and do not advisable There are difficulties in the economy, also if it is in excess of 1000 mm 2, when one of the fuse operation This is because the decreasing capacitance becomes large, and the potential gradient is restricted by the life of the capacitance of the capacitor.
【0017】請求項2の金属化フィルムコンデンサで
は、第2スリットにより分離された電極引き出し部分の
蒸着金属の被膜抵抗値が、コンデンサの機能部分の蒸着
金属の被膜抵抗値よりも低い構成、つまりヘビーエッジ
構造とし、第2ヒューズ部を、第2スリットにより分離
されたコンデンサの機能部分よりも被膜抵抗値の低いヘ
ビーエッジ部分の範囲内としている。それはヘビーエッ
ジ構造の金属蒸着構成において、第2ヒューズ部をヘビ
ーエッジ部分の範囲外とすれば、特に第1ヒューズ部と
第2ヒューズ部の寸法比率が小さい場合において、電極
引き出し部分からの電流集中による誤動作が多く、静電
容量の安定性を欠くために得策でないことによる。In the metallized film capacitor according to the second aspect, the film resistance of the deposited metal at the electrode lead-out portion separated by the second slit is lower than the film resistance of the deposited metal at the functional portion of the capacitor. An edge structure is provided, and the second fuse portion is within a range of a heavy edge portion having a lower film resistance value than a functional portion of the capacitor separated by the second slit. That is, in the metal deposition structure of the heavy edge structure, if the second fuse portion is outside the range of the heavy edge portion, particularly when the dimensional ratio of the first fuse portion and the second fuse portion is small, the current concentration from the electrode lead portion is reduced. This is not a good idea due to lack of stability of capacitance due to many malfunctions.
【0018】請求項3の金属化フィルムコンデンサのよ
うに、定格電圧充電時における各単位金属蒸着電極で形
成される各単位コンデンサの充電エネルギーが0.05
J以下であることが適当である。単位コンデンサの充電
エネルギーが0.05Jを超過すると、適正なヒューズ
部設定が困難となり、誘電体の損傷が生じ絶縁破壊に対
する信頼性が低下して、静電容量減少率も大きくなる。According to a third aspect of the present invention, the charging energy of each unit capacitor formed by each unit metal deposition electrode during charging at the rated voltage is 0.05.
Suitably, it is J or less. If the charging energy of the unit capacitor exceeds 0.05 J, it becomes difficult to set an appropriate fuse portion, and damage to the dielectric material occurs, thereby reducing the reliability with respect to dielectric breakdown and increasing the capacitance reduction rate.
【0019】請求項4の金属化フィルムコンデンサのよ
うに、直流用途においてはプラスチックフィルムの電位
傾度を130〜350V/μmに設定するのが適当であ
る。130V/μm未満では、電位傾度において従来の
コンデンサに対する優位性が少なくなる。350V/μ
mを超過すれば、フィルム本来の耐電圧領域になり、ヒ
ューズ動作頻度が急増し、コンデンサの静電容量減少で
機能を喪失して実用に耐えなくなる。As in the case of the metallized film capacitor according to the fourth aspect, in DC applications, it is appropriate to set the potential gradient of the plastic film to 130 to 350 V / μm. If it is less than 130 V / μm, the advantage over the conventional capacitor in the potential gradient decreases. 350V / μ
If it exceeds m, the film will be in the inherent withstand voltage region of the film, the frequency of fuse operation will increase sharply, and the capacitance will be reduced, resulting in a loss of function and a failure in practical use.
【0020】請求項5の金属化フィルムコンデンサのよ
うに、交流用途においてはプラスチックフィルムの電位
傾度を実効値で60〜120V/μmに設定するのが適
当である。60V/μm未満では、電位傾度において従
来のコンデンサに対する優位性が少なくなる。120V
/μmを超過すれば、コンデンサ自体の損失により発生
する熱によって熱破壊する領域となり、コンデンサとし
ての機能を維持できなくなる。As in the case of the metallized film capacitor according to the fifth aspect, in an alternating current application, it is appropriate to set the potential gradient of the plastic film to an effective value of 60 to 120 V / μm. If it is less than 60 V / μm, the advantage over the conventional capacitor in the potential gradient decreases. 120V
If it exceeds / μm, it becomes a region that is thermally destroyed by the heat generated by the loss of the capacitor itself, and the function as the capacitor cannot be maintained.
【0021】[0021]
【実施例】次にこの発明の金属化フィルムコンデンサの
具体的な実施例について、図面を参照しつつ詳細に説明
する。図はこの発明の一実施例による金属化フィルムコ
ンデンサ素子を示すもので、図1はその展開斜視図、図
2は一対の金属化フィルムの断面図である。図におい
て、1は第1の金属化フィルムで、ポリプロピレンフィ
ルム等の第1の誘電体フィルム2の表面に金属蒸着によ
り電極被膜3が形成されている。2aはマージン部で、
この部分には電極被膜3は形成されていない。2bは格
子状になった第1スリットで、この部分にも電極被膜3
は形成されていない。3bはそれぞれ第1ヒューズ部で
あり、機能部分の細分化された単位コンデンサであるセ
グメント3aを接続している。3cは第2ヒューズ部で
あり、フィルムの長手方向に延びる電極被膜の形成され
ていない第2スリット2cにより分離された機能部分の
蒸着金属と電極引き出し部分の蒸着金属とを接続してい
る。4は第2の金属化フィルムで、以下第1の金属化フ
ィルムの各部の名称に同じく、5は第2の誘電体フィル
ム、5aはマージン部、5bは格子状の第1スリット、
5cは第2スリット、6は電極被膜、6aはセグメント
部、6bは第1ヒューズ部、6cは第2ヒューズ部であ
る。7、8はリード引き出し用の金属吹き付け部であ
る。そして上記第1の金属化フィルム1を例にすると、
セグメント部3aを形成するパターンとしては、図3〜
図6に示すものがあるが、これ以外のパターンを採用す
ることも可能である。なお図3〜図8において、w1は
第1ヒューズ部最狭部寸法、w2は第2ヒューズ部最狭
部寸法、そしてw3、w4はセグメント部寸法をそれぞ
れ示している。Next, specific embodiments of the metallized film capacitor of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a metallized film capacitor element according to one embodiment of the present invention. FIG. 1 is an exploded perspective view, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a pair of metallized films. In the figure, reference numeral 1 denotes a first metallized film, and an electrode coating 3 is formed on the surface of a first dielectric film 2 such as a polypropylene film by metal vapor deposition. 2a is a margin part,
The electrode coating 3 is not formed on this portion. Reference numeral 2b denotes a grid-like first slit.
Is not formed. Reference numerals 3b denote first fuse portions, respectively, which connect the segments 3a, which are unit capacitors obtained by subdividing functional portions. Reference numeral 3c denotes a second fuse portion, which connects the deposited metal of the functional portion separated by the second slit 2c having no electrode coating extending in the longitudinal direction of the film and the deposited metal of the electrode lead portion. Reference numeral 4 denotes a second metallized film, and similarly to the names of the respective parts of the first metallized film, 5 denotes a second dielectric film, 5a denotes a margin portion, 5b denotes a grid-like first slit,
5c is a second slit, 6 is an electrode coating, 6a is a segment portion, 6b is a first fuse portion, and 6c is a second fuse portion. Reference numerals 7 and 8 denote metal spray portions for leading out leads. And taking the first metallized film 1 as an example,
As a pattern for forming the segment portion 3a, FIGS.
Although there is the one shown in FIG. 6, other patterns can also be adopted. In FIGS. 3 to 8, w1 indicates the narrowest portion size of the first fuse portion, w2 indicates the narrowest portion size of the second fuse portion, and w3 and w4 indicate the segment portion sizes.
【0022】(実施例1)次に試験用に製作した本構造
(図3)の供試コンデンサの仕様を以下に示す。 ・金属化フィルム 亜鉛蒸着ポリプロピレンフィルム ・被膜抵抗値 5Ω/□ ・寸法 幅100mm マージン3.0mm 厚さ12μm セグメント面積400mm2 第1ヒューズ部最狭部0.6mm 第2ヒューズ部最狭部3.0mm スリット幅は全て一定 ・容量 30μF ・含浸剤 植物油(菜種油)含浸 ・外装 角形ブリキケース収納 ・試料数 10個 (比較用としてスリットを設けない従来品も10個) このコンデンサと比較用のコンデンサ(スリットを設け
ない従来品)各10個を使用して試験を行った。試験結
果を表1に示す。(Example 1) The specifications of a test capacitor having the present structure (FIG. 3) manufactured for a test are shown below. · Metallized film of zinc deposited polypropylene film coating resistance 5 [Omega / □ · Dimensions 100mm wide margin 3.0mm thickness 12μm segment area 400 mm 2 first fuse portion narrowest portion 0.6mm second fuse portion narrowest portion 3.0mm All slit widths are constant. ・ Capacity 30μF ・ Impregnant Impregnated with vegetable oil (rapeseed oil) ・ Exterior Square tin case storage ・ Number of samples 10 (10 conventional products without slits for comparison) This capacitor and comparative capacitor (slit) The test was performed using 10 pieces each of which were not provided with (conventional products). Table 1 shows the test results.
【0023】[0023]
【表1】 [Table 1]
【0024】試験方法はステップアップ耐電圧試験とい
われるもので、80℃に設定した熱風循環式恒温槽中に
コンデンサを入れて、180V/μm(2160V)に
相当する直流電圧を105秒(27.8Hrs)印加す
る。印加後、常温にしてコンデンサの容量等の諸特性を
測定する。次に200V/μmに相当する電圧を同様に
して印加し、印加・測定を順次繰り返し、コンデンサが
絶縁破壊するか容量が殆ど無くなるまで印加電圧を上昇
させ継続する。The test method is intended to be referred to as step-up withstanding voltage test, put the capacitor in a hot air circulation type thermostatic chamber set at 80 ℃, 180V / μm 10 5 seconds DC voltage equivalent to (2160V) (27 .8Hrs). After the application, the temperature is set to normal temperature, and various characteristics such as the capacitance of the capacitor are measured. Next, a voltage corresponding to 200 V / μm is applied in the same manner, and application and measurement are sequentially repeated, and the applied voltage is increased and continued until the dielectric breakdown of the capacitor is achieved or the capacitor has almost no capacity.
【0025】以上の試験結果より以下のことが判明し
た。即ち従来のコンデンサが220V/μm(2640
V)前後で全数絶縁破壊したのに対して、本実施例のコ
ンデンサはフィルム本来の耐電圧領域まで絶縁破壊する
ことなく、また大きな容量減少もなく耐用し、しかも容
量がほぼ無くなった時点でも絶縁破壊を生じない。この
ように高い容量安定性と絶縁破壊に対する信頼性が確認
された。From the above test results, the following has been found. That is, the conventional capacitor is 220 V / μm (2640
V) Although all the dielectric breakdown occurred before and after, the capacitor of the present embodiment can withstand the dielectric breakdown without the film to the original withstand voltage region, and can be used without a large capacity reduction. Does not cause destruction. Thus, high capacity stability and reliability against dielectric breakdown were confirmed.
【0026】(実施例2)次に実施例1の図3〜図6に
示す構成で、第2ヒューズ部w2寸法(図3(c)〜図
6(c))を変えて第1ヒューズ部と第2ヒューズ部の
寸法比率が1:1から1:30となる亜鉛蒸着ポリプロ
ピレンフィルムを6種製作し、以下の仕様の供試コンデ
ンサを製作した。 ・金属化フィルム 亜鉛蒸着ポリプロピレンフィルム ・被膜抵抗値 5Ω/□ ・寸法 幅100mm マージン3.0mm 厚さ12μm セグメント面積400mm2 第1ヒューズ部最狭部0.6mm 第2ヒューズ部最狭部0.6、1.2、3.0、6.0、 12.0、18.0mm スリント幅は全て一定 ・容量 25μF ・含浸剤 植物油(菜種油)含浸 ・外装 角形ブリキケース収納 ・試料数 各10個 (比較用としてスリットを設けない従来品を10個、及び 図7、図8に示すように第2スリット及び第2ヒューズ 部を設けないものを10個) 試験結果を表2に示す。(Embodiment 2) Next, in the configuration shown in FIGS. 3 to 6 of Embodiment 1, the first fuse portion is changed by changing the size of the second fuse portion w2 (FIGS. 3C to 6C). Six kinds of zinc-evaporated polypropylene films having a dimensional ratio of 1: 1 to 1:30 for the second fuse portion were manufactured, and test capacitors having the following specifications were manufactured. · Metallized film of zinc deposited polypropylene film coating resistance 5 [Omega / □ · Dimensions 100mm wide margin 3.0mm thickness 12μm segment area 400 mm 2 first fuse portion narrowest portion 0.6mm second fuse portion narrowest portion 0.6 , 1.2, 3.0, 6.0, 12.0, 18.0mm Slit width is constant ・ Capacity 25μF ・ Impregnant Impregnated with vegetable oil (rapeseed oil) ・ Exterior Square tin case storage ・ Number of samples 10 each (10 pieces of conventional products without a slit and 10 pieces without a second slit and a second fuse portion as shown in FIGS. 7 and 8). Test results are shown in Table 2.
【0027】[0027]
【表2】 [Table 2]
【0028】試験の方法は、高温連続昇圧絶縁破壊試験
といわれるもので、80℃に設定した熱風循環式恒温槽
中に供試コンデンサを入れて温度飽和させた後、直流試
験の場合は約400VDC/sec、交流試験の場合は
約150VAc/secの速度で電圧を連続的に上昇さ
せ、コンデンサが絶縁破壊して電圧の上昇が不可能とな
るか、直流試験の場合は印加電圧が10kVDCとなる
まで、交流試験の場合は試料と電源側の容量ミスマッチ
ングにより動作電流30Aの電源保護装置が動作するま
で継続する。The test method is referred to as a high-temperature continuous step-up dielectric breakdown test. A test capacitor is placed in a hot-air circulating constant temperature bath set at 80 ° C., and the temperature is saturated. / Sec, in the case of an AC test, the voltage is continuously increased at a speed of about 150 VAc / sec, and the capacitor is insulated and the voltage cannot be increased. In the case of a DC test, the applied voltage is 10 kVDC. In the case of the AC test, the operation is continued until the power supply protection device with an operation current of 30 A operates due to the mismatch between the sample and the power supply side.
【0029】以上の試験結果より、従来のコンデンサは
直流試験、交流試験共に絶縁破壊により全数短絡故障と
なりケース変形が認められたのに対して、スリット有り
のコンデンサでは直流試験での絶縁破壊による短絡故
障、及びケース変形は1台も発生せず、また良好なヒュ
ーズ動作により試験による劣化部分が切り離されたこと
から、全数フィルム本来の耐電圧領域以上の電圧である
10kVDCまで耐用している。また交流試験では、機
能部分のスリット有りで第2スリット・第2ヒューズ部
を設けない比較品(図7、図8)で5/10台、第1ヒ
ューズ部1に対して比率30の第2ヒューズ部・第2ス
リットを設けた比較品で2/10台の絶縁破壊による短
絡故障及びケース変形が確認されているが、本実施例の
コンデンサでは、絶縁破壊による短絡故障及びケース変
形は1台も発生せず、良好なヒューズ動作性と共に、短
絡故障に対する極めて高い信頼性も確認された。From the above test results, all of the conventional capacitors were short-circuited due to dielectric breakdown in both the DC test and the AC test, resulting in a case deformation. On the other hand, the capacitors with slits were short-circuited due to the dielectric breakdown in the DC test. Since no failure and no case deformation occurred, and the deteriorated portion was removed by the test due to good fuse operation, all the films were used up to 10 kVDC, which is higher than the original withstand voltage range of the film. Also, in the AC test, 5/10 units of comparative products (FIGS. 7 and 8) having slits in the functional portion and not having the second slit and the second fuse portion, and the second fuse having a ratio of 30 to the first fuse portion 1 were used. Although a short-circuit failure due to insulation breakdown and case deformation were confirmed in 2/10 units of the comparative product provided with the fuse portion and the second slit, in the capacitor of this embodiment, one short-circuit failure due to insulation breakdown and one case deformation were observed. No failure occurred, and together with good fuse operability, extremely high reliability against short-circuit faults was confirmed.
【0030】(実施例3)次に実施例2に示すものと同
様の構成で、第2ヒューズ部w2寸法(図3(c)〜図
6(c))を変えて第1ヒューズ部と第2ヒューズ部の
寸法比率が1:1から1:20となる亜鉛蒸着ポリプロ
ピレンフィルムを4種製作し、以下の仕様の供試コンデ
ンサを製作した。 ・金属化フィルム 亜鉛蒸着ポリプロピレンフィルム ・被膜抵抗値 5Ω/□ ・寸法 幅100mm マージン3.0mm 厚さ12μm セグメント面積400mm2 第1ヒューズ部最狭部0.6mm 第2ヒューズ部最狭部0.6、1.2、3.0、 12.0mm スリット幅は全て一定 ・容量 25μF ・含浸剤 植物油(菜種油)含浸 ・外装 角形ブリキケース収納 ・試料数 各10個 (比較用としてスリットを設けない従来品を10個) このコンデンサと比較用のスリットを設けない従来のコ
ンデンサ各10台を使用して、80℃に設定した熱風循
環式恒温槽中にコンデンサを入れ、フィルムの電位傾度
が電圧の実効値で83V/μmとなる電圧を1000H
rs印加した。この結果を表3に示す。(Embodiment 3) Next, with the same configuration as that of Embodiment 2, the first fuse portion and the second fuse portion w2 are changed by changing the size of the second fuse portion w2 (FIGS. 3C to 6C). Four kinds of zinc-evaporated polypropylene films having a dimensional ratio of two fuse portions of 1: 1 to 1:20 were manufactured, and test capacitors having the following specifications were manufactured. · Metallized film of zinc deposited polypropylene film coating resistance 5 [Omega / □ · Dimensions 100mm wide margin 3.0mm thickness 12μm segment area 400 mm 2 first fuse portion narrowest portion 0.6mm second fuse portion narrowest portion 0.6 , 1.2, 3.0, 12.0mm All slit widths are constant ・ Capacity 25μF ・ Impregnant Impregnated with vegetable oil (rapeseed oil) ・ Exterior Square tin case storage ・ Number of samples 10 each (For comparison, no slit is provided Using 10 capacitors and 10 conventional capacitors without slits for comparison, put the capacitors in a hot-air circulating thermostat set at 80 ° C, and set the film potential gradient to the effective value of the voltage. Voltage of 83V / μm at 1000H
rs was applied. Table 3 shows the results.
【0031】[0031]
【表3】 [Table 3]
【0032】従来のコンデンサは100Hrs以内に全
数絶縁破壊し、またスリットを設けて第1ヒューズ部と
第2ヒューズ部の寸法比率を1:1としたコンデンサは
全数絶縁破壊しなかったが、容量減少が大きく実用に供
するものではなかった。これに対して本実施例のコンデ
ンサでは、全数絶縁破壊せず、また容量減少も殆ど見ら
れずに耐用した。尚フィルムの種類、厚さ、蒸着金属と
被膜抵抗値、含浸有無等を変えても、第1ヒューズ部と
第2ヒューズ部の寸法比率がこの範囲であれば、同様の
性能が得られることも確認した。In the conventional capacitors, all the dielectric breakdown occurred within 100 Hrs, and all the capacitors in which the slits were provided and the dimensional ratio of the first fuse portion to the second fuse portion was 1: 1 did not cause the dielectric breakdown, but the capacity was reduced. However, it was not large enough for practical use. On the other hand, in the capacitors of the present embodiment, all of them were used without any dielectric breakdown and with almost no decrease in capacity. Even if the type and thickness of the film, the deposited metal and the film resistance, the presence or absence of impregnation, and the like are changed, if the dimensional ratio of the first fuse portion and the second fuse portion is within this range, the same performance may be obtained. confirmed.
【0033】上記実施例において格子状の第1スリット
はフィルム面上の異なる2方向に不連続に形成されてお
り、隣接する各セグメントはこの第1スリット間に形成
された第1ヒューズ部で互いに接続されている。これに
より第1ヒューズ部の動作時、各セグメントで形成され
る各単位コンデンサを個々に切離すことができ容量損失
を最小限におさえることができる。なお、格子状の第1
スリットは2方向でなく3以上の異なる方向に形成され
ていてもよい。In the above embodiment, the grid-like first slits are formed discontinuously in two different directions on the film surface, and adjacent segments are mutually connected by a first fuse portion formed between the first slits. It is connected. Thus, during operation of the first fuse section, each unit capacitor formed in each segment can be cut off individually, and the capacity loss can be minimized. In addition, the grid-like first
The slits may be formed not in two directions but in three or more different directions.
【0034】ところでセグメントの面積と定格充電電圧
の関係は、1セグメントにより形成される単位コンデン
サの充電エネルギーが0.05J以下が適当である。単
位コンデンサの蓄電エネルギーWは、次式により求める
ものとする。 W=CE2/2(J) C=Sεs/(1.13×1011×d)(F) W:蓄電エネルギー(J) C:単位コンデンサの静電容量(F) d:誘電体厚さ(m) S:1セグメントの面積(m2) εs:比誘電率 E:充電電圧(V) 単位コンデンサの蓄電エネルギーWが0.05Jを超過
すると、適正なヒューズ部設定が困難となり、誘電体の
損傷が生じ絶縁破壊に対する信頼性が低下して、静電容
量減少率も大きくなる。The relationship between the area of the segment and the rated charging voltage is suitably that the charging energy of the unit capacitor formed by one segment is 0.05 J or less. The stored energy W of the unit capacitor is obtained by the following equation. W = CE 2/2 (J ) C = Sεs / (1.13 × 10 11 × d) (F) W: stored energy (J) C: electrostatic capacitance of the unit capacitor (F) d: dielectric thickness (M) S: area of one segment (m 2 ) εs: relative permittivity E: charging voltage (V) If the storage energy W of the unit capacitor exceeds 0.05 J, it is difficult to set an appropriate fuse section, and dielectric Damage occurs, the reliability against dielectric breakdown decreases, and the capacitance reduction rate increases.
【0035】フィルムの電位傾度即ち通常の使用電圧
(定格電圧)をフィルム厚さで除した値は、直流用途に
おいては130〜350V/μmに設定するのが適当で
ある。130V/μm未満では、電位傾度において従来
のコンデンサに対する優位性が少なくなる。350V/
μmを超過すれば、フィルム本来の耐電圧領域になり、
ヒューズ動作頻度が急増し、コンデンサの静電容量減少
で機能を喪失して実用に耐えなくなる。また交流用途に
おいては、定格電圧(実効値)をフィルム厚さで除した
値を60〜120V/μmに設定するのが適当である。
60V/μm未満では、電位傾度において従来のコンデ
ンサに対する優位性が少なくなる。120V/μmを超
過すれば、コンデンサ自体の損失により発生する熱によ
って熱破壊する領域となり、コンデンサとしての機能を
維持できなくなる。The potential gradient of the film, that is, the value obtained by dividing the normal working voltage (rated voltage) by the film thickness, is suitably set to 130 to 350 V / μm in DC applications. If it is less than 130 V / μm, the advantage over the conventional capacitor in the potential gradient decreases. 350V /
If it exceeds μm, it will be the original withstand voltage region of the film,
The frequency of operation of the fuse is rapidly increased, the function is lost due to the decrease in the capacitance of the capacitor, and the capacitor cannot be put to practical use. For AC applications, it is appropriate to set the value obtained by dividing the rated voltage (effective value) by the film thickness to 60 to 120 V / μm.
If it is less than 60 V / μm, the advantage over the conventional capacitor in the potential gradient decreases. If it exceeds 120 V / μm, it becomes a region that is thermally destroyed by the heat generated by the loss of the capacitor itself, and the function as the capacitor cannot be maintained.
【0036】なお金属蒸着電極の構造については、電極
面全体が一様な金属蒸着被膜抵抗値を有する標準的な蒸
着金属か、あるいは第2スリットにより分離された電極
引き出し部分の金属蒸着被膜抵抗値が、コンデンサの機
能部分の金属蒸着被膜抵抗値よりも低いヘビーエッジ構
造の金属蒸着構造でも良い。ヘビーエッジ構造の金属蒸
着の場合には、第2ヒューズ部を、第2スリットにより
分離されたコンデンサの機能部分の金属蒸着被膜抵抗値
よりも低いヘビーエッジ部分の範囲内とするのがよい。
ヘビーエッジ構造の金属蒸着で、第2ヒューズ部をヘビ
ーエッジ部分の範囲外とすれば、特に第1ヒューズ部と
第2ヒューズ部の寸法比率が小さい場合において、電極
引き出し部分からの電流集中による誤動作が多く、静電
容量の安定性を欠くために得策でない。Regarding the structure of the metal-deposited electrode, a standard metal having a uniform metal-deposited-film resistance value over the entire electrode surface, or a metal-deposited-film resistance value of an electrode lead-out portion separated by the second slit is used. However, a metal-deposited structure having a heavy edge structure lower than the metal-deposited film resistance value of the functional part of the capacitor may be used. In the case of metal deposition having a heavy edge structure, it is preferable that the second fuse portion is within a range of a heavy edge portion lower than the metal deposition film resistance value of the functional portion of the capacitor separated by the second slit.
If the second fuse portion is out of the range of the heavy edge portion by the metal deposition of the heavy edge structure, a malfunction due to current concentration from the electrode lead portion particularly when the dimensional ratio of the first fuse portion and the second fuse portion is small. This is not advisable due to lack of stability of capacitance.
【0037】またコンデンサの用途としては、電力用、
フィルター用、充放電用等の高圧コンデンサの他、一般
機器用等の中圧、低圧のコンデンサにも適用できる。The capacitors are used for electric power,
In addition to high-voltage capacitors for filters and charge / discharge, it can be applied to medium- and low-voltage capacitors for general equipment.
【0038】上記実施例では誘電体フィルムとしてポリ
プロピレンフィルムを使用したが、ポリエチレンテレフ
タレートフィルム等他の種類のフィルムであっても良
い。また上記実施例では蒸着金属として亜鉛を使用した
が、亜鉛に特定されるものでなく、アルミニウムや亜鉛
/アルミニウム混合物等他の金属でも良い。今回は植物
油油浸コンデンサで実施したが、含浸剤・充填剤はこれ
に限定されるものではない。また油浸・乾式を問わず適
用することができる。本例では、一対2面両方の蒸着面
が格子状スリットにより細分化された電極であるが、片
方を細分化されない通常の蒸着フィルムとしても何等差
し支えない。In the above embodiment, a polypropylene film was used as the dielectric film, but another type of film such as a polyethylene terephthalate film may be used. In the above embodiment, zinc was used as the vapor deposition metal. However, the metal is not limited to zinc, and may be other metals such as aluminum and a zinc / aluminum mixture. This time, it was carried out with a vegetable oil oil immersion capacitor, but the impregnating agent and filler are not limited to this. Also, it can be applied regardless of oil immersion or dry type. In this example, both the one and two vapor deposition surfaces are electrodes subdivided by the grid-like slits. However, any one of ordinary vapor deposition films that are not subdivided may be used.
【0039】[0039]
【発明の効果】上記請求項1の金属化フィルムコンデン
サでは、1素子のコンデンサを多数の単位コンデンサの
集合体にし、それぞれの単位コンデンサ相互間、及びコ
ンデンサの機能部分と電極引き出し部分間にヒューズ部
を設け、異常時にヒューズ部を切り離すことによって絶
縁破壊することなく容量減少を最小限にとどめてコンデ
ンサの機能を確保すると共に、第1ヒューズ部により絶
縁破壊時の短絡電流を遮断できないような異常時におい
ても第2ヒューズ部によりコンデンサの機能部分と電極
引き出し部分とを切り離すことによって短絡モードの故
障を確実に回避し、絶縁破壊に対する信頼性を格段に向
上させるものである。本発明の採用により、従来のコン
デンサに比較して絶縁性能に対する信頼性が飛躍的に向
上し、小型・軽量のコンデンサを提供することが可能と
なり、工業的及び実用的価値が大である。In the metallized film capacitor according to the first aspect of the present invention, a single element capacitor is formed as an aggregate of a large number of unit capacitors, and a fuse portion is provided between each unit capacitor and between the functional portion of the capacitor and the electrode lead portion. In order to secure the function of the capacitor by minimizing the capacity reduction without breaking down the insulation by disconnecting the fuse part at the time of abnormality and to prevent short-circuit current at the time of insulation breakdown by the first fuse part In this case as well, the function part of the capacitor and the electrode lead-out part are separated by the second fuse part, thereby reliably avoiding a short-circuit mode failure and greatly improving the reliability against dielectric breakdown. By adopting the present invention, the reliability with respect to the insulation performance is remarkably improved as compared with the conventional capacitor, and it is possible to provide a small and lightweight capacitor, and the industrial and practical value is great.
【0040】また請求項2の金属化フィルムコンデンサ
においては、第2ヒューズ部を、コンデンサの機能部分
の蒸着金属の被膜抵抗値よりも低いヘビーエッジ部分の
範囲内としてあるが、これは、ヘビーエッジ構造の金属
蒸着で、第2ヒューズ部をヘビーエッジ部分の範囲外と
すれば、特に第1ヒューズ部と第2ヒューズ部の寸法比
率が小さい場合において、電極引き出し部分からの電流
集中による誤動作が多く、静電容量の安定性を欠くため
である。したがって請求項2の金属化フィルムコンデン
サによれば、誤動作防止及び静電容量の安定化を図るこ
とが可能となる。In the metallized film capacitor according to the second aspect, the second fuse portion is located within a range of a heavy edge portion lower than a coating resistance value of a deposited metal of a functional portion of the capacitor. If the second fuse portion is outside the range of the heavy edge portion by the metal deposition of the structure, malfunctions due to current concentration from the electrode lead portion often occur, particularly when the dimensional ratio of the first fuse portion and the second fuse portion is small. This is because the stability of capacitance is lacking. Therefore, according to the metallized film capacitor of the second aspect, it is possible to prevent malfunction and stabilize the capacitance.
【0041】さらに請求項3の金属化フィルムコンデン
サによれば、適正なヒューズ部の設定が容易となり、絶
縁破壊に対する信頼性が向上して、静電容量の安定化が
図れる。Further, according to the metallized film capacitor of the third aspect, it is easy to set an appropriate fuse portion, the reliability against dielectric breakdown is improved, and the capacitance can be stabilized.
【0042】請求項4の金属化フィルムコンデンサによ
れば、ヒューズ動作頻度の急増による静電容量減少を確
実に防止できる。According to the metallized film capacitor of the fourth aspect, it is possible to reliably prevent a decrease in capacitance due to a sudden increase in the frequency of operation of the fuse.
【0043】請求項5の金属化フィルムコンデンサによ
れば、熱破壊を確実に防止でき、コンデンサとしての寿
命を向上し得る。According to the metalized film capacitor of the fifth aspect, thermal destruction can be reliably prevented, and the life of the capacitor can be improved.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】この発明のコンデンサ素子の構成の一例を示す
展開斜視図である。FIG. 1 is a developed perspective view showing an example of the configuration of a capacitor element of the present invention.
【図2】一対の金属蒸着フィルムの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a pair of metal deposition films.
【図3】(a) 上記実施例の蒸着金属面を示す平面図
である。 (b) 上記(a)の要部拡大図である。 (c) 上記(a)のヒューズ部の拡大図である。FIG. 3 (a) is a plan view showing a vapor-deposited metal surface of the embodiment. (B) It is a principal part enlarged view of said (a). (C) It is an enlarged view of the fuse part of the above (a).
【図4】(a) 蒸着金属面の第2実施例を示す平面図
である。 (b) 上記(a)の要部拡大図である。 (c) 上記(a)のヒューズ部の拡大図である。FIG. 4 (a) is a plan view showing a second embodiment of the metal deposition surface. (B) It is a principal part enlarged view of said (a). (C) It is an enlarged view of the fuse part of the above (a).
【図5】(a) 蒸着金属面の第3実施例を示す平面図
である。 (b) 上記(a)の要部拡大図である。 (c) 上記(a)のヒューズ部の拡大図である。FIG. 5 (a) is a plan view showing a third embodiment of the metal deposition surface. (B) It is a principal part enlarged view of said (a). (C) It is an enlarged view of the fuse part of the above (a).
【図6】(a) 蒸着金属面の第4実施例を示す平面図
である。 (b) 上記(a)の要部拡大図である。 (c) 上記(a)のヒューズ部の拡大図である。FIG. 6 (a) is a plan view showing a fourth embodiment of the metal surface to be deposited. (B) It is a principal part enlarged view of said (a). (C) It is an enlarged view of the fuse part of the above (a).
【図7】(a) 第2スリット及び第2ヒューズ部無し
のコンデンサ素子の蒸着金属面の一例を示す平面図であ
る。 (b) 上記(a)の要部拡大図である。 (c) 上記(a)のヒューズ部の拡大図である。FIG. 7A is a plan view showing an example of a metal deposition surface of a capacitor element without a second slit and a second fuse portion. (B) It is a principal part enlarged view of said (a). (C) It is an enlarged view of the fuse part of the above (a).
【図8】(a) 第2スリット及び第2ヒューズ部無し
のコンデンサ素子の蒸着金属面の一例を示す平面図であ
る。 (b) 上記(a)の要部拡大図である。 (c) 上記(a)のヒューズ部の拡大図である。FIG. 8A is a plan view showing an example of a vapor-deposited metal surface of a capacitor element without a second slit and a second fuse portion. (B) It is a principal part enlarged view of said (a). (C) It is an enlarged view of the fuse part of the above (a).
1 第1の金属化フィルム 2 第1の誘電体フィルム 2a マージン部 2b 第1スリット 2c 第2スリット 3 金属電極被膜 3a セグメント部 3b 第1ヒューズ部 3c 第2ヒューズ部 4 第2の金属化フィルム 5 第2の誘電体フィルム 5a マージン部 5b 第1スリット 5c 第2スリット 6 金属電極被膜 6a セグメント部 6b 第1ヒューズ部 6c 第2ヒューズ部 7 リード引き出し部 8 リード引き出し部 w1 第1ヒューズ部最狭部寸法 w2 第2ヒューズ部最狭部寸法 w3 セグメント部寸法 w4 セグメント部寸法 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st metallized film 2 1st dielectric film 2a Margin part 2b 1st slit 2c 2nd slit 3 Metal electrode coating 3a Segment part 3b 1st fuse part 3c 2nd fuse part 4 2nd metallized film 5 Second dielectric film 5a Margin part 5b First slit 5c Second slit 6 Metal electrode coating 6a Segment part 6b First fuse part 6c Second fuse part 7 Lead lead part 8 Lead lead part w1 First fuse part narrowest part Dimension w2 Dimension of narrowest part of second fuse part w3 Dimension of segment part w4 Dimension of segment part
Claims (5)
ィルムを2枚一対とするか、両面に金属蒸着を施したプ
ラスチックフィルムと金属蒸着を施さないプラスチック
フィルムとを2枚一対として巻回し、上記一対2面の蒸
着面の少なくとも1面は、蒸着金属のない格子状の第1
スリットにより単位金属蒸着電極に細分化され、第1ス
リット間に形成された第1ヒューズ部により単位金属蒸
着電極が接続され、細分化された各単位金属蒸着電極の
蒸着面積が10〜1000mm2、各単位金属蒸着電極
を接続する第1ヒューズ部の寸法を最狭部で0.05m
m以上で1.5mm以下とし、かつ第1ヒューズ部によ
り各単位金属蒸着電極が互いに接続されたコンデンサと
しての機能部分の蒸着金属と、金属の溶射等により導通
を得るための電極引き出し部分の蒸着金属とを、フィル
ムの長手方向に延びる蒸着金属のない第2スリットによ
り分離し、その第2スリットにより分離されたコンデン
サの機能部分の蒸着金属と電極引き出し部分の蒸着金属
とが、第2スリット間に形成された第2ヒューズ部によ
り接続されており、第1ヒューズ部と第2ヒューズ部の
最狭部の寸法比率が、第1ヒューズ部を1とした時に第
2ヒューズ部が2〜20の範囲内であることを特徴とす
る金属化フィルムコンデンサ。1. A pair of two plastic films on which metal deposition is applied on one side, or a pair of two plastic films on which metal deposition is applied and a plastic film on which no metal is applied are wound on both sides. At least one of the two vapor-deposited surfaces is a first lattice-like metal-free metal.
The unit metal deposition electrode is subdivided by the slit, the unit metal deposition electrode is connected by the first fuse portion formed between the first slits, and the deposition area of each subdivided unit metal vapor deposition electrode is 10 to 1000 mm 2 , The size of the first fuse part connecting each unit metal deposition electrode is 0.05 m at the narrowest part.
m and 1.5 mm or less, and a deposition metal of a function part as a capacitor in which each unit metal deposition electrode is connected to each other by a first fuse part, and a deposition of an electrode lead part for obtaining conduction by spraying metal or the like. The metal is separated from the metal by a second slit having no deposited metal extending in the longitudinal direction of the film, and the deposited metal of the functional portion of the capacitor and the deposited metal of the electrode lead portion separated by the second slit are interposed between the second slits. And the dimensional ratio of the narrowest portion between the first fuse portion and the second fuse portion is 2 to 20 when the first fuse portion is 1. A metallized film capacitor which is within the range.
出し部分の蒸着金属は、その被膜抵抗値が、コンデンサ
の機能部分の蒸着金属の被膜抵抗値よりも低く、かつ第
2ヒューズ部は、コンデンサの機能部分よりも低い被膜
抵抗値の蒸着金属の領域内にあることを特徴とする請求
項1の金属化フィルムコンデンサ。2. The deposited metal of the electrode lead-out portion separated by the second slit has a film resistance lower than the film resistance of the deposited metal of the functional portion of the capacitor, and the second fuse portion is connected to the capacitor of the capacitor. 2. The metallized film capacitor of claim 1 wherein the metallized film capacitor is in the region of the deposited metal having a lower coating resistance than the functional portion.
電極で形成される各単位コンデンサの充電エネルギーが
0.05J以下であることを特徴とする請求項1又は請
求項2の金属化フィルムコンデンサ。3. The metallized film capacitor according to claim 1, wherein the charging energy of each unit capacitor formed by each unit metal deposition electrode at the time of charging at the rated voltage is 0.05 J or less.
の電位傾度を130V/μm以上で350V/μm以下
に設定することを特徴とする請求項1〜請求項3のいず
れかの金属化フィルムコンデンサ。4. The metallized film capacitor according to claim 1, wherein a potential gradient of the plastic film in a direct current application is set at 130 V / μm or more and 350 V / μm or less.
の電位傾度を実効値で60V/μm以上で120V/μ
m以下に設定することを特徴とする請求項1〜請求項3
のいずれかの金属化フィルムコンデンサ。5. An electric potential gradient of a plastic film in an alternating current application of 120 V / μm at an effective value of 60 V / μm or more.
m is set to m or less.
Any of the metallized film capacitors.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7088568A JP2939494B2 (en) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | Metallized film capacitors |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7088568A JP2939494B2 (en) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | Metallized film capacitors |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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