JP2933919B1 - 光アッテネータ及び光アッテネータモジュール - Google Patents
光アッテネータ及び光アッテネータモジュールInfo
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/264—Optical coupling means with optical elements between opposed fibre ends which perform a function other than beam splitting
- G02B6/266—Optical coupling means with optical elements between opposed fibre ends which perform a function other than beam splitting the optical element being an attenuator
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Abstract
【要約】
【課題】 入射光の波長によって減衰率が変化すること
のない光アッテネータを提供すること。 【解決手段】 光アッテネータのアッテネータ板１０を
ガラス基板１１を用いて構成する。このガラス基板１１
の入出射面を平行でなく断面がテーパ状となるように形
成し、その一方の面に減衰率に対応させた金属膜を形成
する。又その面に金属膜の波長依存性を打ち消すように
無反射コーティングを施す。こうすれば波長に対して透
過率の変動を除くことができ、波長依存性を極めて小さ
くすることができる。
のない光アッテネータを提供すること。 【解決手段】 光アッテネータのアッテネータ板１０を
ガラス基板１１を用いて構成する。このガラス基板１１
の入出射面を平行でなく断面がテーパ状となるように形
成し、その一方の面に減衰率に対応させた金属膜を形成
する。又その面に金属膜の波長依存性を打ち消すように
無反射コーティングを施す。こうすれば波長に対して透
過率の変動を除くことができ、波長依存性を極めて小さ
くすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光通信システム等に
用いられ、光の強度を指定量だけ減衰させるための光ア
ッテネータ及び光アッテネータモジュールに関するもの
である。
用いられ、光の強度を指定量だけ減衰させるための光ア
ッテネータ及び光アッテネータモジュールに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来光通信システム等に用いられる光減
衰装置として広く種々の装置が提案されている。従来の
光減衰器には、光ファイバ間に電気的，磁気的又は熱光
学結晶の光ディバイスを挿入し、その透過率を変化させ
るものや、光ファイバの間にレンズを配置し、その間隔
や軸ずれ等を利用して必要な減衰率を得るようにした光
減衰器がある。又光ファイバ間にアッテネータ板を用い
た光減衰装置も提案されている。
衰装置として広く種々の装置が提案されている。従来の
光減衰器には、光ファイバ間に電気的，磁気的又は熱光
学結晶の光ディバイスを挿入し、その透過率を変化させ
るものや、光ファイバの間にレンズを配置し、その間隔
や軸ずれ等を利用して必要な減衰率を得るようにした光
減衰器がある。又光ファイバ間にアッテネータ板を用い
た光減衰装置も提案されている。
【０００３】又特開昭62-11822号公報には、入射位置に
よって減衰率が変化する可変アッテネータ板を用いた可
変光減衰装置が提案されている。この発明では波長依存
性を除くために、あらかじめ可変アッテネータ板の複数
の入射箇所で多数の波長に対する減衰率をメモリにテー
ブル化して保持しておき、入力された波長と減衰率に応
じてアッテネータ板への入射位置を変化させるようにし
ている。
よって減衰率が変化する可変アッテネータ板を用いた可
変光減衰装置が提案されている。この発明では波長依存
性を除くために、あらかじめ可変アッテネータ板の複数
の入射箇所で多数の波長に対する減衰率をメモリにテー
ブル化して保持しておき、入力された波長と減衰率に応
じてアッテネータ板への入射位置を変化させるようにし
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこのよう
な従来の光アッテネータでは、正確な減衰率や安定性が
得られないという欠点があった。即ち２本の光ファイバ
の間隔や軸ずれによって減衰させるものでは安定性に難
があり、高分解能で所望の減衰率が得られないという欠
点があった。又光ファイバの間に電気的，磁気的又は熱
光学結晶のディバイスを挿入するものについては、挿入
損失や偏波面依存性があり、所望の減衰率を得にくいと
いう欠点があった。更にアッテネータ板を用いたもので
は、入射光の波長によって減衰率が変化するため、波長
に依存せずに一定の減衰率を得ることができないという
欠点があった。
な従来の光アッテネータでは、正確な減衰率や安定性が
得られないという欠点があった。即ち２本の光ファイバ
の間隔や軸ずれによって減衰させるものでは安定性に難
があり、高分解能で所望の減衰率が得られないという欠
点があった。又光ファイバの間に電気的，磁気的又は熱
光学結晶のディバイスを挿入するものについては、挿入
損失や偏波面依存性があり、所望の減衰率を得にくいと
いう欠点があった。更にアッテネータ板を用いたもので
は、入射光の波長によって減衰率が変化するため、波長
に依存せずに一定の減衰率を得ることができないという
欠点があった。
【０００５】又前述した特開昭62-11822号の光減衰装置
では、減衰率と波長及び入射位置との対応関係をテーブ
ルとして保持しておく必要があり、メモリやその読出装
置が必要で、構成が複雑になるという欠点があった。
では、減衰率と波長及び入射位置との対応関係をテーブ
ルとして保持しておく必要があり、メモリやその読出装
置が必要で、構成が複雑になるという欠点があった。
【０００６】本発明はこのような従来の問題点に着目し
てなされたものであって、メモリ等を用いることなく所
定の波長範囲内では波長に依存せず、所望の減衰率を得
ることができる光アッテネータ、及びこれを用いた光ア
ッテネータモジュールを提供することを目的とする。
てなされたものであって、メモリ等を用いることなく所
定の波長範囲内では波長に依存せず、所望の減衰率を得
ることができる光アッテネータ、及びこれを用いた光ア
ッテネータモジュールを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本願の請求項１の発明
は、入射光を減衰させる光アッテネータであって、入射
面と出射面とが互いに平行でないように所定のテーパを
施した透明ガラス基板と、前記透明ガラス基板の一方の
面に形成され、入射光を所定の減衰率で減衰させる金属
膜と、を有することを特徴とするものである。
は、入射光を減衰させる光アッテネータであって、入射
面と出射面とが互いに平行でないように所定のテーパを
施した透明ガラス基板と、前記透明ガラス基板の一方の
面に形成され、入射光を所定の減衰率で減衰させる金属
膜と、を有することを特徴とするものである。
【０００８】本願の請求項２の発明は、入射光を減衰さ
せる光アッテネータであって、入射面と出射面とが互い
に平行でないように所定のテーパを施した透明ガラス基
板と、前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、入射
光を所定の減衰率で減衰させる金属膜と、前記透明ガラ
ス基板の少なくとも一方の面に形成され、前記金属膜に
よる減衰率の波長依存性を補償する無反射コーティング
と、を有することを特徴とするものである。
せる光アッテネータであって、入射面と出射面とが互い
に平行でないように所定のテーパを施した透明ガラス基
板と、前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、入射
光を所定の減衰率で減衰させる金属膜と、前記透明ガラ
ス基板の少なくとも一方の面に形成され、前記金属膜に
よる減衰率の波長依存性を補償する無反射コーティング
と、を有することを特徴とするものである。
【０００９】ここで無反射コーティングは金属膜による
減衰率の波長依存性を補償するものであり、使用する波
長の範囲内で金属膜の波長の依存性と逆の特性を有し、
光アッテネータ全体として波長依存性がないように補償
するものである。又これらの光アッテネータはＵ字形の
フレーム内に設けておき、同一方向の二箇所に光ファイ
バを取付け、ミラーやビームスプリッタ等を介して光ア
ッテネータを透過させるように構成することができる。
又金属膜としては金属を蒸着等で減衰率に応じた厚さに
コーティングすることができる。
減衰率の波長依存性を補償するものであり、使用する波
長の範囲内で金属膜の波長の依存性と逆の特性を有し、
光アッテネータ全体として波長依存性がないように補償
するものである。又これらの光アッテネータはＵ字形の
フレーム内に設けておき、同一方向の二箇所に光ファイ
バを取付け、ミラーやビームスプリッタ等を介して光ア
ッテネータを透過させるように構成することができる。
又金属膜としては金属を蒸着等で減衰率に応じた厚さに
コーティングすることができる。
【００１０】本願の請求項３の発明は、入射位置によっ
て減衰率が変化するように入射光を減衰させる可変型の
光アッテネータであって、入射面と出射面とが互いに平
行でないように所定のテーパを施した透明ガラス基板
と、前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、入射位
置に応じた減衰率で入射光を減衰させる金属膜と、前記
透明ガラス基板の少なくとも一方の面に形成され、前記
金属膜による減衰率の波長依存性を補償する無反射コー
ティングと、を有することを特徴とするものである。
て減衰率が変化するように入射光を減衰させる可変型の
光アッテネータであって、入射面と出射面とが互いに平
行でないように所定のテーパを施した透明ガラス基板
と、前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、入射位
置に応じた減衰率で入射光を減衰させる金属膜と、前記
透明ガラス基板の少なくとも一方の面に形成され、前記
金属膜による減衰率の波長依存性を補償する無反射コー
ティングと、を有することを特徴とするものである。
【００１１】本願の請求項４の発明は、入射位置によっ
て減衰率が変化するように入射光を減衰させる可変型の
光アッテネータであって、入射面と出射面とが互いに平
行でないように所定のテーパを施した透明ガラス基板
と、前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、前記透
明ガラス基板の所定の方向に沿って入射位置に応じて減
衰率を連続的に変化させるようにした金属膜と、前記透
明ガラス基板の少なくとも一方の面に形成され、前記金
属膜による減衰率の波長依存性を補償する無反射コーテ
ィングと、を有することを特徴とするものである。
て減衰率が変化するように入射光を減衰させる可変型の
光アッテネータであって、入射面と出射面とが互いに平
行でないように所定のテーパを施した透明ガラス基板
と、前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、前記透
明ガラス基板の所定の方向に沿って入射位置に応じて減
衰率を連続的に変化させるようにした金属膜と、前記透
明ガラス基板の少なくとも一方の面に形成され、前記金
属膜による減衰率の波長依存性を補償する無反射コーテ
ィングと、を有することを特徴とするものである。
【００１２】入射位置によって減衰率が変化する光アッ
テネータは、一定の方向に減衰率が変化する長方形状の
アッテネータ板や、円周方向に減衰率が変化する円形の
アッテネータ板として構成することができる。
テネータは、一定の方向に減衰率が変化する長方形状の
アッテネータ板や、円周方向に減衰率が変化する円形の
アッテネータ板として構成することができる。
【００１３】本願の請求項５の発明は、請求項１〜４の
いずれか１項記載の光アッテネータと、入射光の一部を
分岐し、他を前記光アッテネータに入射する第１の光分
岐手段と、前記光アッテネータを透過した光の一部を分
岐し、他を透過させる第２の光分岐手段と、前記第１，
第２の光分岐手段により分岐された光を夫々受光する第
１，第２の受光素子と、前記第１，第２の受光素子の受
光レベルを検出するレベル検出手段と、前記レベル検出
手段によって検出された受光レベルを表示する表示手段
と、を有することを特徴とする光アッテネータモジュー
ルである。
いずれか１項記載の光アッテネータと、入射光の一部を
分岐し、他を前記光アッテネータに入射する第１の光分
岐手段と、前記光アッテネータを透過した光の一部を分
岐し、他を透過させる第２の光分岐手段と、前記第１，
第２の光分岐手段により分岐された光を夫々受光する第
１，第２の受光素子と、前記第１，第２の受光素子の受
光レベルを検出するレベル検出手段と、前記レベル検出
手段によって検出された受光レベルを表示する表示手段
と、を有することを特徴とする光アッテネータモジュー
ルである。
【００１４】本願の請求項６の発明は、請求項３又は４
記載の光アッテネータと、入射光の一部を分岐し、前記
光アッテネータに入射する第１の光分岐手段と、前記光
アッテネータの透過した光の一部を分岐し、他を透過さ
せる第２の光分岐手段と、前記第１，第２の光分岐手段
により分岐された光を夫々受光する第１，第２の受光素
子と、前記第１，第２の受光素子の受光レベルを検出す
るレベル検出手段と、前記レベル検出手段によって検出
された受光レベルを表示する表示手段と、前記光アッテ
ネータに入射する光の位置を変化させる入射位置調整手
段と、を有することを特徴とする光アッテネータモジュ
ールである。
記載の光アッテネータと、入射光の一部を分岐し、前記
光アッテネータに入射する第１の光分岐手段と、前記光
アッテネータの透過した光の一部を分岐し、他を透過さ
せる第２の光分岐手段と、前記第１，第２の光分岐手段
により分岐された光を夫々受光する第１，第２の受光素
子と、前記第１，第２の受光素子の受光レベルを検出す
るレベル検出手段と、前記レベル検出手段によって検出
された受光レベルを表示する表示手段と、前記光アッテ
ネータに入射する光の位置を変化させる入射位置調整手
段と、を有することを特徴とする光アッテネータモジュ
ールである。
【００１５】この入射位置調整手段は、長方形状のアッ
テネータ板では入射位置を直線的に変化させるスライド
機構として構成することができる。又円周方向に減衰率
が変化するアッテネータ板では、アッテネータ板を回転
させて入射位置を変化させる回転駆動機構として構成す
ることができる。
テネータ板では入射位置を直線的に変化させるスライド
機構として構成することができる。又円周方向に減衰率
が変化するアッテネータ板では、アッテネータ板を回転
させて入射位置を変化させる回転駆動機構として構成す
ることができる。
【００１６】本願の請求項７の発明は、請求項４記載の
光アッテネータと、入射光の一部を分岐し、前記光アッ
テネータに入射する第１の光分岐手段と、前記光アッテ
ネータの透過した光の一部を分岐し、他を透過させる第
２の光分岐手段と、前記第１，第２の光分岐手段により
分岐された光を夫々受光する第１，第２の受光素子と、
前記第１，第２の受光素子の受光レベルを検出するレベ
ル検出手段と、前記第１，第２の受光素子の受光レベル
の比を算出する光減衰量算出手段と、前記レベル検出手
段によって検出された受光レベル及び前記光減衰量算出
手段によって算出された受光レベル比を表示する表示手
段と、前記光アッテネータに入射する光の位置を変化さ
せる入射位置調整手段と、前記減衰率算出手段によって
算出された減衰率が設定した減衰率となるように前記入
射位置調整手段によって入射位置を変化させる帰還制御
手段と、を有することを特徴とする光アッテネータモジ
ュールである。
光アッテネータと、入射光の一部を分岐し、前記光アッ
テネータに入射する第１の光分岐手段と、前記光アッテ
ネータの透過した光の一部を分岐し、他を透過させる第
２の光分岐手段と、前記第１，第２の光分岐手段により
分岐された光を夫々受光する第１，第２の受光素子と、
前記第１，第２の受光素子の受光レベルを検出するレベ
ル検出手段と、前記第１，第２の受光素子の受光レベル
の比を算出する光減衰量算出手段と、前記レベル検出手
段によって検出された受光レベル及び前記光減衰量算出
手段によって算出された受光レベル比を表示する表示手
段と、前記光アッテネータに入射する光の位置を変化さ
せる入射位置調整手段と、前記減衰率算出手段によって
算出された減衰率が設定した減衰率となるように前記入
射位置調整手段によって入射位置を変化させる帰還制御
手段と、を有することを特徴とする光アッテネータモジ
ュールである。
【００１７】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施の形態
による光アッテネータモジュールの構成を示す概略図で
ある。本図においてＵ字形フレーム１は筒状の部材を折
り曲げたＵ字形状の固定部材であり、その中心軸を光軸
とし、側面に一対の光ファイバ連結部材２及び３が取付
けられる。又Ｕ字形フレーム１の内部には、図示のよう
にミラー４及び５が入射光軸及び出射光軸に対して４５
°の角度で配置され固定されている。光ファイバ連結部
材２は入射側の光ファイバ６が取付けられ、光ファイバ
６より入射した光をコリメータ７を介してミラー４に入
射するものである。ミラー４は光ファイバ６より入射し
た光をミラー５側に反射させるものであり、ミラー５は
ミラー４から出射された光を反射して光ファイバ連結部
材３側に照射するものである。光ファイバ連結部材３に
は集束レンズ８及び出射側の光ファイバ９が取付けられ
る。
による光アッテネータモジュールの構成を示す概略図で
ある。本図においてＵ字形フレーム１は筒状の部材を折
り曲げたＵ字形状の固定部材であり、その中心軸を光軸
とし、側面に一対の光ファイバ連結部材２及び３が取付
けられる。又Ｕ字形フレーム１の内部には、図示のよう
にミラー４及び５が入射光軸及び出射光軸に対して４５
°の角度で配置され固定されている。光ファイバ連結部
材２は入射側の光ファイバ６が取付けられ、光ファイバ
６より入射した光をコリメータ７を介してミラー４に入
射するものである。ミラー４は光ファイバ６より入射し
た光をミラー５側に反射させるものであり、ミラー５は
ミラー４から出射された光を反射して光ファイバ連結部
材３側に照射するものである。光ファイバ連結部材３に
は集束レンズ８及び出射側の光ファイバ９が取付けられ
る。
【００１８】さてＵ字形フレーム１の中央部のミラー４
及び５の間には、アッテネータ板１０が配置される。ア
ッテネータ板１０は図２（ａ）に斜視図、図２（ｂ）に
側面図を示すように、略正方形の平板状の部材である。
アッテネータ板１０は透明ガラス基板１１を基板として
その両面を入射面，出射面とする。ガラス基板１１の両
面は平行でなく、例えば図２（ｂ）に側面図を示すよう
に一方の面は平行面より、例えば０．５〜１°傾けたテ
ーパ形状を有するものとする。そして図２（ｃ）にその
拡大断面図を示すように、その双方の面には無反射コー
ティング１２ａ，１２ｂが施されている。更にそのいず
れか一方の面はアッテネータ板１０の減衰率に応じた厚
さの金属膜１３が形成される。この金属膜は例えばクロ
ムやインカネル，金等の金属膜であり、蒸着，スパッ
タ，めっきなど種々の方法で減衰率に応じた厚さに形成
される。
及び５の間には、アッテネータ板１０が配置される。ア
ッテネータ板１０は図２（ａ）に斜視図、図２（ｂ）に
側面図を示すように、略正方形の平板状の部材である。
アッテネータ板１０は透明ガラス基板１１を基板として
その両面を入射面，出射面とする。ガラス基板１１の両
面は平行でなく、例えば図２（ｂ）に側面図を示すよう
に一方の面は平行面より、例えば０．５〜１°傾けたテ
ーパ形状を有するものとする。そして図２（ｃ）にその
拡大断面図を示すように、その双方の面には無反射コー
ティング１２ａ，１２ｂが施されている。更にそのいず
れか一方の面はアッテネータ板１０の減衰率に応じた厚
さの金属膜１３が形成される。この金属膜は例えばクロ
ムやインカネル，金等の金属膜であり、蒸着，スパッ
タ，めっきなど種々の方法で減衰率に応じた厚さに形成
される。
【００１９】次にアッテネータ板１０の特性について、
従来のアッテネータ板と比較しつつ説明する。ここでは
従来のアッテネータ板として、平行平板の同一形状のガ
ラス基板に減衰率に応じた厚さの金属膜を形成したもの
とする。図３（ａ）は光アッテネータを使用する波長、
例えば１５００〜１６００ｎｍの範囲内で従来のアッテ
ネータ板に一定レベルの光を入射した場合に、入射光の
波長に対する透過率の変化を示すものである。尚透過率
と減衰率とは光の吸収を無視すればその和が１の関係に
あることはいうまでもない。図示のようにアッテネータ
板は波長に対して透過率が一定の平坦な特性を有するよ
うに製造することが難しく、波長が長くなれば透過率が
わずかに上昇する。この上昇レベルは例えば０．２ｄＢ
（／５０ｎｍ）程度である。又平行平板のガラス基板か
ら成る従来のアッテネータ板の場合には、光をアッテネ
ータ板に垂直から少し傾けて入射したとしても、入射面
及び出射面で光の一部が反射して光の干渉が生じる。こ
れは図３（ａ）の円形部分を拡大した図３（ｂ）に破線
で示すように、例えば０．８ｎｍ程度の波長を周期とし
て０．３ｄＢ（Ｐ−Ｐ）で透過率が変動していることか
ら確認できる。従来の光アッテネータ板では、この程度
のレベルの変動はほとんど問題とならないレベルであっ
た。
従来のアッテネータ板と比較しつつ説明する。ここでは
従来のアッテネータ板として、平行平板の同一形状のガ
ラス基板に減衰率に応じた厚さの金属膜を形成したもの
とする。図３（ａ）は光アッテネータを使用する波長、
例えば１５００〜１６００ｎｍの範囲内で従来のアッテ
ネータ板に一定レベルの光を入射した場合に、入射光の
波長に対する透過率の変化を示すものである。尚透過率
と減衰率とは光の吸収を無視すればその和が１の関係に
あることはいうまでもない。図示のようにアッテネータ
板は波長に対して透過率が一定の平坦な特性を有するよ
うに製造することが難しく、波長が長くなれば透過率が
わずかに上昇する。この上昇レベルは例えば０．２ｄＢ
（／５０ｎｍ）程度である。又平行平板のガラス基板か
ら成る従来のアッテネータ板の場合には、光をアッテネ
ータ板に垂直から少し傾けて入射したとしても、入射面
及び出射面で光の一部が反射して光の干渉が生じる。こ
れは図３（ａ）の円形部分を拡大した図３（ｂ）に破線
で示すように、例えば０．８ｎｍ程度の波長を周期とし
て０．３ｄＢ（Ｐ−Ｐ）で透過率が変動していることか
ら確認できる。従来の光アッテネータ板では、この程度
のレベルの変動はほとんど問題とならないレベルであっ
た。
【００２０】この実施の形態による光アッテネータ１０
では干渉によるこのような微小なレベルの透過率の変動
を防止するため、図２（ａ），（ｂ）に示すように、ほ
ぼ平行平板状のガラス基板の一方を他方の面と平行でな
く、例えば０．５〜１°の範囲で傾斜を設けてテーパ状
としている。このためいずれの方向から光が入射しても
アッテネータ板の内部で干渉が発生しない。これは図３
（ｂ）に実線で示すようにリップル成分が大幅に減少し
ていることから確認できる。
では干渉によるこのような微小なレベルの透過率の変動
を防止するため、図２（ａ），（ｂ）に示すように、ほ
ぼ平行平板状のガラス基板の一方を他方の面と平行でな
く、例えば０．５〜１°の範囲で傾斜を設けてテーパ状
としている。このためいずれの方向から光が入射しても
アッテネータ板の内部で干渉が発生しない。これは図３
（ｂ）に実線で示すようにリップル成分が大幅に減少し
ていることから確認できる。
【００２１】更に図３（ａ）に示したように従来の光ア
ッテネータ板では、波長が長波長側に変化するにつれて
透過率が徐々に上昇する。このため本実施の形態による
可変アッテネータ板１０では、一方の無反射コーティン
グ１２ａを通常の無反射コーティング、他方の無反射コ
ーティング１２ｂをこの特性とは逆の特性を持ち、その
波長依存性を打ち消すコーティングとなるようにしてい
る。無反射コーティングは単層又は多層の薄膜により形
成される。多層膜は使用する波長範囲に合わせて高屈折
率膜と低屈折率膜とを交互に、２層〜６層程度を積層す
るものであり、その光学的な厚さを変化させて特性を異
ならせることができる。高屈折率膜，低屈折率膜として
は、例えばＳｉＯ2 （屈折率ｎ＝１．４６），Ｔａ2 Ｏ
5 （ｎ＝２．１５），Ｓｉ（ｎ＝３．４６）などが用い
られる。そして層の数やその光学的厚さを変化させるこ
とによって、中心波長や反射率の波長依存性を変化させ
ることができる。図４では低屈折率膜と高屈折率膜の層
の数によって反射率の曲線が異なることが示され、この
中心波長λは層の厚さで変化させることができる。従っ
て図３（ｃ）に破線で示すコーティングを施さないアッ
テネータ板の波長特性を補正するように、即ち図３
（ｃ）に示す一点鎖線で示す逆特性が得られるように、
高屈折率及び低屈折率の層の数及び膜厚を選択して用い
る。ここでは無反射コーティング１２ｂとして４層のコ
ーティングを施し、中心波長を使用強度より短波長とし
てそのスカート部の特性を利用する。無反射コーティン
グ１２ａの中心波長は使用波長と同一とする。こうすれ
ば全体として図３（ｃ）に実線で示すようにリップル成
分がほとんどなく、且つ波長依存性が少ない可変光アッ
テネータとすることができる。例えば波長依存性を１５
００〜１６００ｎｍの範囲で０．１ｄＢ以下とすること
ができる。
ッテネータ板では、波長が長波長側に変化するにつれて
透過率が徐々に上昇する。このため本実施の形態による
可変アッテネータ板１０では、一方の無反射コーティン
グ１２ａを通常の無反射コーティング、他方の無反射コ
ーティング１２ｂをこの特性とは逆の特性を持ち、その
波長依存性を打ち消すコーティングとなるようにしてい
る。無反射コーティングは単層又は多層の薄膜により形
成される。多層膜は使用する波長範囲に合わせて高屈折
率膜と低屈折率膜とを交互に、２層〜６層程度を積層す
るものであり、その光学的な厚さを変化させて特性を異
ならせることができる。高屈折率膜，低屈折率膜として
は、例えばＳｉＯ2 （屈折率ｎ＝１．４６），Ｔａ2 Ｏ
5 （ｎ＝２．１５），Ｓｉ（ｎ＝３．４６）などが用い
られる。そして層の数やその光学的厚さを変化させるこ
とによって、中心波長や反射率の波長依存性を変化させ
ることができる。図４では低屈折率膜と高屈折率膜の層
の数によって反射率の曲線が異なることが示され、この
中心波長λは層の厚さで変化させることができる。従っ
て図３（ｃ）に破線で示すコーティングを施さないアッ
テネータ板の波長特性を補正するように、即ち図３
（ｃ）に示す一点鎖線で示す逆特性が得られるように、
高屈折率及び低屈折率の層の数及び膜厚を選択して用い
る。ここでは無反射コーティング１２ｂとして４層のコ
ーティングを施し、中心波長を使用強度より短波長とし
てそのスカート部の特性を利用する。無反射コーティン
グ１２ａの中心波長は使用波長と同一とする。こうすれ
ば全体として図３（ｃ）に実線で示すようにリップル成
分がほとんどなく、且つ波長依存性が少ない可変光アッ
テネータとすることができる。例えば波長依存性を１５
００〜１６００ｎｍの範囲で０．１ｄＢ以下とすること
ができる。
【００２２】こうして構成された光アッテネータ板１０
はＵ字形フレーム１内に固定し、図７（ａ）に示すよう
にケース１４内に組み込んでモジュールとして構成し、
一対の光ファイバ６，９のみを外部から接続できるよう
にしておく。こうすれば使用する波長範囲内では波長に
依存することなく透過率及び減衰率が一定の光アッテネ
ータモジュールを得ることができる。
はＵ字形フレーム１内に固定し、図７（ａ）に示すよう
にケース１４内に組み込んでモジュールとして構成し、
一対の光ファイバ６，９のみを外部から接続できるよう
にしておく。こうすれば使用する波長範囲内では波長に
依存することなく透過率及び減衰率が一定の光アッテネ
ータモジュールを得ることができる。
【００２３】尚この実施の形態ではガラス基板１１をテ
ーパ状にすると共に、金属膜に対応した逆特性の無反射
コーティングを施しているが、使用する波長範囲が狭い
場合には単にガラス基板のみをテーパ状にして金属膜を
構成してもよい。こうすれば狭い波長範囲ではリップル
成分のない光アッテネータを得ることができる。
ーパ状にすると共に、金属膜に対応した逆特性の無反射
コーティングを施しているが、使用する波長範囲が狭い
場合には単にガラス基板のみをテーパ状にして金属膜を
構成してもよい。こうすれば狭い波長範囲ではリップル
成分のない光アッテネータを得ることができる。
【００２４】次に本発明の第２の実施の形態について説
明する。図５は第２の実施の形態による光アッテネータ
モジュールの構成を示す概略図である。本図において前
述した第１の実施の形態と同一部分は同一符号を付して
詳細な説明を省略する。この実施の形態においてもＵ字
形フレーム１に一対の光ファイバ連結部材２，３を設
け、光ファイバ６，コリメータ７，集束レンズ８及び光
ファイバ９を取付ける。この実施の形態ではＵ字形フレ
ーム１の内部のミラー４及び５に代えて、入射した光の
一部を透過し、残りを反射する第１，第２の光分岐手
段、例えばビームスプリッタ２１及び２２を配置する。
ビームスプリッタ２１，２２は同一の特性を有すること
が好ましく、例えばいずれも入射光のうち５％を透過
し、９５％の光を反射するものとする。これらのビーム
スプリッタ２１，２２の間には長方形状の可変アッテネ
ータ板２３をその長手方向に沿って移動できるように配
置する。可変アッテネータ板２３は図６（ａ）に斜視
図、図６（ｂ）に側面図を示すように、第１の実施の形
態と同様に、ガラス基板２４の断面がテーパ状に形成さ
れており、その両面に無反射コーティング２５ａ，２５
ｂが施されている。又図６のＸ軸方向、即ち長手方向に
沿って減衰率が連続的に変化するように膜厚を連続して
変化させて金属膜２６が形成されている。そしてＵ字形
フレーム１に近接する位置には、この可変アッテネータ
板２３を長手方向に連続してシフトさせるための入射位
置調整手段であるスライド機構２７を設ける。スライド
機構２７は例えばラックとピニオン等の機構部品とつま
み３１によって、可変アッテネータ板２３を図７（ｂ）
に示すケース３２の外側よりＸ軸方向にスライドさせる
ものとする。
明する。図５は第２の実施の形態による光アッテネータ
モジュールの構成を示す概略図である。本図において前
述した第１の実施の形態と同一部分は同一符号を付して
詳細な説明を省略する。この実施の形態においてもＵ字
形フレーム１に一対の光ファイバ連結部材２，３を設
け、光ファイバ６，コリメータ７，集束レンズ８及び光
ファイバ９を取付ける。この実施の形態ではＵ字形フレ
ーム１の内部のミラー４及び５に代えて、入射した光の
一部を透過し、残りを反射する第１，第２の光分岐手
段、例えばビームスプリッタ２１及び２２を配置する。
ビームスプリッタ２１，２２は同一の特性を有すること
が好ましく、例えばいずれも入射光のうち５％を透過
し、９５％の光を反射するものとする。これらのビーム
スプリッタ２１，２２の間には長方形状の可変アッテネ
ータ板２３をその長手方向に沿って移動できるように配
置する。可変アッテネータ板２３は図６（ａ）に斜視
図、図６（ｂ）に側面図を示すように、第１の実施の形
態と同様に、ガラス基板２４の断面がテーパ状に形成さ
れており、その両面に無反射コーティング２５ａ，２５
ｂが施されている。又図６のＸ軸方向、即ち長手方向に
沿って減衰率が連続的に変化するように膜厚を連続して
変化させて金属膜２６が形成されている。そしてＵ字形
フレーム１に近接する位置には、この可変アッテネータ
板２３を長手方向に連続してシフトさせるための入射位
置調整手段であるスライド機構２７を設ける。スライド
機構２７は例えばラックとピニオン等の機構部品とつま
み３１によって、可変アッテネータ板２３を図７（ｂ）
に示すケース３２の外側よりＸ軸方向にスライドさせる
ものとする。
【００２５】さてＵ字形のフレーム１のビームスプリッ
タ２１，２２を透過した光を受光する位置には、夫々第
１の受光素子であるフォトダイオードＰＤ１、第２の受
光素子であるフォトダイオードＰＤ２を配置する。フォ
トダイオードＰＤ１は入射光，ＰＤ２は出射光の光量に
対応した一部の光を受光するものである。フォトダイオ
ードＰＤ１，ＰＤ２の出力はレベル検出手段２８に与え
られる。レベル検出手段２８は入射光及び出射光のレベ
ルを検出し、そのまま表示手段２９及び減衰率算出手段
３０に出力する。減衰率算出手段３０はその比によって
減衰率を算出するものである。又表示手段２９は入出射
光のレベル及び減衰率を表示するものである。ここで前
述したビームスプリッタ２１，２２が同一の反射・透過
率特性を有するものであれば、その比を直接求めて減衰
率を算出することができる。ビームスプリッタの透過率
及び反射率が同一でない場合には、一方の出力を補正し
て減衰率を求めることが必要であることはいうまでもな
い。
タ２１，２２を透過した光を受光する位置には、夫々第
１の受光素子であるフォトダイオードＰＤ１、第２の受
光素子であるフォトダイオードＰＤ２を配置する。フォ
トダイオードＰＤ１は入射光，ＰＤ２は出射光の光量に
対応した一部の光を受光するものである。フォトダイオ
ードＰＤ１，ＰＤ２の出力はレベル検出手段２８に与え
られる。レベル検出手段２８は入射光及び出射光のレベ
ルを検出し、そのまま表示手段２９及び減衰率算出手段
３０に出力する。減衰率算出手段３０はその比によって
減衰率を算出するものである。又表示手段２９は入出射
光のレベル及び減衰率を表示するものである。ここで前
述したビームスプリッタ２１，２２が同一の反射・透過
率特性を有するものであれば、その比を直接求めて減衰
率を算出することができる。ビームスプリッタの透過率
及び反射率が同一でない場合には、一方の出力を補正し
て減衰率を求めることが必要であることはいうまでもな
い。
【００２６】この実施の形態ではケースの外部よりスラ
イド機構２７のつまみ３１等を介して減衰率を設定す
る。そうすれば設定された減衰レベルに応じて可変アッ
テネータ板２３が長手方向に移動して所望の減衰量が得
られる。この場合には表示手段２９によって入射レベル
と出射レベルが表示され、減衰率算出手段３０で算出さ
れた実際の減衰率が表示されるため、その確認及び微調
整を行うことができる。
イド機構２７のつまみ３１等を介して減衰率を設定す
る。そうすれば設定された減衰レベルに応じて可変アッ
テネータ板２３が長手方向に移動して所望の減衰量が得
られる。この場合には表示手段２９によって入射レベル
と出射レベルが表示され、減衰率算出手段３０で算出さ
れた実際の減衰率が表示されるため、その確認及び微調
整を行うことができる。
【００２７】尚この実施の形態では長方形状の可変アッ
テネータ板２３を用い減衰率が異なるようにしている。
従って可変アッテネータ板２３の一端では減衰率が０ｄ
Ｂ、中央部で１０ｄＢ、他端部で２０ｄＢのように減衰
率が設定される。この場合には図３（ｂ）で示す透過率
は使用範囲内で必ずしも一定でなく、徐々にその変化の
幅が大きくなる。従って例えば中央部分の透過率を一定
にするように、逆特性の無反射コーティングをガラス基
板全体に施しておくことが必要となる。
テネータ板２３を用い減衰率が異なるようにしている。
従って可変アッテネータ板２３の一端では減衰率が０ｄ
Ｂ、中央部で１０ｄＢ、他端部で２０ｄＢのように減衰
率が設定される。この場合には図３（ｂ）で示す透過率
は使用範囲内で必ずしも一定でなく、徐々にその変化の
幅が大きくなる。従って例えば中央部分の透過率を一定
にするように、逆特性の無反射コーティングをガラス基
板全体に施しておくことが必要となる。
【００２８】次に本発明の第３の実施の形態について図
８を用いて説明する。この実施の形態は第２の実施の形
態に加えて減衰率算出手段３０で検出された減衰率の信
号を帰還制御手段４１に与え、これに基づいて減衰率が
所定値となるように可変光アッテネータ２３の入射位置
を調整するものである。この場合にはスライド機構２７
に代えて、外部からの入力信号によって可変光アッテネ
ータ２３をＸ軸方向に駆動するリニア駆動部４２が必要
となる。その他は第２の実施の形態と同様であるので、
詳細な説明を省略する。このように帰還制御を行うこと
によって減衰量をより正確に制御することができる。
８を用いて説明する。この実施の形態は第２の実施の形
態に加えて減衰率算出手段３０で検出された減衰率の信
号を帰還制御手段４１に与え、これに基づいて減衰率が
所定値となるように可変光アッテネータ２３の入射位置
を調整するものである。この場合にはスライド機構２７
に代えて、外部からの入力信号によって可変光アッテネ
ータ２３をＸ軸方向に駆動するリニア駆動部４２が必要
となる。その他は第２の実施の形態と同様であるので、
詳細な説明を省略する。このように帰還制御を行うこと
によって減衰量をより正確に制御することができる。
【００２９】尚前述した前述した第２，第３の実施の形
態では、可変アッテネータ板２３は略長方形状のガラス
基板を用いて構成しているが、円形のガラス基板を用い
て構成してもよい。この場合も入射面と出射面とが平行
にならないように、図６（ｃ）に示すように頂角が極め
て大きい円錐形のガラス基板５１を用いてもよい。又図
６（ｄ）に示すように、断面が全体としてテーパ状とな
るガラス基板５２を用いて可変アッテネータ板としても
よい。この場合にも透過率を一定にするように、金属膜
とは逆特性の無反射コーティングをガラス基板全体に施
しておくことが必要となる。この場合には円周方向に沿
って減衰率を変化させておけばよく、スライド機構やリ
ニア駆動部に代えて、回転駆動部を用いることで光の入
射位置を変化させることが容易となる。
態では、可変アッテネータ板２３は略長方形状のガラス
基板を用いて構成しているが、円形のガラス基板を用い
て構成してもよい。この場合も入射面と出射面とが平行
にならないように、図６（ｃ）に示すように頂角が極め
て大きい円錐形のガラス基板５１を用いてもよい。又図
６（ｄ）に示すように、断面が全体としてテーパ状とな
るガラス基板５２を用いて可変アッテネータ板としても
よい。この場合にも透過率を一定にするように、金属膜
とは逆特性の無反射コーティングをガラス基板全体に施
しておくことが必要となる。この場合には円周方向に沿
って減衰率を変化させておけばよく、スライド機構やリ
ニア駆動部に代えて、回転駆動部を用いることで光の入
射位置を変化させることが容易となる。
【００３０】又前述した前述した第２，第３の実施の形
態では、可変アッテネータ板２３は所定の方向に連続的
に透過率が変化するようにしているが、透過率を不連続
とし、所望の減衰率の位置になるように入射位置を変化
させるようにすることもできる。
態では、可変アッテネータ板２３は所定の方向に連続的
に透過率が変化するようにしているが、透過率を不連続
とし、所望の減衰率の位置になるように入射位置を変化
させるようにすることもできる。
【００３１】又前述した前述した第１〜第３の実施の形
態では、コリメータレンズ及びビームスプリッタを介し
て光の径を拡大して円形のレーザ光を可変光アッテネー
タ２３に入射するようにしている。こうすればアッテネ
ータ板を通過する単位面積当たりの光強度を小さくする
ことができ、クロム等の金属膜の経年変化を少なくする
ことができる。
態では、コリメータレンズ及びビームスプリッタを介し
て光の径を拡大して円形のレーザ光を可変光アッテネー
タ２３に入射するようにしている。こうすればアッテネ
ータ板を通過する単位面積当たりの光強度を小さくする
ことができ、クロム等の金属膜の経年変化を少なくする
ことができる。
【００３２】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本願の請求項
１〜７の発明によれば、透明ガラス基板の断面をテーパ
状とし金属膜を施すことによって波長依存性がなく、し
かも波長に対して減衰率が微妙に変動するリップルをな
くすることができ、所望の減衰特性を得ることができる
という効果が得られる。又請求項２の発明では、金属膜
の波長依存性を打ち消すように無反射コーティングを施
しているため、その範囲内では波長に対する透過率の変
動をなくすることができる。又請求項３，４，６，７の
発明によれば、金属膜の膜厚を所定方向に変化させてお
くことにより入射位置を変化させることによって、減衰
率を変化させることができる。この場合にも減衰率に応
じて所定の位置に入射させた状態では、請求項１と同様
に、波長依存性をなくすることができる。請求項５〜７
の発明では、入射位置を変化させ減衰率を変化させるア
ッテネータを１つのケースに封入してモジュール化する
ことによって、取扱いが容易な光アッテネータモジュー
ルを構成することができる。更に請求項７の発明では、
設定した減衰率となるように減衰率を算出し、帰還手段
を介して光の位置を連続的に変化させることによって所
望の減衰率となるように調整することができるという効
果が得られる。
１〜７の発明によれば、透明ガラス基板の断面をテーパ
状とし金属膜を施すことによって波長依存性がなく、し
かも波長に対して減衰率が微妙に変動するリップルをな
くすることができ、所望の減衰特性を得ることができる
という効果が得られる。又請求項２の発明では、金属膜
の波長依存性を打ち消すように無反射コーティングを施
しているため、その範囲内では波長に対する透過率の変
動をなくすることができる。又請求項３，４，６，７の
発明によれば、金属膜の膜厚を所定方向に変化させてお
くことにより入射位置を変化させることによって、減衰
率を変化させることができる。この場合にも減衰率に応
じて所定の位置に入射させた状態では、請求項１と同様
に、波長依存性をなくすることができる。請求項５〜７
の発明では、入射位置を変化させ減衰率を変化させるア
ッテネータを１つのケースに封入してモジュール化する
ことによって、取扱いが容易な光アッテネータモジュー
ルを構成することができる。更に請求項７の発明では、
設定した減衰率となるように減衰率を算出し、帰還手段
を介して光の位置を連続的に変化させることによって所
望の減衰率となるように調整することができるという効
果が得られる。
【図１】本発明の第１の実施の形態によるアッテネータ
モジュールの構成を示す概略図である。
モジュールの構成を示す概略図である。
【図２】第１の実施の形態によるアッテネータ板を示す
斜視図及び側面図である。
斜視図及び側面図である。
【図３】本発明の実施の形態及び従来例に用いられるア
ッテネータ板の特性を示すグラフである。
ッテネータ板の特性を示すグラフである。
【図４】無反射コーティングの層数と波長の反射特性の
一例を示すグラフである。
一例を示すグラフである。
【図５】本発明の第２の実施の形態によるアッテネータ
モジュールの構成を示す概略図である。
モジュールの構成を示す概略図である。
【図６】本発明の第２，第３の実施の形態に用いられる
アッテネータ板の斜視図及び側面図である。
アッテネータ板の斜視図及び側面図である。
【図７】本発明の第１，第２の実施の形態によるアッテ
ネータモジュールの外観を示す斜視図である。
ネータモジュールの外観を示す斜視図である。
【図８】本発明の第３の実施の形態によるアッテネータ
モジュールの構成を示す概略図である。
モジュールの構成を示す概略図である。
１ Ｕ字形フレーム ２，３ 光ファイバ連結部材 ４，５ ミラー ６，９ 光ファイバ ７ コリメータ ８ 集束レンズ １０ アッテネータ板 １１，２４，５１，５２ ガラス基板 １２ａ，１２ｂ，２５ａ，２５ｂ 無反射コーティング １３，２６ 金属膜 ２１，２２ ビームスプリッタ ２３ 可変アッテネータ板 ２７ スライド機構 ４１ 帰還制御手段 ４２ リニア駆動部
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 26/02 G02B 6/00 311
Claims (7)
- 【請求項１】 入射光を減衰させる光アッテネータであ
って、 入射面と出射面とが互いに平行でないように所定のテー
パを施した透明ガラス基板と、 前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、入射光を所
定の減衰率で減衰させる金属膜と、を有することを特徴
とする光アッテネータ。 - 【請求項２】 入射光を減衰させる光アッテネータであ
って、 入射面と出射面とが互いに平行でないように所定のテー
パを施した透明ガラス基板と、 前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、入射光を所
定の減衰率で減衰させる金属膜と、 前記透明ガラス基板の少なくとも一方の面に形成され、
前記金属膜による減衰率の波長依存性を補償する無反射
コーティングと、を有することを特徴とする光アッテネ
ータ。 - 【請求項３】 入射位置によって減衰率が変化するよう
に入射光を減衰させる可変型の光アッテネータであっ
て、 入射面と出射面とが互いに平行でないように所定のテー
パを施した透明ガラス基板と、 前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、入射位置に
応じた減衰率で入射光を減衰させる金属膜と、 前記透明ガラス基板の少なくとも一方の面に形成され、
前記金属膜による減衰率の波長依存性を補償する無反射
コーティングと、を有することを特徴とする光アッテネ
ータ。 - 【請求項４】 入射位置によって減衰率が変化するよう
に入射光を減衰させる可変型の光アッテネータであっ
て、 入射面と出射面とが互いに平行でないように所定のテー
パを施した透明ガラス基板と、 前記透明ガラス基板の一方の面に形成され、前記透明ガ
ラス基板の所定の方向に沿って入射位置に応じて減衰率
を連続的に変化させるようにした金属膜と、 前記透明ガラス基板の少なくとも一方の面に形成され、
前記金属膜による減衰率の波長依存性を補償する無反射
コーティングと、を有することを特徴とする光アッテネ
ータ。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１項記載の光ア
ッテネータと、 入射光の一部を分岐し、他を前記光アッテネータに入射
する第１の光分岐手段と、 前記光アッテネータを透過した光の一部を分岐し、他を
透過させる第２の光分岐手段と、 前記第１，第２の光分岐手段により分岐された光を夫々
受光する第１，第２の受光素子と、 前記第１，第２の受光素子の受光レベルを検出するレベ
ル検出手段と、 前記レベル検出手段によって検出された受光レベルを表
示する表示手段と、を有することを特徴とする光アッテ
ネータモジュール。 - 【請求項６】 請求項３又は４記載の光アッテネータ
と、 入射光の一部を分岐し、前記光アッテネータに入射する
第１の光分岐手段と、 前記光アッテネータの透過した光の一部を分岐し、他を
透過させる第２の光分岐手段と、 前記第１，第２の光分岐手段により分岐された光を夫々
受光する第１，第２の受光素子と、 前記第１，第２の受光素子の受光レベルを検出するレベ
ル検出手段と、 前記レベル検出手段によって検出された受光レベルを表
示する表示手段と、 前記光アッテネータに入射する光の位置を変化させる入
射位置調整手段と、を有することを特徴とする光アッテ
ネータモジュール。 - 【請求項７】 請求項４記載の光アッテネータと、 入射光の一部を分岐し、前記光アッテネータに入射する
第１の光分岐手段と、 前記光アッテネータの透過した光の一部を分岐し、他を
透過させる第２の光分岐手段と、 前記第１，第２の光分岐手段により分岐された光を夫々
受光する第１，第２の受光素子と、 前記第１，第２の受光素子の受光レベルを検出するレベ
ル検出手段と、 前記第１，第２の受光素子の受光レベルの比を算出する
光減衰量算出手段と、 前記レベル検出手段によって検出された受光レベル及び
前記光減衰量算出手段によって算出された受光レベル比
を表示する表示手段と、 前記光アッテネータに入射する光の位置を変化させる入
射位置調整手段と、 前記減衰率算出手段によって算出された減衰率が設定し
た減衰率となるように前記入射位置調整手段によって入
射位置を変化させる帰還制御手段と、を有することを特
徴とする光アッテネータモジュール。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10220137A JP2933919B1 (ja) | 1998-08-04 | 1998-08-04 | 光アッテネータ及び光アッテネータモジュール |
| US09/361,171 US6292616B1 (en) | 1998-08-04 | 1999-07-27 | Optical attenuator and optical attenuator module |
| US09/920,950 US6442324B2 (en) | 1998-08-04 | 2001-08-03 | Optical attenuator and optical attenuator module |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10220137A JP2933919B1 (ja) | 1998-08-04 | 1998-08-04 | 光アッテネータ及び光アッテネータモジュール |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2933919B1 true JP2933919B1 (ja) | 1999-08-16 |
| JP2000056242A JP2000056242A (ja) | 2000-02-25 |
Family
ID=16746489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10220137A Expired - Fee Related JP2933919B1 (ja) | 1998-08-04 | 1998-08-04 | 光アッテネータ及び光アッテネータモジュール |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6292616B1 (ja) |
| JP (1) | JP2933919B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009008304A1 (ja) | 2007-07-10 | 2009-01-15 | Central Glass Company, Limited | 光損失デバイス |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5205683B2 (ja) * | 2000-04-19 | 2013-06-05 | 株式会社ニコン | 光学装置、露光装置、および露光方法 |
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