JP2935606B2 - Manufacturing method of magnetic disk - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、高い保磁力を有する
磁気ディスクが得られるようにした、磁気ディスクの製
造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic disk capable of obtaining a magnetic disk having a high coercive force.
【0002】[0002]
【従来の技術】周知のように、情報量の増大に対応する
ため、磁気ディスクの高容量化及びその記録媒体(磁性
体層)の高密度化が図られている。記録密度向上のため
には、記録媒体の厚みを薄くすることが必要とされてい
る。この点から、媒体膜厚減少に限界がみられる塗布型
磁気ディスクに代わるものとして、基板(ディスク基
板)上に金属磁性体層をめっき法によって形成した構造
のめっき型磁気ディスクと、基板上に金属磁性体層をス
パッタ法によって形成した構造の金属スパッタ型磁気デ
ィスクが注目されており、その一部は実用に供されてい
る。2. Description of the Related Art As is well known, in order to cope with an increase in the amount of information, an increase in the capacity of a magnetic disk and an increase in the density of a recording medium (magnetic material layer) have been attempted. In order to improve the recording density, it is necessary to reduce the thickness of the recording medium. From this point, a plating type magnetic disk having a structure in which a metal magnetic material layer is formed on a substrate (disk substrate) by a plating method, as an alternative to a coating type magnetic disk having a limit in reducing the film thickness of the medium, Attention has been paid to a metal sputter-type magnetic disk having a structure in which a metal magnetic layer is formed by a sputtering method, and a part of the disk is practically used.
【0003】また、保磁力(Hc)を高めることが記録密
度向上のための有力な手段となっている。そのため、従
来、保磁力を高めるための方法としては、金属スパッタ
型磁気ディスクにおいて、基板上に、基板温度を通常の
150 〜250 ℃程度よりも高くした状態で、Co−Ni−Cr,
Co−Cr−TaなどのCo基合金よりなる磁性体層(磁性層)
をスパッタ法によって形成するようにした方法が知られ
ている(例えば、石川ほか,第11回日本応用磁気学会学
術講演概要集,1pA−10,p.18,1987)。この方法は、
優れたものではあるが、高い基板温度で磁性体層を形成
するようにしたものであるから、基板を保持するための
キャリアが加熱変形し易いことなどの装置上の問題があ
って量産にあたっての心配がある。[0005] Increasing the coercive force (Hc) is also a powerful means for improving the recording density. Therefore, conventionally, as a method for increasing the coercive force, in a metal-sputtered magnetic disk, the substrate temperature is set to a normal value on the substrate.
With the temperature higher than about 150 to 250 ° C, Co-Ni-Cr,
Magnetic layer (magnetic layer) made of Co-based alloy such as Co-Cr-Ta
There is known a method in which is formed by sputtering (for example, Ishikawa et al., 11th Annual Meeting of the Japan Society of Applied Magnetics, 1pA-10, p.18, 1987). This method
Although it is excellent, since the magnetic layer is formed at a high substrate temperature, there is a problem in equipment such as the carrier for holding the substrate that is easily deformed by heating, and it is difficult for mass production. I am worried.
【0004】そのため、本発明者らは、ガラス状カーボ
ンでなるカーボン基板上にCrよりなる下地層、Co基合金
よりなる磁性体層、保護用の層を順に形成した後、これ
を 250℃以上の温度で加熱処理することにより、保磁力
が向上した磁気ディスクが得られるようにした方法を先
に提案している(特願平2 −73924 号、平成2年春季応
用物理学会講演予稿集,29a−Y−8,p.60)。この場
合、Cr下地層を有しない構成の磁気ディスクについても
同様の方法を提案している。Therefore, the present inventors formed an underlayer made of Cr, a magnetic layer made of a Co-based alloy, and a protective layer in this order on a carbon substrate made of glassy carbon, A method has been proposed in which a magnetic disk with improved coercive force can be obtained by heat treatment at a temperature of (Japanese Patent Application No. 2-73924, Proceedings of the Spring Meeting of the Japan Society of Applied Physics, 1990, 29a-Y-8, p.60). In this case, a similar method is proposed for a magnetic disk having no Cr underlayer.
【0005】この磁気ディスクの製造方法によれば、次
のような作用機構で保磁力が向上するものと考えられ
る。すなわち、Co基合金磁性体層に非磁性元素であるCr
を含む場合には、加熱処理することによってCrのCo基合
金磁性体層の結晶粒界への偏析が促進される。これによ
り、Co基合金磁性体層中の各結晶粒間での磁気的な分離
が進み、各結晶粒間の磁気的相互作用が弱まることによ
り、保磁力が向上するものと考えられる。また、基板上
にCr下地層が形成されている場合には、その厚みを厚く
することによりCr下地層の(110) 面が選択的に成長し、
Co基合金磁性体層の磁化容易軸(C軸)が面内に配向さ
れ易くなることで異方性磁界が大きくなることに加え、
また、加熱処理を行うことにより、Cr下地層からCo基合
金磁性体層の結晶粒界へのCrの拡散が促進されることか
ら、保磁力が向上するものと考えられる。According to this method of manufacturing a magnetic disk, it is considered that the coercive force is improved by the following action mechanism. That is, the nonmagnetic element Cr
In the case where Cr is contained, the heat treatment promotes the segregation of Cr to the crystal grain boundaries of the Co-based alloy magnetic layer. Thus, it is considered that the magnetic separation between the crystal grains in the Co-based alloy magnetic layer progresses, and the magnetic interaction between the crystal grains weakens, thereby improving the coercive force. When a Cr underlayer is formed on the substrate, the (110) plane of the Cr underlayer is selectively grown by increasing its thickness,
The easy axis of magnetization (C axis) of the Co-based alloy magnetic layer is easily oriented in the plane, so that the anisotropic magnetic field is increased .
Further, it is considered that by performing the heat treatment, the diffusion of Cr from the Cr underlayer to the crystal grain boundaries of the Co-based alloy magnetic layer is promoted, so that the coercive force is improved.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところが、先に提案し
たこの方法を実施する過程において、Co基合金磁性体層
上にその保護用の層としてその代表的物質である C(炭
素)よりなる C層を形成してから加熱処理を行うと、 C
層を形成する CがCo基合金磁性体層中に拡散し、Co基合
金磁性体層中の非磁性元素である例えばCrと反応してCr
−C 化合物が生成されることがわかった。この保護用の
層を形成する Cが加熱処理されることによってCo基合金
磁性体層中へ拡散することが、より高い保磁力をばらつ
きなく確実に得ることの阻害要因であることが判明し
た。However, in the process of carrying out the method proposed above, a layer of C (carbon), which is a typical substance, is formed on the Co-based alloy magnetic layer as a protective layer. When the heat treatment is performed after forming the layer, C
C is diffused into the Co-based alloy magnetic layer, and reacts with, for example, Cr, which is a non-magnetic element in the Co-based alloy magnetic layer, to form Cr.
It was found that a -C compound was formed. It has been found that the diffusion of C forming the protective layer into the Co-based alloy magnetic layer due to the heat treatment is an obstacle to obtaining a higher coercive force without any variation.
【0007】この発明は、上記の知見に基づいて考え出
されたものであって、高い保磁力を有する磁気ディスク
が得られるようにした、磁気ディスクの製造方法の提供
をその目的する。The present invention has been conceived based on the above findings, and has as its object to provide a method for manufacturing a magnetic disk capable of obtaining a magnetic disk having a high coercive force.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本願の請求項1の発明は、基板上にCo基合金より
なる磁性体層、保護用の層を順に形成した後、これを温
度 250℃以上で加熱処理して磁気ディスクを製造する方
法において、前記保護用の層を加熱処理された際に前記
Co基合金磁性体層中へ拡散しない元素であるZr又はTaを
用いて形成することを特徴とするものである。Means for Solving the Problems To achieve the above object, the invention of claim 1 of the present application is to form a magnetic layer made of a Co-based alloy and a protective layer on a substrate in this order, In a method for producing a magnetic disk by heating at a temperature of 250 ° C. or higher, wherein the heat treatment is performed on the protective layer.
It is characterized by being formed using Zr or Ta , which is an element that does not diffuse into the Co-based alloy magnetic layer.
【0009】また、本願の請求項2の発明は、基板上に
Crよりなる下地層、Co基合金よりなる磁性体層、保護用
の層を順に形成した後、これを温度 250℃以上で加熱処
理して磁気ディスクを製造する方法において、前記保護
用の層を加熱処理された際に前記Co基合金磁性体層中へ
拡散しない元素であるZr又はTaを用いて形成することを
特徴とするものである。Further, the invention of claim 2 of the present application provides
A method for manufacturing a magnetic disk by forming a base layer made of Cr, a magnetic layer made of a Co-based alloy, and a protective layer in this order, and then performing a heat treatment at a temperature of 250 ° C. or more, wherein the protective layer is It is characterized by being formed using Zr or Ta , which is an element that does not diffuse into the Co-based alloy magnetic layer when subjected to heat treatment.
【0010】[0010]
【作用】請求項1の発明による磁気ディスクの製造方法
においては、Co基合金磁性体層に非磁性元素である例え
ばCrを含む場合には、加熱処理することにより、Co基合
金磁性体層の結晶粒界へのCrの偏析が促進される。この
場合、保護用の層は、加熱処理された際にCo基合金磁性
体層中へ拡散しない元素であるZr又はTaにより形成され
ている。したがって、上記保護用の層を形成する元素と
Co基合金磁性体層中のCrとのCr化合物が生成されること
がないので、Co基合金磁性体層の結晶粒界へのCrの偏析
がより促進されることになる。その結果、Co基合金磁性
体層中の各結晶粒間の磁気的相互作用が弱まることによ
り、保磁力がより向上するものと考えられる。In the method of manufacturing a magnetic disk according to the first aspect of the invention, when the Co-based alloy magnetic layer contains, for example, Cr, which is a non-magnetic element, the Co-based alloy magnetic layer is subjected to heat treatment. The segregation of Cr at the grain boundaries is promoted. In this case, the protective layer is made of Zr or Ta, which is an element that does not diffuse into the Co-based alloy magnetic layer when subjected to the heat treatment. Therefore, the elements forming the protective layer and
Since a Cr compound with Cr in the Co-based alloy magnetic layer is not generated, the segregation of Cr at the crystal grain boundaries of the Co-based alloy magnetic layer is further promoted. As a result, it is considered that the magnetic interaction between the crystal grains in the Co-based alloy magnetic material layer is weakened, so that the coercive force is further improved.
【0011】請求項2の発明による磁気ディスクの製造
方法においては、加熱処理することにより、Co基合金磁
性体層中の非磁性元素である例えばCrと保護用の層を形
成する元素との化合物が生成されることがないので、上
記と同様にして、Co基合金磁性体層の結晶粒界へのCrの
偏析がより促進されることになる。このことに加えて、
Cr下地層が設けられているので、その厚みを厚くするこ
とによりCr下地層の(110) 面が選択的に成長し、Co基合
金磁性体層の磁化容易軸(C軸)が面内に配向され易く
なることで異方性磁界が大きくなることに加え、また、
加熱処理を行うことにより、Cr下地層からCo基合金磁性
体層の結晶粒界へのCrの拡散が促進されることから、保
磁力が向上するものと考えられる。In the method for manufacturing a magnetic disk according to the present invention, a nonmagnetic element, for example, Cr in the Co-based alloy magnetic layer and a compound of an element forming a protective layer are formed by heat treatment. Is not generated, so that the segregation of Cr at the crystal grain boundaries of the Co-based alloy magnetic layer is further promoted in the same manner as described above. In addition to this,
Since the Cr underlayer is provided, by increasing its thickness, the (110) plane of the Cr underlayer is selectively grown, and the axis of easy magnetization (C axis) of the Co-based alloy magnetic layer is in-plane. In addition to increasing the anisotropic magnetic field by being easily oriented,
It is considered that by performing the heat treatment, the diffusion of Cr from the Cr underlayer to the crystal grain boundaries of the Co-based alloy magnetic layer is promoted, so that the coercive force is improved.
【0012】そして、本願発明による磁気ディスクの製
造方法においては、Co基合金磁性体層上に形成されたZr
又はTaよりなる保護用の層は、加熱雰囲気により、酸化
物よりなるものに変化し、Co基合金磁性体層を化学的、
機械的に保護する機能を備えた非磁性の保護層となる。In the method of manufacturing a magnetic disk according to the present invention, the Zr formed on the Co-based alloy magnetic material layer
Or the protective layer made of Ta is oxidized by the heating atmosphere.
The Co-based alloy magnetic layer is chemically and
A non-magnetic protective layer having a function of mechanical protection.
【0013】[0013]
【0014】このZrとTaは、スパッタ法のみならず蒸着
法、化学気相成長法などの各種方法により成膜(層形
成)が可能である。また、本願発明による方法における
Co基合金磁性体層およびCr下地層の形成方法としては、
スパッタ法に限らず、蒸着法、化学気相成長法、めっき
法等の各種方法が採用可能である。 This Zr and Ta can be formed (layer formed) by various methods such as a vapor deposition method and a chemical vapor deposition method as well as the sputtering method . In the method according to the present invention ,
As a method of forming the Co-based alloy magnetic layer and the Cr underlayer,
Not limited to the sputtering method, various methods such as a vapor deposition method, a chemical vapor deposition method, and a plating method can be adopted.
【0015】本願発明による磁気ディスクの製造方法に
おいては、加熱処理温度は 250℃以上である。 250℃よ
り低い温度では保磁力向上効果を得るためには加熱処理
所要時間が長くなり好ましくない。なお、上限温度は、
1450℃より高いとCo基合金磁性体層そのものが熱により
破壊されること、磁気ディスク用基板の材質に基づく制
約があることなどから、定められるものである。例え
ば、チタン基板を用いる場合には、加熱処理温度が 885
℃より高いと、チタン基板の結晶構造がそれまでのH.C.
P.(最密六方格子)構造からB.C.C.(体心六方格子)構
造に変化し、チタン基板表面上に形成されている磁性体
層、あるいは、Cr下地層の表面に微細な凹凸が生じ、こ
れらの特性が劣化するという悪影響がある。また、結晶
化ガラス基板を用いる場合には、そのガラス転移点が 7
50℃であることから、これより低い温度がよい。In the method for manufacturing a magnetic disk according to the present invention, the heat treatment temperature is 250 ° C. or higher. If the temperature is lower than 250 ° C., the time required for the heat treatment is long in order to obtain the effect of improving the coercive force, which is not preferable. The upper limit temperature is
If the temperature is higher than 1450 ° C., it is determined because the Co-based alloy magnetic layer itself is destroyed by heat and there are restrictions based on the material of the magnetic disk substrate. For example, when a titanium substrate is used, the heat treatment temperature is 885
If the temperature is higher than ℃, the crystal structure of the titanium substrate
The structure changes from a P. (closest-packed hexagonal lattice) structure to a BCC (body-centered hexagonal lattice) structure, and fine irregularities occur on the surface of the magnetic layer or Cr underlayer formed on the titanium substrate surface. Has the adverse effect of deteriorating its characteristics. When a crystallized glass substrate is used, its glass transition point is 7
Since the temperature is 50 ° C., a lower temperature is preferable.
【0016】なお、本願発明による方法に用いられる磁
気ディスク基板としては、カーボン基板、チタン基板、
結晶化ガラス基板、強化処理ガラス基板、シリコン基板
などが挙げられる。The magnetic disk substrate used in the method according to the present invention includes a carbon substrate, a titanium substrate,
Examples include a crystallized glass substrate, a tempered glass substrate, and a silicon substrate.
【0017】[0017]
【実施例】以下、実施例に基づいて本願発明を説明す
る。はじめに、請求項2の発明の実施例について以下説
明する。 〔実施例1〕まず、磁気ディスク用基板としてのカーボ
ン基板の作製について説明すると、炭化焼成後にガラス
質炭素となる熱硬化性樹脂であるフェノール・フォルム
アルデヒド樹脂を磁気ディスク形状に成形した後、N2ガ
ス雰囲気中で1000〜1500℃の温度で予備焼成する。次い
で、これを熱間静水圧加圧装置(HIP)を使用して25
00℃に加熱しつつ2000気圧の等方的圧力を加えてHIP
処理する。この得られた成形体に所定の周端面加工、表
面研磨を施して、厚さ1.27mmの3.5 インチ用のカーボン
基板とした。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below based on embodiments. First, an embodiment of the present invention will be described below. [Example 1] First, the production of a carbon substrate as a substrate for a magnetic disk will be described. A phenol / formaldehyde resin, which is a thermosetting resin which becomes vitreous carbon after carbonization and firing, is formed into a magnetic disk shape. 2. Pre-fire at a temperature of 1000 to 1500 ° C in a gas atmosphere. Then, this is heated to 25% using a hot isostatic press (HIP).
HIP by applying isotropic pressure of 2000 atm while heating to 00 ° C
To process. The obtained molded body was subjected to predetermined peripheral end face processing and surface polishing to obtain a carbon substrate for 3.5 inches with a thickness of 1.27 mm.
【0018】作製したカーボン基板上に、下地層として
厚み3000ÅのCr層と、Co基合金磁性体層として厚み 600
ÅのCo62.5Ni30Cr7.5 層と、保護用の層として厚み 300
ÅのZr層とを、D.C.マグネトロンスパッタ装置を用いて
順次形成した。基板温度は 250℃とした。得られたもの
に、真空雰囲気中(真空度30×10-3Torr)において、加
熱時間を各1分間とし加熱温度を 350〜 650℃の範囲
(図1参照)で変化させて加熱処理を施し、各加熱条件
毎に磁気ディスクを作製した。On the prepared carbon substrate, a Cr layer having a thickness of 3000 mm as an underlayer, and a 600 nm thick layer as a Co-based alloy magnetic layer.
Co Co 62.5 Ni 30 Cr 7.5 layer and thickness 300 as protective layer
The Zr layer was sequentially formed using a DC magnetron sputtering apparatus. The substrate temperature was 250 ° C. The obtained product was subjected to a heat treatment in a vacuum atmosphere (degree of vacuum: 30 × 10 −3 Torr) with a heating time of 1 minute and a heating temperature of 350 to 650 ° C. (see FIG. 1). A magnetic disk was manufactured for each heating condition.
【0019】また、上記のZr層に代えて C層を設けたも
のを作製し、これについて、真空雰囲気中(真空度30×
10-3Torr)おいて、加熱時間を各1分間とし加熱温度を
450〜 600℃の範囲(図1参照)で変化させて加熱処理
を施し、各加熱条件毎に比較例としての磁気ディスクを
作製した。Further, a substrate having a C layer provided in place of the above-mentioned Zr layer was prepared, and this was formed in a vacuum atmosphere (degree of vacuum 30 ×).
10 -3 Torr), set the heating time to 1 minute each, and set the heating temperature
Heat treatment was performed at a temperature in the range of 450 to 600 ° C. (see FIG. 1) to produce a magnetic disk as a comparative example under each heating condition.
【0020】作製したこれらの各磁気ディスクから8×
8mm寸法の試料を切り出し、片面側の各層を除去してか
ら、振動試料型磁力計(VSM)を用いて磁気特性を測
定した。保磁力Hcの測定結果を図1に示す。なお、上記
のZr層を有するもの、 C層を有するものについて、加熱
処理を行う前の保磁力Hcをも測定した。これらの加熱処
理しないものでは、保磁力Hcは約1000(Oe)であった。From each of these magnetic disks produced, 8 ×
A sample having a size of 8 mm was cut out, each layer on one side was removed, and the magnetic properties were measured using a vibrating sample magnetometer (VSM). FIG. 1 shows the measurement results of the coercive force Hc. Note that the coercive force Hc before the heat treatment was also measured for those having the Zr layer and those having the C layer. Without these heat treatments, the coercive force Hc was about 1000 (Oe).
【0021】図1から理解されるように、この実施例の
方法によれば、加熱処理することにより、ZrとCo62.5Ni
30Cr7.5 層中のCrとの化合物が生成されることがなく、
Co62 .5Ni30Cr7.5 層の結晶粒界へのCrの偏析がより促進
されることから、加熱処理しないもの、比較例の磁気デ
ィスクに比べて、保磁力Hcがばらつきなく大幅に向上し
た磁気ディスクが得られた。As can be understood from FIG. 1, according to the method of this embodiment, Zr and Co 62.5 Ni
Compounds with Cr in the 30 Cr 7.5 layer are not generated,
Since the segregation of Cr in the grain boundary of Co 62 .5 Ni 30 Cr 7.5 layer is further promoted, which do not heat treated, as compared to the magnetic disk of Comparative Example, the coercive force Hc greatly improved without variation A magnetic disk was obtained.
【0022】また、実施例の磁気ディスクの試料につい
てその薄膜X線回折及びESCA分析(electron spect
roscopy for chemical analysis )を行った結果、Zr層
は加熱処理により酸化Zr層に変化していることが判明し
た。そして、この試料を温度65℃、湿度85%の雰囲気中
で10日間保持した。この環境試験後に、振動試料型磁力
計を用いて磁気特性を測定した。その結果、保磁力Hc、
残留磁束密度Br、角形性mなどは環境試験前に比べてそ
の値の変化が認められず、酸化Zr層が保護層としての機
能を備えていることが確認された。In addition, thin film X-ray diffraction and ESCA analysis (electron spect
As a result of roscopy for chemical analysis), it was found that the Zr layer was changed to an oxidized Zr layer by the heat treatment. The sample was kept in an atmosphere at a temperature of 65 ° C. and a humidity of 85% for 10 days. After this environmental test, the magnetic properties were measured using a vibrating sample magnetometer. As a result, the coercive force Hc,
The values of the residual magnetic flux density Br and the squareness m did not change compared to before the environmental test, and it was confirmed that the Zr oxide layer has a function as a protective layer.
【0023】なお、比較例の磁気ディスクの C層は、真
空中加熱処理によって酸素と反応してCO 2 ガス化されて
その厚みが減少する。例えば、厚み 300Åの C層は、温
度 300℃で1分間加熱処理した場合にはその厚みが82Å
減少し、温度 400℃で1分間加熱処理した場合にはその
厚みが 118Å減少し、さらに温度 500℃で1分間加熱処
理した場合にはその厚みが 268Å減少した。これに対し
て、Zr層では、真空中加熱処理によるその厚みの減少は
認められなかった。The C layer of the magnetic disk of the comparative example reacts with oxygen by heat treatment in a vacuum to be gasified as CO 2 and its thickness is reduced. For example, a 300-mm thick C layer has a thickness of 82 mm when heated at 300 ° C for 1 minute.
The thickness decreased by 118 ° when heat-treated at 400 ° C for 1 minute, and decreased by 268 ° when heat-treated at 500 ° C for 1 minute. In contrast, the thickness of the Zr layer was not reduced by the heat treatment in vacuum.
【0024】〔実施例2〕真空雰囲気中での加熱処理に
代えて大気雰囲気中で加熱処理を行うようにしたこと以
外は、実施例1と同様の方法で磁気ディスクを作製し
た。得られた磁気ディスクの保磁力Hcの測定結果を図2
に示す。同図から理解されるように、大気雰囲気中で加
熱処理した場合にも、加熱処理しないもの、および実施
例1の比較例磁気ディスクに比べて、保磁力Hcが大幅に
向上した磁気ディスクが得られた。Example 2 A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment was performed in an air atmosphere instead of the heat treatment in a vacuum atmosphere. FIG. 2 shows the measurement results of the coercive force Hc of the obtained magnetic disk.
Shown in As can be understood from the figure, even when the heat treatment is performed in the air atmosphere, a magnetic disk having no heat treatment and a magnetic disk having significantly improved coercive force Hc as compared with the magnetic disk of the comparative example of Example 1 are obtained. Was done.
【0025】[0025]
【0026】〔実施例3〕保護用の層としてZr層に代え
てTa層を形成するようにしたこと以外は、実施例1と同
様の方法で磁気ディスクを作製した。得られた磁気ディ
スクの保磁力Hcの測定結果を図3に示す。同図から理解
されるように、加熱処理を行うことにより、保護用の層
をTaを用いて形成した場合にも、加熱処理しないもの、
および実施例1の比較例磁気ディスクに比べて、保磁力
Hcが大幅に向上した磁気ディスクが得られた。また、こ
の実施例の磁気ディスクについてその深さ(厚み)方向
の組成分析をESCA分析にて行った。その結果、Ta層
は加熱処理により酸化Ta層に変化していることが判明し
た。さらに、実施例1と同様の環境試験の結果、保磁力
Hc、残留磁束密度Br、角形性mなどは環境試験前に比べ
てその値の変化が認められず、酸化Ta層が保護層として
の機能を備えていることが確認された。 Example 3 A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a Ta layer was formed instead of a Zr layer as a protective layer. FIG. 3 shows the measurement results of the coercive force Hc of the obtained magnetic disk. As can be understood from the figure, by performing the heat treatment, even if the protective layer is formed using Ta,
And the coercive force as compared with the comparative magnetic disk of Example 1.
A magnetic disk with greatly improved Hc was obtained. The composition analysis in the depth (thickness) direction of the magnetic disk of this example was performed by ESCA analysis. As a result, it was found that the Ta layer was changed to an oxidized Ta layer by the heat treatment. Further, as a result of the same environmental test as in Example 1, the coercive force
The values of Hc, residual magnetic flux density Br, and squareness m did not change compared to before the environmental test, and it was confirmed that the Ta oxide layer had a function as a protective layer.
【0027】[0027]
【0028】[0028]
【0029】[0029]
【0030】[0030]
【0031】[0031]
【0032】〔実施例4〕磁気ディスク用基板としてカ
ーボン基板に代えてチタン基板(神戸製鋼所製、純チタ
ンKS40、JIS1種)を用いるようにしたこと以外は、
実施例1と同様の方法で磁気ディスクを作製した。保磁
力Hcの測定結果を図4に示す。同図から理解されるよう
に、加熱処理を行うことにより、チタン基板を用いた場
合にも、加熱処理しないものに比べて、保磁力Hcが大幅
に向上した磁気ディスクが得られた。 Example 4 A magnetic disk substrate was replaced by a titanium substrate (Pure Titanium KS40, JIS Class 1) instead of a carbon substrate.
A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1. FIG. 4 shows the measurement results of the coercive force Hc. As can be understood from the figure, by performing the heat treatment, even when the titanium substrate was used, a magnetic disk having a significantly improved coercive force Hc was obtained as compared with the case where the heat treatment was not performed.
【0033】〔実施例5〕磁気ディスク用基板としてカ
ーボン基板に代えてSiO2−Li2O−Al2O3 系の組成になる
結晶化ガラス基板を用いるようにしたこと以外は、実施
例1と同様の方法で磁気ディスクを作製した。保磁力Hc
の測定結果を図5に示す。同図から理解されるように、
加熱処理を行うことにより、結晶化ガラス基板を用いた
場合にも、加熱処理しないものに比べて、保磁力Hcが大
幅に向上した磁気ディスクが得られた。 Example 5 Example 1 was repeated except that a crystallized glass substrate having an SiO 2 -Li 2 O-Al 2 O 3 composition was used as the magnetic disk substrate instead of the carbon substrate. A magnetic disk was produced in the same manner as described above. Coercive force Hc
FIG. 5 shows the measurement results. As understood from the figure,
By performing the heat treatment, even when a crystallized glass substrate was used, a magnetic disk having a significantly improved coercive force Hc was obtained as compared with the case where no heat treatment was performed.
【0034】〔実施例6〕磁気ディスク用基板としてカ
ーボン基板に代えて強化処理ガラス基板を用いるように
したこと以外は、実施例1と同様の方法で磁気ディスク
を作製した。保磁力Hcの測定結果を図6に示す。同図か
ら理解されるように、加熱処理を行うことにより、強化
処理ガラス基板を用いた場合にも、加熱処理しないもの
に比べて、保磁力Hcが大幅に向上した磁気ディスクが得
られた。 Example 6 A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a strengthened glass substrate was used instead of the carbon substrate as the magnetic disk substrate. FIG. 6 shows the measurement results of the coercive force Hc. As can be understood from the figure, by performing the heat treatment, even when the tempered glass substrate was used, a magnetic disk having a significantly improved coercive force Hc was obtained as compared with the case where the heat treatment was not performed.
【0035】〔実施例7〕磁気ディスク用基板としてカ
ーボン基板に代えてシリコン(Si)基板を用いるように
したこと以外は、実施例1と同様の方法で磁気ディスク
を作製した。保磁力Hcの測定結果を図7に示す。同図か
ら理解されるように、加熱処理を行うことにより、シリ
コン基板を用いた場合にも、加熱処理しないものに比べ
て、保磁力Hcが大幅に向上した磁気ディスクが得られ
た。 Example 7 A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a silicon (Si) substrate was used instead of the carbon substrate as the magnetic disk substrate. FIG. 7 shows the measurement results of the coercive force Hc. As can be understood from the figure, by performing the heat treatment, a magnetic disk having significantly improved coercive force Hc was obtained even when a silicon substrate was used, as compared with the case where no heat treatment was performed.
【0036】次に請求項1の発明の実施例について以下
説明する。 〔実施例8〕カーボン基板上に、Co基合金磁性体層とし
て厚み 600ÅのCo62.5Ni30Cr7.5 層と、保護用の層とし
て厚み 300ÅのZr層とをD.C.マグネトロンスパッタ装置
を用いて順次形成した。基板温度は 250℃とした。得ら
れたものに、真空雰囲気中(真空度30×10-3Torr)にお
いて、加熱時間を各1分間とし加熱温度を 350〜 650℃
の範囲(図8参照)で変化させて加熱処理を施し、各加
熱条件毎に磁気ディスクを作製した。保磁力Hcの測定結
果を図8に示す。なお、加熱処理しないものの保磁力Hc
は、約 200(Oe)であった。同図から理解されるよう
に、Cr下地層を有しない構成の磁気ディスクにおいて
も、加熱処理しないものに比べて、保磁力Hcが大幅に向
上したものが得られた。Next, an embodiment of the present invention will be described below. Example 8 On a carbon substrate, a Co 62.5 Ni 30 Cr 7.5 layer with a thickness of 600 mm as a Co-based alloy magnetic layer and a Zr layer with a thickness of 300 mm as a protective layer were sequentially formed using a DC magnetron sputtering apparatus. did. The substrate temperature was 250 ° C. The obtained product was heated in a vacuum atmosphere (degree of vacuum: 30 × 10 −3 Torr) for 1 minute each at a heating temperature of 350 to 650 ° C.
(See FIG. 8 ), and heat treatment was performed to produce a magnetic disk for each heating condition. FIG. 8 shows the measurement results of the coercive force Hc. In addition, the coercive force Hc
Was about 200 (Oe). As can be understood from the figure, even with a magnetic disk having no Cr underlayer, a magnetic disk having significantly improved coercive force Hc was obtained as compared with a magnetic disk without heat treatment.
【0037】[0037]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よる磁気ディスクの製造方法では、基板上に形成された
Co基合金よりなる磁性体層上に、加熱処理された際にCo
基合金磁性体層中へ拡散しない元素であるZr又はTaを用
いて保護用の層を形成しておき、次いでこのものを温度
250℃以上で加熱処理するようにした方法であるから、
加熱処理することにより、保護用の層は酸化物よりなる
ものに変化し保護層として機能するものとなる一方、保
護用の層を形成する元素とCo基合金磁性体層中の非磁性
元素である例えばCrとの化合物が生成されることがない
ので、Co基合金磁性体層の結晶粒界への前記Crの偏析が
より促進されることになる。これにより、Co基合金磁性
体層中の各結晶粒間の磁気的相互作用が弱まることによ
り、高い保磁力を有する磁気ディスクを得ることができ
る。As described above, in the method of manufacturing a magnetic disk according to the first aspect of the present invention, the magnetic disk is formed on the substrate.
When heat-treated on a magnetic layer made of a Co-based alloy, Co
A protective layer is formed using Zr or Ta , which is an element that does not diffuse into the base alloy magnetic layer, and then this is heated to a temperature.
Because it is a method of heating at 250 ° C or more,
By performing the heat treatment, the protective layer is changed to an oxide and functions as a protective layer, while the element forming the protective layer and the non-magnetic element in the Co-based alloy magnetic material layer are used. since for example a compound of Cr is prevented from being generated, so that the segregation of the Cr to the grain boundaries of the Co-based alloy magnetic layer is further promoted. Thereby, a magnetic disk having a high coercive force can be obtained by weakening magnetic interaction between crystal grains in the Co-based alloy magnetic layer.
【0038】また、請求項2の発明による磁気ディスク
の製造方法では、加熱処理することにより、上記と同様
にして、保護用の層は酸化物よりなるものに変化し保護
層として機能するものとなる一方、Co基合金磁性体層中
の非磁性元素である例えばCrと保護用の層を形成する元
素との化合物が生成されることがないので、Co基合金磁
性体層の結晶粒界への前記Crの偏析がより促進されるこ
とになる。このことに加えて、Cr下地層が設けられてい
るので、Co基合金磁性体層の磁化容易軸(C軸)が面内
に配向され易くなること、また、加熱処理を行うことに
より、Cr下地層からCo基合金磁性体層の結晶粒界へのCr
の拡散が促進されることから、より高い保磁力を有する
磁気ディスクを得ることができる。In the method of manufacturing a magnetic disk according to the second aspect of the present invention, by performing the heat treatment, the protective layer is changed to a layer made of oxide and functions as a protective layer in the same manner as described above. On the other hand, since a compound of, for example, Cr, which is a non-magnetic element in the Co-based alloy magnetic layer and an element forming the protective layer, is not generated, it is difficult to reach a crystal grain boundary of the Co-based alloy magnetic layer. segregation of the Cr is a more is promoted. In addition to this, since the Cr underlayer is provided, the axis of easy magnetization (C-axis) of the Co-based alloy magnetic material layer is easily oriented in the plane, and the heat treatment is performed to improve the Cr. Cr from underlayer to crystal grain boundary of Co-based alloy magnetic layer
Is promoted, so that a magnetic disk having a higher coercive force can be obtained.
【図1】請求項2の発明の実施例1によって得られた磁
気ディスクの加熱処理温度と保磁力との関係の一例を示
す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a relationship between a heat treatment temperature and a coercive force of a magnetic disk obtained according to a first embodiment of the present invention.
【図2】請求項2の発明の実施例2によって得られた磁
気ディスクの加熱処理温度と保磁力との関係の一例を示
す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a relationship between a heat treatment temperature of a magnetic disk and a coercive force obtained according to a second embodiment of the present invention;
【図3】請求項2の発明の実施例3によって得られた磁
気ディスクの加熱処理温度と保磁力との関係の一例を示
す図である。FIG. 3 is a diagram showing an example of a relationship between a heat treatment temperature of a magnetic disk and a coercive force obtained according to a third embodiment of the present invention;
【図4】請求項2の発明の実施例4によって得られた磁
気ディスクの加熱処理温度と保磁力との関係の一例を示
す図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of a relationship between a heat treatment temperature of a magnetic disk and a coercive force obtained according to a fourth embodiment of the present invention;
【図5】請求項2の発明の実施例5によって得られた磁
気ディスクの加熱処理温度と保磁力との関係の一例を示
す図である。FIG. 5 is a diagram showing an example of a relationship between a heat treatment temperature of a magnetic disk and a coercive force obtained according to a fifth embodiment of the present invention.
【図6】請求項2の発明の実施例6によって得られた磁
気ディスクの加熱処理温度と保磁力との関係の一例を示
す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of a relationship between a heat treatment temperature of a magnetic disk and a coercive force obtained according to a sixth embodiment of the present invention.
【図7】請求項2の発明の実施例7によって得られた磁
気ディスクの加熱処理温度と保磁力との関係の一例を示
す図である。FIG. 7 is a diagram showing an example of a relationship between a heat treatment temperature of a magnetic disk and a coercive force obtained according to a seventh embodiment of the present invention.
【図8】請求項1の発明の実施例8よって得られた磁気
ディスクの加熱処理温度と保磁力との関係の一例を示す
図である。8 is a diagram showing an example of the relationship between the heat treatment temperature and the coercivity of Example 8 thus obtained magnetic disk of the invention of claim 1.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 5/85 G11B 5/84 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G11B 5/85 G11B 5/84
Claims (2)
護用の層を順に形成した後、これを温度 250℃以上で加
熱処理して磁気ディスクを製造する方法において、前記
保護用の層を加熱処理された際に前記Co基合金磁性体層
中へ拡散しない元素であるZr又はTaを用いて形成するこ
とを特徴とする磁気ディスクの製造方法。1. A method of manufacturing a magnetic disk by forming a magnetic layer made of a Co-based alloy and a protective layer in this order on a substrate, and heating the magnetic layer at a temperature of 250 ° C. or higher. A method for manufacturing a magnetic disk, wherein the layer is formed using Zr or Ta , which is an element that does not diffuse into the Co-based alloy magnetic layer when the layer is subjected to heat treatment.
りなる磁性体層、保護用の層を順に形成した後、これを
温度 250℃以上で加熱処理して磁気ディスクを製造する
方法において、前記保護用の層を加熱処理された際に前
記Co基合金磁性体層中へ拡散しない元素であるZr又はTa
を用いて形成することを特徴とする磁気ディスクの製造
方法。2. A method of manufacturing a magnetic disk by forming an underlayer made of Cr, a magnetic layer made of a Co-based alloy, and a protective layer in this order on a substrate, and then heating them at a temperature of 250 ° C. or higher. In the above , Zr or Ta which is an element which does not diffuse into the Co-based alloy magnetic material layer when the protective layer is heat-treated.
A method for manufacturing a magnetic disk, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3970092A JP2935606B2 (en) | 1991-03-25 | 1992-02-26 | Manufacturing method of magnetic disk |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6021991 | 1991-03-25 | ||
JP3-60219 | 1991-03-25 | ||
JP3970092A JP2935606B2 (en) | 1991-03-25 | 1992-02-26 | Manufacturing method of magnetic disk |
Publications (2)
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JPH0562188A JPH0562188A (en) | 1993-03-12 |
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